JP2005158974A - Method for manufacturing multi-layer printed wiring board and sheet material for manufacturing the same - Google Patents

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JP2005158974A JP2003394683A JP2003394683A JP2005158974A JP 2005158974 A JP2005158974 A JP 2005158974A JP 2003394683 A JP2003394683 A JP 2003394683A JP 2003394683 A JP2003394683 A JP 2003394683A JP 2005158974 A JP2005158974 A JP 2005158974A
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Daisuke Kanetani
大介 金谷
Shuji Maeda
修二 前田
Taro Fukui
太郎 福井
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a multi-layer printed wiring board by which a via hole can be made in an optional layer while a sheet material with conductor wiring is used to reduce the frequency of pressing, and to provide such a multi-layer printed wiring board that is superior in interlayer adhesion and conduction reliability. <P>SOLUTION: A metallic layer 1 is formed on one surface of a hard insulating layer 2, an adhesive layer 4 and a protection film 5 are stacked on the other surface thereof, and conductor wiring 3 is formed by patterning of the metallic film 1. A hole 6 is made so as to penetrate the protection film 5, the adhesive layer 4 and the hard insulating layer 2. The hole 6 is filled with a conductive material 7 and a cover film 9 is stacked on the outer layer of the protection film 5. Then, the surface of the conductor wiring 3 is roughened, and the cover film 9 and the protection film 5 are peeled off to form a board for multilayer. A plurality of boards including the board for multilayer are piled up and are formed as one body. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、インターステシャルバイアホール構造の多層プリント配線板を製造するのに有効な多層プリント配線板の製造方法、及びこの多層プリント配線板の製造に用いられる多層プリント配線板製造用シート材に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board effective for manufacturing a multilayer printed wiring board having an interstitial via hole structure, and a sheet material for manufacturing a multilayer printed wiring board used for manufacturing the multilayer printed wiring board. Is.

インターステシャルバイアホール(IVH)を有する多層プリント配線板の製造方法は、かなり以前から検討されており、レーザ加工技術やペースト印刷技術の進歩もあって、多層プリント配線板を製造する際のプレス回数を削減できる工法が提案されるに至っている。とくに近年では、導体配線3を形成したシート材料を用いてプレス回数を低減させながら任意の層にIVHを形成することができる多層プリント配線板への提案が多くなされている(特許文献1,2参照)。   A method for manufacturing a multilayer printed wiring board having an interstitial via hole (IVH) has been studied for a long time, and there has been progress in laser processing technology and paste printing technology. Construction methods that can reduce the number of times have been proposed. In particular, in recent years, many proposals have been made for a multilayer printed wiring board that can form IVH in an arbitrary layer while reducing the number of presses using a sheet material on which conductor wiring 3 is formed (Patent Documents 1 and 2). reference).

特許文献2に開示されている工法を簡単に説明する。まず、図3(a)に示すような硬質絶縁層2の一面に金属膜1が貼着された絶縁性硬質基板を準備する。次に、金属膜1にエッチング処理を施して、図3(b)に示すように導体配線3を形成し、この導体配線3の表面に対して、後のプレス成形時に絶縁層との密着性を向上させるための粗面化処理を施す。次いで、硬質絶縁層2の導体配線3とは反対側の面に、図3(c)に示すように、接着剤層4を形成し、更にその外面にフィルムや紙等からなる保護フィルム5を積層して形成する。次に、図3(d)に示すように、保護フィルム5、接着剤層4及び絶縁性硬質基板を厚み方向に貫通して導体配線3に達する孔6を形成する。次に、図3(e)に示すように、導電性ペースト等の導電材料7を孔6に充填して片面配線基板を作製する。   The construction method disclosed in Patent Document 2 will be briefly described. First, an insulating hard substrate having a metal film 1 attached to one surface of a hard insulating layer 2 as shown in FIG. Next, the metal film 1 is etched to form a conductor wiring 3 as shown in FIG. 3B, and the surface of the conductor wiring 3 adheres to the insulating layer during subsequent press molding. A roughening treatment is performed to improve the surface roughness. Next, as shown in FIG. 3C, an adhesive layer 4 is formed on the surface of the hard insulating layer 2 opposite to the conductor wiring 3, and a protective film 5 made of film, paper, or the like is further formed on the outer surface. It is formed by stacking. Next, as shown in FIG. 3 (d), a hole 6 that penetrates the protective film 5, the adhesive layer 4, and the insulating hard substrate in the thickness direction and reaches the conductor wiring 3 is formed. Next, as shown in FIG. 3E, the hole 6 is filled with a conductive material 7 such as a conductive paste to produce a single-sided wiring board.

同様にして、図3(e)に示すような片面配線基板を複数枚作成する。次に、これらを保護フィルム5を剥離した後、重ね合せ、熱プレスを用いて加熱、加圧して一体化して、多層プリント配線板を製造する。このとき、上記の導体配線3にて多層プリント配線板の導体配線が、上記の硬質絶縁層2及び接着剤層4にて多層プリント配線板の絶縁層が、上記の孔6内に充填された導電材料7にて多層プリント配線板のバイアホール(インターステシャルバイアホール)がそれぞれ形成される。
特開平9−36551号公報 特開2001−168481号公報
Similarly, a plurality of single-sided wiring boards as shown in FIG. Next, after peeling off the protective film 5, they are superposed and integrated by heating and pressurizing using a hot press to produce a multilayer printed wiring board. At this time, the conductor wiring of the multilayer printed wiring board was filled with the conductor wiring 3 and the insulating layer of the multilayer printed wiring board was filled with the hard insulating layer 2 and the adhesive layer 4 in the hole 6. Via holes (interstitial via holes) of the multilayer printed wiring board are respectively formed by the conductive material 7.
JP-A-9-36551 Japanese Patent Laid-Open No. 2001-164841

上記に示される従来の工法では、接着剤層4や導電性ペースト等の導電材料7が導体配線3の粗面化に用いられる処理液等に曝されて劣化等しないように、先ず導体配線3の粗面化を行った後に、接着剤層4の形成、孔6の形成、導電材料7の充填を行っているものである。   In the conventional method shown above, first, the conductor wiring 3 is used so that the conductive material 7 such as the adhesive layer 4 and the conductive paste is not deteriorated by being exposed to the treatment liquid used for roughening the conductor wiring 3. After the surface roughening is performed, the adhesive layer 4 is formed, the holes 6 are formed, and the conductive material 7 is filled.

しかし、この従来の工法では、導体配線3と樹脂の密着性を向上させるために導体配線3の表面を粗面化させてから、熱プレスを行うまでの間に、絶縁層の形成、孔6の形成、孔6内への印刷法での導電性ペーストの充填という工程を経なければならず、その間、レーザによる孔あけ加工や印刷でのペースト印刷加工時などに基板を平坦な加工機のテーブル上に載置する際に導体配線3の表面の粗化面が潰れるなどして、折角粗化した導体配線3表面がなだらかになったり、導体配線3の表面に接触により傷が入るなどのトラブルが発生し、絶縁層との間の充分な密着性が得られなくなって、プレス後のデラミネーション発生の原因となるという問題があり、また導体配線3とバイアホールとを接合する場合にはバイアホールとの間に充分な導通信頼性が得られなくなったりするおそれがあった。   However, in this conventional method, in order to improve the adhesiveness between the conductor wiring 3 and the resin, the surface of the conductor wiring 3 is roughened and the heat pressing is performed before the formation of the insulating layer and the hole 6. And the process of filling the hole 6 with a conductive paste by a printing method, while the substrate is flattened during laser drilling or paste printing by printing. When the surface of the conductor wiring 3 is placed on the table, the roughened surface of the conductor wiring 3 is crushed, and the surface of the conductor wiring 3 roughened at the corner becomes smooth, or the surface of the conductor wiring 3 is damaged by contact. When trouble occurs, sufficient adhesion with the insulating layer cannot be obtained, causing delamination after pressing, and when the conductor wiring 3 and the via hole are joined. Enough between the via hole There is a possibility that through reliability may become impossible to obtain.

本発明は上記の点に鑑みて為されたものであり、導体配線を形成したシート材料を用いてプレス回数を低減させながら任意の層にインターステシャルバイアホール(IVH)を形成することができ、且つ層間に高い密着性を付与すると共に導体配線とバイアホールとの間に高い導通信頼性を確保することができる多層プリント配線板の製造方法、及びこの多層プリント配線板の製造に用いられる多層プリント配線板製造用シート材を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above points, and an interstitial via hole (IVH) can be formed in an arbitrary layer while reducing the number of presses using a sheet material on which a conductor wiring is formed. And a method for producing a multilayer printed wiring board capable of providing high adhesion between the layers and ensuring high conduction reliability between the conductor wiring and the via hole, and a multilayer used in the production of the multilayer printed wiring board It aims at providing the sheet | seat material for printed wiring board manufacture.

本発明者らは、上述した目的を実現するために鋭意研究を行った結果、以下に示す内容を要旨とする発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above-described object, the present inventors have completed an invention having the following contents.

すなわち、本発明に係る多層プリント配線板18の製造方法は、
(1)硬質絶縁層2の一面に金属膜1を積層成形し、他面に加熱により一時的に溶融可能となる接着剤層4を形成すると共にその外面に保護フィルム5を積層し、前記金属膜1にパターニングを施して導体配線3を形成する工程、
(2)前記保護フィルム5側から穿設加工を施して、保護フィルム5、接着剤層4、硬質絶縁層2を貫通すると共に底面に前記導体配線3が露出する孔6を形成する工程
(3)前記孔6に導電材料7を充填させる工程、
(4)前記保護フィルム5の外層に前記孔6を閉塞するようにカバーフィルム9を積層する工程、
(5)前記導体配線3の表面を粗面化する工程、
(6)前記カバーフィルム9を剥離する工程、
(7)前記保護フィルム5を剥離して前記接着剤層4から前記導電材料7を突出させる工程、
(8)前記(1)乃至(7)の工程を経て作製された多層化用基板16を含む複数の基板15を積層し、一体成形する工程、
を順次経ることを特徴とするものであり、これにより、導体配線3の粗面化処理は、バイアホール12形成のための孔6の形成や導電材料7の充填を行った後に、接着剤層4が保護フィルム5で保護されると共に導電材料7が保護フィルム5及びカバーフィルム9にて保護された状態で為されることとなり、そして導体配線3の粗面化の後に速やかに多層化用基板16を他の基板15と一体成形することができる。
That is, the manufacturing method of the multilayer printed wiring board 18 according to the present invention is as follows.
(1) The metal film 1 is laminated and formed on one surface of the hard insulating layer 2, the adhesive layer 4 that can be temporarily melted by heating is formed on the other surface, and the protective film 5 is laminated on the outer surface thereof, and the metal Forming a conductor wiring 3 by patterning the film 1;
(2) A step of forming a hole 6 through which the conductor wiring 3 is exposed at the bottom while penetrating the protective film 5, penetrating the protective film 5, the adhesive layer 4 and the hard insulating layer 2 (3) ) Filling the hole 6 with a conductive material 7;
(4) a step of laminating a cover film 9 so as to close the hole 6 on the outer layer of the protective film 5;
(5) Roughening the surface of the conductor wiring 3;
(6) The process of peeling the said cover film 9,
(7) peeling the protective film 5 and causing the conductive material 7 to protrude from the adhesive layer 4;
(8) A step of laminating and integrally forming a plurality of substrates 15 including the multilayer substrate 16 produced through the steps (1) to (7).
In this way, the roughening treatment of the conductor wiring 3 is performed after the formation of the holes 6 for forming the via holes 12 and the filling of the conductive material 7, and then the adhesive layer. 4 is protected by the protective film 5 and the conductive material 7 is protected by the protective film 5 and the cover film 9, and after the roughening of the conductor wiring 3, the multilayer substrate is quickly formed. 16 can be integrally formed with another substrate 15.

また、上記工程(4)におけるカバーフィルム9の積層を、ロールラミネートにより行うことが好ましい。これにより、カバーフィルム9を浮かせることなく均一に接着させることができ、その後の処理での薬液浸入を防止することができる。   Moreover, it is preferable to laminate | stack the cover film 9 in the said process (4) by roll lamination. Thereby, it can be made to adhere | attach uniformly, without lifting the cover film 9, and the chemical | medical solution penetration | invasion by a subsequent process can be prevented.

また、上記工程(5)における導体配線3の粗面化工程が、導体配線3の表面に凹凸を設ける工程であり、且つ導体配線3の処理面側からのみ処理液10が散布される薬液処理をするものであることが好ましい。これにより、カバーフィルム9と保護フィルム5との間の隙間などから孔6内へ向けて処理液10が浸入することを防止することができて、導電材料7が処理液10に曝されることを確実に防止することができ、孔6内の導電材料7の保護を十分に達成することができる。   Moreover, the roughening process of the conductor wiring 3 in the said process (5) is a process of providing an unevenness | corrugation in the surface of the conductor wiring 3, and the chemical | medical solution process by which the process liquid 10 is spread only from the process surface side of the conductor wiring 3 It is preferable that Thereby, it is possible to prevent the processing liquid 10 from entering the hole 6 from the gap between the cover film 9 and the protective film 5 and the conductive material 7 is exposed to the processing liquid 10. Can be reliably prevented, and the protection of the conductive material 7 in the hole 6 can be sufficiently achieved.

また、本発明に係る多層プリント配線板製造用シート材14は、
(1)硬質絶縁層2の一面に金属膜1を積層成形し、他面に加熱により一時的に溶融可能となる接着剤層4を形成すると共にその外面に保護フィルム5を積層し、前記金属膜1にパターニングを施して導体配線3を形成する工程、
(2)前記保護フィルム5側から穿設加工を施して、保護フィルム5、接着剤層4、硬質絶縁層2を貫通すると共に底面に前記導体配線3が露出する孔6を形成する工程
(3)前記孔6に導電材料7を充填させる工程、
(4)前記保護フィルム5の外層に前記孔6を閉塞するようにカバーフィルム9を積層する工程、
を順次経ることにより製造されたものであることを特徴とする。この多層プリント配線板製造用シート材14の導体配線3に粗面化処理を施すと、バイアホール12形成のための孔6の形成や導電材料7の充填を行った後に、接着剤層4が保護フィルム5で保護されると共に導電材料7が保護フィルム5及びカバーフィルム9にて保護された状態で導体配線3に粗面化処理を施すことができ、更にこの多層プリント配線板製造用シート材14から保護フィルム5とカバーフィルム9とを剥離して、得られた多層化用基板16を多層プリント配線板18の製造に供することができる。
Moreover, the sheet material 14 for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention includes:
(1) The metal film 1 is laminated and formed on one surface of the hard insulating layer 2, the adhesive layer 4 that can be temporarily melted by heating is formed on the other surface, and the protective film 5 is laminated on the outer surface thereof, and the metal Forming a conductor wiring 3 by patterning the film 1;
(2) A step of forming a hole 6 through which the conductor wiring 3 is exposed at the bottom while penetrating the protective film 5, penetrating the protective film 5, the adhesive layer 4 and the hard insulating layer 2 (3) ) Filling the hole 6 with a conductive material 7;
(4) A step of laminating a cover film 9 on the outer layer of the protective film 5 so as to close the hole 6;
It has been manufactured by sequentially passing through the above. When the conductor wiring 3 of the sheet material 14 for manufacturing the multilayer printed wiring board is subjected to a roughening treatment, the adhesive layer 4 is formed after the holes 6 for forming the via holes 12 and the conductive material 7 are filled. The conductor wiring 3 can be roughened with the protective film 5 and the conductive material 7 protected by the protective film 5 and the cover film 9, and the sheet material for manufacturing the multilayer printed wiring board can be used. The protective film 5 and the cover film 9 are peeled from 14, and the obtained multilayer substrate 16 can be used for the production of the multilayer printed wiring board 18.

本発明によれば、上記のように導体配線3の粗面化の後に速やかに多層化用基板16を他の基板15と一体成形することができるので、多層化用基板16の導体配線3の粗面が、レーザによる孔あけ加工や印刷でのペースト印刷加工時などに基板を平坦な加工機のテーブル上に載置する際に導体配線3の表面の粗化面が潰れるなどして、折角粗化した導体配線3表面がなだらかになったりする前に積層一体化して多層プリント配線板18を製造することができて、優れた層間密着性を有すると共に導体配線3とバイアホール12との間に優れた導通信頼性を付与することが可能となる。   According to the present invention, since the multilayer substrate 16 can be integrally formed with the other substrate 15 immediately after the roughening of the conductor wiring 3 as described above, the conductor wiring 3 of the multilayer substrate 16 is formed. When the substrate is placed on the table of a flat processing machine, for example, when the substrate is placed on a flat processing machine table during laser drilling or printing paste printing, the surface of the conductor wiring 3 is crushed. The multilayer printed wiring board 18 can be manufactured by laminating and integrating before the roughened surface of the conductor wiring 3 becomes smooth, and has excellent interlayer adhesion and between the conductor wiring 3 and the via hole 12. It is possible to provide excellent conduction reliability.

以下、本発明を実施するための最良の形態につて説明する。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described.

まず、多層プリント配線板製造用シート材14について説明する。   First, the sheet material 14 for manufacturing a multilayer printed wiring board will be described.

多層プリント配線板製造用シート材14は、導体配線3、硬質絶縁層2、保護フィルム5、カバーフィルム9が、この順に積層成形されたものである。この多層プリント配線板製造用シート材14には、所定の箇所に硬質絶縁層2、保護フィルム5を貫通する孔6が一又は複数箇所に設けられている。この孔6の一端はカバーフィルム9で閉塞され、他端は導体配線3にて閉塞されている。この孔6内には、導電材料7が充填されている(図1(e))。   The sheet material 14 for producing a multilayer printed wiring board is obtained by laminating a conductor wiring 3, a hard insulating layer 2, a protective film 5, and a cover film 9 in this order. The multilayer printed wiring board manufacturing sheet material 14 is provided with one or a plurality of holes 6 penetrating the hard insulating layer 2 and the protective film 5 at predetermined positions. One end of the hole 6 is closed with a cover film 9 and the other end is closed with a conductor wiring 3. The hole 6 is filled with a conductive material 7 (FIG. 1E).

この多層プリント配線板製造用シート材14を作製するにあたっては、まず第一の工程において、硬質絶縁層2の一面に金属膜1を積層成形し、他面に加熱により一時的に溶融可能となる接着剤層4を形成すると共にその外面に保護フィルム5を積層したシート材13を作製する(図1(a))。更にこのシート材13の前記金属膜1にパターニングを施して導体配線3を形成する(図1(b))。   In producing the sheet material 14 for manufacturing a multilayer printed wiring board, first, in the first step, the metal film 1 is laminated on one surface of the hard insulating layer 2 and can be temporarily melted by heating on the other surface. The sheet | seat material 13 which laminated | stacked the protective film 5 on the outer surface while forming the adhesive bond layer 4 is produced (FIG. 1 (a)). Further, the metal film 1 of the sheet material 13 is patterned to form a conductor wiring 3 (FIG. 1B).

上記の硬質絶縁層2は、適宜の硬質の絶縁材料にて形成することができるが、例えば熱硬化性樹脂を硬化成形して形成することができる。この場合、硬質絶縁層2を構成する熱硬化性樹脂の硬化反応は完了した状態である。この硬質絶縁層2は、基材入りであることが、寸法安定性の面で好ましい。この硬質絶縁層2を形成するための熱硬化性樹脂としては、適宜の配線板形成用のものを用いることができるが、例えばエポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、フッ素樹脂等が例示できる。また、基材を用いる場合には、基材として例えばガラス繊維や有機繊維などの織布や不織布等を用いることが、耐熱性の点で好ましい。   The hard insulating layer 2 can be formed of an appropriate hard insulating material. For example, the hard insulating layer 2 can be formed by curing and molding a thermosetting resin. In this case, the curing reaction of the thermosetting resin constituting the hard insulating layer 2 is completed. The hard insulating layer 2 is preferably contained in a base material in terms of dimensional stability. As the thermosetting resin for forming the hard insulating layer 2, an appropriate one for forming a wiring board can be used, and examples thereof include an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, and a fluororesin. Moreover, when using a base material, it is preferable from a heat resistant point to use woven fabrics, nonwoven fabrics, etc., such as glass fiber and an organic fiber, for example.

また、上記の金属膜1としては適宜の材質のものが用いられるが、銅箔等の金属箔を用いて形成することが好ましい。   The metal film 1 is made of an appropriate material, but is preferably formed using a metal foil such as a copper foil.

硬質絶縁層2と金属膜1とを積層成形するにあたっては、適宜の手法を用いることができるが、通常の金属箔張積層板の製造工程と同様の手法を採用することができる。すなわち、例えば上記のような基材に上記のような熱硬化性樹脂を含む樹脂ワニスを含浸させ、加熱乾燥するなどしてBステージ化させてプリプレグを作製し、所要枚数のプリプレグと銅箔等の金属箔とを重ね合わせて、加熱加圧処理を施し、これによりプリプレグの樹脂成分を加熱硬化させて硬質絶縁層2を形成すると共に、この硬質絶縁層2に積層した金属膜1を形成するものである。このとき金属膜1は硬質絶縁層2の片面にのみ設けるが、硬質絶縁層2の両面に金属膜1を設けた後に、片側の金属膜1を除去するようにしても良い。   In laminating the hard insulating layer 2 and the metal film 1, an appropriate method can be used, but the same method as the manufacturing process of a normal metal foil-clad laminate can be employed. That is, for example, a base material such as the above is impregnated with a resin varnish containing the thermosetting resin as described above, and heat-dried to form a B-stage to produce a prepreg, and the required number of prepregs and copper foil, The metal foil is superposed and subjected to heat and pressure treatment, whereby the resin component of the prepreg is heated and cured to form the hard insulating layer 2 and the metal film 1 laminated on the hard insulating layer 2 is formed. Is. At this time, the metal film 1 is provided only on one side of the hard insulating layer 2, but after the metal film 1 is provided on both sides of the hard insulating layer 2, the metal film 1 on one side may be removed.

上記の硬質絶縁層2及び金属膜1は適宜の厚みに形成することができるが、硬質絶縁層2の厚みは0.02〜1.0mm、金属膜1の厚みは0.005〜0.070mmの範囲に形成することが好ましい。   The hard insulating layer 2 and the metal film 1 can be formed to have an appropriate thickness. The thickness of the hard insulating layer 2 is 0.02 to 1.0 mm, and the thickness of the metal film 1 is 0.005 to 0.070 mm. It is preferable to form in the range.

上記のように硬質絶縁層2と金属膜1とを積層するにあたっては、硬質絶縁層2を基材入りとして形成する場合には、基材として特にガラス織布又は有機織布であり、且つ開繊処理がなされているものを用いることが好ましい。この場合、硬質絶縁層2の寸法安定性が向上すると共に、開繊により樹脂の含浸性が向上して未充填が防止され、多層プリント配線板18に形成されるバイアホール12間の絶縁信頼性を向上することができる。   When laminating the hard insulating layer 2 and the metal film 1 as described above, when the hard insulating layer 2 is formed with a base material, the base material is particularly a glass woven fabric or an organic woven fabric, and is opened. It is preferable to use one that has been subjected to a fiber treatment. In this case, the dimensional stability of the hard insulating layer 2 is improved and the impregnation of the resin is improved by opening the fiber to prevent unfilling, and the insulation reliability between the via holes 12 formed in the multilayer printed wiring board 18 is improved. Can be improved.

上記の接着剤層4は、上記のように形成された硬質絶縁層2の、金属膜1とは反対側の外面に形成する。例えば熱硬化性樹脂を含む接着剤を、ロールコータ、カーテンコータ、スプレーコータ、スクリーン印刷等の手法により硬質絶縁層2の外面に塗布してプレキュアーするか、或いは前記のような接着剤をシート状に成形した接着シートを熱ロール等を用いて硬質絶縁層2にラミネートする等の方法で行うことができる。また、この接着剤層4は、加熱により一時的に溶融可能となり、その後の加熱で硬化する性質を持つものとして形成される。具体的には、熱硬化性樹脂を含む接着剤として、エポキシ樹脂組成物等のような積層板形成用の熱硬化性樹脂組成物を用い、この熱硬化性樹脂組成物にて形成された塗膜や接着シートを加熱乾燥するなどしてBステージ化することで、接着剤層4を形成することができる。この接着剤層4の厚みは適宜調整されるが、10〜50μmの範囲内とすることが好ましい。   The adhesive layer 4 is formed on the outer surface of the hard insulating layer 2 formed as described above opposite to the metal film 1. For example, an adhesive containing a thermosetting resin is applied to the outer surface of the hard insulating layer 2 by a roll coater, curtain coater, spray coater, screen printing, or the like, and is precured, or such an adhesive is formed into a sheet. The adhesive sheet formed into a laminate can be obtained by laminating the hard insulating layer 2 using a hot roll or the like. Further, the adhesive layer 4 is formed so as to be capable of being temporarily melted by heating and to be cured by heating thereafter. Specifically, a thermosetting resin composition for forming a laminate such as an epoxy resin composition is used as an adhesive containing a thermosetting resin, and a coating formed with this thermosetting resin composition is used. The adhesive layer 4 can be formed by forming a B-stage by heating and drying the film or the adhesive sheet. Although the thickness of this adhesive bond layer 4 is adjusted suitably, it is preferable to set it as the range of 10-50 micrometers.

上記の保護フィルム5は、特に制限されないが、後述する導体配線3の形成時に使用される薬剤、例えば塩化銅水溶液や水酸化ナトリウム水溶液等に対する耐薬品性を有するものが好ましく、具体的にはポリエチレンテレフタレートフィルム等を用いることができる。   The protective film 5 is not particularly limited, but preferably has chemical resistance against chemicals used when forming the conductor wiring 3 described later, such as an aqueous copper chloride solution or an aqueous sodium hydroxide solution, specifically polyethylene. A terephthalate film or the like can be used.

また、保護フィルム5は接着剤層4との間に適度な密着性を有することが好ましい。すなわち、後述する導体配線3の形成時や粗面化処理時には、接着剤層4から保護フィルム5が剥離しないようにして、導体配線3の形成時に用いる薬剤中に接着剤層4が露出して薬剤が汚染されるようなことを防止し、また接着剤層4から保護フィルム5を剥離する場合には容易に剥離することができることができる程度の、適度の密着性を有することが好ましいものである。このためには、保護フィルム5の接着剤層4に貼着される側の表面粗度Rz(十点平均粗さ;JIS B 0601)が、0.01〜5μmの範囲であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the protective film 5 has moderate adhesiveness with the adhesive layer 4. That is, at the time of forming the conductor wiring 3 to be described later or roughening treatment, the protective film 5 is not peeled off from the adhesive layer 4 so that the adhesive layer 4 is exposed in the chemical used at the time of forming the conductor wiring 3. It is preferable to have appropriate adhesion that prevents the drug from being contaminated, and can be easily peeled off when the protective film 5 is peeled off from the adhesive layer 4. is there. For this purpose, it is preferable that the surface roughness Rz (ten-point average roughness; JIS B 0601) on the side of the protective film 5 attached to the adhesive layer 4 is in the range of 0.01 to 5 μm.

また保護フィルム5の厚みは、後述するように導電性のバンプ8の突出寸法に相当するものであるから、導電性のバンプ8の所望の突出寸法に応じて適宜設定されるものであるが、前記バンプ8の突出寸法は5〜100μmであることが好ましく、このため保護フィルム5の厚み寸法も5〜100μmの範囲であることが好ましい。   Moreover, since the thickness of the protective film 5 corresponds to the protruding dimension of the conductive bump 8 as will be described later, it is appropriately set according to the desired protruding dimension of the conductive bump 8. The protruding dimension of the bump 8 is preferably 5 to 100 μm, and the thickness dimension of the protective film 5 is also preferably in the range of 5 to 100 μm.

このように形成されたシート材13の一面に設けられた金属膜1に対してパターニング加工を施すことにより、導体配線3を形成する。パターニング加工は適宜の手法にて行うことができ、例えば金属膜1の表面に感光性樹脂組成物からなるドライフィルムをラミネートして添付し、露光・現像工程を経てエッチングレジストを形成した後に、エッチング液にて処理し、更に残存するエッチングレジストを剥離することで、図1(b)のように導体配線3を形成することができる。   By conducting a patterning process on the metal film 1 provided on one surface of the sheet material 13 formed in this way, the conductor wiring 3 is formed. The patterning process can be performed by an appropriate method. For example, a dry film made of a photosensitive resin composition is laminated on the surface of the metal film 1 and attached, an etching resist is formed through an exposure / development process, and then etching is performed. The conductor wiring 3 can be formed as shown in FIG. 1B by treating with a liquid and peeling off the remaining etching resist.

次に、図1(c)に示すように、このシート材13に対して、保護フィルム5側から、保護フィルム5、接着剤層4、硬質絶縁層2を貫通して導体配線3に達する孔6を形成する。このとき孔6の底面に導体配線3が露出するようにして、孔6の一端が開口すると共に他端が導体配線3で閉塞されるように形成する。孔6の形成は適宜の手法を用いて行うことができるが、例えば炭酸ガスレーザの照射により行うことができる。また孔6の形成後には、孔6の内面にプラズマ処理やUV照射を行うなどして樹脂残渣を除去することが好ましい。また、孔6の開口径は適宜の寸法とすることができるが、好ましくは30〜500μm、更に好ましくは50〜200μmの範囲とするものである。   Next, as shown in FIG. 1 (c), holes reaching the conductor wiring 3 through the protective film 5, the adhesive layer 4, and the hard insulating layer 2 from the protective film 5 side with respect to the sheet material 13. 6 is formed. At this time, the conductor wiring 3 is exposed at the bottom surface of the hole 6 so that one end of the hole 6 is opened and the other end is closed by the conductor wiring 3. The hole 6 can be formed by using an appropriate method, for example, by irradiation with a carbon dioxide laser. In addition, after the formation of the holes 6, it is preferable to remove the resin residue by performing plasma treatment or UV irradiation on the inner surface of the holes 6. Moreover, although the opening diameter of the hole 6 can be made into a suitable dimension, Preferably it is 30-500 micrometers, More preferably, it is set as the range of 50-200 micrometers.

次に、図1(d)に示すように、上記の孔6内に導電材料7を充填する。導電材料7としては、配線板のバイアホールの形成等に一般的に用いられている導電性ペースト等を使用することができ、例えば銀粉や銅粉等の導電性粉体を熱硬化性樹脂組成物中に混合したものが用いられる。導電材料7はスクリーン印刷等による印刷塗布などにより孔6内に充填することができる。このとき保護フィルム5によって、接着剤層4の外面には導電材料7が付着されないように保護されるものである。   Next, as shown in FIG. 1 (d), the hole 6 is filled with a conductive material 7. As the conductive material 7, it is possible to use a conductive paste or the like generally used for forming a via hole in a wiring board. For example, a conductive powder such as silver powder or copper powder is used as a thermosetting resin composition. What was mixed in the thing is used. The conductive material 7 can be filled in the holes 6 by printing application such as screen printing. At this time, the protective film 5 protects the conductive material 7 from adhering to the outer surface of the adhesive layer 4.

次に、図1(e)に示すように、保護フィルム5の外層にカバーフィルム9をラミネート等により積層する。カバーフィルム9は少なくとも上記の導電材料7が充填された孔6を閉塞するように形成するものであり、保護フィルム5の全面に設けても良い。カバーフィルム9としては適宜の材質のものを用いることができるが、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリフェニレンスルフィド等の熱可塑性樹脂をフィルム化したものを用いることができる。   Next, as shown in FIG. 1E, a cover film 9 is laminated on the outer layer of the protective film 5 by lamination or the like. The cover film 9 is formed so as to close at least the hole 6 filled with the conductive material 7 described above, and may be provided on the entire surface of the protective film 5. As the cover film 9, an appropriate material can be used. For example, a film made of a thermoplastic resin such as polyethylene terephthalate, polyester, polyethylene, or polyphenylene sulfide can be used.

このカバーフィルム9は、後述する粗面化処理時のソフトエッチング液等の処理液10がカバーフィルム9と保護フィルム5との間から浸入することを防止することができる程度に保護フィルム5との間の密着性を有することが好ましい。またカバーフィルム9の剥離時には、カバーフィルム9を接着するための接着成分が導電材料7の端部に残存しないようにすることが好ましい。すなわち、導電材料7の端部は後述する多層化の際にはバンプ8として機能するものであり、このため導電材料7に接着成分が残存することで導電性が阻害されることを防止することが好ましいものである。このため、カバーフィルム9を設ける際には、接着力が比較的弱い接着成分からなる付着層を介して、ロールラミネータ等により加圧圧着することが好ましい。このときの付着層は、上記のように保護フィルム5とカバーフィルム9との間に充分な接着性を付与することができ、且つ導電材料7の端部に付着して残存することがないものであれば適宜のものを用いることができ、特に制限するものではないが、一般的に接着剤に用いられる樹脂、例えばビニル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂などを単独あるいは混合物などとし、その接着力を調整したものを用いることができる。   The cover film 9 is formed with the protective film 5 to such an extent that the processing liquid 10 such as a soft etching liquid during the roughening process described later can be prevented from entering between the cover film 9 and the protective film 5. It is preferable to have adhesiveness between them. Further, it is preferable that an adhesive component for bonding the cover film 9 does not remain at the end portion of the conductive material 7 when the cover film 9 is peeled off. That is, the end portion of the conductive material 7 functions as the bump 8 in the later-described multi-layering, and therefore, it is possible to prevent the conductivity from being hindered by the adhesive component remaining in the conductive material 7. Is preferred. For this reason, when providing the cover film 9, it is preferable to press-press with a roll laminator etc. through the adhesion layer which consists of an adhesive component with comparatively weak adhesive force. The adhesion layer at this time can provide sufficient adhesion between the protective film 5 and the cover film 9 as described above, and does not remain attached to the end of the conductive material 7. As long as it can be used as appropriate, it is not particularly limited, but resins commonly used in adhesives, such as vinyl resins, urethane resins, acrylic resins, polyamide resins, etc. alone or as a mixture, What adjusted the adhesive force can be used.

以上の工程によって、導体配線3、硬質絶縁層2、接着剤層4、保護フィルム5、カバーフィルム9がこの順に積層成形され、また硬質絶縁層2、接着剤層4、保護フィルム5を貫通すると共に両端が導体配線3とカバーフィルム9とでそれぞれ閉塞され且つ内部に導電材料7が充填された孔6を有する、多層プリント配線板製造用シート材14が得られる。   Through the above steps, the conductor wiring 3, the hard insulating layer 2, the adhesive layer 4, the protective film 5 and the cover film 9 are laminated and formed in this order, and penetrate the hard insulating layer 2, the adhesive layer 4 and the protective film 5. At the same time, a sheet material 14 for producing a multilayer printed wiring board is obtained that has holes 6 that are closed at both ends by the conductor wiring 3 and the cover film 9 and filled with the conductive material 7 inside.

このようにして得られた多層プリント配線板製造用シート材14を用いた多層プリント配線板18の製造方法について説明する。   A method for manufacturing the multilayer printed wiring board 18 using the sheet material 14 for manufacturing the multilayer printed wiring board thus obtained will be described.

上記のようにして得られた多層プリント配線板製造用シート材14の導体配線3の表面に粗面化処理を施す。粗面化処理は、図2(a)に示すような処理液10を用いた湿式処理により行うことができる。粗面化処理の手法としては、例えば硫酸/過酸化水素からなるソフトエッチング液を用いたソフトエッチング処理、有機酸を用いたエッチング処理、銅−ニッケル−リンを用いた針状めっき処理等が挙げられる。   The surface of the conductor wiring 3 of the multilayer printed wiring board manufacturing sheet material 14 obtained as described above is roughened. The roughening treatment can be performed by a wet treatment using a treatment liquid 10 as shown in FIG. Examples of the roughening treatment include soft etching using a soft etching solution composed of sulfuric acid / hydrogen peroxide, etching using an organic acid, and needle-like plating using copper-nickel-phosphorus. It is done.

このような粗面化処理を施す際には、孔6内に充填されている導電材料7はその一端が導体配線3で閉塞されていると共に他端がカバーフィルム9にて閉塞されていて、外部に露出されず、このため粗面化処理におけるソフトエッチング液等の処理液10に曝されることがなくて、導電材料7の劣化、損傷の発生が防止され、この導電材料7にて構成されるバイアホール12の電気的信頼性を向上することができる。   When performing such surface roughening treatment, the conductive material 7 filled in the hole 6 is closed at one end by the conductor wiring 3 and at the other end by the cover film 9, It is not exposed to the outside, and therefore, it is not exposed to the processing liquid 10 such as the soft etching liquid in the roughening process, and the conductive material 7 is prevented from being deteriorated and damaged. The electrical reliability of the via hole 12 can be improved.

上記の粗面化処理にあたっては、粗面化処理のためのソフトエッチング液等の処理液10は、導体配線3が形成されている側の面、すなわちカバーフィルム9が設けられている側とは反対側の面のみに向けてスプレー等で噴霧するなどして処理液10を散布する薬液処理を施すことが好ましい。この場合、カバーフィルム9と保護フィルム5との間の隙間などから孔6内へ向けて処理液10が浸入することを防止することができて、導電材料7が処理液10に曝されることを確実に防止することができ、孔6内の導電材料7の保護を十分に達成することができる。ここで、シート材は厚みが0.20mm以下の薄手の材料として形成されることが多く、このためシート材をコンベア等の水平搬送ラインで搬送しながら、粗面化処理のための処理液10を導体配線3が形成されている側から噴霧することで粗面化処理を施すことが好ましい。   In the above roughening treatment, the treatment liquid 10 such as a soft etching solution for the roughening treatment is the surface on which the conductor wiring 3 is formed, that is, the side on which the cover film 9 is provided. It is preferable to perform a chemical treatment for spraying the treatment liquid 10 by spraying with a spray or the like toward only the opposite surface. In this case, the treatment liquid 10 can be prevented from entering the hole 6 from the gap between the cover film 9 and the protective film 5 and the conductive material 7 is exposed to the treatment liquid 10. Can be reliably prevented, and the protection of the conductive material 7 in the hole 6 can be sufficiently achieved. Here, the sheet material is often formed as a thin material having a thickness of 0.20 mm or less. For this reason, the processing liquid 10 for the surface roughening treatment is carried out while the sheet material is conveyed on a horizontal conveyance line such as a conveyor. It is preferable to perform the roughening treatment by spraying from the side where the conductor wiring 3 is formed.

この導体配線3の粗面化の程度は、後述する層間密着性やバイアホール12との導通信頼性を確保することができる程度に適宜調整することができるが、好ましくは表面粗度Rz(十点平均粗さ;JIS B 0601)が0.1〜3.0μmの範囲となるようにするものである。   The degree of roughening of the conductor wiring 3 can be adjusted as appropriate so that interlayer adhesion described later and conduction reliability with the via hole 12 can be secured, but preferably the surface roughness Rz (excessive). Point average roughness: JIS B 0601) is in the range of 0.1 to 3.0 μm.

次に、図2(b)に示すようにカバーフィルム9、保護フィルム5を順次剥離除去し、これにより多層化用基板16が得られる。このとき、導電材料7の、保護フィルム5の孔に充填されていた端部が、接着剤層4から突出した状態となり、この突出する端部は、積層成形時に層間の導通を確保するためのバンプ8として形成される。このバンプ8の突出寸法は、上述した通り保護フィルム5の厚みと同一の寸法に形成され、その寸法は5〜100μmの範囲であることが好ましい。   Next, as shown in FIG. 2B, the cover film 9 and the protective film 5 are sequentially peeled and removed, whereby the multilayer substrate 16 is obtained. At this time, the end portion of the conductive material 7 filled in the hole of the protective film 5 is in a state of protruding from the adhesive layer 4, and this protruding end portion is for securing conduction between layers at the time of lamination molding. Bumps 8 are formed. The protruding dimension of the bump 8 is formed to the same dimension as the thickness of the protective film 5 as described above, and the dimension is preferably in the range of 5 to 100 μm.

多層プリント配線板18の製造にあたっては、複数の基板15を積層成形する。基板15としては、上記の手法によって形成された多層化用基板16を用いるものである。このとき基板15として多層化用基板16のみを用いても良いが、一又は複数の多層化用基板16と共に、それ以外の手法により形成された一又は複数の他の基板17を併用することもできる。   In manufacturing the multilayer printed wiring board 18, a plurality of substrates 15 are laminated and formed. As the substrate 15, the multilayer substrate 16 formed by the above method is used. At this time, only the multi-layer substrate 16 may be used as the substrate 15, but one or a plurality of multi-layer substrates 16 may be used in combination with one or a plurality of other substrates 17 formed by other methods. it can.

併用される他の基板17としては、導体配線3、硬質絶縁層2、接着剤層4が積層成形されたものを用いることができ、例えば上記の多層化用基板16の製造工程において、孔6の形成と孔6への導電材料7の充填とを行う工程を省いたり、導体配線3に対する粗面化処理を行う工程を省いたりしたものを用いることができる。すなわち、例えばバイアホール12を有しない層を形成するための基板17を作製する際には、孔6の形成と孔6への導電材料7の充填とを行う工程を省いてこの基板17を作製することができ、また多層プリント配線板18の最外層に粗面化がなされていない導体配線3を形成するための基板17を作製する際には、導体配線3に対する粗面化処理を行う工程を省いてこの基板17を作製することができる。   As the other substrate 17 to be used in combination, one in which the conductor wiring 3, the hard insulating layer 2, and the adhesive layer 4 are laminated and formed can be used. For example, in the manufacturing process of the multilayer substrate 16, the holes 6 And the step of filling the hole 6 with the conductive material 7 can be omitted, or the step of performing the roughening treatment on the conductor wiring 3 can be omitted. That is, for example, when the substrate 17 for forming a layer that does not have the via hole 12 is manufactured, the step of forming the hole 6 and filling the hole 6 with the conductive material 7 is omitted to manufacture the substrate 17. When the substrate 17 for forming the conductor wiring 3 that is not roughened on the outermost layer of the multilayer printed wiring board 18 is manufactured, a process of performing a surface roughening process on the conductor wiring 3 is performed. This substrate 17 can be fabricated without the above.

複数の基板15を積層成形するにあたっては、例えばこの複数の基板15を溶着法や、ガイドホールとガイドピンとを用いるピンラミネート法などにより基板15間を位置合わせして仮固定し、熱プレスにて加熱加圧処理を施すことで一体化して積層成形することができる。このとき熱プレスとしては、加熱加圧処理を減圧雰囲気下で行う真空熱プレスを行うことが好ましい。   When the plurality of substrates 15 are laminated and formed, for example, the plurality of substrates 15 are temporarily fixed by positioning between the substrates 15 by a welding method or a pin laminating method using guide holes and guide pins. By heat-pressing, they can be integrated and laminated. At this time, as the heat press, it is preferable to perform a vacuum heat press in which the heat and pressure treatment is performed in a reduced pressure atmosphere.

このような加熱加圧処理により、各基板15の接着剤層4は一旦溶融した後、硬化して層間の一体化がなされると共に導体配線3と重ね合わされる接着剤層4にはその導体配線3が埋設され、このとき硬質絶縁層2と接着剤層4とによって、多層プリント配線板18の絶縁層11が形成される。また孔6内に充填されている導電材料7にてバイアホール12が形成されるものであり、このとき導電材料7が導電性ペーストにて形成されている場合にはこの導電性ペーストが熱硬化してバイアホール12(インターステシャルバイアホール;IVH)が形成される。   By such heat and pressure treatment, the adhesive layer 4 of each substrate 15 is once melted and then cured and integrated between the layers, and the adhesive layer 4 overlapped with the conductor wiring 3 has its conductor wiring. In this case, the insulating layer 11 of the multilayer printed wiring board 18 is formed by the hard insulating layer 2 and the adhesive layer 4. In addition, the via hole 12 is formed by the conductive material 7 filled in the hole 6. When the conductive material 7 is formed by a conductive paste at this time, the conductive paste is thermally cured. Thus, a via hole 12 (interstitial via hole; IVH) is formed.

このような手法によれば、複数の基板15を一括して積層一体化することで、インターステシャルバイアホールが任意の位置に形成された多層プリント配線板18を製造することができるものである。   According to such a method, the multilayer printed wiring board 18 in which the interstitial via hole is formed at an arbitrary position can be manufactured by collectively laminating and integrating the plurality of substrates 15. .

図2(c)に示す例では、四個の基板15を積層成形している。図示の例では、上記のように形成した、導電材料7が充填された孔6を有すると共に導体配線3に粗面化処理が施された多層化用基板16を二枚重ね、その両側に、導電材料7が充填された孔6を有するが導体配線3には粗面化処理が施されていない基板17を重ねるようにしている。   In the example shown in FIG. 2C, four substrates 15 are laminated. In the illustrated example, two multilayered substrates 16 having the holes 6 filled with the conductive material 7 and having the surface roughened on the conductor wiring 3 formed as described above are stacked, and the conductive material is formed on both sides thereof. A substrate 17 having a hole 6 filled with 7 but not subjected to a roughening treatment is stacked on the conductor wiring 3.

ここで内側の二つの多層化用基板16は、バンプ8が形成されている側(導体配線3が形成されていない側)の面同士を対向させて重ね合わせるものであり、このとき所定のバンプ8同士が重なり合うように位置合わせして配置される。またその両側に配置される各基板17は、バンプ8が形成されている側の面が、その内側の多層化用基板16の導体配線3が形成されている側の面と対向するように重ね合わせるものであり、このとき所定のバンプ8が導体配線3の所定位置と重なり合うように位置合わせして配置される。   Here, the inner two multilayer substrates 16 are such that the surfaces on which the bumps 8 are formed (sides on which the conductor wiring 3 is not formed) are opposed to each other, and at this time predetermined bumps are formed. The eight are arranged so as to overlap each other. The substrates 17 arranged on both sides of the substrate 17 are overlapped so that the surface on which the bumps 8 are formed faces the surface on the side on which the conductor wiring 3 of the multilayer substrate 16 is formed. At this time, the predetermined bumps 8 are aligned and arranged so as to overlap the predetermined positions of the conductor wiring 3.

このように多層化用基板16を含む基板15を積層一体化して多層プリント配線板18を作製すると、図2(d)に示すように、多層化用基板16における粗面化された導体配線3が、これと重ね合わされる基板15の接着剤層4に接合することで、層間の密着性が向上される。また、導電材料7のバンプ8が、粗面化された導体配線3と接合することとなり、導電材料7と導体配線3とが密着性良く接合される。そしてこの状態で導電材料7が加熱硬化すると、導電材料7にて形成されるバイアホール12と導体配線3との間に高い導通信頼性が得られる。   When the multilayer printed wiring board 18 is manufactured by laminating and integrating the substrates 15 including the multilayer substrate 16 as described above, the roughened conductor wiring 3 on the multilayer substrate 16 is formed as shown in FIG. However, the adhesion between the layers is improved by bonding to the adhesive layer 4 of the substrate 15 superimposed thereon. In addition, the bumps 8 of the conductive material 7 are joined to the roughened conductor wiring 3, and the conductive material 7 and the conductor wiring 3 are joined with good adhesion. When the conductive material 7 is heated and cured in this state, high conduction reliability is obtained between the via hole 12 formed of the conductive material 7 and the conductor wiring 3.

このとき、導体配線3の粗面化処理は、接着剤層4の形成、保護フィルム5の貼着、孔6の形成、孔6への導電材料7の充填、カバーフィルム9の貼着を行った後に為されるものであり、このため、多層化処理を行う直前に導体配線3に粗面化処理を施し、次いで速やかにカバーフィルム9と保護フィルム5とを剥離除去して多層化用基板16を作製してこれを多層化処理に供することができる。これにより、粗面化処理の後に、この導体配線3の粗面が、レーザによる孔あけ加工や印刷でのペースト印刷加工時などに基板を平坦な加工機のテーブル上に載置する際に導体配線3の表面の粗化面が潰れるなどして、折角粗化した導体配線3表面がなだらかになったりする前に積層成形を行うことができ、層間の密着性や、導体配線3とバイアホール12との間の導通信頼性に優れた多層プリント配線板18を得ることができるものである。   At this time, the roughening treatment of the conductor wiring 3 is performed by forming the adhesive layer 4, attaching the protective film 5, forming the hole 6, filling the hole 6 with the conductive material 7, and attaching the cover film 9. For this reason, the conductor wiring 3 is subjected to a roughening treatment immediately before the multilayering treatment is performed, and then the cover film 9 and the protective film 5 are quickly peeled and removed to provide a multilayer substrate. 16 can be produced and subjected to multilayering treatment. As a result, after the roughening treatment, the rough surface of the conductor wiring 3 becomes a conductor when the substrate is placed on the table of a flat processing machine in the case of drilling by laser or paste printing by printing. Lamination can be performed before the surface of the conductor wiring 3 roughened at the corners becomes smooth due to the roughened surface of the wiring 3 being crushed, and adhesion between the layers, the conductor wiring 3 and the via hole can be formed. The multilayer printed wiring board 18 having excellent conduction reliability with the circuit 12 can be obtained.

しかも、導体配線3の粗面化処理時には、接着剤層4は保護フィルム5にて保護されると共に導電材料7は保護フィルム5及びカバーフィルム9により保護されることとなり、粗面化処理に用いる処理液10等に接着剤層4及び導電材料7が曝されることがなく、これら接着剤層4及び導電材料7の劣化を防止することができる。   In addition, during the roughening treatment of the conductor wiring 3, the adhesive layer 4 is protected by the protective film 5, and the conductive material 7 is protected by the protective film 5 and the cover film 9, which is used for the roughening treatment. The adhesive layer 4 and the conductive material 7 are not exposed to the treatment liquid 10 or the like, and the deterioration of the adhesive layer 4 and the conductive material 7 can be prevented.

また、多層化用基板16のバンプ8同士を重なり合うようにした箇所においては、二つの多層化用基板16の導電材料7同士がバンプ8により接合されて一体のバイアホール12が形成されるものであり、このとき接合箇所に高い導通信頼性が付与されるものである。   Further, in the portion where the bumps 8 of the multilayer substrate 16 are overlapped with each other, the conductive material 7 of the two multilayer substrates 16 are joined together by the bump 8 to form an integral via hole 12. Yes, at this time, high conduction reliability is imparted to the joint portion.

以下に、本発明の具体的な実施例を示すが、本発明は下記実施例に限定されない。   Although the specific Example of this invention is shown below, this invention is not limited to the following Example.

(実施例)
ガラス織布を基材としたエポキシ樹脂組成物の硬化物からなる硬質絶縁層2の一面に、金属膜1(銅箔)を積層成形したもの(FR−4グレードのガラス織布基材エポキシ樹脂片面銅張積層板;松下電工社製、品番「R−1661」、硬質絶縁層2厚み0.1mm、銅箔厚み18μm)を用い、その硬質絶縁層2に、エポキシ樹脂を含む接着剤をロールコータで塗布厚み30μmで塗布し、タック性がなくなるまで60℃で加熱して、接着剤層4を形成した。次にラミネータを用い、温度80℃、圧力0.05MPaにて、保護フィルム5(ポリエチレンテレフタレートフィルム;東レ社製、品番「タイプT60」、厚み38μm、表面粗度Rz=30nmを接着剤層4の表面にラミネートして、図1(a)に示すようなシート材を作製した。
(Example)
A metal film 1 (copper foil) laminated and formed on one surface of a hard insulating layer 2 made of a cured epoxy resin composition based on a glass woven fabric (FR-4 grade glass woven substrate epoxy resin) Single-sided copper-clad laminate; manufactured by Matsushita Electric Works, product number “R-1661”, hard insulation layer 2 thickness 0.1 mm, copper foil thickness 18 μm), and rolls adhesive containing epoxy resin on the hard insulation layer 2 The adhesive layer 4 was formed by coating at a coating thickness of 30 μm with a coater and heating at 60 ° C. until tackiness disappeared. Next, using a laminator, at a temperature of 80 ° C. and a pressure of 0.05 MPa, the protective film 5 (polyethylene terephthalate film; manufactured by Toray Industries, Inc., product number “type T60”, thickness 38 μm, surface roughness Rz = 30 nm The sheet material as shown in FIG. 1A was prepared by laminating on the surface.

次に、銅箔に対して感光性のドライフィルムをラミネートし、露光、現像した。さらに、塩化第2銅溶液を用いてエッチング処理し、次に水酸化ナトリウム溶液を用いてドライフィルムを剥離して、図1(b)に示すように導体配線3を形成した。   Next, a photosensitive dry film was laminated on the copper foil, exposed and developed. Further, etching was performed using a cupric chloride solution, and then the dry film was peeled off using a sodium hydroxide solution to form a conductor wiring 3 as shown in FIG.

次に、図1(c)に示すように、保護フィルム5側から、炭酸ガスレーザにより穿孔加工を行い保護フィルム5、接着剤層4及び硬質絶縁層2を貫通して導体配線3に達する直径100μmの孔6を形成した。この孔6内には更にUVレーザを照射して残渣の除去を行った。   Next, as shown in FIG. 1 (c), the diameter of 100 μm reaches the conductor wiring 3 through the protective film 5, the adhesive layer 4 and the hard insulating layer 2 by drilling with a carbon dioxide laser from the protective film 5 side. Hole 6 was formed. The holes 6 were further irradiated with a UV laser to remove residues.

次に、図1(d)に示すように孔6内に銀粉を主成分とする導電性ペーストをスクリーン印刷法により充填した後、図1(e)に示すように接着剤層4に対して、ポリオレフィンからなる付着層を有するポリエチレンテレフタレート製のカバーフィルム9(藤森工業社製「ZACROS−PC−542T」)を、ロールラミネーターにて0.49MPa(5kgf/cm2)の圧力にて貼着した。 Next, as shown in FIG. 1D, the hole 6 is filled with a conductive paste mainly composed of silver powder by a screen printing method, and then, as shown in FIG. Then, a polyethylene terephthalate cover film 9 having an adhesive layer made of polyolefin (“ZACROS-PC-542T” manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd.) was attached with a roll laminator at a pressure of 0.49 MPa (5 kgf / cm 2 ). .

次いで、図2(a)に示すように処理液10としてエッチング処理剤(メック社製、マイクロエッチング処理剤「メックエッチボンドCZ8100」)を導体配線3側のみから噴射して、表面粗度Rzが2μmとなるようにソフトエッチング処理を施した。   Next, as shown in FIG. 2A, an etching treatment agent (manufactured by MEC, micro-etching treatment agent “MEC etch bond CZ8100”) is sprayed only from the conductor wiring 3 side as the treatment liquid 10, and the surface roughness Rz is The soft etching process was performed so that it might become 2 micrometers.

次に、カバーフィルム9と保護フィルム5とを剥離することにより、図2(b)に示すように、導電性ペーストの端部から形成されるバンプ8を接着剤層4の表面から突出させて、多層化用基板16を得た。この多層化用基板16は二枚作製した。この多層化用基板16は反りや捻れが発生していない、平坦なものであった。   Next, the cover film 9 and the protective film 5 are peeled off so that the bumps 8 formed from the ends of the conductive paste protrude from the surface of the adhesive layer 4 as shown in FIG. A multilayer substrate 16 was obtained. Two multilayer substrates 16 were produced. The multi-layer substrate 16 was flat without warping or twisting.

また、導体配線3に粗面化処理を施さない以外は上記と同様にして、二枚の基板17を作製した。   Further, two substrates 17 were produced in the same manner as described above except that the conductor wiring 3 was not roughened.

そして、図2(c)に示すように四枚の基板15(多層化用基板16及び基板17)を重ね合わせ、ピンラミネート法で仮固定して位置合せを行った。各多層化基板15,16は、反りや捻れが発生していない平坦なものであったため、位置合せは容易に行うことができた。   Then, as shown in FIG. 2C, four substrates 15 (multilayer substrate 16 and substrate 17) were overlapped and temporarily fixed by a pin laminating method for alignment. Since each of the multi-layered substrates 15 and 16 was flat with no warping or twisting, the alignment could be easily performed.

次いで、減圧下において熱プレスを用いて180℃、1時間、加熱・加圧処理を施し、図2(d)に示すような多層プリント配線板18を得た。   Next, a heat press was applied under reduced pressure at 180 ° C. for 1 hour to obtain a multilayer printed wiring board 18 as shown in FIG.

(比較例)
次の工法を適用した以外は、実施例と同一の材料を用いた。
(Comparative example)
The same materials as in the examples were used except that the following method was applied.

まず、硬質絶縁層2の一面に金属膜1を形成したもの(図3(a)参照)の金属膜1に対して感光性のドライフィルムをラミネートし、露光、現像した。さらに、塩化第2銅溶液を用いてエッチング処理し、次に水酸化ナトリウム溶液を用いてドライフィルムを剥離して、導体配線3を形成した後、処理液10としてエッチング処理剤を導体配線3側のみから噴射して、表面粗度Rzが2μmとなるようにソフトエッチング処理を施した(図3(b)参照)。   First, a photosensitive dry film was laminated on the metal film 1 having the metal film 1 formed on one surface of the hard insulating layer 2 (see FIG. 3A), exposed and developed. Further, etching is performed using a cupric chloride solution, and then the dry film is peeled off using a sodium hydroxide solution to form the conductor wiring 3, and then the etching treatment agent is used as the processing liquid 10 on the conductor wiring 3 side. A soft etching process was performed so that the surface roughness Rz was 2 μm (see FIG. 3B).

次に、上記硬質絶縁層2に、エポキシ樹脂を含む接着剤をロールコータで塗布厚み30μmで塗布し、タック性がなくなるまで60℃で加熱して、接着剤層4を形成した。次にラミネータを用い、温度80℃、圧力0.05MPaにて、保護フィルム5を接着剤層4の表面にラミネートして、図3(c)に示すようなシート材を作製した。   Next, an adhesive containing an epoxy resin was applied to the hard insulating layer 2 with a roll coater at a coating thickness of 30 μm, and heated at 60 ° C. until tackiness disappeared to form an adhesive layer 4. Next, using a laminator, the protective film 5 was laminated on the surface of the adhesive layer 4 at a temperature of 80 ° C. and a pressure of 0.05 MPa to produce a sheet material as shown in FIG.

次に、図3(d)に示すように、保護フィルム5側から、炭酸ガスレーザにより穿孔加工を行い保護フィルム5、接着剤層4及び硬質絶縁層2を貫通して導体配線3に達する直径100μmの孔6を形成した。この孔6内には更にUVレーザを照射して残渣の除去を行った。   Next, as shown in FIG. 3 (d), a diameter of 100 μm reaches the conductor wiring 3 through the protective film 5, the adhesive layer 4 and the hard insulating layer 2 by drilling with a carbon dioxide gas laser from the protective film 5 side. Hole 6 was formed. The holes 6 were further irradiated with a UV laser to remove residues.

次に、図3(e)に示すように孔6内に銀粉を主成分とする導電性ペーストをスクリーン印刷法により充填した後、保護フィルムを剥離することにより、導電性ペーストの端部から形成されるバンプ8を接着剤層4の表面から突出させて、基板を得た。この基板は二枚作製した。   Next, as shown in FIG. 3 (e), the conductive paste mainly composed of silver powder is filled in the holes 6 by the screen printing method, and then the protective film is peeled off to form the end of the conductive paste. The bump 8 to be projected was projected from the surface of the adhesive layer 4 to obtain a substrate. Two sheets of this substrate were produced.

また、導体配線3に粗面化処理を施さない以外は上記と同様にして、二枚の基板を作製した。   Further, two substrates were produced in the same manner as described above except that the conductor wiring 3 was not roughened.

そして、図2(c)に示すように四枚の基板を重ね合わせ、ピンラミネート法で仮固定して位置合せを行った。   Then, as shown in FIG. 2 (c), the four substrates were overlapped and temporarily fixed by a pin laminating method for alignment.

次いで、減圧下において熱プレスを用いて180℃、1時間、加熱・加圧処理を施し、多層プリント配線板を得た。   Subsequently, a heat-pressing process was performed at 180 ° C. for 1 hour under reduced pressure to obtain a multilayer printed wiring board.

(評価)
実施例及び比較例について、それぞれ平面視25mm角のサンプルを16個ずつ用意した。
(Evaluation)
For the examples and comparative examples, 16 samples each having a 25 mm square in plan view were prepared.

この各サンプルを、121℃、2.0atm、100%RHの条件に保持したPCT試験槽内に2時間保持した後、260℃、20秒の条件で半田フロートを行った。   Each sample was held in a PCT test tank maintained at 121 ° C., 2.0 atm, and 100% RH for 2 hours, and then solder float was performed at 260 ° C. for 20 seconds.

この処理後のサンプルについて、内層の導体配線と絶縁層の部分の、フクレの有無によって、合否判定を行った。   About the sample after this process, the pass / fail determination was performed by the presence or absence of the swelling of the conductor wiring of an inner layer and the part of an insulating layer.

この結果、実施例のものでは不良発生したサンプル数は0であったのに対して、比較例のものでは10個のサンプルについて不良が発生した。   As a result, in the example, the number of samples in which defects occurred was 0, whereas in the comparative example, defects occurred in 10 samples.

(a)乃至(e)は、本発明の実施の形態の一例を示す概略断面図である。(A) thru | or (e) is a schematic sectional drawing which shows an example of embodiment of this invention. (a)乃至(d)は、同上の実施の形態の一例を示す概略断面図である。(A) thru | or (d) is a schematic sectional drawing which shows an example of embodiment same as the above. (a)乃至(f)は、従来技術の一例を示す概略断面図である。(A) thru | or (f) is a schematic sectional drawing which shows an example of a prior art.

符号の説明Explanation of symbols

1 金属膜
2 硬質絶縁層
3 導体配線
4 接着剤層
5 保護フィルム
6 孔
7 導電材料
9 カバーフィルム
10 処理液
12 バイアホール
14 多層プリント配線板製造用シート材
15 基板
16 多層化用基板
18 多層プリント配線板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Metal film 2 Hard insulating layer 3 Conductor wiring 4 Adhesive layer 5 Protective film 6 Hole 7 Conductive material 9 Cover film 10 Treatment liquid 12 Via hole 14 Sheet material for multilayer printed wiring board production 15 Substrate 16 Multilayer substrate 18 Multilayer print Wiring board

Claims (4)

(1)硬質絶縁層の一面に金属膜を積層成形し、他面に加熱により一時的に溶融可能となる接着剤層を形成すると共にその外面に保護フィルムを積層し、前記金属膜にパターニングを施して導体配線を形成する工程、
(2)前記保護フィルム側から穿設加工を施して、保護フィルム、接着剤層、硬質絶縁層を貫通すると共に底面に前記導体配線が露出する孔を形成する工程、
(3)前記孔に導電材料を充填させる工程、
(4)前記保護フィルムの外層に前記孔を閉塞するようにカバーフィルムを積層する工程、
(5)前記導体配線の表面を粗面化する工程、
(6)前記カバーフィルムを剥離する工程、
(7)前記保護フィルムを剥離して前記接着剤層から前記導電材料を突出させる工程、
(8)前記(1)乃至(7)の工程を経て作製された多層化用基板を含む複数の基板を積層し、一体成形する工程、
を順次経ることを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
(1) A metal film is laminated on one surface of the hard insulating layer, an adhesive layer that can be temporarily melted by heating is formed on the other surface, and a protective film is laminated on the outer surface, and the metal film is patterned. Forming a conductor wiring by applying,
(2) A step of forming a hole through which the conductor wiring is exposed at the bottom while penetrating from the protective film side and penetrating the protective film, the adhesive layer, and the hard insulating layer;
(3) filling the hole with a conductive material;
(4) Laminating a cover film so as to close the hole in the outer layer of the protective film;
(5) a step of roughening the surface of the conductor wiring;
(6) The process of peeling the said cover film,
(7) peeling the protective film and causing the conductive material to protrude from the adhesive layer;
(8) A step of laminating and integrally forming a plurality of substrates including the multilayer substrate produced through the steps (1) to (7),
A method of manufacturing a multilayer printed wiring board, wherein
請求項1の上記工程(4)におけるカバーフィルムの積層を、ロールラミネートにより行うことを特徴とする請求項1に記載の多層プリント配線板の製造方法。   The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the cover film is laminated by roll lamination in the step (4) of claim 1. 請求項1の上記工程(5)における導体配線の粗面化工程が、導体配線の表面に凹凸を設ける工程であり、且つ導体配線が形成されている面側からのみ処理液が散布される湿式の薬液処理をするものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の多層プリント配線板の製造方法。   The roughening step of the conductor wiring in the step (5) of claim 1 is a step of providing irregularities on the surface of the conductor wiring, and wet processing in which the treatment liquid is sprayed only from the surface side on which the conductor wiring is formed. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the chemical solution treatment is performed. (1)硬質絶縁層の一面に金属膜を積層成形し、他面に加熱により一時的に溶融可能となる接着剤層を形成すると共にその外面に保護フィルムを積層し、前記金属膜にパターニングを施して導体配線を形成する工程、
(2)前記保護フィルム側から穿設加工を施して、保護フィルム、接着剤層、硬質絶縁層を貫通すると共に底面に前記導体配線が露出する孔を形成する工程
(3)前記孔に導電材料を充填させる工程、
(4)前記保護フィルムの外層に前記孔を閉塞するようにカバーフィルムを積層する工程、
を順次経ることにより製造されたものであることを特徴とする多層プリント配線板製造用シート材。
(1) A metal film is laminated on one surface of the hard insulating layer, an adhesive layer that can be temporarily melted by heating is formed on the other surface, and a protective film is laminated on the outer surface, and the metal film is patterned. Forming a conductor wiring by applying,
(2) A step of drilling from the protective film side to form a hole that penetrates the protective film, the adhesive layer, and the hard insulating layer and exposes the conductor wiring on the bottom surface (3) A conductive material in the hole Filling the step,
(4) Laminating a cover film so as to close the hole in the outer layer of the protective film;
A sheet material for producing a multilayer printed wiring board, wherein the sheet material is produced by sequentially passing through the steps.
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