JP2003197720A - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置

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JP2003197720A
JP2003197720A JP2001391850A JP2001391850A JP2003197720A JP 2003197720 A JP2003197720 A JP 2003197720A JP 2001391850 A JP2001391850 A JP 2001391850A JP 2001391850 A JP2001391850 A JP 2001391850A JP 2003197720 A JP2003197720 A JP 2003197720A
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JP
Japan
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boat
substrate
cassette
mounting
substrate holder
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JP2001391850A
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English (en)
Inventor
Satoru Ichimura
悟 市村
Hisashi Jizo
久司 地蔵
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Hitachi Kokusai Electric Inc
Original Assignee
Hitachi Kokusai Electric Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】基板保持具が簡単に倒れない様にし、基板保持
具の破損を防止する。 【解決手段】基板を処理する処理室と、該処理室内で基
板を保持する基板保持具と、該基板保持具を載置する載
置部12と、前記基板保持具と載置部とを相対回転させ
る回転部21と、前記載置部と基板保持具とに設けられ
前記相対回転により係脱可能な係合部28とを具備す
る。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明はシリコンウェーハ等
の被処理基板に対して、CVD、ドライエッチング、ス
パッタ等所要の処理を行う基板処理装置に関するもので
ある。 【0002】 【従来の技術】図9、図10に於いて、従来の基板処理
装置を説明する。 【0003】筐体1の前面にはカセットステージ2が設
けられ、該カセットステージ2はシャッタ3を介して前
記筐体1の内部と連通している。 【0004】該筐体1の内部前方に、前記カセットステ
ージ2と対向してカセットオープナー4が設けられ、該
カセットオープナー4の上方にはカセットストッカ5が
設けられ、該カセットストッカ5、前記カセットオープ
ナー4と前記カセットステージ2間にはカセットローダ
6が設けられている。 【0005】前記筐体1の内部後方一側にボートエレベ
ータ7が設けられ、該ボートエレベータ7から水平に延
びる昇降アーム8にはシールキャップ9が設けられ、該
シールキャップ9は、処理室を形成する反応炉11の炉
口を閉塞する。前記シールキャップ9にはボート載置部
12(後述)が設けられ、該ボート載置部12に被処理
基板(以下ウェーハ)を水平姿勢で多段に保持する基板
保持具(以下ボート)13が載置される。 【0006】前記ボートエレベータ7に対向して、前記
筐体1の他側にはボート交換装置14が設けられ、該ボ
ート交換装置14、前記ボートエレベータ7と前記カセ
ットオープナー4との間に基板移載機15が設けられて
いる。 【0007】前記カセットステージ2は図示しない外部
搬送装置及び前記カセットローダ6間でカセット16の
授受を行うものであり、前記カセットローダ6は横行、
昇降、進退可能であり、前記カセットステージ2のカセ
ット16を前記カセットオープナー4、カセットストッ
カ5に移載するものである。前記カセットオープナー4
は、前記カセット16の蓋を開閉する。 【0008】前記基板移載機15は昇降、進退、回転可
能であり、前記カセットオープナー4上のカセット16
と前記ボート交換装置14に保持されたボート13間で
前記ウェーハ20の移載を行う。 【0009】前記ボート交換装置14は2本のボート支
持アーム17,18を有し、該ボート支持アーム17,
18は独立して、回転可能且つ昇降可能となっており、
ウェーハ移載位置A、ボート授受位置B、ウェーハクー
リング位置C間で前記ボート13の移動を行う様になっ
ている。 【0010】前記ボート載置部12は前記ボート授受位
置Bで未処理ウェーハ20を保持したボート13を前記
ボート交換装置14から受取り、前記ボートエレベータ
7により前記反応炉11に装入する。 【0011】該反応炉11では前記ウェーハ20が加熱
され、所要の処理ガスが導入され基板処理される。又、
前記ボート13はウェーハ処理中成膜の均一性を向上さ
せる為回転される。 【0012】処理が完了すると前記反応炉11から前記
ボート13を前記ボート授受位置Bに引出し、前記ボー
ト13を前記ボート交換装置14に受渡す。 【0013】処理済ウェーハ20を保持するボート13
は前記ウェーハクーリング位置Cに移動され、所定の温
度となる迄冷却される。その間、未処理ウェーハ20を
保持するボート13が前記ウェーハ移載位置Aより前記
ボート授受位置Bに移動され、前記ボート載置部12に
受渡され、前記ボートエレベータ7により前記反応炉1
1に装入される。 【0014】前記ウェーハクーリング位置Cで処理済ウ
ェーハ20が所定の温度迄冷却されると、前記ボート交
換装置14は処理済ウェーハ20を保持するボート13
を前記ウェーハ移載位置A迄移動する。 【0015】前記基板移載機15は前記ウェーハ移載位
置Aにあるボート13から処理済ウェーハ20を前記カ
セットオープナー4上のカセット16に払出す。処理済
ウェーハ20が前記カセット16に装填されると該カセ
ット16は前記カセットローダ6により前記カセットス
テージ2へ搬送され、更に外部搬送装置により搬出され
る。 【0016】前記カセットローダ6により前記カセット
オープナー4に未処理ウェーハ20が装填されたカセッ
ト16が移載され、前記基板移載機15は前記カセット
16から未処理ウェーハ20を前記ウェーハ移載位置A
にある空のボート13に移載する。 【0017】而して、前記ウェーハ20の処理が繰返し
実行される。 【0018】上記基板処理装置では2つのボートを交換
するという工程があり、前記ボート載置部12は前記ボ
ート13が容易に授受できる様な構造となっている。 【0019】図11により前記ボート載置部12の構造
について説明する。 【0020】前記シールキャップ9は前記昇降アーム8
に設けられ、前記ボート13装入時には前記反応炉11
の炉口を気密に閉塞する。前記昇降アーム8の下面にボ
ート回転用モータ21が設けられている。該ボート回転
用モータ21の回転軸22は前記昇降アーム8、シール
キャップ9を気密に貫通し、上端部が前記ボート載置部
12に固着されている。該ボート載置部12の中心には
凹部23が形成されている。前記ボート13の底板24
には短円筒状のボート座25が形成され、該ボート座2
5の中央には前記凹部23と契合する凸部26が形成さ
れている。 【0021】而して、前記ボート13が前記ボート載置
部12に載置され、前記凸部26が前記凹部23に契合
することで、前記ボート13が前記ボート載置部12に
対して芯合せされる。前記ボート回転用モータ21を駆
動することで、前記回転軸22、ボート載置部12を介
して前記ボート13が回転される。 【0022】 【発明が解決しようとする課題】上記した基板処理装置
では2つのボート13により処理が実行されるので、ウ
ェーハの移載作業がウェーハの処理中に行われ、時間的
に無駄がなく、スループットが向上するという長所があ
る。その一方で、前記ボート13の交換作業が必要であ
り、該ボート13は前記ボート載置部12に単に載置さ
れる構造となっている。 【0023】従って、メンテナンス時に作業者が誤って
前記ボート13にぶつかり倒してしまう可能性があり、
又地震等により倒れてしまう可能性もあった。 【0024】ボートは石英製で壊れ易く、精密加工品で
高価であり、倒れて損傷することは大きな損害となる。 【0025】本発明は斯かる実情に鑑み、ボートが簡単
に倒れない様にし、ボートの破損を防止するものであ
る。 【0026】 【課題を解決するための手段】本発明は、基板を処理す
る処理室と、該処理室内で基板を保持する基板保持具
と、該基板保持具を載置する載置部と、前記基板保持具
と載置部とを相対回転させる回転部と、前記載置部と基
板保持具とに設けられ前記相対回転により係脱可能な係
合部とを具備する基板処理装置に係るものである。 【0027】 【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。 【0028】尚、本実施の形態に於いて、基板処理装置
の基本的な構成は図9、図10と同様であるので説明を
省略する。又、図1〜図4に於いて図11で示したもの
と同等のものには同符号を付してある。 【0029】シールキャップ9は昇降アーム8の上面に
設けられ、該昇降アーム8の下面にはボート回転用モー
タ21が設けられる。該ボート回転用モータ21の回転
軸22は前記シールキャップ9を気密に貫通し、突出し
た上端部にはボート載置部12が固着される。該ボート
載置部12の周縁には対向する一対の鉤受部28が設け
られ、該鉤受部28は幅がGの溝を形成する逆L字状を
している。前記ボート載置部12の中央にはテーパ形状
の凹部23が形成されている。 【0030】ボート13の底板24には短円筒形状のボ
ート座25が突設され、該ボート座25の下端周縁には
対向する位置に一対の鉤片29が水平方向に突設され、
該鉤片29の外縁は前記底板24と同心の円弧となって
いる。前記鉤片29と底板24との間に形成される間隙
Hは前記鉤受部28の上端部が自在に通過し得、上下方
向に適宜な余裕を有している。前記底板24の中央には
前記凹部23と契合するテーパ状の凸部26が形成され
ている。前記鉤片29の厚みは前記溝幅Gより小さく上
下方向に適宜な余裕を有している。又、前記鉤片29の
外縁の直径は前記一対の鉤受部28の溝底間の距離より
小さくなっている。 【0031】図5〜図8に於いて、作動について説明す
る。 【0032】前記ボート13が前記ボート載置部12に
載置される状態では、前記鉤片29と前記鉤受部28と
は干渉しない位置となっている。図示では、前記鉤受部
28は左右に位置し、前記鉤片29は紙面に対して垂直
な位置にあり、90°位置がずれている(図5参照)。
尚、図示していないが前記ボート13は前記ボート交換
装置14のボート支持アーム17,18のいずれかに支
持されている。 【0033】前記ボート13とボート載置部12とが芯
合せされた後、前記ボート13が降下され、前記ボート
載置部12と前記ボート座25とが僅かに浮いた状態で
保持される(図6参照)。 【0034】前記ボート回転用モータ21により前記ボ
ート載置部12が90°回転される。該ボート載置部1
2の回転により、前記鉤受部28と鉤片29とは重な
り、係合位置となる(図7参照)。この状態では、前記
鉤受部28と鉤片29とが係合することで、前記ボート
13が傾くのを抑止し、該ボート13に水平方向の力、
例えば作業者がぶつかったり、地震があった場合等の前
記ボート13の転倒を防止する。 【0035】更に、該ボート13が降下され、前記ボー
ト載置部12に載置される。図示しないボート支持アー
ム17,18が退避する。 【0036】図示しないボートエレベータ7により前記
ボート13が反応炉11に装入され、ウェーハ20処理
時には前記ボート回転用モータ21により前記ボート1
3が回転される。 【0037】ウェーハの処理が完了し、引出されたボー
ト13を前記ボート交換装置14により移動する場合
は、該ボート交換装置14により僅かに前記ボート13
を持上げ、前記ボート回転用モータ21により前記ボー
ト載置部12を90°回転し、前記鉤受部28と鉤片2
9との係合を解除する。前記ボート交換装置14により
更に前記ボート13を上昇させ、移動する。 【0038】尚、ウェーハ20の処理、ボートの交換に
ついては前述したと同様であるので、説明を省略する。 【0039】又、上記実施の形態では、前記鉤受部28
を前記ボート載置部12に、前記鉤片29を前記ボート
座25に設けたが、前記鉤受部28を前記ボート座25
に、前記鉤片29を前記ボート載置部12に設けてもよ
い。又、前記鉤受部28、鉤片29の形状についても種
々変更が可能であり、要は前記ボート13とボート載置
部12とが相対回転により係合離脱可能な形状であれば
よい。更に、前記ボート交換装置14が前記ボート13
を回転する機能を有する場合は、前記ボート交換装置1
4により前記ボート13を回転してもよい。更に又、該
ボート13は下部にボートキャップを有するものも含む
ことは勿論である。 【0040】尚、本発明はボート交換式の基板処理装置
以外の基板処理装置にも実施可能であり、この場合ボー
トの洗浄等メンテナンス時のボートの着脱が容易にな
り、その他のメンテナンス時のボートの転倒防止にも有
効である。 【0041】 【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、基板を
処理する処理室と、該処理室内で基板を保持する基板保
持具と、該基板保持具を載置する載置部と、前記基板保
持具と載置部とを相対回転させる回転部と、前記載置部
と基板保持具とに設けられ前記相対回転により係脱可能
な係合部とを具備するので、前記載置部に基板保持具が
載置された状態では、係合部が係合状態にあり、基板保
持具の傾斜を抑止し、基板保持具の転倒を防止し、基板
保持具の破損を防止するという優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の実施の形態の要部を示し、ボート載置
部の平面図である。 【図2】同前実施の形態の要部を示すボート載置部の立
断面図である。 【図3】同前実施の形態の要部を示すボート下部の立断
面図である。 【図4】同前実施の形態の要部を示すボート下部の底面
図である。 【図5】本発明の実施の形態の作動を示す説明図であ
る。 【図6】同前実施の形態の作動を示す説明図である。 【図7】同前実施の形態の作動を示す説明図である。 【図8】同前実施の形態の作動を示す説明図である。 【図9】従来の基板処理装置の全体斜視図である。 【図10】該従来の基板処理装置の概略平面図である。 【図11】該従来例の要部断面図である。 【符号の説明】 1 筐体 7 ボートエレベータ 8 昇降アーム 9 シールキャップ 11 反応炉 12 ボート載置部 13 ボート 21 ボート回転用モータ 25 ボート座 28 鉤受部 29 鉤片
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5F031 CA02 DA08 DA17 FA01 FA03 FA11 FA12 HA64 HA67 HA80 MA28 MA29 MA32 PA06 PA07 PA08 PA20 5F045 BB20 EM08 EM09 EM10 EN04

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 基板を処理する処理室と、該処理室内で
    基板を保持する基板保持具と、該基板保持具を載置する
    載置部と、前記基板保持具と載置部とを相対回転させる
    回転部と、前記載置部と基板保持具とに設けられ前記相
    対回転により係脱可能な係合部とを具備することを特徴
    とする基板処理装置。
JP2001391850A 2001-12-25 2001-12-25 基板処理装置 Pending JP2003197720A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021100015A (ja) * 2019-12-19 2021-07-01 株式会社ディスコ 保持テーブル

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021100015A (ja) * 2019-12-19 2021-07-01 株式会社ディスコ 保持テーブル
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