JP2003194727A - レーザー光散乱を用いた高純度グラスチューブの微小気泡分析装置 - Google Patents
レーザー光散乱を用いた高純度グラスチューブの微小気泡分析装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】レーザー光散乱を用いた高純度グラスチューブ
の微小気泡分析装置を開示する。 【解決手段】分析装置は、サンプルステージを含む光テ
ーブルと、光テーブルに垂直方向に直立装着されてサン
プルステージにより一定の速度で回転及び上下運動する
グラスチューブと、グラスチューブの一側に離隔配置さ
れてその外周面に所定の角度でレーザー光を照射するレ
ーザーと、グラスチューブの他側に配置されてグラスチ
ューブに照射されたレーザー光により発生するグラスチ
ューブのレーザーパスラインの散乱光を用いてグラスチ
ューブの微小気泡や微小気泡の分布含量を立体的に検出
する検出器とから構成される。
の微小気泡分析装置を開示する。 【解決手段】分析装置は、サンプルステージを含む光テ
ーブルと、光テーブルに垂直方向に直立装着されてサン
プルステージにより一定の速度で回転及び上下運動する
グラスチューブと、グラスチューブの一側に離隔配置さ
れてその外周面に所定の角度でレーザー光を照射するレ
ーザーと、グラスチューブの他側に配置されてグラスチ
ューブに照射されたレーザー光により発生するグラスチ
ューブのレーザーパスラインの散乱光を用いてグラスチ
ューブの微小気泡や微小気泡の分布含量を立体的に検出
する検出器とから構成される。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ゾル−ゲル工程を
用いて製作される高純度オーバークラッディング用のグ
ラスチューブの分析に係り、特に、高純度オーバークラ
ッディング用のグラスチューブの微小気泡(micro-bubbl
e)を立体的に分析することのできる装置に関する。
用いて製作される高純度オーバークラッディング用のグ
ラスチューブの分析に係り、特に、高純度オーバークラ
ッディング用のグラスチューブの微小気泡(micro-bubbl
e)を立体的に分析することのできる装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、光ファイバ母材を製造する方法
は気相蒸着法と液相法に分けられる。気相蒸着法として
はCVD(chemical vapor deposition)やMCVD(Modi
fied CVD)が広く使用され、液相法としてはゾル−ゲル
(sol-gel)工程が主に使用される。最近では、経済性及
び製作の容易性のためにゾル−ゲル工程が大口径の光フ
ァイバ母材を製作する工程として脚光を浴びている。光
ファイバ母材はロッド状の1次光ファイバ母材とチュー
ブ状の2次光ファイバ母材(オーバークラッディング用
のグラスチューブ)とを含む。
は気相蒸着法と液相法に分けられる。気相蒸着法として
はCVD(chemical vapor deposition)やMCVD(Modi
fied CVD)が広く使用され、液相法としてはゾル−ゲル
(sol-gel)工程が主に使用される。最近では、経済性及
び製作の容易性のためにゾル−ゲル工程が大口径の光フ
ァイバ母材を製作する工程として脚光を浴びている。光
ファイバ母材はロッド状の1次光ファイバ母材とチュー
ブ状の2次光ファイバ母材(オーバークラッディング用
のグラスチューブ)とを含む。
【0003】図1は従来の一実施例によるオーバークラ
ッディング用のグラスチューブ12の微小気泡を分析す
る装置を概略的に示した構成図である。図1に示したよ
うに、グラスチューブ12はゾル−ゲル工程を用いて製
造されるが、特に、ゾル−ゲル工程を用いて大口径の光
ファイバ母材を製造するために使用されるオーバークラ
ッディング用のグラスチューブである。このようなオー
バークラッディング用のグラスチューブ12を製造する
ためには、まずコロイドゾル(colloidal sol)を製造し
てモールド(mold)に注入した後、所望形状のゲルを製造
する。その後、乾燥、有機物除去、低温熱処理及び焼結
工程を通じて最終的なグラスチューブが製造される。
ッディング用のグラスチューブ12の微小気泡を分析す
る装置を概略的に示した構成図である。図1に示したよ
うに、グラスチューブ12はゾル−ゲル工程を用いて製
造されるが、特に、ゾル−ゲル工程を用いて大口径の光
ファイバ母材を製造するために使用されるオーバークラ
ッディング用のグラスチューブである。このようなオー
バークラッディング用のグラスチューブ12を製造する
ためには、まずコロイドゾル(colloidal sol)を製造し
てモールド(mold)に注入した後、所望形状のゲルを製造
する。その後、乾燥、有機物除去、低温熱処理及び焼結
工程を通じて最終的なグラスチューブが製造される。
【0004】この際、コロイドゾルをモールド内に注入
するときに発生する気泡と、有機物除去及び焼結時の緻
密化不足による微小気泡との形成により高純度シリカグ
ラスチューブの品質に致命的な問題が発生する。したが
って、かかる問題を解決するために微小気泡を分析する
ための装置を示したのが図1である。
するときに発生する気泡と、有機物除去及び焼結時の緻
密化不足による微小気泡との形成により高純度シリカグ
ラスチューブの品質に致命的な問題が発生する。したが
って、かかる問題を解決するために微小気泡を分析する
ための装置を示したのが図1である。
【0005】図1に示したように、従来の分析装置は準
備されたグラスチューブ12を中心にして一側方向には
レーザー10が、他側方向にはスクリーン14が配置さ
れている。レーザー10をグラスチューブ12の外周面
に対して垂直に照射すると、グラスチューブ12の外周
面を通じて内部を通過したレーザー光がグラスチューブ
12の背面に位置したスクリーン14に画像として反映
される。この際、スクリーン14上の画像を分析するこ
とにより、グラスチューブ12内に残存する微小気泡を
評価することができる。参照符号10aはグラスチュー
ブ12に照射されたレーザー光であり、参照符号10b
はレーザー光がグラスチューブ12を通過した後の透過
光である。
備されたグラスチューブ12を中心にして一側方向には
レーザー10が、他側方向にはスクリーン14が配置さ
れている。レーザー10をグラスチューブ12の外周面
に対して垂直に照射すると、グラスチューブ12の外周
面を通じて内部を通過したレーザー光がグラスチューブ
12の背面に位置したスクリーン14に画像として反映
される。この際、スクリーン14上の画像を分析するこ
とにより、グラスチューブ12内に残存する微小気泡を
評価することができる。参照符号10aはグラスチュー
ブ12に照射されたレーザー光であり、参照符号10b
はレーザー光がグラスチューブ12を通過した後の透過
光である。
【0006】しかし、グラスチューブにレーザーを垂直
に照射して透過光を分析する場合、円筒状のグラスチュ
ーブの表面状態及び形状に応じるレーザー光の反射、屈
折及び散乱により光の歪曲が発生する。これにより、グ
ラスチューブの微小気泡や損傷の正確な分析というより
も概略的なグラスチューブの微小気泡や損傷状態の分布
のみを確認するに止まり、それ以上の精密な分析は不可
能である。さらに、従来の分析装置はグラスチューブ内
の微小気泡の立体的な位置、サイズ及び含量水準などの
分析も不可能である。
に照射して透過光を分析する場合、円筒状のグラスチュ
ーブの表面状態及び形状に応じるレーザー光の反射、屈
折及び散乱により光の歪曲が発生する。これにより、グ
ラスチューブの微小気泡や損傷の正確な分析というより
も概略的なグラスチューブの微小気泡や損傷状態の分布
のみを確認するに止まり、それ以上の精密な分析は不可
能である。さらに、従来の分析装置はグラスチューブ内
の微小気泡の立体的な位置、サイズ及び含量水準などの
分析も不可能である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的はグラスチューブの微小気泡状態の精密な立体的分
析を可能にする微小気泡分析装置を提供することにあ
る。
目的はグラスチューブの微小気泡状態の精密な立体的分
析を可能にする微小気泡分析装置を提供することにあ
る。
【0008】本発明の他の目的は高信頼/高純度のグラ
スチューブを具現する微小気泡分析装置を提供すること
にある。
スチューブを具現する微小気泡分析装置を提供すること
にある。
【0009】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るための本発明による光ファイバ母材用のグラスチュー
ブの微小気泡分析装置は、サンプルステージを含む光テ
ーブルと、光テーブルに垂直方向に直立装着されてサン
プルステージにより一定の速度で回転及び上下運動する
グラスチューブと、グラスチューブの一側に離隔配置さ
れてその外周面に所定の角度でレーザー光を照射するレ
ーザーと、グラスチューブの他側に配置されてグラスチ
ューブに照射されたレーザー光により発生するグラスチ
ューブのレーザーパスラインの散乱光を用いてグラスチ
ューブの微小気泡や微小気泡の分布含量を立体的に検出
する検出器と、から構成される。
るための本発明による光ファイバ母材用のグラスチュー
ブの微小気泡分析装置は、サンプルステージを含む光テ
ーブルと、光テーブルに垂直方向に直立装着されてサン
プルステージにより一定の速度で回転及び上下運動する
グラスチューブと、グラスチューブの一側に離隔配置さ
れてその外周面に所定の角度でレーザー光を照射するレ
ーザーと、グラスチューブの他側に配置されてグラスチ
ューブに照射されたレーザー光により発生するグラスチ
ューブのレーザーパスラインの散乱光を用いてグラスチ
ューブの微小気泡や微小気泡の分布含量を立体的に検出
する検出器と、から構成される。
【0010】この装置におけるレーザーはヘリウム−ネ
オンレーザーであるとよい。検出器はPMT(photo-mul
tiplier tube)検出器であるか、CCD(charge coupled
device)検出器であると好ましい。そのPMT検出器は
グラスチューブの微小気泡による直角散乱光を検出し、
特定の波長領域の光のみを通過させるレンズを前端にさ
らに備えるとよい。グラス表面の表面状態を分析する画
像検出器はグラスチューブに隣接するように配置されて
グラスチューブの表面反射光を分析するようにするとな
お好ましい。
オンレーザーであるとよい。検出器はPMT(photo-mul
tiplier tube)検出器であるか、CCD(charge coupled
device)検出器であると好ましい。そのPMT検出器は
グラスチューブの微小気泡による直角散乱光を検出し、
特定の波長領域の光のみを通過させるレンズを前端にさ
らに備えるとよい。グラス表面の表面状態を分析する画
像検出器はグラスチューブに隣接するように配置されて
グラスチューブの表面反射光を分析するようにするとな
お好ましい。
【0011】また、本発明では、光ファイバ母材用のグ
ラスチューブの微小気泡分析装置において、サンプルス
テージを含む光テーブルと、光テーブルに垂直方向に直
立装着されてサンプルステージにより一定の速度で回転
及び上下運動するグラスチューブと、グラスチューブの
一側に離隔配置されて所定の角度でレーザー光を照射す
るレーザーと、グラスチューブの他側に配置されてグラ
スチューブに照射されたレーザー光により発生するレー
ザーパスラインの散乱光を用いてグラスチューブの微小
気泡を検出するCCD検出器と、レーザーとCCD検出
器との間に配置されて前記グラスチューブに照射された
レーザー光により発生するレーザーパスラインの散乱光
強度を検出するPMT検出器と、から構成される装置を
さらに提供する。
ラスチューブの微小気泡分析装置において、サンプルス
テージを含む光テーブルと、光テーブルに垂直方向に直
立装着されてサンプルステージにより一定の速度で回転
及び上下運動するグラスチューブと、グラスチューブの
一側に離隔配置されて所定の角度でレーザー光を照射す
るレーザーと、グラスチューブの他側に配置されてグラ
スチューブに照射されたレーザー光により発生するレー
ザーパスラインの散乱光を用いてグラスチューブの微小
気泡を検出するCCD検出器と、レーザーとCCD検出
器との間に配置されて前記グラスチューブに照射された
レーザー光により発生するレーザーパスラインの散乱光
強度を検出するPMT検出器と、から構成される装置を
さらに提供する。
【0012】この装置におけるグラス表面の表面状態を
分析する画像検出器はグラスチューブに隣接するように
配置されてグラスチューブの表面反射光を分析するよう
にするとよい。
分析する画像検出器はグラスチューブに隣接するように
配置されてグラスチューブの表面反射光を分析するよう
にするとよい。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施例を添
付図面を参照して詳細に説明する。下記の説明におい
て、本発明の要旨のみを明確にする目的で、関連した公
知機能または構成に関する具体的な説明は省略する。
付図面を参照して詳細に説明する。下記の説明におい
て、本発明の要旨のみを明確にする目的で、関連した公
知機能または構成に関する具体的な説明は省略する。
【0014】図2及び図3に示したように、高純度グラ
スチューブ22は大口径の光ファイバ母材を製造するた
めに製作される1次光ファイバ母材及び2次光ファイバ
母材を示す。ここで、1次光ファイバ母材はロッド状の
グラスチューブであり、2次光ファイバ母材は中空状の
グラスチューブである。ロッド状の1次光ファイバ母材
と中空状の2次光ファイバ母材とがオーバークラッディ
ングされることにより、大口径の光ファイバ母材が製作
される。図2及び図3は中空状のグラスチューブ22を
含む光ファイバ分析装置の配置状態を示した図である。
スチューブ22は大口径の光ファイバ母材を製造するた
めに製作される1次光ファイバ母材及び2次光ファイバ
母材を示す。ここで、1次光ファイバ母材はロッド状の
グラスチューブであり、2次光ファイバ母材は中空状の
グラスチューブである。ロッド状の1次光ファイバ母材
と中空状の2次光ファイバ母材とがオーバークラッディ
ングされることにより、大口径の光ファイバ母材が製作
される。図2及び図3は中空状のグラスチューブ22を
含む光ファイバ分析装置の配置状態を示した図である。
【0015】本発明による分析装置は、サンプルステー
ジ210を含む光テーブル20と、光テーブル20に対
して垂直方向に直立装着され、サンプルステージ210
により一定の速度で回転及び上下運動する準備されたグ
ラスチューブ22と、 グラスチューブ22を中心にし
て一側に配置されるレーザー24と、グラスチューブ2
2の他側に配置されるCCD検出器26又はPMT検出
器26のうち、いずれか一つの検出器とから構成され
る。
ジ210を含む光テーブル20と、光テーブル20に対
して垂直方向に直立装着され、サンプルステージ210
により一定の速度で回転及び上下運動する準備されたグ
ラスチューブ22と、 グラスチューブ22を中心にし
て一側に配置されるレーザー24と、グラスチューブ2
2の他側に配置されるCCD検出器26又はPMT検出
器26のうち、いずれか一つの検出器とから構成され
る。
【0016】モータ付きサンプルステージ210は光テ
ーブルの中央部にホール(図示せず)を提供して装着さ
れ、グラスチューブが直立状態で載置される。次に、サ
ンプルステージ210によりグラスチューブ22は回転
及び上下運動をすることにより、その立体的な分析が可
能である。
ーブルの中央部にホール(図示せず)を提供して装着さ
れ、グラスチューブが直立状態で載置される。次に、サ
ンプルステージ210によりグラスチューブ22は回転
及び上下運動をすることにより、その立体的な分析が可
能である。
【0017】検出器26としてCCD検出器が選択され
る場合、CCD検出器26は微小気泡による散乱光のパ
スライン(pass line)を写真撮影した後、赤色/緑色/青
色に色分解する。その後、CCD検出器26はその散乱
光の強度に応じてグラスチューブ内の微小部位に対する
気泡の位置及びサイズを分析する。
る場合、CCD検出器26は微小気泡による散乱光のパ
スライン(pass line)を写真撮影した後、赤色/緑色/青
色に色分解する。その後、CCD検出器26はその散乱
光の強度に応じてグラスチューブ内の微小部位に対する
気泡の位置及びサイズを分析する。
【0018】さらに、検出器26としてPMT検出器が
選択される場合、PMT検出器26は、ヘリウム−ネオ
ンレーザーの光をグラスチューブ22に照射すると、グ
ラスチューブ22内部の微小気泡による散乱光のパスラ
インに応じて散乱光の強度を測定する。この際、PMT
検出器26の前端にヘリウム−ネオン波長領域の光のみ
を通過するレンズを装着してグラス内部の微小気泡によ
る散乱光の強度のみを測定する。
選択される場合、PMT検出器26は、ヘリウム−ネオ
ンレーザーの光をグラスチューブ22に照射すると、グ
ラスチューブ22内部の微小気泡による散乱光のパスラ
インに応じて散乱光の強度を測定する。この際、PMT
検出器26の前端にヘリウム−ネオン波長領域の光のみ
を通過するレンズを装着してグラス内部の微小気泡によ
る散乱光の強度のみを測定する。
【0019】さらに、本発明による装置はグラスチュー
ブ22の表面による反射光の分析に応じてグラスの表面
状態を検出する画像検出器30を備える。
ブ22の表面による反射光の分析に応じてグラスの表面
状態を検出する画像検出器30を備える。
【0020】サンプルステージ210が駆動すると、サ
ンプルステージ210に連結されたグラスチューブ22
も同一の速度で同一の方向に回転及び上下運動する。そ
の後、一定の時間間隔でグラスチューブの全体表面にレ
ーザー24からのレーザー光24aが照射される。より
詳しくは、レーザー光24aはグラスチューブ22の外
周面に一定の角度で照射される。レーザー光24aがグ
ラスチューブ22を通過した後の透過光24bは検出器
26により光散乱の強度が検出される。もちろん、光散
乱はグラスチューブ22に残存する微小気泡によるもの
である。
ンプルステージ210に連結されたグラスチューブ22
も同一の速度で同一の方向に回転及び上下運動する。そ
の後、一定の時間間隔でグラスチューブの全体表面にレ
ーザー24からのレーザー光24aが照射される。より
詳しくは、レーザー光24aはグラスチューブ22の外
周面に一定の角度で照射される。レーザー光24aがグ
ラスチューブ22を通過した後の透過光24bは検出器
26により光散乱の強度が検出される。もちろん、光散
乱はグラスチューブ22に残存する微小気泡によるもの
である。
【0021】好ましくは、レーザー24にはヘリウム−
ネオンレーザーが使用される。レーザー24をグラスチ
ューブ22に照射した後、グラスチューブ22を透過し
た散乱光24bはCCD検出器26やPMT検出器26
を用いてグラスチューブ内の微小気泡を立体的に分析す
ることができる。検出器26により検出された信号はデ
ータ処理システム(DPS)28に提供されて処理され
る。さらに、グラスチューブの表面におけるレーザー反
射光を画像検出器を用いて分析すると、グラスチューブ
の表面状態を分析することができる。
ネオンレーザーが使用される。レーザー24をグラスチ
ューブ22に照射した後、グラスチューブ22を透過し
た散乱光24bはCCD検出器26やPMT検出器26
を用いてグラスチューブ内の微小気泡を立体的に分析す
ることができる。検出器26により検出された信号はデ
ータ処理システム(DPS)28に提供されて処理され
る。さらに、グラスチューブの表面におけるレーザー反
射光を画像検出器を用いて分析すると、グラスチューブ
の表面状態を分析することができる。
【0022】この際、透過光24bの検出器26として
CCD検出器が選択される場合、CCD検出器26はグ
ラスチューブ22の内部を通過するレーザーパスライン
を垂直方向で撮影して光の通過位置で微小気泡による散
乱光の強度を電気的信号として検出する。散乱光の電気
的信号はデータ処理システム28に提供される。一方、
透過光24bの検出器26としてPMT検出器が選択さ
れる場合、グラスチューブの内部の微小気泡による散乱
光のみを分析するようにヘリウム−ネオンレーザー領域
以外の光を無視するレンズをPMT検出器26の前端に
装着して散乱光を検出した後、この電気的信号をデータ
処理システム28に提供する。
CCD検出器が選択される場合、CCD検出器26はグ
ラスチューブ22の内部を通過するレーザーパスライン
を垂直方向で撮影して光の通過位置で微小気泡による散
乱光の強度を電気的信号として検出する。散乱光の電気
的信号はデータ処理システム28に提供される。一方、
透過光24bの検出器26としてPMT検出器が選択さ
れる場合、グラスチューブの内部の微小気泡による散乱
光のみを分析するようにヘリウム−ネオンレーザー領域
以外の光を無視するレンズをPMT検出器26の前端に
装着して散乱光を検出した後、この電気的信号をデータ
処理システム28に提供する。
【0023】レーザー24がレーザー光24aをグラス
チューブ22に照射すると、図3に示したように、レー
ザーパスライン(点線)が生ずる。このレーザーパスラ
インはグラスチューブ22内に分布する微小気泡などに
よる散乱光であって、気泡分布含量及び気泡サイズに応
じて散乱の程度が変わる。散乱光の定量分析はCCD検
出器26による電気的信号分析に応じてなされる。
チューブ22に照射すると、図3に示したように、レー
ザーパスライン(点線)が生ずる。このレーザーパスラ
インはグラスチューブ22内に分布する微小気泡などに
よる散乱光であって、気泡分布含量及び気泡サイズに応
じて散乱の程度が変わる。散乱光の定量分析はCCD検
出器26による電気的信号分析に応じてなされる。
【0024】本発明はCCD検出器の代わりに、PMT
検出器を通じてグラスチューブの表面反射にかかわら
ず、固有の微小気泡による直角散乱光を測定することに
より、微小気泡による微小気泡の分布状態がわかる。す
なわち、参照番号26はCCD検出器又はPMT検出器
となり得る。さらに、グラス画像検出器30は表面反射
光を分析することにより、グラスチューブの表面状態を
分析することができる。
検出器を通じてグラスチューブの表面反射にかかわら
ず、固有の微小気泡による直角散乱光を測定することに
より、微小気泡による微小気泡の分布状態がわかる。す
なわち、参照番号26はCCD検出器又はPMT検出器
となり得る。さらに、グラス画像検出器30は表面反射
光を分析することにより、グラスチューブの表面状態を
分析することができる。
【0025】図4に示したように、本発明の他の実施例
による分析装置にはグラスチューブ32を中心にしてC
CD検出器36又はPMT検出器37がグラスチューブ
32から離隔された対置状態で装着される。この際、グ
ラスチューブ32はモータ(図示せず)により一定の速度
で回転し、レーザー34からのレーザー光34aはグラ
スチューブ32の外周面に一定の角度で照射される。
による分析装置にはグラスチューブ32を中心にしてC
CD検出器36又はPMT検出器37がグラスチューブ
32から離隔された対置状態で装着される。この際、グ
ラスチューブ32はモータ(図示せず)により一定の速度
で回転し、レーザー34からのレーザー光34aはグラ
スチューブ32の外周面に一定の角度で照射される。
【0026】グラスチューブ32を通過した透過光34
b,34cはそれぞれCCD検出器36又はPMT検出
器38によりグラスチューブ32の微小気泡含量状態が
検出される。この際、レーザー34からの出射光の照射
角を調整して使用しようとする検出器を選定した後、微
小分布含量を分析することもできる。さらに、レーザー
がヘリウム−ネオンレーザーから構成される場合、PM
T検出器37の前端にヘリウム−ネオン波長領域の光の
みを通過するレンズ37aをさらに装着してグラスチュ
ーブ内部の微小気泡による散乱光の強度のみを測定する
ことができる。
b,34cはそれぞれCCD検出器36又はPMT検出
器38によりグラスチューブ32の微小気泡含量状態が
検出される。この際、レーザー34からの出射光の照射
角を調整して使用しようとする検出器を選定した後、微
小分布含量を分析することもできる。さらに、レーザー
がヘリウム−ネオンレーザーから構成される場合、PM
T検出器37の前端にヘリウム−ネオン波長領域の光の
みを通過するレンズ37aをさらに装着してグラスチュ
ーブ内部の微小気泡による散乱光の強度のみを測定する
ことができる。
【0027】したがって、本発明の分析装置はCCD検
出器やPMT検出器を用いて電気的信号に応じて回転す
るグラスチューブ22の微小気泡を検出し、各検出器か
らデータ処理システム28へ提供された電気的信号に応
じて微小気泡の分布状態を立体的に把握することができ
る。
出器やPMT検出器を用いて電気的信号に応じて回転す
るグラスチューブ22の微小気泡を検出し、各検出器か
らデータ処理システム28へ提供された電気的信号に応
じて微小気泡の分布状態を立体的に把握することができ
る。
【0028】
【発明の効果】上述したように、本発明によれば、高純
度シリカグラスチューブに残存する微小気泡を体系的、
立体的に分析して高信頼度の光ファイバ母材を製造する
ことができる。
度シリカグラスチューブに残存する微小気泡を体系的、
立体的に分析して高信頼度の光ファイバ母材を製造する
ことができる。
【0029】以上、具体的な実施例を参照して説明した
が、本発明はこれに限られるものではなく、各種の変形
が本発明の特許請求の範囲を逸脱しない限り、該当技術
分野における通常の知識をもつ者により可能なのは明ら
かである。
が、本発明はこれに限られるものではなく、各種の変形
が本発明の特許請求の範囲を逸脱しない限り、該当技術
分野における通常の知識をもつ者により可能なのは明ら
かである。
【図1】 従来の一実施例による気泡分析装置を概略
的に示した構成図。
的に示した構成図。
【図2】 本発明の望ましい一実施例による微小気泡分
析装置を概略的に示した構成図。
析装置を概略的に示した構成図。
【図3】 図2に示した分析装置の配置状態を示した
図。
図。
【図4】 本発明の望ましい他の実施例による気泡分析
装置の配置状態を示した図。
装置の配置状態を示した図。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 李 衡敏
大韓民国慶尚北道龜尾市松亭洞37番地
Fターム(参考) 2G051 AA44 AB06 BA10 CA02 CA04
CB01 CB05 DA08 EA12
2G059 AA05 BB08 DD13 EE02 GG01
HH02 JJ17 KK02 KK03 KK04
MM09
2G086 CC05
Claims (8)
- 【請求項1】 光ファイバ母材用のグラスチューブの微
小気泡分析装置において、 サンプルステージを含む光テーブルと、 前記光テーブルに垂直方向に直立装着されて前記サンプ
ルステージにより一定の速度で回転及び上下運動するグ
ラスチューブと、 前記グラスチューブの一側に離隔配置されてその外周面
に所定の角度でレーザー光を照射するレーザーと、 前記グラスチューブの他側に配置されて前記グラスチュ
ーブに照射されたレーザー光により発生するグラスチュ
ーブのレーザーパスラインの散乱光を用いて前記グラス
チューブの微小気泡や微小気泡の分布含量を立体的に検
出する検出器と、から構成されることを特徴とする装
置。 - 【請求項2】 前記レーザーはヘリウム−ネオンレーザ
ーである請求項1記載の装置。 - 【請求項3】 前記検出器はPMT検出器である請求項
1記載の装置。 - 【請求項4】 前記検出器はCCD検出器である請求項
1記載の装置。 - 【請求項5】 前記PMT検出器は前記グラスチューブ
の微小気泡による直角散乱光を検出し、特定の波長領域
の光のみを通過させるレンズを前端にさらに備える請求
項3記載の装置。 - 【請求項6】 前記グラス表面の表面状態を分析する画
像検出器は前記グラスチューブに隣接するように配置さ
れてグラスチューブの表面反射光を分析する請求項1記
載の装置。 - 【請求項7】 光ファイバ母材用のグラスチューブの微
小気泡分析装置において、 サンプルステージを含む光テーブルと、 前記光テーブルに垂直方向に直立装着されて前記サンプ
ルステージにより一定の速度で回転及び上下運動するグ
ラスチューブと、 前記グラスチューブの一側に離隔配置されて所定の角度
でレーザー光を照射するレーザーと、 前記グラスチューブの他側に配置されて前記グラスチュ
ーブに照射されたレーザー光により発生するレーザーパ
スラインの散乱光を用いて前記グラスチューブの微小気
泡を検出するCCD検出器と、 前記レーザーとCCD検出器との間に配置されて前記グ
ラスチューブに照射されたレーザー光により発生するレ
ーザーパスラインの散乱光強度を検出するPMT検出器
と、から構成されることを特徴とする装置。 - 【請求項8】 前記グラス表面の表面状態を分析する画
像検出器は前記グラスチューブに隣接するように配置さ
れてグラスチューブの表面反射光を分析する請求項7記
載の装置。
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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-
2002
- 2002-11-18 US US10/298,982 patent/US6822735B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-12-03 JP JP2002350785A patent/JP2003194727A/ja active Pending
- 2002-12-06 EP EP02027306A patent/EP1318391A1/en not_active Withdrawn
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