KR20060065616A - 기판 세정 건조 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 서로 다른 유체가 각각 분사되는 분사구들이 노즐의 이동방향에 일렬로 배치되는 분사부를 구비한 장치내에서 기판을 세정하고 건조하는 방법에 있어서:기판을 유지하고 기판을 회전하는 공정;상기 분사부가 상기 기판의 중심에서부터 가장자리로 이동하면서 상기 기판 표면에 유체를 분사하는 단계를 포함하되;상기 유체 분사 단계는상기 기판 상부에 IPA 증기를 공급하여 기판 주변 분위기를 IPA증기로 바꾸는 단계;첫 번째 분사구가 상기 기판의 중심에서부터 가장자리로 이동하면서 상기 기판 표면을 세정하기 위한 제1유체를 분사하는 단계; 및두 번째 분사구가 상기 첫 번째 분사구를 뒤따라 이동하면서, 상기 첫 번째 분사구에 의해 세정된 기판의 표면을 건조하기 위한 제2유체를 분사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정건조 방법.
- 제1항에 있어서,상기 제1유체는 DIW 또는 IPA가 포함된 DIW 혼합액이고,상기 제2유체는 N2 또는 IPA가 포함된 N2혼합기체인 것을 특징으로 하는 기판 세정건조 방법.
- 제1항에 있어서,세 번째 분사구가 상기 두 번째 분사구를 뒤따라 이동하면서, 상기 두 번째 분사구에 의해 건조된 기판의 표면을 2차 건조하기 위한 제3유체를 분사하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정건조 방법.
- 제3항에 있어서,상기 제1유체는 DIW 또는 IPA가 포함된 DIW 혼합액이고,상기 제2유체는 N2 또는 IPA가 포함된 N2혼합기체이며,상기 제3유체는 고온의 N2인 것을 특징으로 하는 기판 세정건조 방법.
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