JP2003195545A

JP2003195545A - 感光体の製法ならびに画像形成装置

Info

Publication number: JP2003195545A
Application number: JP2001393277A
Authority: JP
Inventors: Motoi Ogura; 基小倉; Hiroyuki Nakajima; 宏幸中嶋; Eiichi Miyamoto; 栄一宮本
Original assignee: Kyocera Corp; Kyocera Mita Corp
Current assignee: Kyocera Corp; Kyocera Document Solutions Inc
Priority date: 2001-12-26
Filing date: 2001-12-26
Publication date: 2003-07-09

Abstract

(57)【要約】【課題】表面保護層の硬度を高めて優れた耐久性を達成
した高耐久性、高性能、高信頼性の感光体の製法を提供
する。【解決手段】導電性基板２上に有機感光層３を塗布形成
し、この有機感光層３上にグロー放電法によりアモルフ
ァスシリコンカーバイドもしくはアモルファスカーボン
からなるアモルファス層４ａを成膜形成し、ついでアモ
ルファス層４ａに対しフッ素を含むガスをプラズマ化し
てエッチング処理すると同時に、膜内に含有させる工程
を経て、水素含有量を２５〜７０原子％、フッ素を１２
〜３０原子％含有する表面保護層４を形成する感光体の
製法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は有機感光層上に無機
質材からなる表面保護層を形成してなる感光体の製法に
関するものである。さらに本発明の製法により得られた
感光体を搭載した画像形成装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】有機半導体材からなる感光層により構成
した、いわゆるＯＰＣ感光体（有機感光体）は高い帯電
性が得られ、暗減衰が小さく、さらに長波長に対し優れ
た光感度が得られるという点で幅広く使用されている。
しかも、ＯＰＣ感光体を使用するに当って、それを加熱
するヒーターを使用しないという利点もある。

【０００３】しかしながら、このＯＰＣ感光体において
は、その表面の硬度が小さく、耐久性に劣るという課題
がある。

【０００４】この課題を解消するために、有機半導体材
からなる感光層（有機感光層）の上に炭素又は炭素を主
成分とする高い硬度の耐磨耗性の被膜を積層する技術が
提案されている（特公平７−２７２６８号、特公平７−
１２２７５７号、特開平１−８６１５８号、特開平１−
２２７１６１号、特許第２８１８８８１号、特許第２８
１８８８２号および特許第２９７９０７０号参照）。

【０００５】このように有機感光層の上に無機材から表
面保護層を被覆するに当たっては、下記のような特性が
求められる。

【０００６】可視光透過率が高い（有機感光層への入
射光量が充分に確保できる）。表面に傷を受けない
程度の高硬度を有する。有機感光層との接着性に優
れ、複写機内での実使用において、機械的接触あるいは
温湿度の変化等により剥離しない。無害である。
有機感光層との電気的整合性に優れ、残留電位、メモ
リー現象、さらには不整合界面での電荷の横流れ（画像
流れ）が発生しない。高温高湿の条件下において、画
像品位が劣化せず、所謂、画像流れが発生しない。
有機感光層は、耐熱性に乏しい化合物からなることで、
その上の被膜を常温及至１００℃にておこない、有機感
光層を熱劣化させない。

【０００７】最近のかかる特性の要求に対し、さまざま
な技術開発がおこなわれている。たとえば、酸素原子を
含有する炭化水素化合物を用いることで、そのプラズマ
有機重合膜が得られることから、それでもって有機感光
層上に表面保護層として積層し、これによって接着性、
電気的整合性ならびに耐環境性を高める技術が提案され
ている（特公平７−２７２６８号参照）。

【０００８】また、上記のように酸素原子を含有させる
代わりにハロゲン原子を含有させても同等の効果が得ら
れることが提案されている（特公平７−１２２７５７号
参照）。

【０００９】さらに有機感光層上の表面保護層を、ハロ
ゲン原子と酸素原子とを含有してなる非晶質炭化水素膜
でもって構成し、これにより、耐湿性を改善した技術が
提示されている（特開平１−８６１５８号参照）。同公
報によれば、非晶質炭化水素膜中に含有されるハロゲン
原子の量は、全構成原子に対して0.01原子％〜50原子
％、酸素原子の量は、0.01〜20原子％である。また、硬
度については有機感光層が５Ｂ〜Ｂ、非晶質炭化水素膜
が４Ｈ程度である。

【００１０】また、有機感光層上に、１原子％以下の窒
素と２原子％以上の弗素を含有するアモルファス構造の
ダイヤモンド状炭素からなる表面保護層を積層し、撥水
性を高める技術や（特許第２９７９０７０号参照）、表
面の酸素濃度が１原子％以下である有機感光層の上に、
水素を30原子％以下含有する炭素又は炭素を主成分とす
る表面保護層を積層し、これら保護層と有機系感光層と
の接着性を高める技術が提案されている（特許第２８１
８８８２号参照）。

【００１１】硬度については、表面保護層のビッカ−ス
硬度が100〜2500kg/mm²の範囲にあり、かつ有機感光層
とのビッカース硬度の差が2500 kg/mm²以下である技術
が提案されている（特許第３０３７１６５号参照）。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たような有機感光層上に表面保護層を積層した感光体を
実際使用してみると、当初予定していた感光体特性は得
られず、耐久していくと帯電の低下が発生し、所謂、か
ぶりと呼ばれる画像不良が発生していた。

【００１３】本発明者は上記事情に鑑みて鋭意研究に努
めたところ、アモルファスシリコンカーバイドもしくは
アモルファスカーボンからなる表面保護層に対し、フッ
素を１２〜３０原子％含有させたことで、電位特性の悪
化の無い高耐久性の感光体が得られること、さらにはこ
の感光体を作製するに際しフッ素の導入方法や基板温度
の範囲がきわめて大きな要因であることも見出した。

【００１４】本発明は上記知見により完成されたもので
あり、その目的は表面保護層の硬度を高めて優れた耐久
性を達成した高耐久性、高性能、高信頼性の感光体の製
法を提供することにある。

【００１５】本発明の他の目的は、かかる本発明の製法
により得られた感光体を搭載した画像形成装置を提供す
ることにある。

【００１６】本発明のさらに他の目的は、感光体用のヒ
ーターを設けないことで、構造上簡単となり、製造歩留
りが向上し、さらに部品点数が少なくなることで優れた
耐久性が得られ、その結果、低コストかつ高信頼性の画
像形成装置を提供することにある。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明の感光体の製法
は、導電性基板上に有機感光層を塗布形成し、この有機
感光層上にグロー放電法によりアモルファスシリコンカ
ーバイドもしくはアモルファスカーボンからなるアモル
ファス層を成膜形成し、ついでこのアモルファス層に対
しフッ素を含むガスをプラズマ化してエッチング処理す
ると同時に、膜内に含有させる工程を経て、水素含有量
を２５〜７０原子％、フッ素を１２〜３０原子％含有す
る表面保護層を形成せしめたことを特徴とする。

【００１８】本発明の他の感光体の製法は、前記工程で
の基板温度を８０〜１５０℃に設定したことを特徴とす
る。

【００１９】また、本発明の感光体の製法は、導電性基
板上に有機感光層を塗布形成し、この有機感光層上に基
板温度が８０〜１５０℃のグロー放電法によってフッ素
と水素とを含むアモルファスシリコンカーバイドもしく
はアモルファスカーボンからなる表面保護層を形成した
ことを特徴とする。

【００２０】本発明の画像形成装置は、本発明の製法に
より得られた感光体と、この感光体の表面に電荷を付与
する帯電手段と、感光体の帯電領域に対して光照射する
露光手段と、これら帯電手段と露光手段とにより感光体
表面に形成された静電潜像に対してトナー像を感光体の
表面に形成する現像手段と、上記トナー像を被転写材に
転写する転写手段と、転写後に感光体表面の残留トナー
を除去するクリーニング手段とを配設したことを特徴と
する。

【００２１】

【発明の実施の形態】本発明を図でもって説明する。図
１は本発明に係る感光体１の断面図であり、導電性基板
２上に有機感光層３を塗布形成し、この有機感光層３上
に表面保護層４を形成したものである。

【００２２】以下、導電性基板２および各層を詳述す
る。

【００２３】導電性基板２について導電性基板２は銅、黄銅、ＳＵＳ、Ａｌ、Ｎｉなどの金
属導電体、あるいはガラス、セラミックなどの絶縁体の
表面に導電性薄膜を被覆したものなどがある。この導電
性基板２はシート状、ベルト状もしくはウェブ状可とう
性導電シートでもよく、このようなシートにはＳＵＳ、
Ａｌ、Ｎｉなどの金属シート、あるいはポリエステル、
ナイロン、ポリイミドなどの高分子樹脂フィルムの上に
Ａｌ、Ｎｉなどの金属もしくは酸化スズ、インジウム・
スズ・オキサイド（ＩＴＯ）などの透明導電性材料や有
機導電性材料を蒸着などにより被覆して導電処理したも
のを用いる。

【００２４】感光層の具体的な構成例感光層3には、電荷輸送剤を電荷発生剤とともに同一の
感光層中に分散させた単層型感光層と、電荷発生剤を含
有する電荷発生層と電荷輸送剤を含有する電荷輸送層と
を積層した積層型感光層とがあるが、本発明はこのいず
れにも適用できる。

【００２５】単層型の感光層は、電荷発生剤、電荷輸送
剤および結着樹脂を適当な有機溶媒に溶解または分散し
た塗工液を、塗布などの手段によって導電性基体上に塗
布し、乾燥させることで形成される。かかる単層型の感
光層は、層構成が簡単で生産性に優れている。

【００２６】電荷輸送剤としては、電子輸送剤および正
孔輸送剤のうちのいずれか一方または両方が使用でき、
とくに上記両輸送剤を併用した単層型の感光層は、単独
の構成で正負いずれの帯電にも対応できるという利点が
ある。

【００２７】電子輸送剤および正孔輸送剤としては、そ
れぞれ電荷発生剤とのマッチングがよく、電荷発生剤で
発生した電子または正孔を引き抜いて、効率よく輸送で
きるものが望ましい。

【００２８】また、電子輸送剤と正孔輸送剤とが共存す
る系では、両者が電荷移動錯体を形成して、感光層全体
での電荷輸送能の低下を引き起こし、感光体の感度が低
下するのを防止すべく、両輸送剤の組合せについても配
慮する必要がある。つまり、両輸送剤を、正孔輸送およ
び電子輸送が効率よく起こる高濃度で同一層中に含有さ
せても、層中で電荷移動錯体が形成されず、正孔輸送剤
は正孔を、電子輸送剤は電子を、それぞれ効率よく輸送
できる、電子輸送材と正孔輸送剤との組合せを選択する
のが望ましい。

【００２９】一方、積層型の感光層は、まず導電性基体
上に、蒸着または塗布などの手段によって、電荷発生剤
を含有する電荷発生層を形成し、ついでこの電荷発生層
上に、電荷輸送剤と結着樹脂とを含む塗工液を、塗布な
どの手段によって塗布し、乾燥させて電荷輸送層を形成
することで構成される。また、上記とは逆に、導電性基
体上に電荷発生層を形成し、その上に電荷発生層を形成
してもよい。

【００３０】ただし、電荷発生層は、電荷輸送層に比べ
て膜厚がごく薄いため、その保護のためには、導電性基
体上に電荷発生層を形成し、その上に電荷輸送層を形成
するのが好ましい。

【００３１】積層型感光層は、上記電荷発生層、電荷輸
送層の形成順序と、電荷輸送層に使用する電荷輸送剤の
種類によって、正負いずれかの帯電型となるかが選択さ
れる。

【００３２】たとえば、上記の如く、帯電性基体上に電
荷発生層を形成し、その上に電荷輸送層を形成した層構
成において、電荷輸送層の電荷輸送剤として正孔輸送剤
を使用した場合には、感光層は負帯電型となる。この場
合、電荷発生層には電子輸送剤を含有させてもよい。電
荷発生層に含有させる電子輸送剤としては、電荷発生剤
とのマッチングがよく、電荷発生剤で発生した電子を引
き抜いて、効率よく輸送できるものが望ましい。

【００３３】一方、上記の層構成において、電荷発生層
の電荷輸送剤として電子輸送剤を使用した場合には、感
光層は正帯電型となる。この場合、電荷発生層には正孔
輸送剤を含有させてもよい。

【００３４】［単層型の感光層］単層型の感光層は電子
輸送剤と電荷発生剤と結着樹脂とを含有する単一の層で
あり、正負いずれの帯電にも対応できるが、負極性コロ
ナ放電を用いる必要のない正帯電型で使用するのが好ま
しい。この単層型は、層構成が簡単で生産性に優れてい
ること、感光層の被膜欠陥が発生するのを抑制できるこ
と、層間の界面が少ないので光学的特性を向上できるこ
と等の利点を有する。

【００３５】また、電子輸送剤とともに電子受容体を含
有させた単層型の感光層３においては、電子輸送性能を
より一層向上することができ、より高感度の感光体を得
ることができる。

【００３６】単層型の感光層において、電子輸送剤は結
着樹脂１００重量部に対して、５〜１００重量部の範囲
にて、好適には１０〜８０重量部にて含有するのがよ
い。電子輸送剤が１０重量部未満の場合、残留電位が高
くなり、感度が不十分になる虞があり、５００重量部を
越える場合は結晶化の可能性があり、感光体としての性
能が十分発揮されない。

【００３７】［積層型の感光層］一方、積層型は電荷発
生剤を含有する電荷発生層と、電荷輸送剤を含有する電
荷輸送層とをこの順で、あるいは逆の順で積層したもの
である。

【００３８】電荷発生層は電荷輸送層に比べて膜厚がご
く薄いため、その保護のためには導電性基体上に電荷発
生層を形成し、その上に電荷輸送層を形成するのが好ま
しい。

【００３９】積層型の感光層は、電荷発生層と電荷輸送
層との形成順序と、電荷輸送層中で使用する電荷輸送剤
の種類とによって、正負いずれの帯電型となるかが選択
される。たとえば、導電性基板の上に電荷発生層を形成
し、その上に電荷輸送層を形成した層構成において、電
荷輸送層中に電子輸送剤としてキノン誘導体のような電
子輸送剤を使用したときは、正帯電型の感光体になる。
この場合、電荷発生層には正孔輸送剤や電子輸送剤を含
有させてもよい。ここで、前記電荷輸送層に電子受容体
を含有させた場合は、電子輸送性が向上するため、より
高感度の積層型の感光体が得られる。

【００４０】なお、上記の層構成において、電荷輸送層
中の電荷輸送剤として正孔輸送剤を使用したときは負帯
電型の感光体になる。この場合、電荷発生層には電子輸
送剤や電子受容体を含有させてもよい。

【００４１】積層型の感光層においては、電荷発生剤と
結着樹脂を含む電荷発生層と、電子輸送剤を含む電荷輸
送層から構成される。積層型における電子輸送剤の配合
割合は、単層型の場合と同様の理由で、結着樹脂１００
重量部に対して１０〜５００重量部、好適には２５〜１
００重量部がよい。

【００４２】前述のように、感光体１は、単層型および
積層型のいずれにも適用できるが、とくに正負いずれの
帯電型にも使用できること、構造が簡単で製造が容易で
あること、層を形成する際の皮膜欠陥を抑制できるこ
と、層間の界面が少なく、光学的特性を向上できること
等の観点から、単層型が好ましい。

【００４３】次に感光層に用いられる種々の材料につい
て説明する。

【００４４】《電荷発生剤》種々のフタロシアニン顔
料、多環キノン顔料、アゾ顔料、ペリレン顔料、インジ
ゴ顔料、キナクリドン顔料、アズレニウム塩顔料、スク
アリリウム顔料、シアニン顔料、ピリリウム染料、チオ
ピリリウム染料、キサンテン染料、キノンイムン色素、
トリフェニルメタン色素、スチリル色素、アンサンスロ
ン系顔料、ピリリウム塩、トリフェニルメタン系顔料、
スレン系顔料、トルイジン系顔料、ピラゾリン系顔料等
の有機光導電材料、セレン、テルル、アモルファスシリ
コン、硫化カドミウム等の無機光導電材料があげられ、
単独または２種類以上を混合して使用できる。

【００４５】《正孔輸送剤》高い正孔輸送能を有する主
々の化合物、たとえば、２,５−ジ（４−メチルアミノ
フェニル）−１,３,４−オキサジアゾール等のオキサジ
アゾール系の化合物、９−（４−ジエチルアミノスチリ
ル）アントラセン等のスチリル系化合物、ポリビニルカ
ルバゾール等のカルバゾール系化合物、有機ポリシラン
化合物、１−フェニル−３（ｐ−ジメチルアミノフェニ
ル）ピラゾリン等のピラゾリン系化合物、ヒドラゾン系
化合物、トリフェニルアミン系化合物、インドール系化
合物、オキサゾール系化合物、イソオキサゾール系化合
物、チアゾール系化合物、チアジアゾール系化合物、イ
ミダゾール系化合物、ピラゾール系化合物、トリアゾー
ル系化合物、スチルベン系化合物等の含窒素環式化合
物、縮合多環式化合物等があげられる。

【００４６】正孔輸送剤は１種のみを用いるほか、２種
以上を混合して用いてもよい。また、ポリビニルカルバ
ゾール等の成膜性を有する正孔輸送剤を用いる場合に
は、結着樹脂は必ずしも必要でない。

【００４７】《電子輸送剤》電子輸送剤としては、高い
電子輸送能を有する種々の化合物、たとえば、ナフトキ
ノン系化合物、ピラゾリン系化合物、ベンゾキノン系化
合物、ジフェノキノン系化合物、マロノニトリル、チオ
ピラン系化合物、テトラシアノエチレンシアノエチレ
ン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、ジニトロ
ベンゼン、ジニトロアントラセン、ジニトロアクリジ
ン、ニトロアントラキノン、ジニトロアントラキノン、
無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロモ無水マレイン
酸等があげられる。

【００４８】《結着樹脂》感光層に使用されている従来
周知の樹脂を使用することができる。たとえば、スチレ
ン−ブタジエン共重合体、スチレン−アクリロニトニト
リル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、アクリ
ル共重合体、スチレン−アクリル共重合体、ポリエチレ
ン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩素化ポリエチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、アイオノマー、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、アル
キド樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、ポリカーボネー
ト、ポリアリレート、ポリスルホン、ジアリルフタレー
ト、ケトン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエー
テル樹脂、ポリエステル樹脂などの熱可塑性樹脂；シリ
コーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、その他架橋性の熱硬化性樹脂；エポ
キシアクリレート、ウレタン−アクリレート等の光硬化
型樹脂等の樹脂が使用可能である。

【００４９】さらに感光層には、前記各成分のほかに、
電子写真特性に悪影響を与えない範囲で、従来公知の種
々の添加剤、たとえば酸化防止剤、ラジカル捕捉剤、一
重項クエンチャー、紫外線吸収剤等の劣化防止剤、軟化
剤、可塑剤、表面改質剤、増量剤、増粘剤、分散安定
剤、ワックス、アクセプター、ドナー等を配合すること
ができる。また、感光層の感度を向上させるために、た
とえばテルフェニル、ハロナフトキノン類、アセナフチ
レン等の公知の増感剤を電荷発生剤と併用してもよい。

【００５０】単層型の感光層において、電荷発生剤は、
結着樹脂１００重量部に対して０．１〜５０重量部、好
ましくは０．５〜３０重量部の割合で配合すればよい。
電荷輸送剤として、電子輸送剤を含有させる場合は、結
着樹脂１００重量部に対して５〜１００重量部、好まし
くは１０〜８０重量部の割合で配合すればよい。また、
正孔輸送剤を含有させる場合、正孔輸送剤の割合を結着
樹脂の１００重量部に対して５〜５００重量部、好まし
くは２５〜２００重量部とすればよい。さらにまた、単
層型感光層の厚さは５〜１００μｍ、好ましくは１０〜
５０μｍである。

【００５１】一方、積層型の感光層において、電荷発生
層を構成する電荷発生剤と結着樹脂とは、種々の割合で
使用することができるが、結着樹脂１００重量部に対し
て電荷発生剤を５〜１０００重量部、好ましくは３０〜
５００重量部の割合で配合するとよい。電荷発生層に正
孔輸送剤あるいは電子輸送剤を含有させる場合は、それ
らの割合を結着樹脂１００重量部に対して０．１〜１０
０重量部、好ましくは０．５〜８０重量部とするとよ
い。

【００５２】電荷輸送層を構成する電荷輸送剤と結着樹
脂とは、電荷の輸送を阻害しない範囲および結晶化しな
い範囲で種々の割合で使用することができるが、光照射
により電荷発生層で生じた電荷が容易に輸送できるよう
に、結着樹脂１００重量部に対して、電荷輸送剤を１０
〜５００重量部、好ましくは２５〜１００重量部の割合
で配合するとよい。電荷輸送層に正孔輸送剤を含有させ
る場合は、正孔輸送剤の割合を結着樹脂１００重量部に
対して５〜２００重量部、好ましくは１０〜８０重量部
とすればよい。

【００５３】単層型においては、導電性基板と感光層と
の間に、また積層型においては、導電性基板と電荷発生
層との間、導電性基板２と電荷輸送層との間または電荷
発生層と電荷輸送層との間に、感光体の特性を阻害しな
い範囲でバリア層を形成してもよい。

【００５４】［感光層の成膜方法］このような構成の感
光層の形成方法を述べると、前記例示の電荷発生剤、電
荷輸送剤、結着樹脂を適当な溶剤とともに、公知の方
法、たとえばロールミル、ボールミル、アトライタ、ペ
イントシェーカー、超音波分散機等を用いて分散混合し
て分散液を調整し、これを公知の手段により塗布して乾
燥させればよい。

【００５５】分散液を作るための溶剤としては、種々の
有機溶剤が使用可能であり、たとえばメタノール、エタ
ノール、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール
類；ｎ−ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪
族系炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族系炭化水素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル
類；ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド等があげられる。これらの溶
剤は単独でまたは２種以上を混合して用いられる。

【００５６】さらに、電荷輸送剤や電荷発生剤の分散
性、感光層表面の平滑性をよくするために界面活性剤、
レベリング剤等を使用してもよい。

【００５７】表面保護層の構成表面保護層４については、シリコンカーバイド（Ｓｉ
Ｃ）もしくはカーボン（Ｃ）からなるフッ素含有のアモ
ルファス層により構成する。

【００５８】望ましくは動的押し込み硬さを８８０Ｎ／
ｍｍ² 以上、好適には１５００Ｎ／ｍｍ² 以上にすると
よく、さらにフッ素含有量を１２〜３０原子（ａｔ）％
に規定している。

【００５９】すなわち、フッ素含有量は表面保護層４を
構成する各種原子の全量に対し１２〜３０原子％、好適
には１８〜２６原子％にするとよく、１２原子％未満の
場合には画像流れが発生し、３０原子％を超えると結合
状態において終端部が増え、原子間のネットワークが少
なくなり、Ｃ−Ｃ、Ｓｉ−Ｓｉ、Ｓｉ−Ｃというような
原子間結合が減少し、これによって膜強度が弱くなり、
その結果、膜削れおよびキズが発生する。

【００６０】しかも、本発明においては、フッ素含有量
を規定するとともに、硬度を高めるとよい。すなわち、
上述のようにフッ素を１２〜３０原子％にまで多く含有
させる処理（フッ素を含むガスのプラズマ化）をおこな
って、表面をエッチングすると、その表面の硬度にバラ
ツキが生じやすくなり、低い硬度になる場合もあり、そ
こで、原料ガスを希釈ガスでもって希釈させたり、高周
波電力を高くする、というような製造条件でもって動的
押し込み硬さを８８０Ｎ／ｍｍ² 以上にまで高めるとよ
い。さらに一回のエッチング量を少なくすることで、膜
強度のバラツキを小さくするとともに、硬度を高めると
よい。

【００６１】本発明にて規定する動的押し込み硬さは島
津製作所製の超微小硬度計DYNAMICULTRA MICRO HARDNES
S TESTER （ＤＵＨ−２０１・２０２）を使用してダイ
ナミック硬さでもって表す。

【００６２】この測定方法によれば、電磁石により圧子
（三角すい圧子）を試料に押しつけ、この押圧力を０．
１ｇの荷重まで一定の割合で増加させ、圧子が試料に侵
入していく過程で、圧子の試料への侵入深さを自動計測
するものであって、その際に生じるくぼみの大きさを顕
微鏡にて測定し、塑性変形分から硬さの値を得る。

【００６３】かくして上記構成のように表面保護層４の
フッ素含有量を１２〜３０原子％にしたことで、優れた
耐刷性が得られ、紙などでもって擦れる度合いが著しく
低減し、これによって優れた耐久性が得られ、画像流れ
が発生しない高性能な感光体となった。

【００６４】さらに表面保護層４に対し、ボンバード処
理をおこない、これによってかぶりが生じないようにす
るとよい。この点を、つぎの表面保護層の形成方法にて
述べる。

【００６５】表面保護層４の形成方法つぎに上記構成の表面保護層４の形成方法を図３および
図４により述べる。

【００６６】図３（イ）〜（ニ）は表面保護層４の形成
方法Ａを示す各工程図であって、図４（イ）〜（ホ）は
表面保護層４の他の形成方法Ｂを示す各工程図である。

【００６７】〔表面保護層４の形成方法Ａについて〕以
下、図３の各工程（イ）〜（ニ）、ならびにボンバード
処理の工程（ヘ）を述べる。

【００６８】（イ）工程：光導電層４の上にグロー放電
法によりシリコンカーバイド（ＳｉＣ）もしくはカーボ
ン（Ｃ）からなるアモルファス層４ａをグロー放電法に
より基板温度８０〜１５０℃にて成膜形成する。

【００６９】（ロ）工程：フッ素を含むガスによりエッ
チング処理する。このエッチング処理はＣＦ₄ガス、Ｎ
Ｆ₃ガス、ＳＦ₆ガス、Ｃ₂Ｆ₆ガス、Ｆ₂ガス、ＣｌＦ₃
ガス、ＣＨＦ₃ガス、ＣＨ₂Ｆ₂ガス、ＣＨ₃Ｆガスなどの
ガスを用いて、たとえばＣＦ₄ガスを使用した場合であ
れば、真空度０．３５torr（４６．６Ｐａ）、基板温度
１２５℃、高周波電力１５０Ｗという条件でもってプラ
ズマ化し、これによってアモルファス層４ａの表面から
内部に漸次フッ素を侵入させると同時に、表面がエッチ
ングされる。４ｂはアモルファス層４ａのうちフッ素が
侵入していない領域（フッ素未侵入領域）、４ｃはフッ
素化領域、４ｄはアモルファス層４ａのうち上層領域の
エッチング処理された領域（エッチング領域）である。

【００７０】また、エッチングレートが膜質に影響する
こともわかり、エッチングレートを５０〜５００Å／
分、好適には１００〜２５０Å／分に規定することで、
膜表面に対するダメージが小さくなり、膜剥がれや画像
欠陥等が発生しなくなるとともに、十分にフッ素化処理
される。

【００７１】フッ素化領域４ｃにおいては、エッチング
処理されたことで、水素原子がフッ素原子に置換された
り、終端部にフッ素原子が結合し、Ｃ−Ｆ、Ｃ−Ｆ₂、
Ｃ−Ｆ₃などの官能基が生成され、とくにＣ−Ｆ₂が多く
生成される。そして、これらの生成物は疎水性を高める
のに顕著な効果がある。これら各官能基の量はフーリエ
変換赤外分光光度計により測定する。

【００７２】（ハ）工程：（ロ）工程のエッチング処理
によりフッ素化領域４ｃが形成されるが、そのエッチン
グ処理をさらに進行させると同時にエッチング領域４ｄ
もさらに大きくすることで、実質上フッ素未侵入領域４
ｂがない程度にまでエッチング処理を進める。これによ
ってアモルファス層４ａの全体がフッ素化されるまでエ
ッチング処理してフッ素化アモルファス層４ｅとなす。

【００７３】（ニ）工程：（イ）工程〜（ハ）工程を一
サイクルとして、このサイクルを繰り返すことで複数の
フッ素化アモルファス層４ｅを積層する。たとえば、
（イ）工程にてアモルファス層４ａを２０００Åの厚み
で成膜形成し、（ロ）工程および（ハ）工程によって１
０００〜１５００Åにする。そして、このようなサイク
ルを５回繰り返すことで、すなわちフッ素化アモルファ
ス層４ｅを５層積層することで、表面保護層４を形成す
る。

【００７４】（ヘ）工程：表面保護層４に対し、水素ガ
スを用いてボンバード処理をおこなうのが望ましい。

【００７５】かくして表面保護層４の形成方法Ａによれ
ば、結合エネルギの大きなＣ−Ｆ系の官能基が形成され
ることで、表面自由エネルギが大幅に小さくなり、耐酸
化性に優れ、これにより、放電生成物が付着されにくく
なり、現像剤に働く力がほとんど静電引力となって転写
性が改善され、その結果、画像流れが発生しなくなる。
そして、放電生成物がわずかに付着されても、表面硬度
が高くなったことで、クリーニング手段や紙などでもっ
て容易にクリーニングができ、トナーの付着を抑制した
り、防止することができる。

【００７６】本発明においては、（イ）工程〜（ハ）工
程により単層のフッ素化アモルファス層４ｅでもって表
面保護層４となしてもよいが、（ロ）工程のエッチング
処理が長くなると、フッ素化領域４ｃの表面が荒れ、こ
れによって膜の密着性が劣ったり、電子写真特性が低下
する傾向にあり、そのためにアモルファス層４ａの膜厚
を小さくし、さらにエッチング処理時間を短くすること
で、膜厚の小さいフッ素化アモルファス層４ｅを成膜形
成し、このようなフッ素化アモルファス層４ｅを積層す
ることで、個々のフッ素化アモルファス層４ｅの表面粗
さを小さくして、膜の密着性が高めたり、電子写真特性
を向上できる。望ましくは２層〜１５層〔（ニ）工程に
おけるサイクル数：２〜１５〕、最適には３層〜１０層
〔（ニ）工程におけるサイクル数：３〜１０〕のフッ素
化アモルファス層４ｅを積層することで表面保護層４を
構成する。

【００７７】さらに（ヘ）の工程において、表面保護層
４に対し、水素ガスを用いてボンバード処理をおこなう
ことで、最表面のマイナスの極性を水素により電気的に
中性化し、これによってプラスのトナーの付着性を弱
め、その結果、画像のかぶり現象が防止される。

【００７８】〔表面保護層４の形成方法Ｂについて〕つ
ぎに図４に示すような表面保護層４の他の形成方法Ｂを
述べる。

【００７９】この形成方法Ｂにおいては、上述した形成
方法Ａに比べて（ハ）工程を除いている。すなわち、
（ロ）工程のエッチング処理によりフッ素化領域４ｃが
形成されるが、フッ素未侵入領域４ｂが残存する程度に
エッチング処理を進める。そして、つぎの（ホ）工程に
て、（イ）工程および（ロ）工程を一サイクルとして、
このサイクルを繰り返すことでフッ素化領域４ｃとフッ
素未侵入領域４ｂとを交互に積層させ、表面保護層４を
なす。

【００８０】このようにフッ素未侵入領域４ｂが表面保
護層４内に存在してもよいが、前述の形成方法Ａのよう
にフッ素未侵入領域４ｂが存在しない方が成膜の信頼性
が向上し、安定した電子写真特性が得られ、さらに生産
歩留りも高められる。

【００８１】そして、（ホ）の工程の後に、つづけて
（ヘ）工程、すなわち表面保護層４に対し、水素ガスを
用いてボンバード処理をおこなうのが望ましい。

【００８２】さらに（ヘ）の工程において、表面保護層
４に対し、水素ガスを用いてボンバード処理をおこなう
ことで、最表面のマイナスの極性を水素により電気的に
中性化し、これによってプラスのトナーの付着性を弱
め、その結果、画像のかぶり現象が防止される。

【００８３】表面保護層４の形成方法Ａおよび形成方法
Ｂのいずれにおいても、アモルファス層４ａの膜厚を
０．０１〜１μｍ、好適には０．０５〜０．５μｍにす
るとよく、この範囲内であれば、適度な量でもってエッ
チングされ、膜全体に対しフッ素化が容易になるという
点でよい。

【００８４】フッ素化領域４ｃについても、膜厚を０．
００５〜０．５μｍ、好適には０．０３〜０．３μｍに
するとよく、この範囲内であれば、耐久性および電位特
性の双方を高めるという点でよい。

【００８５】そして、このように成膜した表面保護層４
の膜厚は０．１〜２．５μｍが好適である。膜厚が０．
１μｍ未満に薄くなると、膜削れによる耐久性が確保で
きなくなり、また、下地の影響を受ける。一方、膜厚が
２．５μｍを超えると、光透過率が悪化し、残留電位が
発生する。

【００８６】さらに形成方法Ｂについては、フッ素未侵
入領域４ｂの膜厚を０．００１〜０．０５μｍ、好適に
は０．００１〜０．０１μｍにするとよく、この範囲内
であれば、適度な量でもってエッチングされて均等な膜
厚が得られ、安定した膜厚となり、しかも、画像流れが
発生しなくなるという点でよい。

【００８７】この形成方法Ｂにおいても、（イ）工程と
（ロ）工程により単一のフッ素化領域４ｃと単一のフッ
素未侵入領域４ｂとの積層でもって表面保護層４となし
てもよいが、フッ素化領域４ｃの表面の荒れを防ぐため
に、望ましくは２積層〜１５積層〔（ホ）工程における
サイクル数：２〜１５〕、最適には３積層〜１０積層
〔（ホ）工程におけるサイクル数：３〜１０〕の範囲に
て表面保護層４を構成する。〔アモルファス層４ａの材質について〕（イ）工程にて
成膜形成するアモルファス層４ａはシリコンカーバイド
（ＳｉＣ）またはカーボン（Ｃ）からなるが、ａ−Ｃ膜
はａ−ＳｉＣ膜に比べて硬度が小さいことから、ａ−Ｓ
ｉＣ膜にて形成するのがよい。そのために原子組成比率
Ｓｉ_XＣ_1-XのＸ値を０．５以下、好適には０．３以下、
最適には０．１以下にするとよい。そして、このように
Ｓｉを減少させたままで含有させることで耐コロナ性が
向上する。ただし、ａ−Ｃ膜については、ガス希釈する
ことで硬度を大きくすることができるが、ａ−ＳｉＣ膜
にて得られる程度の硬度が得られない。

【００８８】画像形成装置の構成図２は本発明の感光体を搭載したプリンター構成の画像
形成装置７であり、８は感光体であり、この感光体８の
周面にコロナ帯電器９と、その帯電後に光照射する露光
器１０（ＬＥＤヘッド）と、トナー像を感光体８の表面
に形成するためのトナー１１を備えた現像機１２と、そ
のトナー像を被転写材１３に転写する転写器１４と、そ
の転写後に感光体表面の残留トナーを除去するクリーニ
ング手段１５と、その転写後に残余静電潜像を除去する
除電手段１６とを配設した構成である。また、１７は被
転写材１３に転写されたトナー像を熱もしくは圧力によ
り固着するための定着器である。

【００８９】このカールソン法は次の（１）〜（６）の
各プロセスを繰り返し経る。（１）感光体８の周面をコロナ帯電器９により帯電す
る。（２）露光器１０により画像を露光することにより、感
光体８の表面上に電位コントラストとしての静電潜像を
形成する。（３）この静電潜像を現像機１２により現像する。この
現像により黒色のトナーが静電潜像との静電引力により
感光体表面に付着し、可視化する。（４）感光体表面のトナー像を紙などの被転写材１３の
裏面よりトナーと逆極性の電界を加えて、静電転写し、
これにより、画像を被転写材１３の上に得る。（５）感光体表面の残留トナーをクリーニング手段１５
により機械的に除去する。（６）感光体表面を強い光で全面露光し、除電手段１６
により残余の静電潜像を除去する。

【００９０】なお、画像形成装置７はプリンターの構成
であるが、露光器１０に代えて原稿からの反射光を通す
レンズやミラーなどの光学系を用いれば、複写機の構成
の画像形成装置となる。

【００９１】ま、この画像形成装置７には通常の乾式現
像を用いているが、その他、湿式現像に使用される液体
現像剤にも適用される。

【００９２】

【実施例】（例１）純度９９．９％のＡｌからなる円筒
状の基板（外径３０ｍｍ、長さ２５４ｍｍ）の上に感光
層３を塗布形成し、正帯電のレーザープリンタ用にす
る。この感光層３は下記のとおりにて成膜した。

【００９３】電荷発生剤としてＸ型無金属フタロシアニ
ン５重量部および結着樹脂としてポリカーボネイト１０
０重量部、溶媒としてテトラヒドロフラン８００重量
部、正孔輸送剤として化１のジエチルアミノベンズアル
デヒドジフェニルヒドラゾン１００重量部をボールミル
にて５０時間混合、分散させて単層感光体用の塗布液を
作製した。

【００９４】

【化１】

【００９５】そして、この塗布液をアルミニウム素管上
にディップコート法にて塗布し、１００℃で１時間乾燥
させて、膜厚２５μmの感光層３を形成させ、単層型と
した。

【００９６】ついで表面保護層４を形成方法Ａにより設
ける。まず、表１に示す（イ）工程の成膜条件によりカ
ーボン（Ｃ）からなるアモルファス層４ａを３２００Å
の厚みで成膜形成する。

【００９７】

【表１】

【００９８】つぎに表２に示す（ロ）工程の条件により
エッチング処理する。

【００９９】

【表２】

【０１００】表２のエッチング処理を続けることで、
（ハ）工程を経ることで、実質上フッ素未侵入領域４ｂ
がない程度にまでエッチング処理を進め、これによって
膜厚１６００Åのフッ素化アモルファス層４ｅとなす。

【０１０１】しかる後に（ニ）工程、すなわち（イ）工
程〜（ハ）工程を一サイクルとして、このサイクルを５
回繰り返すことでフッ素化アモルファス層４ｅを５層積
層し、動的押し込み硬さが２４５０Ｎ／ｍｍ² であり、
フッ素含有量が１６原子％の厚み８０００Åの表面保護
層５を形成した。

【０１０２】かくして得られた本発明の感光体を前記画
像形成装置７（京セラ株式会社製エコシスＬＳ−１７０
０、乾式現像：トナー平均粒径８μｍ）に搭載し、この
装置７に設けられた感光体加熱用ヒーターのスイッチン
グを常時ＯＦＦにして、感光体加熱をおこなわなかっ
た。そして、カールソン法で画像形成して、３０万枚の
ランニングテストをおこない、画像流れと画質を測定し
た。

【０１０３】画像流れは３３℃、８５％湿度の環境下で
８時間放置したところ、画像変化がまったくなく、優れ
た評価特性が得られ、画質についても、黒ベタ濃度・白
ベタにてかぶりにまったく問題なく、また、ハーフトー
ン画像にスジがまったく発生しなかった。

【０１０４】（例２）（例１）にて感光体を作製するに
当り、（イ）工程の成膜と、（ロ）工程のエッチング処
理における基板温度を表３に示す如く、２５℃〜３００
℃の範囲内にて幾とおりにも変えて、それぞれの成膜状
態や電位特性を測定したところ、表３に示すような結果
が得られた。

【０１０５】

【表３】

【０１０６】この表において、外観や電位特性における
〇印は、（例１）に示す如く、カールソン法で画像形成
して、３０万枚のランニングテストをおこなった結果、
画像変化がまったくなく、優れた評価特性が得られ、画
質についても、黒ベタ濃度・白ベタにてかぶりにまった
く問題なく、また、ハーフトーン画像にスジがまったく
発生しなかった場合である。

【０１０７】同表から明らかなとおり、基板温度が８０
〜１５０℃の範囲内であれば、良好な画像・画質が得ら
れた。しかるに、基板温度が２５℃、５０℃にまで低く
なると成膜できなかった。基板温度が７５℃になると残
留電位が大きくなった。

【０１０８】また、基板温度が１５５℃になると、膜の
一部がとけ、さらに２００℃以上になると膜がとけてま
ったく使用できなかった。

【０１０９】（例３）（例１）にて得られた感光体と、
従来のアモルファスシリコン系感光体と、従来の有機半
導体材からなる感光層のみのＯＰＣ感光体（有機感光
体）との特性を比較した。

【０１１０】従来のアモルファスシリコン系感光体によ
れば、純度９９．９％のＡｌからなる円筒状の基板（外
径３０ｍｍ、長さ２５４ｍｍ）の上に表４に示すように
電荷注入層と光導電層とを順次積層し、さらに（例１）
の感光体にて形成した表面保護層と同じ構成の表面保護
層を、その光導電層の上に形成したものである。

【０１１１】

【表４】

【０１１２】そして、それぞれの感光体を作製し、同様
に評価したところ、表５に示すような結果が得られた。

【０１１３】

【表５】

【０１１４】表５に示す結果から明らかなとおり、本発
明のような表面保護層を形成したことで、画像流れおよ
び画質の双方が向上していることがわかる。

【０１１５】（例４）（例１）にて得られた感光体に対
し、水素ガスの導入量を変えることで、表面保護層４の
水素含有量を表６に示すように変え、そして、各試料に
対し、外観、電位特性、硬度を測定したところ、表６に
示すような結果が得られた。

【０１１６】

【表６】

【０１１７】水素含有量が２０〜７０原子（ａｔ）％に
すると、（例１）に示す如く、カールソン法で画像形成
して、３０万枚のランニングテストをおこなった結果、
画像変化がまったくなく、優れた評価特性が得られた。
画質についても、黒ベタ濃度・白ベタにてかぶりにまっ
たく問題なく、また、ハーフトーン画像にスジがまった
く発生しなかった。

【０１１８】また、水素量を多くすることで、硬度が増
大する傾向にあることがわかる。しかし、水素含有量が
１５原子％では成膜しなかった。また、水素含有量が７
５原子％では膜にクラックが発生し、まったく実用に適
しなかった。

【０１１９】以上により、水素量は２５〜７０原子％に
するとよいことがわかる。

【０１２０】（例５）（例１）にて得られた感光体に対
し、表７に示すようにＲＦ電力を変えることで、表面保
護層４のフッ素量を規定した各種感光体Ａ〜Ｇを作製し
た。

【０１２１】

【表７】

【０１２２】かくして得られた本発明の感光体を前記画
像形成装置７（京セラ株式会社製エコシスＬＳ−３５５
０、乾式現像：トナー平均粒径８μｍ）に搭載し、この
装置７に設けられた感光体加熱用ヒーターのスイッチン
グを常時ＯＦＦにして、感光体加熱をおこなわなかっ
た。そして、カールソン法で画像形成して、３０万枚の
ランニングテストをおこない、画像流れと画質を測定し
たところ、表８に示すような結果（ａ−Ｃ：Ｈ：Ｆから
なる表面保護層）が得られた。

【０１２３】

【表８】

【０１２４】画像流れは３３℃、８５％湿度の環境下で
８時間放置し、その画質を３段階にて評価し、○印は画
像変化がまったくない場合であり、△印は一部画像が流
れた場合であり、×印は全面にわたって画像が流れた場
合である。

【０１２５】画質は３段階にて評価し、黒ベタ、白ベタ
およびハーフトーン画像にて評価し、○印は黒ベタ濃度
・白ベタにおいてかぶりにまったく問題なく、また、ハ
ーフトーン画像にスジがまったく発生していない場合で
あり、△印はハーフトーン画像の一部にスジが発生して
いる場合であり、×印はハーフトーン画像の全面にわた
ってスジが発生している場合である。

【０１２６】表８に示す結果から明らかなとおり、試料
Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆが優れていることで、フッ素含有量を１
２〜３０原子％にするとよい。

【０１２７】（例１）〜（例５）はａ−Ｃ：Ｈ：Ｆから
なる表面保護層を形成した場合であるが、以下、これに
代えてａ−ＳｉＣ：Ｈ：Ｆからなる表面保護層を形成し
た場合を（例６）〜（例１０）説明する。

【０１２８】（例６）純度９９．９％のＡｌからなる円
筒状の基板（外径３０ｍｍ、長さ２５４ｍｍ）の上に
（例１）にて化１に示す如く感光層３を塗布形成し、正
帯電のレーザープリンタ用にする。

【０１２９】そして、この塗布液をアルミニウム素管上
にディップコート法にて塗布し、１００℃で１時間乾燥
させて、膜厚２５μmの感光層３を形成させ、単層型と
した。

【０１３０】ついで表面保護層４を形成方法Ａにより設
ける。まず、表９に示す（イ）工程の成膜条件によりシ
リコンカーボイド（ＳｉＣ）からなるアモルファス層４
ａを３２００Åの厚みで成膜形成する。

【０１３１】

【表９】

【０１３２】つぎに表１０に示す（ロ）工程の条件によ
りエッチング処理する。

【０１３３】

【表１０】

【０１３４】表１０のエッチング処理を続けることで、
（ハ）工程を経ることで、実質上フッ素未侵入領域４ｂ
がない程度にまでエッチング処理を進め、これによって
膜厚１６００Åのフッ素化アモルファス層４ｅとなす。

【０１３５】しかる後に（ニ）工程、すなわち（イ）工
程〜（ハ）工程を一サイクルとして、このサイクルを５
回繰り返すことでフッ素化アモルファス層４ｅを５層積
層し、動的押し込み硬さが２９００Ｎ／ｍｍ² であり、
フッ素含有量が１６原子％の厚み８０００Åの表面保護
層４を形成した。

【０１３６】かくして得られた本発明の感光体を前記画
像形成装置７（京セラ株式会社製エコシスＬＳ−１７０
０、乾式現像：トナー平均粒径８μｍ）に搭載し、この
装置７に設けられた感光体加熱用ヒーターのスイッチン
グを常時ＯＦＦにして、感光体加熱をおこなわなかっ
た。そして、カールソン法で画像形成して、３０万枚の
ランニングテストをおこない、画像流れと画質を測定し
た。

【０１３７】画像流れは３３℃、８５％湿度の環境下で
８時間放置したところ、画像変化がまったくなく、優れ
た評価特性が得られ、画質についても、黒ベタ濃度・白
ベタにてかぶりにまったく問題なく、また、ハーフトー
ン画像にスジがまったく発生しなかった。

【０１３８】（例７）（例６）にて感光体を作製するに
当り、（イ）工程の成膜と、（ロ）工程のエッチング処
理における基板温度を表１１に示す如く、２５℃〜３０
０℃の範囲内にて幾とおりにも変えて、それぞれの成膜
状態や電位特性を測定したところ、表１１に示すような
結果が得られた。

【０１３９】

【表１１】

【０１４０】同表から明らかなとおり、基板温度が８０
〜１５０℃の範囲内であれば、良好な画像・画質が得ら
れた。しかるに、基板温度が２５℃、５０℃にまで低く
なると成膜できなかった。基板温度が７５℃になると残
留電位が大きくなった。

【０１４１】また、基板温度が１５５℃になると、膜の
一部がとけ、さらに２００℃以上になると膜がとけてま
ったく使用できなかった。

【０１４２】（例８）（例６）にて得られた感光体と、
従来のアモルファスシリコン系感光体と、従来の有機半
導体材からなる感光層のみのＯＰＣ感光体（有機感光
体）との特性を比較した。

【０１４３】そして、それぞれの感光体を作製し、同様
に評価したところ、表１２に示すような結果が得られ
た。

【０１４４】

【表１２】

【０１４５】表１２に示す結果から明らかなとおり、本
発明のような表面保護層を形成したことで、画像流れお
よび画質の双方が向上していることがわかる。

【０１４６】（例９）（例６）にて得られた感光体に対
し、水素ガスの導入量を変えることで、表面保護層４の
水素含有量を表１３に示すように変え、そして、各試料
に対し、外観、電位特性、硬度を測定したところ、表１
３に示すような結果が得られた。

【０１４７】

【表１３】

【０１４８】水素含有量が２０〜７０原子（ａｔ）％に
すると、（例６）に示す如く、カールソン法で画像形成
して、３０万枚のランニングテストをおこなった結果、
画像変化がまったくなく、優れた評価特性が得られた。
画質についても、黒ベタ濃度・白ベタにてかぶりにまっ
たく問題なく、また、ハーフトーン画像にスジがまった
く発生しなかった。

【０１４９】また、水素量を多くすることで、硬度が増
大する傾向にあることがわかる。しかし、水素含有量が
１５原子％では成膜しなかった。また、水素含有量が７
５原子％では膜にクラックが発生し、まったく実用に適
しなかった。

【０１５０】以上により、水素量は２５〜７０原子％に
するとよいことがわかる。

【０１５１】（例１０）（例６）にて得られた感光体に
対し、表１４に示すようにＲＦ電力を変えることで、表
面保護層４のフッ素量を規定した各種感光体Ａ〜Ｇを作
製した。

【０１５２】

【表１４】

【０１５３】かくして得られた本発明の感光体を前記画
像形成装置７（京セラ株式会社製エコシスＬＳ−３５５
０、乾式現像：トナー平均粒径８μｍ）に搭載し、この
装置７に設けられた感光体加熱用ヒーターのスイッチン
グを常時ＯＦＦにして、感光体加熱をおこなわなかっ
た。そして、カールソン法で画像形成して、３０万枚の
ランニングテストをおこない、画像流れと画質を測定し
たところ、表１５に示すような結果（ａ−Ｃ：Ｈ：Ｆか
らなる表面保護層）が得られた。

【０１５４】

【表１５】

【０１５５】画像流れは３３℃、８５％湿度の環境下で
８時間放置し、その画質を３段階にて評価し、○印は画
像変化がまったくない場合であり、△印は一部画像が流
れた場合であり、×印は全面にわたって画像が流れた場
合である。

【０１５６】画質は３段階にて評価し、黒ベタ、白ベタ
およびハーフトーン画像にて評価し、○印は黒ベタ濃度
・白ベタにおいてかぶりにまったく問題なく、また、ハ
ーフトーン画像にスジがまったく発生していない場合で
あり、△印はハーフトーン画像の一部にスジが発生して
いる場合であり、×印はハーフトーン画像の全面にわた
ってスジが発生している場合である。

【０１５７】表１５に示す結果から明らかなとおり、試
料Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆが優れていることで、フッ素含有量を
１２〜３０原子％にするとよい。

【０１５８】

【発明の効果】以上のとおり、本発明の感光体の製法に
よれば、有機感光層を塗布形成し、この有機感光層上に
グロー放電法によりフッ素含有のアモルファスシリコン
カーバイド（ａ−ＳｉＣ）もしくはアモルファスカーボ
ン（ａ−Ｃ）からなる表面保護層を作製するに当り、シ
リコンカーバイド（ＳｉＣ）もしくはカーボン（Ｃ）か
らなるアモルファス層を成膜形成し、ついでアモルファ
ス層に対しフッ素を含むガスをプラズマ化してエッチン
グ処理すると同時に、膜内に含有させる工程を経て、水
素含有量を２５〜７０原子％、フッ素を１２〜３０原子
％含有した表面保護層を形成したことで、優れた耐刷性
が得られ、紙などでもって擦れる度合いが著しく低減
し、しかも、感光体加熱用のヒーターを設けない程度に
まで表面の疎水性を高めて、画像流れが発生しなくな
り、さらに電位特性のバラツキがなくなり、その結果、
高耐久性、高性能、高信頼性、かつ低コストの感光体が
提供できた。

【０１５９】本発明の画像形成装置は、上記本発明の感
光体を装着することで、感光体用のヒーターを設けなく
てもよく、これにより、構造上簡単となり、製造歩留り
が向上し、さらに部品点数が少なくなることで優れた耐
久性が得られ、その結果、低コストかつ高信頼性の画像
形成装置が提供できた。

【図面の簡単な説明】

【図１】発明の実施形態に係る感光体の層構成を示す断
面図である。

【図２】本発明の画像形成装置の概略図である。

【図３】（イ）、（ロ）、（ハ）および（ニ）は本発明
に係る表面保護層の形成方法を示す工程図である。

【図４】（イ）、（ロ）および（ホ）は本発明に係る表
面保護層の他の形成方法を示す工程図である。

【符号の説明】

１、８・・・感光体２・・・導電性基板３・・・有機感光層４・・・表面保護層４ａ・・・アモルファス層４ｂ・・・アモルファス層４ａのフッ素未侵入領域４ｃ・・・アモルファス層４ａのフッ素化領域４ｄ・・・アモルファス層のエッチング領域７・・・画像形成装置９・・・コロナ帯電器１０・・・露光器１２・・・現像機１４・・・転写器

フロントページの続き (72)発明者中嶋宏幸滋賀県八日市市蛇溝町長谷野1166番地の６京セラ株式会社滋賀工場八日市ブロック内 (72)発明者宮本栄一大阪府大阪市中央区玉造１丁目２番28号京セラミタ株式会社内Ｆターム(参考） 2H035 CA01 CB02 CB03 2H068 AA02 CA03 CA05 CA60 EA24 EA32 FA01 FA25

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性基板上に有機感光層を塗布形成し、
この有機感光層上にグロー放電法によりアモルファスシ
リコンカーバイドもしくはアモルファスカーボンからな
るアモルファス層を成膜形成し、ついで該アモルファス
層に対しフッ素を含むガスをプラズマ化してエッチング
処理すると同時に、膜内に含有させる工程を経て、水素
含有量を２５〜７０原子％、フッ素を１２〜３０原子％
含有する表面保護層を形成せしめたことを特徴とする感
光体の製法。
【請求項２】前記工程の基板温度を８０〜１５０℃に設
定したことを特徴とする請求項１記載の感光体の製法。
【請求項３】導電性基板上に有機感光層を塗布形成し、
この有機感光層上に基板温度が８０〜１５０℃のグロー
放電法によってフッ素と水素とを含むアモルファスシリ
コンカーバイドもしくはアモルファスカーボンからなる
表面保護層を形成したことを特徴とする感光体の製法。
【請求項４】請求項１〜３の製法により得られた感光体
と、この感光体の表面に電荷を付与する帯電手段と、感
光体の帯電領域に対して光照射する露光手段と、これら
帯電手段と露光手段とにより感光体表面に形成された静
電潜像に対してトナー像を感光体の表面に形成する現像
手段と、上記トナー像を被転写材に転写する転写手段
と、転写後に感光体表面の残留トナーを除去するクリー
ニング手段とを配設した画像形成装置。