JPH11307896A - Printed wiring board and mounted circuit board using the same - Google Patents

Printed wiring board and mounted circuit board using the same

Info

Publication number
JPH11307896A
JPH11307896A JP10112055A JP11205598A JPH11307896A JP H11307896 A JPH11307896 A JP H11307896A JP 10112055 A JP10112055 A JP 10112055A JP 11205598 A JP11205598 A JP 11205598A JP H11307896 A JPH11307896 A JP H11307896A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
thermal expansion
liquid crystal
crystal polymer
printed wiring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10112055A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsuo Yoshikawa
淳夫 吉川
Minoru Onodera
稔 小野寺
Yoshiki Tanaka
善喜 田中
Kiyomichi Hagiwara
清道 萩原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kuraray Co Ltd filed Critical Kuraray Co Ltd
Priority to JP10112055A priority Critical patent/JPH11307896A/en
Publication of JPH11307896A publication Critical patent/JPH11307896A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed wired board which has high reliability in connecting through holes, excellent heat and chemical resistance, and good electrical properties, and further provide a mounted circuit board using the printed wired board. SOLUTION: An electrical insulating board 2 is formed of a film which is molded of polymer enabling formation of optically antisotropic molten phase, and the thermal expansion coefficient of the thickness direction of the board 2 is substantially identical with the thermal expansion coefficient of a conductor 5 which is used as plating material of a through hole 4 formed through the board 2 in the thickness direction. When the thermal expansion coefficient of the conductor which is used as plating material of the through hole 4 is P×10<-6> cm/cm/ deg.C, the thermal expansion coefficient of the thickness direction of the above film preferably ranges from (P-10)×10<-6> to (P+10)×10<-6> cm/cm/ deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、スルーホールの接
続信頼性に優れたプリント配線板とこれを用いた実装回
路基板に関する。さらに詳しくは、本発明のプリント配
線板は、電気絶縁性基板として用いる光学的異方性の溶
融相を形成し得るポリマー(以下、これを液晶ポリマー
という)から成形されるフィルムに由来する優れた耐熱
性と耐薬品性および電気的性質を合わせて有し、特に多
層のプリント配線板と実装回路基板として有用なもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed wiring board having excellent through-hole connection reliability and a mounting circuit board using the same. More specifically, the printed wiring board of the present invention is an excellent material derived from a film formed from a polymer capable of forming an optically anisotropic molten phase (hereinafter, referred to as a liquid crystal polymer) used as an electrically insulating substrate. It has both heat resistance, chemical resistance and electrical properties, and is particularly useful as a multilayer printed wiring board and a mounted circuit board.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント配線板、特に多層プリント配線
板の製造プロセスとして、数多くの方法が提案されてい
るが、現在では、装置、材料などの産業基盤がめっきス
ルーホール法に合わせて整備されている。この方法は、
電気絶縁性基板の表面および内部に導電パターンを形成
し、パターン相互間に穿孔されたスルーホールの内壁を
めっきすることにより、各パターンを電気的に接続する
ものである。このスルーホールのめっきは、無電解銅め
っきと電解銅めっきが順次施され、そのめっき厚は特殊
な場合を除き通常30μm程度である。
2. Description of the Related Art Numerous methods have been proposed as processes for manufacturing printed wiring boards, particularly multilayer printed wiring boards, but at present, industrial bases such as equipment and materials have been prepared in accordance with the plating through hole method. I have. This method
Each pattern is electrically connected by forming conductive patterns on the surface and inside of the electrically insulating substrate and plating the inner walls of through holes formed between the patterns. Electroless copper plating and electrolytic copper plating are sequentially performed for plating of this through hole, and the plating thickness is usually about 30 μm except for special cases.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来、プリント配線板
の基板を構成する電気絶縁層の材料としては、エポキシ
樹脂やポリイミド樹脂などの熱硬化性樹脂が多用されて
いる。ここで、エポキシ樹脂を含む基板であるFR−4
の厚さ方向の熱膨張係数(線膨張率)は、ガラス転移温
度である140〜160℃付近を境として、約40×1
-6cm/cm/℃から約130×10-6cm/cm/
℃へと増大する。なお、上記FR−4は、ガラス布基材
にエポキシ樹脂を含浸させ、その上下両面に銅箔を貼り
付けた銅張積層板である。また、ポリイミド樹脂の厚さ
方向の熱膨張係数は、ガラス転移温度である210〜3
00℃付近を境として、約30×10-6cm/cm/℃
から約130×10-6cm/cm/℃へと増大する。こ
れに対して、スルーホールのめっきに用いられる銅の熱
膨張係数は17×10-6cm/cm/℃であり、上記熱
硬化性樹脂のガラス転移温度以上での熱膨張係数よりも
極端に小さい。
Conventionally, a thermosetting resin such as an epoxy resin or a polyimide resin has been frequently used as a material of an electric insulating layer constituting a substrate of a printed wiring board. Here, FR-4, which is a substrate containing an epoxy resin,
Has a thermal expansion coefficient (linear expansion coefficient) in the thickness direction of about 40 × 1 around a glass transition temperature of about 140 to 160 ° C.
0 −6 cm / cm / ° C. to about 130 × 10 −6 cm / cm /
° C. The FR-4 is a copper-clad laminate in which a glass cloth base material is impregnated with an epoxy resin, and copper foils are adhered on both upper and lower surfaces thereof. The coefficient of thermal expansion in the thickness direction of the polyimide resin is a glass transition temperature of 210-3.
Approximately 30 × 10 -6 cm / cm / ° C.
To about 130 × 10 −6 cm / cm / ° C. On the other hand, the coefficient of thermal expansion of copper used for plating the through holes is 17 × 10 −6 cm / cm / ° C., which is extremely higher than the coefficient of thermal expansion of the thermosetting resin at or above the glass transition temperature. small.

【0004】プリント配線板、特にプリント配線板を構
成する電気絶縁性基板の厚さ方向の熱膨張係数は、スル
ーホールの接続信頼性に大きな影響を与える。つまり、
上記電気絶縁性基板とスルーホールの内壁にめっきされ
る導電体の熱膨張係数が大きく異なると、ヒートサイク
ルによって、導電体にクラックが発生して最終的に断線
に至る。したがって、スルーホールの接続信頼性を向上
させるためには、プリント配線板の電気絶縁性基板の熱
膨張係数をできる限り導電体の熱膨張係数に近づける必
要がある。
[0004] The thermal expansion coefficient in the thickness direction of a printed wiring board, particularly an electrically insulating substrate constituting the printed wiring board, has a great effect on the connection reliability of the through hole. That is,
If the coefficient of thermal expansion of the electrically insulating substrate and the conductor plated on the inner wall of the through hole are significantly different, the heat cycle causes cracks in the conductor and eventually leads to disconnection. Therefore, in order to improve the connection reliability of the through holes, it is necessary to make the thermal expansion coefficient of the electrically insulating substrate of the printed wiring board as close as possible to that of the conductor.

【0005】ところで近年、プリント配線板の新たな電
気絶縁性基板材料として、低吸湿性、耐熱性、耐薬品
性、電気的性質(電気絶縁性、誘電的性質等)などに優
れた特長を備えた液晶ポリマーフィルムが注目されてい
る。特に、この液晶ポリマーフィルムは、吸湿性が上記
の熱硬化性樹脂と比較して極端に小さいため、はんだリ
フロー時における吸湿水分の爆発的な蒸発現象に起因し
た材料の破壊が発生し難く、同時に吸湿による寸法変化
が非常に小さいなどの特長を有している。しかしなが
ら、このような液晶ポリマーフィルムを電気絶縁性基板
として用いる場合、従来のものはその熱膨張係数がスル
ーホール内壁に施す導電体の熱膨張係数と比べて大きい
ため、ヒートサイクルによって、導電体にクラックが発
生して断線に至ることがある。
In recent years, as a new electrically insulating substrate material for printed wiring boards, it has excellent features such as low moisture absorption, heat resistance, chemical resistance, and electrical properties (electrical insulating properties, dielectric properties, etc.). Liquid crystal polymer films have attracted attention. In particular, since the liquid crystal polymer film has extremely low hygroscopicity as compared with the above-mentioned thermosetting resin, it is difficult for the material to be destroyed due to the explosive evaporation of the hygroscopic water at the time of solder reflow, and at the same time, It has features such as extremely small dimensional change due to moisture absorption. However, when such a liquid crystal polymer film is used as an electrically insulating substrate, the thermal expansion coefficient of the conventional one is larger than the thermal expansion coefficient of the conductor applied to the inner wall of the through hole. Cracks may occur and lead to disconnection.

【0006】本発明者等は、以上のように優れた特長を
有する液晶ポリマーフィルムを、プリント配線板の電気
絶縁性基板材料として利用することについて研究を続け
た結果、液晶ポリマーフィルムを熱処理すれば、その融
点と熱膨張係数を任意に調節できることを見出し、本発
明を完成するに至った。而して、本発明の目的は、スル
ーホールの接続信頼性に優れ、しかも耐熱性と耐薬品性
および電気的性質にも優れたプリント配線板とこれを用
いた実装回路基板を提供することにある。
The inventors of the present invention have continued to study the use of a liquid crystal polymer film having the above-mentioned excellent characteristics as an electrically insulating substrate material of a printed wiring board. The inventors have found that the melting point and the coefficient of thermal expansion can be arbitrarily adjusted, and have completed the present invention. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a printed wiring board which is excellent in connection reliability of through-holes, and is also excellent in heat resistance, chemical resistance and electrical properties, and a mounted circuit board using the same. is there.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のプリント配線板は、液晶ポリマーフィルム
により電気絶縁性基板が形成され、この電気絶縁性基板
に厚さ方向に貫通してスルーホールが形成されたプリン
ト配線板であって、上記液晶ポリマーフィルムの厚さ方
向の熱膨張係数を、上記スルーホールのめっきに用いら
れる導電体の熱膨張係数と実質的に同一にしている。
In order to achieve the above object, the printed wiring board of the present invention has an electric insulating substrate formed of a liquid crystal polymer film, and penetrates the electric insulating substrate in a thickness direction. In the printed wiring board in which the holes are formed, a thermal expansion coefficient in a thickness direction of the liquid crystal polymer film is substantially equal to a thermal expansion coefficient of a conductor used for plating the through holes.

【0008】上記液晶ポリマーフィルムは、熱処理する
ことにより、その厚さ方向の熱膨張係数をスルーホール
めっきに用いる導電体の熱膨張係数と実質的に同一に調
節できる。この結果、ヒートサイクルによっても導電体
にクラックが発生したりすることはなく、プリント配線
板のスルーホールの接続信頼性が高められる。しかも、
プリント配線板は、液晶ポリマーフィルムがもつ優れた
耐熱性と耐薬品性および電気的性質も合わせて具有す
る。上記熱処理は、フィルムに金属箔を積層する前また
は後に行ってもよく、また、スルーホールめっきを施す
前または後に行ってもよい。ただし、熱処理によって、
スルーホールめっきに厚み方向の膨張または収縮が発生
する結果、スルーホールめっきが断線する場合があるの
で、適宜選択する必要がある。また、熱処理の温度とし
ては、液晶ポリマーフィルムが熱劣化しない限りにおい
て特に制限はないが、実用的な効果を得るためには、液
晶ポリマーフィルムの融点より20℃低い温度から、融
点よりも20℃高い温度までの温度範囲を採用すること
ができる。さらに、熱処理の手段としては特に制限はな
く、熱風循環炉、熱ロール、セラミックヒーター、熱プ
レスなどを例示することができる。
By subjecting the liquid crystal polymer film to heat treatment, the coefficient of thermal expansion in the thickness direction can be adjusted to be substantially the same as the coefficient of thermal expansion of the conductor used for through-hole plating. As a result, the conductor does not crack even by the heat cycle, and the connection reliability of the through hole of the printed wiring board is improved. Moreover,
Printed wiring boards have the excellent heat resistance, chemical resistance and electrical properties of liquid crystal polymer films. The heat treatment may be performed before or after laminating the metal foil on the film, or may be performed before or after performing through-hole plating. However, due to heat treatment,
As a result of expansion or contraction of the through-hole plating in the thickness direction, the through-hole plating may be disconnected. The temperature of the heat treatment is not particularly limited as long as the liquid crystal polymer film is not thermally degraded. However, in order to obtain a practical effect, the temperature should be 20 ° C. lower than the melting point of the liquid crystal polymer film and 20 ° C. lower than the melting point. Temperature ranges up to higher temperatures can be employed. Further, the means for the heat treatment is not particularly limited, and examples thereof include a hot air circulation furnace, a hot roll, a ceramic heater, and a hot press.

【0009】また、液晶ポリマーフィルムは、液晶ポリ
マーを押出成形して得られる。その押出成形には、任意
の方法が可能であるが、周知のTダイ法、インフレーシ
ョン法等が工業的に有利である。特にインフレーション
法では、フィルムの機械軸方向(以下、MD方向と略
す)だけでなく、これと直交する方向(以下、TD方向
と略す)にも応力が加えられて、MD方向とTD方向と
の間における機械的性質および熱的性質のバランスのと
れたフィルムが得られる。
The liquid crystal polymer film is obtained by extruding a liquid crystal polymer. Although any method can be used for the extrusion, the well-known T-die method, inflation method and the like are industrially advantageous. In particular, in the inflation method, stress is applied not only in the mechanical axis direction of the film (hereinafter, abbreviated as the MD direction) but also in a direction orthogonal to the machine axis direction (hereinafter, abbreviated as the TD direction). A film is obtained which has a good balance of mechanical and thermal properties.

【0010】上記液晶ポリマーフィルムは、任意の厚み
とすることができる。例えば5mm以下の板状またはシ
ート状のものも包含する。ただし、プリント配線板の電
気絶縁性基板として液晶ポリマーフィルムを単独で用い
る場合、フィルムの膜厚は10〜150μmの範囲内に
あることが好ましく、特に15〜75μmの範囲内がよ
り好ましい。フィルムの厚さが薄過ぎる場合には、その
剛性や強度が小さくなるため、得られるプリント配線板
に電子部品を実装する際に加圧により変形し、配線の位
置精度が悪化して不良の発生原因となる。また、プリン
ト配線板の電気絶縁性基板として、上記フィルムと他の
電気絶縁性材料、例えばガラス布基材との複合体を用い
ることもできる。なお、フィルムには、本発明の効果が
失われない範囲内、つまりフィルムとしての物性を損な
わない範囲内で、滑剤、酸化防止剤などの添加剤を配合
してもよい。
The above-mentioned liquid crystal polymer film can have any thickness. For example, a plate or sheet having a size of 5 mm or less is also included. However, when a liquid crystal polymer film is used alone as the electrically insulating substrate of the printed wiring board, the film thickness is preferably in the range of 10 to 150 μm, and more preferably in the range of 15 to 75 μm. If the thickness of the film is too thin, its rigidity and strength will be reduced, so it will be deformed by pressure when mounting electronic components on the obtained printed wiring board, and the position accuracy of the wiring will be deteriorated and defects will occur. Cause. Further, as the electrically insulating substrate of the printed wiring board, a composite of the above film and another electrically insulating material, for example, a glass cloth base material can be used. In addition, additives such as a lubricant and an antioxidant may be added to the film as long as the effects of the present invention are not lost, that is, as long as the physical properties of the film are not impaired.

【0011】上記プリント配線板は、電気絶縁性基板と
なる液晶ポリマーフィルムの少なくとも一方の面に銅箔
などの金属箔を積層して形成される。このとき、用いら
れる金属箔の材質としては、電気的接続に使用されるよ
うな金属が好適であり、銅のほか金、銀、ニッケル、ア
ルミニウムなどを挙げることができる。銅箔は圧延法、
電気分解法などによって製造されるいずれのものでも用
いることができるが、表面粗さの大きい電気分解法によ
って製造されるものが好ましい。金属箔には、銅箔に対
して通常施される酸洗浄などの化学的処理が施されてい
てもよい。用いられる金属箔の厚さは、10〜100μ
mの範囲内が好ましく、10〜35μmの範囲内がより
好ましい。
The printed wiring board is formed by laminating a metal foil such as a copper foil on at least one surface of a liquid crystal polymer film serving as an electrically insulating substrate. At this time, as a material of the metal foil to be used, a metal used for electrical connection is suitable, and in addition to copper, gold, silver, nickel, aluminum and the like can be mentioned. Copper foil is rolled,
Any of those produced by electrolysis can be used, but those produced by electrolysis having a large surface roughness are preferred. The metal foil may have been subjected to a chemical treatment such as acid cleaning usually performed on the copper foil. The thickness of the metal foil used is 10 to 100 μ
m, more preferably 10 to 35 μm.

【0012】液晶ポリマーフィルムと金属箔を積層する
にあたっては、エポキシ系接着剤等を用いて接着させる
方法、蒸着、スパッタリング、めっきなどによりフィル
ム上に金属箔を直接形成する方法、そのほか真空プレス
装置等を用いて熱圧着させる方法などを採用することが
できる。
In laminating the liquid crystal polymer film and the metal foil, a method of bonding using an epoxy adhesive or the like, a method of directly forming the metal foil on the film by vapor deposition, sputtering, plating, etc., and other vacuum pressing equipment And a method of thermocompression bonding using the method described above.

【0013】プリント配線板へのスルーホールの形成方
法としては、ドリルによる加工と、炭酸ガスレーザー、
YAGレーザー、エキシマレーザーなどのレーザーによ
る加工を用いることができる。スルーホール形成時の発
熱で、その内部に液晶ポリマーが溶融析出する場合に
は、汎用の市販薬剤を用いて、それを化学的に溶解除去
することが好ましい。
As a method of forming a through hole in a printed wiring board, there are a drilling process, a carbon dioxide laser,
Processing using a laser such as a YAG laser or an excimer laser can be used. When the liquid crystal polymer melts and precipitates inside due to the heat generated during the formation of the through-hole, it is preferable to chemically dissolve and remove it using a general-purpose commercial chemical.

【0014】また、スルーホールにめっきを施す方法と
しては、従来周知の方法を用いることができる。例え
ば、無電解銅めっきと電解銅によるパターンめっきおよ
び/またはパネルめっきを順次施す。
As a method of plating the through holes, a conventionally known method can be used. For example, electroless copper plating and pattern plating with electrolytic copper and / or panel plating are sequentially performed.

【0015】上記スルーホールのヒートサイクルに対す
る接続信頼性をより高めるためには、スルーホールめっ
きに用いられる導電体の熱膨張係数をP×10-6cm/
cm/℃としたとき、液晶ポリマーフィルムの厚さ方向
の熱膨張係数が、(P−10)×10-6cm/cm/℃
から(P+10)×10-6cm/cm/℃の範囲内にな
るように調節することが好ましい。この範囲から外れる
と、スルーホール内面の導電体にクラックが入る不具合
の発生率が高くなる。ここで、銅、アルミニウムなどの
代表的な導電体のP値は、11〜30である。
In order to further improve the reliability of the connection of the through hole to the heat cycle, the thermal expansion coefficient of the conductor used for the through hole plating should be P × 10 −6 cm / cm.
cm / ° C., the coefficient of thermal expansion in the thickness direction of the liquid crystal polymer film is (P−10) × 10 −6 cm / cm / ° C.
It is preferable to adjust the temperature to within the range of (P + 10) × 10 −6 cm / cm / ° C. Outside of this range, the incidence of cracks in the conductor on the inner surface of the through-hole increases. Here, the P value of a typical conductor such as copper or aluminum is 11 to 30.

【0016】上記液晶ポリマーフィルムは、その分子配
向度SORを1.3以下とすることが好ましい。この範
囲の分子配向度SORを持つ該液晶ポリマーフィルム
は、上記のMD方向とTD方向との間における機械的お
よび熱的性質のバランスが良好であるので、より実用性
が高い。
The liquid crystal polymer film preferably has a molecular orientation degree SOR of 1.3 or less. The liquid crystal polymer film having the degree of molecular orientation SOR in this range has a better balance of mechanical and thermal properties between the MD direction and the TD direction, and is therefore more practical.

【0017】ここで、分子配向度SOR(Segment Orie
ntation Ratio)とは、分子を構成するセグメントにつ
いての分子配向の度合いを与える指標をいい、従来のM
OR(Molecular Orientation Ratio)とは異なり、物
体の厚さに無関係な値である。この分子配向度SOR
は、以下のように算出される。
The degree of molecular orientation SOR (Segment Orie)
The term “ntation ratio” refers to an index that gives the degree of molecular orientation of a segment constituting a molecule, and is a conventional M
Unlike OR (Molecular Orientation Ratio), it is a value irrelevant to the thickness of the object. This molecular orientation degree SOR
Is calculated as follows.

【0018】まず、周知のマイクロ波分子配向度測定機
において、液晶ポリマーフィルムを、マイクロ波の進行
方向にフィルム面が垂直になるように、マイクロ波共振
導波管中に挿入し、該フィルムを透過したマイクロ波の
電場強度(マイクロ波透過強度)が測定される、そし
て、この測定値に基づいて、次式により、m値(屈折率
と称する)が算出される。 m=(Z0/Δz)×[1−νMAX/ν0] ただし、Z0は装置定数、Δzは物体の平均厚、νMAX
マイクロ波の振動数を変化させたとき、最大のマイクロ
波透過強度を与える振動数、ν0は平均厚ゼロのとき
(すなわち物体がないとき)の最大マイクロ波透過強度
を与える振動数である。
First, in a well-known microwave molecular orientation measuring instrument, a liquid crystal polymer film is inserted into a microwave resonant waveguide such that the film surface is perpendicular to the traveling direction of the microwave. The electric field intensity (microwave transmission intensity) of the transmitted microwave is measured, and an m value (referred to as a refractive index) is calculated by the following equation based on the measured value. m = (Z 0 / Δz) × [1−ν MAX / ν 0 ] where Z 0 is a device constant, Δz is the average thickness of the object, and ν MAX is the maximum micro-wave when the frequency of the microwave is changed. The frequency that gives the wave transmission intensity, ν 0, is the frequency that gives the maximum microwave transmission intensity when the average thickness is zero (that is, when there is no object).

【0019】つぎに、マイクロ波の振動方向に対する物
体の回転角が0°のとき、つまり、マイクロ波の振動方
向と、物体の分子が最もよく配向されている方向であっ
て、最小マイクロ波透過強度を与える方向とが合致して
いるときのm値をm0 、回転角が90°のときのm値を
90として、分子配向度SORはm0 /m90により算出
される。
Next, when the rotation angle of the object with respect to the microwave oscillation direction is 0 °, that is, the microwave oscillation direction and the direction in which the molecules of the object are most oriented, and the minimum microwave transmission m 0 to m value when the direction that gives strength meets a m value when the rotation angle is 90 ° as m 90, orientation ratio SOR is calculated by m 0 / m 90.

【0020】本発明の液晶ポリマーフィルムの適用分野
によって、必要とされる分子配向度SORは当然異なる
が、SOR≧1.5の場合は液晶ポリマー分子の配向の
偏りが著しいためにフィルムが硬くなり、かつ配向方向
に裂け易い。加熱時の反りがないなどの形態安定性が必
要とされるプリント配線板や多層プリント配線板等の場
合には、SOR≦1.3であることが望ましい。特に加
熱時の反りをほとんど無くす必要がある場合には、SO
R≦1.03であることが望ましい。
The required degree of molecular orientation SOR is naturally different depending on the application field of the liquid crystal polymer film of the present invention. However, when SOR ≧ 1.5, the film becomes hard due to the remarkable deviation in the orientation of the liquid crystal polymer molecules. And easily torn in the orientation direction. In the case of a printed wiring board or a multilayer printed wiring board that requires dimensional stability such as no warpage during heating, it is desirable that SOR ≦ 1.3. Especially when it is necessary to almost eliminate the warpage during heating, SO
It is desirable that R ≦ 1.03.

【0021】本発明に使用される液晶ポリマーは特に限
定されるものではないが、その具体例として、以下に例
示する(1)から(4)に分類される化合物およびその
誘導体から導かれる公知のサーモトロピック液晶ポリエ
ステルおよびサーモトロピック液晶ポリエステルアミド
を挙げることができる。但し、液晶ポリマーを得るため
には、繰り返し単位の好適な組み合わせが必要とされる
ことは言うまでもない。
The liquid crystal polymer used in the present invention is not particularly limited, and specific examples thereof include known compounds derived from compounds (1) to (4) and derivatives thereof as exemplified below. Thermotropic liquid crystal polyester and thermotropic liquid crystal polyesteramide can be mentioned. However, it goes without saying that a suitable combination of repeating units is required to obtain a liquid crystal polymer.

【0022】(1)芳香族または脂肪族ジヒドロキシ化
合物(代表例は表1参照)
(1) Aromatic or aliphatic dihydroxy compounds (see Table 1 for typical examples)

【0023】[0023]

【表1】 [Table 1]

【0024】(2)芳香族または脂肪族ジカルボン酸
(代表例は表2参照)
(2) Aromatic or aliphatic dicarboxylic acids (see Table 2 for typical examples)

【0025】[0025]

【表2】 [Table 2]

【0026】(3)芳香族ヒドロキシカルボン酸(代表
例は表3参照)
(3) Aromatic hydroxycarboxylic acid (see Table 3 for typical examples)

【0027】[0027]

【表3】 [Table 3]

【0028】(4)芳香族ジアミン、芳香族ヒドロキシ
アミンまたは芳香族アミノカルボン酸(代表例は表4参
照)
(4) Aromatic diamine, aromatic hydroxyamine or aromatic aminocarboxylic acid (see Table 4 for typical examples)

【0029】[0029]

【表4】 [Table 4]

【0030】(5)これらの原料化合物から得られる液
晶ポリマーの代表例として表5に示す構造単位を有する
共重合体(a)〜(e)を挙げることができる。
(5) Representative examples of liquid crystal polymers obtained from these starting compounds include copolymers (a) to (e) having the structural units shown in Table 5.

【0031】[0031]

【表5】 [Table 5]

【0032】また、液晶ポリマーとしては、フィルムに
高い耐熱性と加工性を与える目的においては、約200
〜約400℃の範囲内、とりわけ約250〜約350℃
の範囲内の融点を有するものが好ましく、一方フィルム
製造の観点からは比較的融点の低い液晶ポリマーの方が
好ましい。したがって、より高い耐熱性や融点が必要な
場合は、低い融点の液晶ポリマーを用いてフィルムを製
造し、該フィルムを加熱処理することによって、所望の
耐熱性や融点にまで高める。加熱処理の条件の一例を説
明すれば、一旦得られたフィルムの融点が283℃の場
合でも、260℃で5時間加熱すれば、融点は320℃
になる。
As a liquid crystal polymer, for the purpose of imparting high heat resistance and processability to a film, about 200
In the range of from about 250C to about 400C, especially from about 250C to about 350C.
Are preferred, while liquid crystal polymers having a relatively low melting point are more preferred from the viewpoint of film production. Therefore, when higher heat resistance and a higher melting point are required, a film is manufactured using a liquid crystal polymer having a lower melting point, and the film is subjected to heat treatment to increase the heat resistance and the melting point to the desired values. To explain an example of the condition of the heat treatment, even if the melting point of the obtained film is 283 ° C., if the film is heated at 260 ° C. for 5 hours, the melting point becomes 320 ° C.
become.

【0033】以上のようにして得られるプリント配線板
は、リード付き電子部品をスルーホールを通して実装す
るピン挿入実装法、ケース付き電子部品をスルーホール
を通さずパターン面に実装する実装法、裸のICチップ
をパターン面に実装するICチップ実装法などの公知の
方法により、各種電子部品を装着して、実装回路基板と
される。
The printed wiring board obtained as described above can be obtained by a pin insertion mounting method for mounting electronic components with leads through through holes, a mounting method for mounting electronic components with a case on a pattern surface without passing through through holes, or a bare mounting method. Various electronic components are mounted by a known method such as an IC chip mounting method of mounting an IC chip on a pattern surface to form a mounted circuit board.

【0034】[0034]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面
にしたがって説明する。図1はプリント配線板1を示し
ており、該配線板1は、その電気絶縁性基板として液晶
ポリマーフィルム2を用い、その上下面に金属箔を接着
して積層し、これら金属箔にエッチング処理などを施し
て導電パターン3を形成している。また、上下面の一部
の導電パターン3,3の間には、フィルム2の厚さ方向
に貫通するスルーホール4を設け、その内面に例えば銅
からなる導電体5を形成する。これにより、上下の導電
パターン3,3同士を電気的に接続する。導電パターン
3には、電子部品6が、例えばその端子7を介してはん
だ接続されて、実装回路基板8が作製される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a printed wiring board 1. The wiring board 1 uses a liquid crystal polymer film 2 as its electrically insulating substrate, and adheres and laminates metal foils on upper and lower surfaces thereof, and etches these metal foils. The conductive pattern 3 is formed by performing such processes. In addition, a through hole 4 is formed between the conductive patterns 3 and 3 on the upper and lower surfaces so as to penetrate in the thickness direction of the film 2, and a conductor 5 made of, for example, copper is formed on the inner surface. As a result, the upper and lower conductive patterns 3, 3 are electrically connected to each other. An electronic component 6 is soldered to the conductive pattern 3 via, for example, its terminal 7 to form a mounted circuit board 8.

【0035】[0035]

【実施例】つぎに、実施例により本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。 実施例1 まず、p−ヒドロキシ安息香酸と6−ヒドロキシ−2−
ナフトエ酸の共重合物で、融点が283℃である液晶ポ
リマーを溶融押出し、インフレーション成形法により膜
厚が50μm、分子配向度SORが1.05の液晶ポリ
マーフィルムを作製した。つぎに、上記液晶ポリマーフ
ィルムの両面に、金属箔である厚さ18μmの銅箔(電
解銅)を300℃で加熱圧着して、銅箔/液晶ポリマー
フィルム/銅箔の組み合わせからなる積層板を作製し
た。この積層板におけるフィルムの厚さ方向の熱膨張係
数と、積層板のスルーホール接続信頼性について調べた
結果は、表6の通りである。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 First, p-hydroxybenzoic acid and 6-hydroxy-2-
A liquid crystal polymer having a melting point of 283 ° C., which was a copolymer of naphthoic acid, was melt-extruded, and a liquid crystal polymer film having a film thickness of 50 μm and a molecular orientation degree SOR of 1.05 was produced by inflation molding. Next, a copper foil (electrolytic copper) having a thickness of 18 μm, which is a metal foil, was heat-pressed at 300 ° C. on both sides of the liquid crystal polymer film to form a laminate comprising a combination of copper foil / liquid crystal polymer film / copper foil. Produced. Table 6 shows the results of examining the thermal expansion coefficient of the laminated plate in the thickness direction of the film and the reliability of through-hole connection of the laminated plate.

【0036】実施例2 実施例1で用いた液晶ポリマーフィルムを、260℃で
5時間加熱処理して融点を320℃にまで高め、該フィ
ルムに厚さ18μmの銅箔(電解銅)を340℃で加熱
圧着して、銅箔/液晶ポリマーフィルム/銅箔の組み合
わせからなる積層板を作製した。この積層板の上記各特
性について調べた結果は、表6の通りである。
Example 2 The liquid crystal polymer film used in Example 1 was heated at 260 ° C. for 5 hours to increase the melting point to 320 ° C., and a 18 μm thick copper foil (electrolytic copper) was applied to the film at 340 ° C. To produce a laminate comprising a combination of copper foil / liquid crystal polymer film / copper foil. Table 6 shows the results obtained by examining the above properties of the laminate.

【0037】実施例3 実施例1で得られた銅箔/液晶ポリマーフィルム/銅箔
の組み合わせからなる積層板を260℃で20時間加熱
処理して、融点を350℃に高めた積層板を得た。この
積層板の上記各特性について調べた結果は、表6の通り
である。
Example 3 A laminate having the combination of copper foil / liquid crystal polymer film / copper foil obtained in Example 1 was heated at 260 ° C. for 20 hours to obtain a laminate having a melting point raised to 350 ° C. Was. Table 6 shows the results obtained by examining the above properties of the laminate.

【0038】実施例4 p−ヒドロキシ安息香酸と6−ヒドロキシ−2−ナフト
エ酸の共重合物で、融点が330℃である液晶ポリマー
を溶融押出し、インフレーション成形法により膜厚が5
0μm、分子配向度SORが1.03の液晶ポリマーフ
ィルムを作製した。そして、上記液晶ポリマーフィルム
の両面に、厚さ18μmの銅箔(電解銅)を355℃で
加熱圧着して、銅箔/液晶ポリマーフィルム/銅箔の組
み合わせからなる積層板を作製した。この積層板の上記
各特性について調べた結果は、表6の通りである。
Example 4 A liquid crystal polymer having a melting point of 330 ° C., which is a copolymer of p-hydroxybenzoic acid and 6-hydroxy-2-naphthoic acid, is melt-extruded and has a film thickness of 5 by inflation molding.
A liquid crystal polymer film having a thickness of 0 μm and a degree of molecular orientation SOR of 1.03 was produced. Then, a copper foil (electrolytic copper) having a thickness of 18 μm was heat-pressed at 355 ° C. on both surfaces of the liquid crystal polymer film to prepare a laminate composed of a combination of copper foil / liquid crystal polymer film / copper foil. Table 6 shows the results obtained by examining the above properties of the laminate.

【0039】実施例5 290℃で加熱圧着した以外は実施例1と同様にして、
銅箔/液晶ポリマーフィルム/銅箔の組み合わせからな
る積層板を作製した。この積層板の上記各特性について
調べた結果は、表6の通りである。
Example 5 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the heat and pressure were applied at 290 ° C.
A laminate comprising a combination of copper foil / liquid crystal polymer film / copper foil was prepared. Table 6 shows the results obtained by examining the above properties of the laminate.

【0040】比較例1 実施例1で用いた液晶ポリマーフィルムの両面に、厚さ
18μmの銅箔(電解銅)を320℃で加熱圧着して、
銅箔/液晶ポリマーフィルム/銅箔の組み合わせからな
る積層板を作製した。この積層板の上記各特性について
調べた結果は、表6の通りである。
Comparative Example 1 An 18 μm-thick copper foil (electrolytic copper) was heated and pressed at 320 ° C. on both sides of the liquid crystal polymer film used in Example 1,
A laminate comprising a combination of copper foil / liquid crystal polymer film / copper foil was prepared. Table 6 shows the results obtained by examining the above properties of the laminate.

【0041】比較例2 実施例4で用いた液晶ポリマーフィルムの両面に、厚さ
18μmの銅箔(電解銅)を320℃で加熱圧着して、
銅箔/液晶ポリマーフィルム/銅箔の組み合わせからな
る積層板を作製した。この積層板の上記各特性について
調べた結果は、表6の通りである。
Comparative Example 2 A copper foil (electrolytic copper) having a thickness of 18 μm was heat-pressed at 320 ° C. on both sides of the liquid crystal polymer film used in Example 4,
A laminate comprising a combination of copper foil / liquid crystal polymer film / copper foil was prepared. Table 6 shows the results obtained by examining the above properties of the laminate.

【0042】上記液晶ポリマーフィルムの融点は、示差
走査熱量計を用いて、フィルムの熱挙動を観察して得
た。つまり、フィルムを20℃/分の速度で上昇させて
完全に溶融させた後、溶融物を50℃/分の速度で50
℃まで急冷し、再び20℃/分の速度で昇温した時に現
れる吸熱ピークの位置を、フィルムの融点として記録し
た。
The melting point of the liquid crystal polymer film was obtained by observing the thermal behavior of the film using a differential scanning calorimeter. That is, after the film is raised at a rate of 20 ° C./min and completely melted, the melt is heated at a rate of 50 ° C./min.
° C, and the position of an endothermic peak that appeared when the temperature was raised again at a rate of 20 ° C / min was recorded as the melting point of the film.

【0043】上記液晶ポリマーフィルムの厚さ方向の熱
膨張係数を測定するにあたっては、先ず、該フィルムか
ら銅箔を塩化第二鉄溶液で除去した。そして、熱機械分
析装置(TMA)を用いて、直径1mmΦのピンを圧縮
加重5gでフィルムに押し付け、室温から5℃/分の速
度で融点より80℃低い温度まで昇温した後、20℃/
分の速度で30℃(T1と略記する)まで冷却した時の
厚さを基準として、再び5℃/分の速度でピンがフィル
ムに貫入する温度(T2と略記する)まで昇温した時の
熱膨張(TEと略記する)を測定し、TE/(T2−T
1)(単位をcm/cm/℃とする)を厚さ方向の熱膨
張係数として記録した。
In measuring the thermal expansion coefficient in the thickness direction of the liquid crystal polymer film, first, copper foil was removed from the film with a ferric chloride solution. Then, using a thermomechanical analyzer (TMA), a pin having a diameter of 1 mmΦ is pressed against the film with a compression load of 5 g, and the temperature is raised from room temperature to a temperature 80 ° C. lower than the melting point at a rate of 5 ° C./min.
Based on the thickness at the time of cooling to 30 ° C. (abbreviated as T1) at a rate of 1 minute, the temperature was raised again to a temperature (abbreviated as T2) at which the pins penetrate the film at a rate of 5 ° C./min. The thermal expansion (abbreviated as TE) was measured, and TE / (T2-T
1) (unit: cm / cm / ° C.) was recorded as the coefficient of thermal expansion in the thickness direction.

【0044】また、上記積層板のスルーホール接続信頼
性の測定にあたっては、該積層板にドリルを用いて穴径
0.3mmΦの穴を5000個を開孔した後、無電解銅
めっき、レジストパターン形成、パターンめっき、レジ
スト剥離、エッチングの各操作を順次施すことにより、
ランド径0.5mmΦ、穴壁銅めっき厚さ30μmのス
ルーホールを形成した。つぎに、5000個のスルーホ
ールめっきの抵抗値を4端子法で測定した後、25℃と
260℃のオイル浴にそれぞれ20秒間と5秒間交互に
浸漬することを1サイクルとする熱衝撃試験を2000
サイクル繰り返した時点の抵抗値を測定した。熱衝撃試
験後の抵抗値の初期抵抗値に対する増加率を測定し、増
加率が10%以上のスルーホールを不良とみなして、全
5000個に対する不良スルーホールの個数を不良率
(単位%)として記録した。
In measuring the through hole connection reliability of the laminated plate, 5000 holes having a diameter of 0.3 mm were drilled in the laminated plate, and then electroless copper plating and a resist pattern were formed. By sequentially performing each operation of formation, pattern plating, resist peeling, etching,
A through-hole having a land diameter of 0.5 mmΦ and a hole-wall copper plating thickness of 30 μm was formed. Next, after measuring the resistance value of 5000 through-hole plating by a four-terminal method, a thermal shock test was performed in which one cycle of immersing alternately in an oil bath at 25 ° C. and 260 ° C. for 20 seconds and 5 seconds, respectively, was performed. 2000
The resistance value at the time of repeating the cycle was measured. The rate of increase of the resistance value after the thermal shock test with respect to the initial resistance value is measured. Through holes having an increase rate of 10% or more are regarded as defective, and the number of defective through holes for all 5,000 pieces is defined as a defective rate (unit%). Recorded.

【0045】[0045]

【表6】 [Table 6]

【0046】上記表6から明らかなように、比較例1,
2によれば、その液晶ポリマーフィルムの熱膨張係数
が、スルーホールのめっきに用いる銅の熱膨張係数(1
7×10-6cm/cm/℃)と比較して差が大きい。こ
の結果、スルーホール接続信頼性試験後の不良率も高く
なる。一方、実施例1〜5によれば、その液晶ポリマー
フィルムの熱膨張係数をスルーホールのめっきに用いる
銅の熱膨張係数に近付けて実質的にほぼ同一とできるの
で、スルーホール接続信頼性試験後の不良率をゼロにで
きる。
As apparent from Table 6 above, Comparative Examples 1 and 2
According to No. 2, the coefficient of thermal expansion of the liquid crystal polymer film is limited to the coefficient of thermal expansion (1
7 × 10 −6 cm / cm / ° C.). As a result, the failure rate after the through-hole connection reliability test also increases. On the other hand, according to Examples 1 to 5, the coefficient of thermal expansion of the liquid crystal polymer film can be made substantially the same as the coefficient of thermal expansion of copper used for plating of the through-hole, so that it can be substantially the same after the through-hole connection reliability test. Defective rate can be reduced to zero.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明によれば、スルーホールの接続信
頼性に優れ、しかも耐熱性と耐薬品性および電気的性質
に優れたプリント配線板およびこれを用いた実装回路基
板を得ることができる。
According to the present invention, it is possible to obtain a printed wiring board which is excellent in connection reliability of through holes, and is excellent in heat resistance, chemical resistance and electrical properties, and a mounted circuit board using the same. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態であるプリント配線板の断
面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2…電気絶縁性基板(液晶ポリマーフィルム)、4…ス
ルーホール、5…導電体、6…電子部品。
2 ... electric insulating substrate (liquid crystal polymer film), 4 ... through hole, 5 ... conductor, 6 ... electronic parts.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 萩原 清道 大阪市北区梅田1丁目12番39号 株式会社 クラレ内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Kiyomichi Hagiwara 1-12-39 Umeda, Kita-ku, Osaka Kuraray Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光学的異方性の溶融相を形成し得るポリ
マーから成形されるフィルムにより電気絶縁性基板が形
成され、この電気絶縁性基板に厚さ方向に貫通してスル
ーホールが形成されたプリント配線板であって、上記フ
ィルムの厚さ方向の熱膨張係数が、上記スルーホールの
めっきに用いられる導電体の熱膨張係数と実質的に同一
であることを特徴とするプリント配線板。
An electrically insulating substrate is formed by a film formed from a polymer capable of forming an optically anisotropic molten phase, and a through hole is formed through the electrically insulating substrate in a thickness direction. A printed wiring board, wherein the coefficient of thermal expansion in the thickness direction of the film is substantially the same as the coefficient of thermal expansion of a conductor used for plating the through hole.
【請求項2】 請求項1において、フィルムに形成され
たスルーホールのめっきに用いられる導電体の熱膨張係
数をP×10-6cm/cm/℃としたとき、該フィルム
の厚さ方向の熱膨張係数が、(P−10)×10-6cm
/cm/℃から(P+10)×10-6cm/cm/℃の
範囲内であるプリント配線板。
2. The film according to claim 1, wherein the thermal expansion coefficient of the conductor used for plating the through holes formed in the film is P × 10 −6 cm / cm / ° C. Thermal expansion coefficient is (P-10) × 10 -6 cm
/ Cm / ° C to (P + 10) × 10 -6 cm / cm / ° C.
【請求項3】 請求項1または2において、フィルムは
分子配向度が1.3以下であるプリント配線板。
3. The printed wiring board according to claim 1, wherein the film has a molecular orientation of 1.3 or less.
【請求項4】 請求項1から3のいずれかに記載のプリ
ント配線板に、電子部品を搭載して接続してなる実装回
路基板。
4. A printed circuit board comprising an electronic component mounted on and connected to the printed wiring board according to claim 1.
JP10112055A 1998-04-22 1998-04-22 Printed wiring board and mounted circuit board using the same Pending JPH11307896A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10112055A JPH11307896A (en) 1998-04-22 1998-04-22 Printed wiring board and mounted circuit board using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10112055A JPH11307896A (en) 1998-04-22 1998-04-22 Printed wiring board and mounted circuit board using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11307896A true JPH11307896A (en) 1999-11-05

Family

ID=14576914

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10112055A Pending JPH11307896A (en) 1998-04-22 1998-04-22 Printed wiring board and mounted circuit board using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11307896A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008210726A (en) * 2007-02-28 2008-09-11 Toshiba Lighting & Technology Corp Compact self-ballasted fluorescent lamp and lighting apparatus
JP2009130051A (en) * 2007-11-21 2009-06-11 Furukawa Electric Co Ltd:The Multilayer printed circuit board and method of manufacturing the same
JP2009130049A (en) * 2007-11-21 2009-06-11 Furukawa Electric Co Ltd:The Multilayer printed circuit board and method of manufacturing the same
JP2011018726A (en) * 2009-07-08 2011-01-27 Murata Mfg Co Ltd Lcp multilayer substrate, and method of manufacturing the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03505230A (en) * 1988-06-20 1991-11-14 フオスター・ミラー・インコーポレイテツド Multiaxially oriented heat-modified polymer support for printed wiring boards
JPH0890570A (en) * 1994-09-16 1996-04-09 Hoechst Celanese Corp Processing method of liquid crystal polymer film

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03505230A (en) * 1988-06-20 1991-11-14 フオスター・ミラー・インコーポレイテツド Multiaxially oriented heat-modified polymer support for printed wiring boards
JPH0890570A (en) * 1994-09-16 1996-04-09 Hoechst Celanese Corp Processing method of liquid crystal polymer film

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008210726A (en) * 2007-02-28 2008-09-11 Toshiba Lighting & Technology Corp Compact self-ballasted fluorescent lamp and lighting apparatus
JP2009130051A (en) * 2007-11-21 2009-06-11 Furukawa Electric Co Ltd:The Multilayer printed circuit board and method of manufacturing the same
JP2009130049A (en) * 2007-11-21 2009-06-11 Furukawa Electric Co Ltd:The Multilayer printed circuit board and method of manufacturing the same
JP2011018726A (en) * 2009-07-08 2011-01-27 Murata Mfg Co Ltd Lcp multilayer substrate, and method of manufacturing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4866853B2 (en) Method for producing wiring board coated with thermoplastic liquid crystal polymer film
KR100499186B1 (en) Metal laminate for a circuit board and method for preparing the same
US8152950B2 (en) Multi-layer circuit board and method of making the same
JP2006137011A (en) Metal clad laminate and its manufacturing method
JP4064897B2 (en) Multilayer circuit board and manufacturing method thereof
WO2021193385A1 (en) Method for producing multilayer circuit board
JP2000269616A (en) High-frequency circuit board
JP3693609B2 (en) Method for producing metal-clad laminate
JPH11307896A (en) Printed wiring board and mounted circuit board using the same
JP2005105165A (en) Thermoplastic liquid crystalline polymer film laminatable at low temperature
JP4004139B2 (en) MULTILAYER LAMINATE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND MULTILAYER MOUNTED CIRCUIT BOARD
JPH11302417A (en) Polymer film and its manufacture
JP4689263B2 (en) Multilayer wiring board and manufacturing method thereof
JPH11214250A (en) Device and circuit board mounted with the device
JPH11348178A (en) Coating method using polymer film and manufacture of metal foil laminated body
JP5226035B2 (en) Manufacturing method of multilayer wiring board
JP2001270032A (en) Easy heat radiant circuit board
JP2002047360A (en) Polyphenylene sulfide film and method of preparing the same and circuit board produced from the same
JP5085823B2 (en) LAMINATE OF FILM AND METAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
JP4121402B2 (en) Circuit board using thermoplastic liquid crystal polymer and manufacturing method thereof
JP2003115707A (en) Surface wave transmission line
JP3905590B2 (en) Heat treatment method for laminate
JP4480337B2 (en) Circuit board manufacturing method
JP2002319748A (en) Base for printed-wiring board and prepreg and printed- wiring board using the prepreg
JP2001237548A (en) Method for forming via hole in metal-clad laminate

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040409

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040409

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060509

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060926