JP2003197590A5 - - Google Patents

Description

【０００６】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
上記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、基板（Ｗ）を保持しつつ回転させる基板保持回転手段（１）と、この基板保持回転手段に保持された基板の表面にリンス液を供給するためのリンスノズル（６４）と、上記基板保持回転手段に保持された基板の表面に有機溶剤の蒸気を供給するための蒸気ノズル（６５）と、上記リンスノズルをリンス液が上記基板保持回転手段に保持された基板の表面の回転中心に供給されるような位置に移動させた後、上記リンスノズルおよび蒸気ノズルを同期させて、上記基板保持回転手段に保持されて回転している基板の上方で移動させるノズル移動手段（７，６１，６２，６３）と、このノズル移動手段による上記リンスノズルおよび蒸気ノズルの移動時に、上記リンスノズルから基板表面にリンス液を供給させるとともに、当該基板表面に上記蒸気ノズルから有機溶剤の蒸気を供給させる供給制御手段（７，６７１，６９１）とを含むことを特徴とする基板処理装置である。

なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じ。
この発明によれば、基板の表面の回転中心にリンス液が供給されるような位置にリンスノズルが移動された後、リンスノズルおよび蒸気ノズルが回転中の基板の上方で同期して移動されつつ、そのリンスノズルおよび蒸気ノズルから基板の表面に向けてリンス液および有機溶剤の蒸気が同時に供給される。
これにより、基板の表面の回転中心からリンス液による処理を施していくことができ、基板の表面の全域に隈無くリンス液を供給して、基板の表面の全域にリンス液による処理を隈無く施すことができる。

請求項２記載の発明は、基板を保持しつつ回転させる基板保持回転手段と、この基板保持回転手段に保持された基板の表面にリンス液を供給するためのリンスノズルと、上記基板保持回転手段に保持された基板の表面にハイドロフルオロエーテルの蒸気を供給するための蒸気ノズルと、上記リンスノズルおよび蒸気ノズルを同期させて、上記基板保持回転手段に保持されて回転している基板の上方で移動させるノズル移動手段と、このノズル移動手段による上記リンスノズルおよび蒸気ノズルの移動時に、上記リンスノズルから基板表面にリンス液を供給させるとともに、当該基板表面に上記蒸気ノズルからハイドロフルオロエーテルの蒸気を供給させる供給制御手段とを含むことを特徴とする基板処理装置である。
この発明によれば、回転中の基板の上方で同期して移動しているリンスノズルおよび蒸気ノズルから、その基板の表面に向けてリンス液およびハイドロフルオロエーテルの蒸気が同時に供給される。
これにより、基板の表面の全域に隈無くリンス液を供給することができ、基板の表面にリンス液による処理を良好に施すことができる。
また、基板表面にリンス液とハイドロフルオロエーテルの蒸気とが同時に供給されることにより、基板表面に供給されたリンス液にハイドロフルオロエーテルの蒸気が溶け込む。このため、基板表面のリンス液は、基板表面からすみやかに除去される。ゆえに、基板の表面に微細なパターンが形成されていても、そのパターン間にリンス液が残るおそれがなく、基板の表面にリンス液の乾燥不良によるウォーターマークが発生するおそれがない。
請求項３記載の発明は、上記ノズル移動手段は、上記リンスノズルを上記蒸気ノズルよりも先行させて移動させるものであることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置である。
この発明によれば、基板表面のリンス液による処理が施された部分に有機溶剤を供給することができ、そのリンス液による処理が施された部分に付着しているリンス液に有機溶剤を溶け込ませることができる。

なお、上記ノズル移動手段は、基板表面における有機溶剤の蒸気の供給位置がリンス液供給位置を追いかけるように、上記リンスノズルおよび蒸気ノズルを移動させるものであってもよい。
請求項４記載の発明は、上記基板保持回転手段は、基板を３００ｒｐｍ以下の回転速度で回転させるものであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の基板処理装置である。

基板を３００ｒｐｍ以下の低速度で回転させることにより、筋状パーティクルの発生を防止することができる。
請求項５記載の発明は、上記ノズル移動手段は、上記リンスノズルおよび蒸気ノズルを、上記基板保持回転手段に保持されて回転している基板の回転中心付近から当該基板の外方に向けて移動させるものであることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置である。

この発明によれば、基板の回転中心付近から基板の端縁へと順にリンス液による処理を施していくことができ、また、そのリンス液による処理後の基板表面を基板の回転中心付近から順に乾燥させていくことができる。ゆえに、乾燥した部分にリンス液が流れ込むおそれがない。
請求項６記載の発明は、基板（Ｗ）を回転させる基板回転工程と、基板の表面にリンス液を供給するためのリンスノズル（６４）を、リンス液が基板の表面の回転中心に供給されるような位置に移動させるリンスノズル移動工程と、このリンスノズル移動工程の後に、回転中の基板の上方で、上記リンスノズルおよび蒸気ノズル（６５）を同期させて移動させつつ、当該基板の表面に向けて、上記リンスノズルからリンス液を供給するとともに上記蒸気ノズルから有機溶剤の蒸気を供給する工程とを含むことを特徴とする基板処理方法である。

この方法によれば、請求項１に関連して述べた効果と同様な効果を達成することができる。
請求項７記載の発明は、基板を回転させる基板回転工程と、回転中の基板の上方で、上記リンスノズルおよび蒸気ノズルを同期させて移動させつつ、当該基板の表面に向けて、上記リンスノズルからリンス液を供給するとともに上記蒸気ノズルからハイドロフルオロエーテルの蒸気を供給する工程とを含むことを特徴とする基板処理方法である。
この方法によれば、請求項２に関連して述べた効果と同様な効果を達成することができる。

Claims (7)

1. 基板を保持しつつ回転させる基板保持回転手段と、
   この基板保持回転手段に保持された基板の表面にリンス液を供給するためのリンスノズルと、
   上記基板保持回転手段に保持された基板の表面に有機溶剤の蒸気を供給するための蒸気ノズルと、
   上記リンスノズルをリンス液が上記基板保持回転手段に保持された基板の表面の回転中心に供給されるような位置に移動させた後、上記リンスノズルおよび蒸気ノズルを同期させて、上記基板保持回転手段に保持されて回転している基板の上方で移動させるノズル移動手段と、
   このノズル移動手段による上記リンスノズルおよび蒸気ノズルの移動時に、上記リンスノズルから基板表面にリンス液を供給させるとともに、当該基板表面に上記蒸気ノズルから有機溶剤の蒸気を供給させる供給制御手段と
   を含むことを特徴とする基板処理装置。
2. 基板を保持しつつ回転させる基板保持回転手段と、
   この基板保持回転手段に保持された基板の表面にリンス液を供給するためのリンスノズルと、
   上記基板保持回転手段に保持された基板の表面にハイドロフルオロエーテルの蒸気を供給するための蒸気ノズルと、
   上記リンスノズルおよび蒸気ノズルを同期させて、上記基板保持回転手段に保持されて回転している基板の上方で移動させるノズル移動手段と、
   このノズル移動手段による上記リンスノズルおよび蒸気ノズルの移動時に、上記リンスノズルから基板表面にリンス液を供給させるとともに、当該基板表面に上記蒸気ノズルからハイドロフルオロエーテルの蒸気を供給させる供給制御手段と
   を含むことを特徴とする基板処理装置。
3. 上記ノズル移動手段は、上記リンスノズルを上記蒸気ノズルよりも先行させて移動させるものであることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
4. 上記基板保持回転手段は、基板を３００ｒｐｍ以下の回転速度で回転させるものであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の基板処理装置。
5. 上記ノズル移動手段は、上記リンスノズルおよび蒸気ノズルを、上記基板保持回転手段に保持されて回転している基板の回転中心付近から当該基板の外方に向けて移動させるものであることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置。
6. 基板を回転させる基板回転工程と、
   基板の表面にリンス液を供給するためのリンスノズルを、リンス液が基板の表面の回転中心に供給されるような位置に移動させるリンスノズル移動工程と、
   このリンスノズル移動工程の後に、回転中の基板の上方で、上記リンスノズルおよび蒸気ノズルを同期させて移動させつつ、当該基板の表面に向けて、上記リンスノズルからリンス液を供給するとともに上記蒸気ノズルから有機溶剤の蒸気を供給する工程と
   を含むことを特徴とする基板処理方法。
7. 基板を回転させる基板回転工程と、
   回転中の基板の上方で、上記リンスノズルおよび蒸気ノズルを同期させて移動させつつ、当該基板の表面に向けて、上記リンスノズルからリンス液を供給するとともに上記蒸気ノズルからハイドロフルオロエーテルの蒸気を供給する工程と
   を含むことを特徴とする基板処理方法。