JP2003208736A - 多層光学記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 上層基板に折れ曲がりや情報記録面に損傷を
与えることなく剥離工程を行うことができる多層光学記
録媒体の製造方法を提案することを目的とする。 【解決手段】 スピンコート法により感光性接着剤１４
を広がらせて転写基板Ｔの光学記録層１３に光透過性樹
脂シート１５を貼り合わせる貼り合わせ工程と、この感
光性接着剤１４を光Ｌを照射して硬化させる硬化工程
と、光透過性樹脂シート１５に接着した光学記録層１３
と転写基板Ｔとの界面で剥離する剥離工程とを有する多
層光学記録媒体の製造方法において、この硬化工程にお
いて、光透過性樹脂シート１５の光Ｌを照射する一方の
面側にこの光透過性樹脂シート１５と光学記録層１３と
を接着する感光性接着剤１４の外周縁部近傍に光Ｌを遮
断するマスク２０を設けるようにすると共に、この光透
過性樹脂シート１５の他方の面側よりこの光透過性樹脂
シート１５とこの光学記録層１３とを接着する感光性接
着剤１４の外周縁部近傍にこの感光性接着剤１４の硬化
阻害気体Ｏを噴きつけるようにしたものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、情報を光学的に記
録する光学記録層を複数層積層した多層光学記録媒体の
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】先に、情報を光学的に記録する光学記録
層を複数層積層した多層光学記録媒体（以下、「光ディ
スク」という）として図３に示す如きものが提案されて
いる。

【０００３】この図３の光ディスクは例えばポリカーボ
ネートなどからなる厚さ１．１ｍｍ程度の基板１０に、
下層光学記録層用の凹凸パターンＧ１が形成されてお
り、その上層に例えば膜厚１５ｎｍのアルミニウム等の
金属薄膜からなり、この凹凸パターンＧ１に対応するパ
ターンを有する反射膜である下層光学記録層１１が形成
されており、このようにして下層基板１が構成されてい
る。

【０００４】一方、例えばポリカーボネートなどからな
る厚さ７０μｍ程度の可撓性フィルムである光透過性の
樹脂シート１５に、例えば膜厚８ｎｍのアルミニウムな
どからなり、凹凸パターンが形成された半透明膜の反射
膜である上層光学記録層１３が紫外線硬化樹脂などの感
光性の接着剤層１４により接着されており、このように
して上層基板２が構成されている。

【０００５】下層光学記録層１１と上層光学記録層１３
が対向する状態で、この下層基板１と上層基板２が感圧
性接着剤あるいは紫外線硬化樹脂系接着剤などの接着剤
層１２により貼り合わされている。ここで、下層光学記
録層１１と上層光学記録層１３の間隔（即ち接着剤層１
２の膜厚）は、数１０μｍ程度（例えば２７μｍ）であ
る。

【０００６】この光ディスクは、例えば、上層光学記録
層１３及び下層光学記録層１１とが可撓性フィルムであ
る光透過性の樹脂シート１５側から１００μｍ程度の深
さの範囲内に位置しており、可撓性フィルムである光透
過性の樹脂シート１５側から記録情報を読み取る表面読
みの光ディスクとして用いられる。

【０００７】次に、この光ディスクの製造方法について
図面を参照して説明する。まず、図８Ａに示すように、
アクリル樹脂からなり、例えば厚さが１．２ｍｍである
アクリル樹脂基板即ち転写基板Ｔの表面に、上層光学記
録層用の凹凸パターンＧ２を形成する。

【０００８】次に、図８Ｂに示すように、凹凸パターン
Ｇ２が形成された転写基板Ｔ上に、例えばスパッタリン
グ法により、例えば８ｎｍの膜厚のアルミニウム、ある
いは銀などを堆積させ、この凹凸パターンＧ２に対応す
るパターンを有する半透明膜の反射膜である上層光学記
録層１３を形成する。

【０００９】次に、図９Ａに示すように、スピンコート
法により転写基板Ｔをその中心軸を回転中心軸として回
転した状態で、上層光学記録層１３上に紫外線硬化樹脂
などの感光性の接着剤１４ａを供給、平坦化する。その
上面に、転写基板Ｔ即ち最終的に目的とする光ディスク
の半径寸法ｒより大なる半径寸法Ｒを有する例えばポリ
カーボネートなどからなる厚さ７０μｍ程度の可撓性フ
ィルムよりなる光透過性の樹脂シート１５を重ね合わせ
た後、回転させ樹脂シート１５と転写基板Ｔとの間に入
る気泡を遠心力で逃がすようにする。

【００１０】次に、図９Ｂに示すように、光透過性の樹
脂シート１５側から紫外線Ｌを照射して、接着剤層１４
を硬化させ、樹脂シート１５と上層光学記録層１３とを
接着する。

【００１１】次に、図１０Ａに示すように、上層光学記
録層１３と転写基板Ｔの界面で剥離する。これにより、
上層光学記録層１３が可撓性フィルムである光透過性の
樹脂シート１５側に転写され、上層光学記録層１３が接
着剤層１４により可撓性フィルムである光透過性の樹脂
シート１５に接着される。

【００１２】次に、図１０Ｂに示すように、このように
して得られた上層光学記録層１３が接着剤層１４により
接着されている光透過性の樹脂シート１５を１点鎖線ｈ
及びｐをもって示す如く、中心部及び外周縁部の溜まり
を切断するカッティングを行う。そして、図１１に示す
センターホールＨが穿設され、最終的に目的とする光デ
ィスクの径を有する上層基板２を得る。

【００１３】次に、図１１に示すように、感圧性接着剤
あるいは紫外線硬化樹脂系接着剤などの接着剤層１２に
より、予め形成しておいた下層基板１にこの上層基板２
を貼り合わせる。

【００１４】この下層基板１は、例えばポリカーボネー
トなどからなる厚さ１．１ｍｍ程度の基板１０に、下層
光学記録層用の凹凸パターンＧ１を形成し、その上層
に、例えばスパッタリング法により、例えば１５ｎｍの
膜厚のアルミニウムなどを堆積させ、この凹凸パターン
Ｇ１に対応するパターンを有する反射膜である下層光学
記録層１１を形成することにより、形成する。

【００１５】この上層基板２と下層基板１を貼り合わせ
る工程においては、下層光学記録層１１と上層光学記録
層１３を対向させた状態で貼り合わせる。ここで、下層
光学記録層１１と上層光学記録層１３の間隔（即ち接着
剤層１２の膜厚）は、数１０μｍ程度（例えば２７μ
ｍ）とする。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、図８Ｂに示
すように、転写基板Ｔ上にスパッタリング法により形成
されるアルミニウム膜は、光ディスクのデータエリアよ
り外周部についてはスパッタリング時に外周マスク（図
示せず）がなされて転写基板Ｔの外周縁部近傍は成膜さ
れない。したがって、紫外線硬化樹脂などからなる接着
剤層１４とアクリル樹脂基板よりなる転写基板Ｔとが直
接接着する部分が存在する。

【００１７】このため、上層光学記録層１３と転写基板
Ｔの界面で剥離する剥離工程において、アルミニウム膜
などの金属薄膜からなる上層光学記録層１３とアクリル
樹脂基板よりなる転写基板Ｔとは接着強度が弱いので容
易に剥離することができるのであるが、図１２に示すよ
うに、紫外線硬化樹脂などからなる接着剤層１４とアク
リル樹脂基板よりなる転写基板Ｔとが接着している部分
は接着強度が強いので剥離するのが困難であり、上層基
板２の折れ曲がり及び凹凸パターンＧ２が転写される上
層光学記録層１３の外周縁部近傍にピットダメージ２ａ
等を与えてしまうなどの問題が生じていた。これは、例
えば次世代多層光学記録媒体に適用して上層基板を薄く
するほど深刻な問題となる。

【００１８】本発明は斯かる点に鑑み、上層基板に折れ
曲がりや情報記録面に損傷を与えることなく剥離工程を
行うことができる多層光学記録媒体の製造方法を提案せ
んとするものである。

【００１９】

【課題を解決するための手段】スピンコート法により感
光性接着剤を広がらせて転写基板の光学記録層に光透過
性樹脂シートを貼り合わせる貼り合わせ工程と、この感
光性接着剤を光を照射して硬化させる硬化工程と、この
光透過性樹脂シートに接着した光学記録層とこの転写基
板との界面で剥離する剥離工程とを有する多層光学記録
媒体の製造方法において、この硬化工程において、この
光透過性樹脂シートの光を照射する一方の面側にこの光
透過性樹脂シートとこの光学記録層とを接着するこの感
光性接着剤の外周縁部近傍に光を遮断するマスクを設け
るようにすると共に、この光透過性樹脂シートの他方の
面側よりこの光透過性樹脂シートとこの光学記録層とを
接着するこの感光性接着剤の外周縁部近傍にこの感光性
接着剤の硬化阻害気体を噴きつけるようにしたものであ
る。

【００２０】本発明によれば、硬化工程において、光透
過性樹脂シートの光を照射する一方の面側にこの光透過
性樹脂シートと光学記録層とを接着する感光性接着剤の
外周縁部近傍に光を遮断するマスクを設けるようにする
と共に、光透過性樹脂シートの他方の面側よりこの光透
過性樹脂シートと光学記録層とを接着する感光性接着剤
の外周縁部近傍にこの感光性接着剤の硬化阻害気体を噴
きつけるようにしたので、感光性接着剤の光学記録層と
接合する面にあたる部分のみを硬化させると共にこれ以
外の外周縁部近傍を未硬化とし、接着力が弱く容易に剥
離することができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明多層
光学記録媒体の製造方法の実施の形態の例について説明
する。本例は、図３に示す如き情報を光学的に記録する
光学記録層を複数層例えば２層積層した多層光学記録媒
体（以下、「光ディスク」という）を製造する場合の製
造方法に適用するものである。本例において、図８〜図
１２に対応する部分には同一符号を付して示す。

【００２２】この図３に示す光ディスクは、例えばポリ
カーボネートなどからなる厚さ１．１ｍｍ程度の基板１
０に、下層光学記録層用の凹凸パターンＧ１が形成され
ており、その上層に例えば膜厚１５ｎｍのアルミニウム
等の金属薄膜からなり、この凹凸パターンＧ１に対応す
るパターンを有する反射膜である下層光学記録層１１が
形成されており、このようにして下層基板１が構成され
ている。

【００２３】一方、例えばポリカーボネートなどからな
る厚さ７０μｍ程度の可撓性フィルムである光透過性の
樹脂シート１５に、例えば膜厚８ｎｍのアルミニウムな
どからなり、凹凸パターンが形成された半透明膜の反射
膜である上層光学記録層１３が紫外線硬化樹脂などの感
光性の接着剤層１４により接着されており、このように
して上層基板２が構成されている。

【００２４】下層光学記録層１１と上層光学記録層１３
が対向する状態で、この下層基板１と上層基板２が感圧
性接着剤あるいは紫外線硬化樹脂系接着剤などの接着剤
層１２により貼り合わされている。ここで、下層光学記
録層１１と上層光学記録層１３の間隔（即ち接着剤層１
２の膜厚）は、数１０μｍ程度（例えば２７μｍ）であ
る。

【００２５】この光ディスクは、例えば、上層光学記録
層１３及び下層光学記録層１１とが可撓性フィルムであ
る光透過性の樹脂シート１５側から１００μｍ程度の深
さの範囲内に位置しており、可撓性フィルムである光透
過性の樹脂シート１５側から記録情報を読み取る表面読
みの光ディスクとして用いられる。

【００２６】次に、本例によるこの光ディスクの製造方
法について説明する。

【００２７】まず、図４Ａに示すように、アクリル樹脂
からなり、例えば厚さが１．２ｍｍであるアクリル樹脂
基板即ち転写基板Ｔの表面に、上層光学記録層用の凹凸
パターンＧ２を形成する。

【００２８】次に、図４Ｂに示すように、凹凸パターン
Ｇ２が形成された転写基板Ｔ上に、例えばスパッタリン
グ法により、例えば８ｎｍの膜厚のアルミニウム、ある
いは銀などを堆積させ、この凹凸パターンＧ２に対応す
るパターンを有する半透明膜の反射膜である上層光学記
録層１３を形成する。

【００２９】次に、図５に示すように、スピンコート法
により転写基板Ｔをその中心軸を回転中心軸として回転
した状態で、上層光学記録層１３上に紫外線硬化樹脂な
どの感光性の接着剤１４ａを供給、平坦化する。その上
面に、転写基板Ｔ即ち最終的に目的とする光ディスクの
半径寸法ｒより大なる半径寸法Ｒを有する例えばポリカ
ーボネートなどからなる厚さ７０μｍ程度の可撓性フィ
ルムよりなる光透過性の樹脂シート１５を重ね合わせた
後、回転させ樹脂シート１５と転写基板Ｔとの間に入る
気泡を遠心力で逃がすようにする。

【００３０】次に、光透過性の樹脂シート１５側から紫
外線Ｌを照射して、接着剤層１４を硬化させ、樹脂シー
ト１５と上層光学記録層１３とを接着する。

【００３１】この硬化処理について図１を参照して説明
する。図１は接着剤層１４を硬化処理時の概略外観構成
を示すものであり、透過性の樹脂シート１５の紫外線Ｌ
を照射する一方の面側に、この光透過性の樹脂シート１
５と光学記録層１３とを接着する接着剤層１４の外周縁
部近傍に紫外線Ｌを遮断するマスク２０を設けると共
に、この光透過性の樹脂シート１５の他方の面側に、こ
の光透過性の樹脂シート１５と光学記録層１３とを接着
する接着剤層１４の外周縁部近傍に紫外線硬化樹脂より
なる接着剤層１４の硬化阻害気体である酸素Ｏを噴出す
るノズル２１を設ける如くしたものである。これは感光
性の接着剤の一つである紫外線硬化樹脂の種類の中で、
特定の気体この例では酸素雰囲気下において紫外線が照
射されても硬化が抑制されるというものの性質を利用し
たものである。

【００３２】このマスク２０により光透過性の樹脂シー
ト１５と光学記録層１３とを接着する接着剤層１４の外
周縁部近傍に照射される紫外線Ｌが遮断されるが、図１
の要部の拡大図に示す如く、このマスク２０と光透過性
の樹脂シート１５の表面との隙間から回折してくる紫外
線Ｌにより接着剤層１４の光学記録層１３と接合する面
の外周縁部が硬化してしまう。そこで、紫外線硬化樹脂
層からなる接着剤層１４の硬化阻害気体この例において
は酸素Ｏを噴きつけて未硬化とする作業を同時に行うよ
うにする。

【００３３】ここで、マスク６の位置は、このマスク６
と光透過性の樹脂シート１５との隙間から回折してくる
紫外線Ｌによる影響を考慮して、上層光学記録層１３を
形成するアルミニウム膜の外周端（図１要部拡大図の点
線部）の垂直線上の内周側に設置するようにしてもよ
い。あるいは外周側に設置するようにしてもよい。ま
た、接着剤層１４の外周縁部近傍に均等に酸素Ｏ等の硬
化阻害気体を噴きつけられるようにノズル２１はリング
状とするのが好ましい。

【００３４】上述のような接着剤層１４の外周縁部近傍
への紫外線Ｌの遮断及び硬化阻害気体である酸素Ｏの噴
きつけによって、接着剤層１４の上層光学記録層１３を
形成するアルミニウム膜等の外周端（図１要部拡大図の
点線部）よりも外周側であるほど接着剤層１４を未硬化
状態とすることができる

【００３５】次に、図６Ａに示すように、上層光学記録
層１３と転写基板Ｔの界面で剥離する。これにより、上
層光学記録層１３が可撓性フィルムである光透過性の樹
脂シート１５側に転写され、上層光学記録層１３が接着
剤層１４により可撓性フィルムである光透過性の樹脂シ
ート１５に接着される。

【００３６】このとき、アルミニウム膜よりなる上層光
学記録層１３と接合する部分にあたる接着剤層１４は硬
化状態であるが、この上層光学記録層１３の外周端より
外周側にある接着剤層１４の外周縁部近傍は未硬化状態
である（図２の矢印“⇔”で示される範囲）。この状態
においては、接着強度の強い組み合わせである紫外線硬
化樹脂よりなる接着剤層１４とアクリル樹脂基板よりな
る転写基板Ｔとが接着することがない。したがって、図
２に示すように、アクリル樹脂基板からなる転写基板Ｔ
上にスパッタリング法により形成され凹凸パターンＧ２
に対応するパターンを有するアルミニウム膜等よりなる
上層光学記録層１３は、このアルミニウム膜を破壊する
ことなく、容易に上層光学記録層１３と転写基板Ｔの界
面で剥離される。

【００３７】次に、図６Ｂに示すように、このようにし
て得られた上層光学記録層１３が接着層１４により接着
されている光透過性の樹脂シート１５を１点鎖線ｈ及び
ｐをもって示す如く、中心部及び外周縁部の溜まりを切
断するカッティングを行う。そして、図７に示すセンタ
ーホールＨが穿設され、最終的に目的とする光ディスク
の径を有する上層基板２を得る。

【００３８】次に、図７に示すように、感圧性接着剤あ
るいは紫外線硬化樹脂系接着剤などの接着剤層１２によ
り、予め形成しておいた下層基板１にこの上層基板２を
貼り合わせる。

【００３９】この下層基板１は、例えばポリカーボネー
トなどからなる厚さ１．１ｍｍ程度の基板１０に、下層
光学記録層用の凹凸パターンＧ１を形成し、その上層
に、例えばスパッタリング法により、例えば１５ｎｍの
膜厚のアルミニウムなどを堆積させ、この凹凸パターン
Ｇ１に対応するパターンを有する反射膜である下層光学
記録層１１を形成することにより、形成する。

【００４０】この上層基板２と下層基板１を貼り合わせ
る工程においては、下層光学記録層１１と上層光学記録
層１３を対向させた状態で貼り合わせる。ここで、下層
光学記録層１１と上層光学記録層１３の間隔（即ち接着
剤層１２の膜厚）は、数１０μｍ程度（例えば２７μ
ｍ）とする。以上で、図３に示す光ディスクを製造する
ことができる。

【００４１】本例によれば、紫外線硬化樹脂よりなる接
着剤層１４の外周縁部近傍への紫外線Ｌの遮断及びこの
接着剤層１４の硬化阻害気体である酸素Ｏの噴きつけに
よって、接着剤層１４のアルミニウム膜等より形成され
る上層光学基板１３の外周端の内周側は硬化させ、これ
より外周側は未硬化状態とすることができ、このアルミ
ニウム膜を破壊することなく、容易に上層光学記録層１
３と転写基板Ｔの界面で剥離することができる。

【００４２】以上述べた如く、本例での硬化工程におけ
る硬化処理方法は、アクリル樹脂基板とアルミニウム等
の金属薄膜との接着強度が、紫外線硬化樹脂とアルミニ
ウム等の金属薄膜との接着強度に比べて著しく弱いこと
を利用して、剥離するようにしたものである。したがっ
て、各層の接着強度の関係、例えば、（転写基板Ｔと上
層光学記録層１３との接着強度）＜（感光性の接着剤層
１４と上層光学記録層１３との接着強度）の関係が成立
していると共にこの感光性の接着剤層がある気体に対し
硬化が阻害される性質を持つものであれば、本発明を適
用でき之等の各層を構成する材料及び感光性の接着剤層
の硬化阻害気体の種類を限定するものではない。

【００４３】尚、本発明は上述例に限ることなく、本発
明の要旨を逸脱することなくその他種々の構成が取り得
ることは勿論である。

【００４４】

【発明の効果】本発明によれば、光透過性樹脂シートの
光を照射する一方の面側にこの光透過性樹脂シートと光
学記録層とを接着する感光性接着剤の外周縁部近傍に光
を遮断するマスクを設けるようにすると共に、光透過性
樹脂シートの他方の面側よりこの光透過性樹脂シートと
光学記録層とを接着する感光性接着剤の外周縁部近傍に
この感光性接着剤の硬化阻害気体を噴きつけるようにし
たので、感光性接着剤の光学記録層と接合する面にあた
る部分のみを硬化させると共にこれ以外の外周縁部近傍
を未硬化とすることができる。したがって剥離工程にお
いて、上層基板に折れ曲がりや光学記録層の外周縁部近
傍にピットダメージ等の損傷を与えることなく、容易に
光学記録層と転写基板との界面で剥離することができる
利益がある。

【００４５】さらに、ダメージを与えずに、余計な力を
加えることなく安定して上層基板の剥離工程が行えるの
で、この上層基板の厚さをより薄くすることができ、多
層光学記録媒体の更なる多層化、大容量化に寄与するこ
とができる利益がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明多層光学記録媒体の製造方法の実施の形
態の例を示す外略図である。

【図２】本発明多層光学記録媒体の製造方法の実施の形
態の例の説明に供する線図である。

【図３】多層光学記録媒体の例を示す断面図である。

【図４】本発明多層光学記録媒体の製造方法の実施の形
態の例の製造工程を示す断面図である。

【図５】本発明多層光学記録媒体の製造方法の実施の形
態の例の製造工程を示す断面図である。

【図６】本発明多層光学記録媒体の製造方法の実施の形
態の例の製造工程を示す断面図である。

【図７】本発明多層光学記録媒体の製造方法の実施の形
態の例の製造工程を示す断面図である。

【図８】従来の多層光学記録媒体の製造方法の例の製造
工程を示す断面図である。

【図９】従来の多層光学記録媒体の製造方法の例の製造
工程を示す断面図である。

【図１０】従来の多層光学記録媒体の製造方法の例の製
造工程を示す断面図である。

【図１１】従来の多層光学記録媒体の製造方法の例の製
造工程を示す断面図である。

【図１２】従来の多層光学記録媒体の製造方法の例の説
明に供する線図である。

【符号の説明】

１・・・・下層基板、２・・・・上層基板、１０・・・・基板、１１
・・・・下層光学記録層、１２，１４・・・・接着剤層、１３・・
・・上層光学記録層、１４ａ・・・・感光性の接着剤、１５・・
・・光透過性の樹脂シート、２０・・・・マスク、２１・・・・ノ
ズル、Ｇ１，Ｇ２・・・・凹凸パターン、Ｌ・・・・紫外線、Ｏ
・・・・酸素、Ｔ・・・・アクリル樹脂基板（転写基板）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 スピンコート法により感光性接着剤を広
   がらせて転写基板の光学記録層に光透過性樹脂シートを
   貼り合わせる貼り合わせ工程と、 前記感光性接着剤を光を照射して硬化させる硬化工程
   と、 前記光透過性樹脂シートに接着した光学記録層と前記転
   写基板との界面で剥離する剥離工程とを有する多層光学
   記録媒体の製造方法において、 前記硬化工程において、前記光透過性樹脂シートの光を
   照射する一方の面側に前記光透過性樹脂シートと前記光
   学記録層とを接着する前記感光性接着剤の外周縁部近傍
   に光を遮断するマスクを設けるようにすると共に、前記
   光透過性樹脂シートの他方の面側より前記光透過性樹脂
   シートと前記光学記録層とを接着する前記感光性接着剤
   の外周縁部近傍に前記感光性接着剤の硬化阻害気体を噴
   きつけるようにしたことを特徴とする多層光学記録媒体
   の製造方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の多層光学記録媒体の製
   造方法において、 前記感光性接着剤は、酸素雰囲気下において硬化が阻害
   される性質を持つ紫外線硬化樹脂よりなることを特徴と
   する多層光学記録媒体の製造方法。