JP2003192895A - 疎水性珪酸を有するシリコーンゴム配合物 - Google Patents

疎水性珪酸を有するシリコーンゴム配合物

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JP2003192895A
JP2003192895A JP2002271382A JP2002271382A JP2003192895A JP 2003192895 A JP2003192895 A JP 2003192895A JP 2002271382 A JP2002271382 A JP 2002271382A JP 2002271382 A JP2002271382 A JP 2002271382A JP 2003192895 A JP2003192895 A JP 2003192895A
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ショルツ マリオ
Michael Kempf
ケンプフ ミヒャエル
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シャッハテリー ウーヴェ
Christian Panz
パンツ クリスティアン
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シュモル ラルフ
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34Silicon-containing compounds
    • C08K3/36Silica

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い規約反射率を有する、疎水性珪酸を含有
するシリコーンゴム配合物。 【解決手段】 次の性質:炭素含量3.1%を上廻り、
メタノール湿潤性60%を上廻り、規約反射率94%を
上廻り、BET/CTAB比1を上廻り、および3未
満、DBP吸収値230g未満/100g、BET表面
積50〜110m/g、CTAB表面積30m/g
を上廻り、30℃および30RFでの水蒸気吸収値1.
3未満、30℃および70RFでの水蒸気吸収値1.7
未満を有する疎水性珪酸0.5〜60質量%および式:
ZnSiR3−n−O−[SiRO] −SiR3−n
−Zで示されるオルガノポリシロキサン30〜99.
5質量%を含有するシリコーンゴム配合物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、著しく低い水吸収
量、高い白色度およびシリコーン加硫物中での高い強化
効果の際の低い濃縮性の性質を有する、疎水性珪酸を有
するシリコーンゴム配合物に関する。
【0002】
【従来の技術】シリコーンゴム配合物への珪酸、殊に疎
水化された沈降珪酸の使用は、公知であり、例えばドイ
ツ連邦共和国特許第2729244号明細書およびドイ
ツ連邦共和国特許第2628975号明細書に記載され
ている。
【0003】ドイツ連邦共和国特許第2628975号
明細書およびドイツ連邦共和国特許第2729244号
明細書には、疎水性珪酸の製造が記載されており、この
場合には、僅かな水吸収能を有する疎水性珪酸がシリコ
ーン油またはジメチルジクロロシランと反応される。ド
イツ連邦共和国特許第2628975号明細書に記載の
方法においては、反応は、疎水化剤(シリコーン油)を
無水沈降珪酸に添加することにより、行なわれ、ドイツ
連邦共和国特許第2729244号明細書に記載の方法
においては、疎水化剤(ジメチルジクロロシラン)は、
直接に沈降珪酸懸濁液中に添加される。双方の場合、疎
水化工程の後に高められた温度、即ち200〜400℃
での温度処理が続く。
【0004】この方法の欠点は、こうして疎水化された
沈降珪酸が必要とされる処理温度の際に着色されること
である。珪酸の着色は、シリコーン配合物への添加の
際、即ちシリコーンゴム配合物への前記疎水性沈降珪酸
の添加の際またはシリコーン油を基礎とする消泡剤混合
物中への前記疎水性沈降珪酸の添加の際に特に著しく支
障を生じる。
【0005】着色のための基準としては、所謂規約反射
率が使用されうる。規約反射率を測定する場合、試料の
拡散反射能が試験される。試料の拡散反射能が高くなれ
ばなるほど、試料の規約反射率、ひいては試料の白色度
はますます高くなる。
【0006】沈降珪酸は、一般に最大で97%の規約反
射率を有する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、高い規約反射率を有する、疎水性珪酸を含有するシ
リコーンゴム配合物を製造することである。
【0008】着色は、珪酸の疎水化の際、殊に、珪酸が
著しく疎水化される、即ち高いメタノール湿潤性および
高い炭素負荷量を有する場合に発生する。しかし、この
性質は、まさにしばしば(例えば、シリコーンゴム配合
物において)望ましいことである。
【0009】シリコーンゴム配合物は、その機械的性質
の完全な形成のために活性の強化充填剤を必要とする。
この場合には、通常、高分散性珪酸が使用される。特に
射出成形法におけるLSRシリコーンゴム配合物(液状
シリコーンゴム)の簡単な機械的加工性のために、HT
Vシリコーンゴム配合物(熱加硫性ゴム)は、ますます
LSRシリコーンゴム混合物によって代替されている。
【0010】この場合、強化充填剤は、加硫物中で良好
な機械的性質を生じさせなければならず、その際には、
シリコーンゴム配合物のレオロジー特性は、損なわれる
ことがない。シリコーンゴム配合物は、配合の後に流動
性でなければならず、長い貯蔵時間の後でも不変のまま
であるべきである。
【0011】HTVシリコーンゴム配合物およびLSR
シリコーンゴム配合物は、100℃を遙かに上廻る温度
で加工される。この場合、含水充填剤は、シリコーン配
合物中で支障のある蒸気気泡形成を生じる。空気硬化シ
リコーンゴム配合物の場合、充填剤の高い含水量は、貯
蔵の間に望ましくない硬化をまねく。従って、水吸収特
性、即ち異なる相対空気質の際に吸収された水量は、充
填剤の処理能のための1つの基準である。
【0012】この場合、珪酸の公知の疎水化法の1つの
欠点は、疎水化剤の制限された量だけが珪酸上で共有結
合されうることである。しかし、シリコーンゴム配合物
中ではまさに高い炭素負荷量が望ましい。それというの
も、それによってこの配合物の加工可能性およびレオロ
ジー特性、例えば濃縮、即ち低い降伏点および低い粘度
が決定的に改善されうるからである。
【0013】濃縮の基準として、所謂DBP値を使用す
ることができる。DBP値は、珪酸の吸収能をDBPで
記載する。測定法は、試料100gに対してジブチルフ
タレート何gで混練機中での突然の力の上昇を観察する
ことができるのかを示す。
【0014】公知の疎水性沈降珪酸の濃縮作用は、恐ら
く、3.1%未満の低い炭素含量および/または不均一
な疎水化に帰因するものと思われる。これは、シリコー
ンゴム配合物中の充填剤の可能な含量を減少させる。ド
イツ連邦共和国特許第2628975号明細書には、シ
リコーンゴム配合物中の疎水性沈降珪酸を試験するため
のデータが記載されており、この場合疎水性沈降珪酸
は、質量の割合が上昇する場合にシリコーンゴム配合物
中に使用されている。この場合には、既にゴム中の疎水
性珪酸の15%の含量で珪酸の自己流展特性が失われ、
20%の場合には、流動性化合物はもはや維持されてい
ないことが明らかになる。全ての表において、全ての機
械的性質は、充填剤含量が増加するにつれて改善される
ことを明らかに認めることができる。従って、機械的性
質を改善するために、疎水性珪酸の高い割合を有する
が、しかし、同時になお流動性であるシリコーンゴム配
合物を製造することは、望ましいことであろう。従っ
て、本発明の課題は、充填剤、例えば疎水性珪酸の高い
割合および高い白色度を有するシリコーンゴム配合物を
提供することであった。
【0015】
【課題を解決するための手段】これは、ポリシロキサン
を親水性珪酸上に塗布し、引続き状態調節し、酸化的に
温度調節することによって得られた疎水性珪酸を使用す
ることにより達成させることができることが見い出され
た。
【0016】従って、本発明の対象は、次の性質: −炭素含量 3.1%を上廻り、 −メタノール湿潤性 60%を上廻り、 −規約反射率 94%を上廻り、 −BET/CTAB比 1を上廻り、および3未満、 −DBP吸収値 230g/100g未満、 −BET表面積 50〜110m/g −CTAB表面積 30m/gを上廻り、 −30℃および30RF での水蒸気吸収値 1.3未満、 −30℃および70RF での水蒸気吸収値 1.7未満 (RF=空間湿分) を有する疎水性珪酸0.5〜60質量%および式 ZnSiR3−n−O−[SiRO]−SiR3−n
−Z 〔式中、Rは、1〜50個の炭素原子を有し、置換され
ていないかまたはO、S、F、Cl、Br、Iで置換さ
れた、それぞれ同一かまたは異なるアルキル基、アルコ
キシ基、アリール基、ヒドロキシ基、水素化物基、アル
ケニル基および/または50〜10000個の繰返し単
位を有するポリスチレン基、ポリビニルアセテート基、
ポリアクリレート基、ポリメタクリレート基およびポリ
アクリルニトリル基であり、Zは、それぞれ同一かまた
は異なり、H、OH、Cl、Br、アミノ基、アミノオ
キシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基または
ホスフェート基であり、この場合有機基は、20個まで
の炭素原子を有することができ、nは、1〜3であり、
Xは、100〜15000、有利に100〜1100
0、特に有利に100〜8000である〕で示されるオ
ルガノポリシロキサン30〜99.5質量%を含有する
シリコーンゴム配合物である。
【0017】使用される珪酸は、熱分解法珪酸であって
もよいし、沈降珪酸であってもよい。
【0018】使用される珪酸が次の物理的化学的デー
タ: −炭素含量 3.1%以上、有利に5.0%以上、特に有利に3 .1〜10%または4〜7%、 −メタノール湿潤性 60%以上、有利に65%を上廻り、特に有利に70% または75%を上廻り、 −規約反射率 94%以上、有利に95%を上廻り、特に有利 に96%を上廻り、 −BET/CTAB比 1を上廻り、および3未満、 −DBP吸収値 50〜230g/100g、 −BET表面積 50〜110m/g、 −CTAB表面積 30〜110m/g を有することは、重要である。
【0019】記載された好ましい範囲は、互いに依存せ
ずに調節されることができる。
【0020】更に、使用される疎水性珪酸は、互いに依
存せずに次の性質: −変化されたシアーズ数 1.6未満、 −pH値 5.0〜9.0、有利に7.0〜8.5、 −含水量 2%未満、有利に1.5%未満、 −導電率 500μS未満、有利に150μS未満、 −灼熱減量 3%未満 によって特徴付けられてもよい。
【0021】導電率は、100μS未満、60μS未
満、30μS未満であってもよいし、むしろ20μS未
満であってもよい。
【0022】好ましくは、珪酸として沈降珪酸が使用さ
れる。疎水化は、次の工程: a)オルガノポリシロキサン誘導体および沈降珪酸から
の混合物の製造、 b)10〜150℃で0.5〜72時間の状態調節、 c)酸化ガスを用いての300℃を上廻る温度での酸化
温度処理 によって行なうことができる。
【0023】疎水化剤の良好な分布およびこうして得ら
れた疎水性沈降珪酸の疎水化の高い程度は、シリコーン
ゴム配合物において長い貯蔵によっても劣化されない極
めて低い濃縮度を加硫物の同時の良好な機械的性質およ
び光学的性質の際に生じる。
【0024】疎水性珪酸は、有利にオルガノポリシロキ
サン誘導体と一緒に製造され、したがってこの疎水性珪
酸は、温度処理後に有機基として専らメチル基を含有
し、このことは、極めて高い負荷可能性(空気の侵入下
に300℃を上廻る温度は、編織を生じない)を伴なっ
ている。
【0025】この疎水性珪酸の製造のために、好ましく
は低いシラノール基密度を有する珪酸が使用される。シ
ラノール基量の基準として、変化されたシアーズ数、即
ち酸塩基滴定のアルカリ金属消費量が使用される。シラ
ノール基密度の基準は、BET表面積を有する化合物に
おいて以下になお定義され変化されたシアーズ数が使用
される。
【0026】使用された珪酸の製造に使用される反応条
件は、炭化をまねくことはなく、ひいては殆んど変色を
まねくことがない。従って、親水性基礎珪酸は、有機不
純物を有しないことが重要である。さもないと、変色が
増大するからである。また、温度処理によって生成され
る、処理条件下でガス状の分解生成物は、酸性雰囲気中
で或る程度の変色を生じうるので、この分解生成物は、
十分なガス通過量によって生成物から除去されることが
重要である。
【0027】液状のポリシロキサン、有利に特に30〜
100mPasのポリジメチルシロキサンの使用は、基
礎珪酸上での最適な分布を可能にする。使用されたポリ
ジメチルシロキサンは、酸化反応条件下で樹脂化されう
る。これは、疎水化剤が液状の形で珪酸上に分布し、次
に固定されるという著しい利点を有している。結合され
た炭素の量は、酸化温度処理によって著しく上昇するこ
とができる。
【0028】有利に使用される珪酸は、急勾配のメタノ
ール湿潤性曲線を示し、即ちこの珪酸は、均質な疎水化
を生じた(図1)。図2は、通常の疎水性珪酸のメタノ
ール湿潤性を示す。
【0029】高い炭素負荷量および高いメタノール湿潤
性は、本発明によるシリコーンゴム配合物中で珪酸の性
質を決定的に改善する。更に、湿分吸収能の減少は、シ
リコーンゴム配合物中で100℃を上廻る温度で無圧の
加硫を可能にする。それというのも、加硫物中で支障の
ある蒸気の噴出は起こらないからである。炭素含有の著
しく疎水性の珪酸は、本発明によるシリコーンゴム配合
物中で本質的に改善されたレオロジー特性を示し、即ち
この珪酸は、僅かにのみ濃縮作用を有する。この僅かな
濃縮作用は、20%を遙かに上廻る疎水性沈降珪酸で充
填されているが、それにも拘わらず射出成形法で加工す
ることができる流動性シリコーンゴム配合物を製造する
ことを可能にする。付加的に、よりいっそう高い充填度
は、加硫物の明らかに改善された機械的性質を生じる。
【0030】疎水性沈降珪酸の製造は、次の3工程で行
なうことができる: −最初に、液状ポリシロキサン誘導体の物理的前分布
は、珪酸表面上で行なわれる。前分布を水性媒体中、即
ち70%を上廻る含水量を有する懸濁液または珪酸中で
実施する場合には、この前分布は、典型的には安定性で
はない。従って、前分布後に迅速に濾別されなければな
らないしおよび/または短時間の乾燥(例えば、スピン
フラッシ(Spin-Flash)、噴射塔−乾燥機(Duesenturm
-Trockner))を実施しなければならない。これは、珪
酸上でのオルガノポリシロキサン小液滴の分布の保存を
生じ、水中、シリコーン油中および珪酸中での分離を阻
止する。
【0031】−引続き、意図された状態調節工程によっ
て処理工程b)は、疎水化剤の分布をさらに改善し、珪
酸表面上でのポリシロキサン誘導体の塗布を達成する。
また、分布は、水性媒体中で安定である。ポリシロキサ
ン誘導体は、処理工程b)後にはもはや珪酸と分離しな
い。こうして状態調節された珪酸は、3.1を上廻る炭
素含量の際に段階なしに55%までのメタノール湿潤性
に調節することができる。BET/CTAB比は、この
処理工程後に1未満である。珪酸へのポリシロキサンの
結合は、恐らくポリシロキサン分子のシロキサン橋と珪
酸表面のシラノール基との間の多重性水素架橋結合の形
成によって行なわれる。
【0032】−引続き、温度処理は、変色の徴候を抑制
し、疎水化剤の共有結合に役立つ酸化雰囲気中で行なわ
れ、恐らくガス状分解生成物の生成によって疎水化剤の
分布はなおさらに上昇するものと思われる。温度処理さ
れた珪酸は、生成される状態調節された珪酸よりも低い
炭素含量でより高いメタノール湿潤性を有している。酸
化雰囲気中での温度処理は、ポリシロキサンの樹脂化を
抑制し、したがって明らかに大量の疎水化剤が珪酸上で
共有結合により固定されうる。BET/CTAB比は、
反比例しており、今や1を上廻っている。
【0033】オルガノポリシロキサン誘導体としては、
全てのオルガノシランまたはオルガノハロゲンシランが
使用されることができ、これは、通常、沈降珪酸の疎水
化のために使用される。
【0034】本発明による方法の処理工程a)は、次の
変法で実施されることができる: −オルガノポリシロキサン誘導体を1〜80質量%、有
利に20〜60質量%の含水量を有する沈降珪酸上に添
加する。
【0035】−オルガノポリシロキサン誘導体を沈降珪
酸の分散液中に、即ち酸を用いての珪酸塩の沈降後に、
例えばライン−ヒュッテミキサー(Rhein-Huette-Misch
er)またはコートホーフ−混合サイレン(Kothof-Misch
sirene)またはウルトラ−ターラックス(Ultra-Turra
x)を用いて添加する。これは、急速な濾過または反応
後の短時間の乾燥を必要とする。
【0036】−オルガノポリシロキサン誘導体を70〜
99質量%の含水量を有する沈降珪酸上に添加し、引続
き固体を水と分離する。分離は、濾過、噴射塔による乾
燥、スピンフラッシュによる乾燥またはその他の短時間
の乾燥によって行なうことができる。含水量は、高くな
ればなるほど、分離は、ますます急速に実施されるべき
である。分離は、回避されることができる。
【0037】−沈降珪酸または含水珪酸(例えば、フィ
ルターケーキ、分散液または懸濁液の形で)およびオル
ガノポリシロキサン誘導体をスピンフラッシュ乾燥機中
に同時に供給する。
【0038】−無水沈降珪酸をポリシロキサンと、例え
ばゲリケミキサー(Gericke-Mischer)中で混合する。
【0039】選択的に、最初にマスターバッチ、即ち処
理工程a)およびb)により得られた状態調節された沈
降珪酸が製造され、(親水性)または含水沈降珪酸(例
えば、フィルターケーキ、珪酸懸濁液または分散液)と
混合される。
【0040】親水性沈降珪酸の含水量は、既に記載され
た範囲内で変動しうる。
【0041】基礎珪酸は、例えばシリコーン油、例えば
DOW CORNING(R)200 FLUID 50 CS (ジメチルポリシロキ
サン50mPas、トリメチルシリル基で末端封鎖され
た、炭素含量約33%)との質量比1:1〜1:3で被
覆されることができる(工程a))。こうして生成され
た粉末は、例えば30分間に亘って100℃を上廻る温
度で状態調節される。この場合、状態調節(工程b))
は、実際に水湿潤可能である物質が生成されるまで実施
される(メタノール湿潤性20未満、メタノール湿潤性
の定義については、測定法を参照)が、しかし、この場
合珪酸とシリコーン油とは、水中への搬入の際にもはや
互いに分離しない(工程b)の後に直接に工程c)が続
く場合には、メタノール湿潤性は、有利に20を上廻
る)。このマスターバッチ(例えば、珪酸50質量%お
よびシリコーン油50質量%)を珪酸分散液または珪酸
懸濁液と混合することによって、安定な混合物が生成さ
れ、この場合には、シリコーン油は、もはや珪酸と分離
しない。全混合物は、典型的にはシリコーン油1質量
部、珪酸約4〜8質量部および水20〜60質量部を含
有する。このような懸濁液の製造のために、例えばマス
ターバッチ(例えば、珪酸50%およびシリコーン油5
0%)は、約10〜16倍量のフィルターケーキ(固体
含量約20%)および約10〜20倍量の付加的な水と
強力に混合されることができる。この方法の利点は、水
湿潤性マスターバッチ(これは、75%までの疎水性オ
ルガノポリシロキサンを含有する)が直接に珪酸沈降懸
濁液または珪酸供給物質中で極めて微細で安定性で分布
することができ、その際には、乳化剤または界面活性剤
の使用は、不必要であることにある。このような混合物
の乾燥または濾過および引続く乾燥の後、こうして得ら
れたオルガノポリシロキサン含有珪酸は、再び状態調節
されることができる(工程b))。
【0042】この工程は、個別的に、場合によっては先
行する粉砕と一緒に実施されることができる。しかし、
この粉砕は、被覆a)前に実施されるべきではない。ま
た、多数の、即ち同一かまたは異なる前記変法を順次に
実施することも可能である。本発明による次の実施態様
を考えることができる: −処理工程a)、b)およびc)の中の1つは、数回
(2〜5回)順次に実施される。
【0043】−処理工程a)およびb)は、数回(2〜
5回)順次に実施される。
【0044】−全ての処理工程a)、b)およびc)
は、数回(2〜5回)順次に実施され、即ち処理は、数
回連続される。
【0045】処理工程b)は、好ましくは100〜15
0℃の熱処理によって0.5〜2時間で実施される。状
態調節後、20%およびそれ以上のメタノール湿潤性を
有する部分疎水化された珪酸が存在しうる。原則的に、
湿潤疎水化と乾燥疎水化とは、区別されうる。
【0046】湿潤疎水化は、珪酸塩エダクトが相応する
疎水化剤で被覆されている、水性珪酸懸濁液、珪酸供給
物質または強い含水の珪酸フィルターケーキであること
を意味し、例えばドイツ連邦共和国特許第272924
4号明細書には、オルガノハロゲンシランを有する沈降
懸濁液について記載されている。
【0047】乾燥疎水化は、珪酸塩エダクトが相応する
疎水化剤で被覆されている、1〜75%の異なる湿分含
量を有する珪酸粉末であることを意味する。この方法
は、例えばドイツ連邦共和国特許第2628975号明
細書に記載されている。
【0048】本発明による珪酸を製造するためには、オ
ルガノポリシロキサン誘導体が使用されるが;しかし、
選択された反応条件下でオルガノポリシロキサンに反応
する(例えば、水性環境中でのジクロロジメチルシラ
ン)、別の珪素化合物が使用されてもよい。
【0049】疎水化試薬としては、組成R4−nSiX
(但し、n=1、2、3)、[SiRO]
(但し、0≦x≦2、0≦y≦2、3≦z≦10、こ
の場合x+y=2)、[SiRN](但し、0
≦x≦2、0≦y≦2、3≦z≦10、この場合x+y
=2)、SiROSiR(但し、0≦n≦
3、0≦m≦3、0≦o≦3、0≦p≦3、この場合n
+m=3、o+p=3)、SiRNSiR
(但し、0≦n≦3、0≦m≦3、0≦o≦3、0≦p
≦3、この場合n+m=3、o+p=3)、SiR
[SiRO]SiR(但し、0≦n≦
3、0≦m≦3、0≦x≦2、0≦y≦2、0≦o≦
3、0≦p≦3、1≦z≦10000、この場合n+m
=3、x+y=2、o+p=3)のオルガノポリシロキ
サン誘導体またはその前駆体が使用される。前記化合物
は、直鎖状シラン、直鎖状シラザンおよび直鎖状シロキ
サン化合物、環状シラン、環状シラザンおよび環状シロ
キサン化合物、ならびに分枝鎖状シラン、分枝鎖状シラ
ザンおよび分枝鎖状シロキサン化合物である。Rは、官
能基、例えばヒドロキシ基、アミノ基、ポリエーテル、
例えば酸化エチレンおよび/または酸化プロピレンおよ
びハロゲン化物基、例えばフルオリド、クロリド、ブロ
ミドまたはヨージドで置換されていてもよいアルキル基
および/またはアリール基であることができる。また、
Rは、基、例えばヒドロキシ基、アミノ基、ハロゲン化
物基、アルコキシ基、アルケニル基、アルキニル基およ
びアリール基ならびに硫黄含有基を含むこともできる。
Xは、反応性基、例えばシラノール基、アミノ基、メル
カプト基、ハロゲン化物基、アルコキシ基、アルケニル
基および水素化物基であることができる。
【0050】好ましくは、組成SiR[SiR
O]SiR(但し、0≦n≦3、0≦m≦
3、0≦x≦2、0≦y≦2、0≦o≦3、0≦p≦
3、1≦z≦10000、この場合n+m=3、x+y
=2、o+p=3)の直鎖状オルガノポリシロキサンが
使用され、この場合Rは、好ましくはメチルによって表
わされる。
【0051】特に好ましくは、組成SiR[Si
O]SiR(但し、0≦n≦3、0≦
m≦1、0≦x≦2、0≦y≦0.2、0≦o≦3、0
≦p≦1、1≦z≦1000、この場合n+m=3、x
+y=2、o+p=3)のポリシロキサンが使用され、
この場合Rは、好ましくはメチルによって表わされる。
しかし、選択された本発明による方法に基づいて、特に
官能基を有しない難揮発性のポリシロキサンを使用する
こともできる。
【0052】ポリシロキサン中での一定の官能基の存在
によって、支障のある不純物をまねきうる塩または低分
子量物質、例えばNH、アミン、アルコール等を生成
しうる。この場合、1つの重要な例外は、シラノール官
能化されたポリシロキサンである。それというのも、こ
の場合には、不純物として単に水が生成され、この水
は、選択された処理条件下で簡単に除去可能であるから
である。
【0053】好ましくは、疎水化剤は、メチル基により
末端封鎖されたポリジメチルシロキサン、殊に30〜1
00mPas、有利に40〜60mPasの粘度を有す
る、メチル基により末端封鎖されたポリジメチルシロキ
サンであることができる。適当なポリシロキサン油は、
例えばDOW CORNING(R) 200 FLUID 50 CSである。
【0054】記載された疎水化剤は、難揮発性の化合物
であるので、珪酸表面上での疎水化剤の前分布にとっ
て、液体/固体相境界での毛管力および拡散工程は、1
つの重要な役を演じる。
【0055】有利に使用される疎水化剤が熱処理の経過
中に或る程度の揮発性を有する場合でもあっても、液体
/固体分布は重要である。この場合には、この理由か
ら、物理的前分布と状態調節と温度処理とは区別され
る。
【0056】温度処理、即ち処理工程c)は、少なくと
も300℃、有利に350℃を上廻り、特に有利に36
0〜370℃を上廻って酸化ガスを用いて実施される。
これは、それぞれ有利に1体積%以上である空気、Cl
、NO(NO、N 、NO、NO)、
、O、Br、Fまたはこれらのガスと他の不
活性ガス、例えばCO、Nもしくはバーナー排ガス
との混合物であることができる。
【0057】更に、酸化ガスは、場合によっては80体
積%まで、有利に50体積%まで、特に有利に20〜4
0体積%の水を含有することができる。
【0058】全ての場合に、ガスの良好な通過量の達成
に努力することができ;ガスは、全ての珪酸粒子の可能
性により達成されなければならない。このために適して
いるのは、例えば金属格子炉、渦動室またはベルト型反
応器である。処理工程c)中での酸化温度処理は、流動
条件下でも実施されることができる。条件は、浮遊床、
流動床、渦動床、流動物床および/または泡立ち床中で
調節されることができる。
【0059】場合によっては疎水化された珪酸は、状態
調節工程または温度調節の後に粉砕される。しかし、被
覆工程a)前の粉砕は、提示されておらず、不均一な疎
水化を有する粗悪な生成物を生じる。
【0060】場合による粉砕後に、8〜25μm、有利
に8〜15μmのd4.3を有する珪酸を得ることがで
きる。
【0061】約200℃の温度で空気侵入下に加工され
るシリコーンゴム混合物にとって、この温度で酸素の影
響下に変色しうる有機成分が珪酸上に存在しないこと
は、重要なことである。ところで、専らメチル基、フェ
ニル基、フルオロ炭素またはフルオロ炭化水素を有機基
として含有する珪素含有化合物は、大気酸素の存在下で
も明らかに温度安定性である。しかし、シロキサン化合
物の安定なシロキサン橋を有効に分解し、珪酸と共有結
合させるために、300℃を上廻る温度が必要とされ
る。この高い温度の場合、シロキサン化合物、特に低い
シラノール基密度を有する沈降珪酸は、通常、珪酸上で
の変色徴候を生じる。本発明によるシリコーンゴム配合
物中で必要とされる疎水性珪酸を製造するための記載さ
れた方法は、前記変色を抑制することを可能にする。こ
の変色徴候は、拡散反射に基づく光学的測定方法を用い
ての規約反射率の測定によって測定される。珪酸の規約
反射率の値が94%を上廻る場合には、珪酸で充填され
たシリコーンゴム配合物は、純粋な白色のように見え
る。珪酸の屈折率とシリコーンゴムの屈折率はほぼ同じ
であるので、シリコーンゴム中での充填剤珪酸の不純物
および変色が最少であっても明らかに目視可能である。
93%の規約反射率は、既に加工されていない珪酸粉末
が観察者に純粋な白色に見えるとしてもシリコーンゴム
において肉眼で目視可能な明らかな変色を生じる。
【0062】本発明の他の対象は、本発明によるシリコ
ーンゴム配合物の使用である。
【0063】これは、高温架橋性シリコーンゴム(HT
V)、液状シリコーンゴム(LSR/LIM)ならびに
室温架橋性2成分系シリコーンゴム(2K−RTV)の
群のシリコーンゴム系中への使用に関する。
【0064】更に、本発明によるシリコーンゴム配合物
は、点火プラグ、自動車への適用、パッキングリング、
スポーツ製品、成形材料、歯科組成物、シリコーンゴム
被覆または塗料系に使用されることができる。
【0065】オルガノポリシロキサンとしては、これま
でオルガノポリシロキサンエラストマーのための基礎と
して室温(RTV)、若干高い温度(LTV)または高
い温度(HTV)で硬化可能な物質または硬化性物質を
使用したかまたは使用することができた全てのポリシロ
キサンを使用することができる。このポリシロキサン
は、例えば一般式 ZSiR3−n−O−[SiRO]−SiR
3−n−Z によって記載されることができ、この場合上記式中、Z
およびRは、既に記載された意味を有する。
【0066】また、上記式中のシロキサン鎖中またはシ
ロキサン鎖に沿って、多くの場合に不純物としてのみ存
在する別のシロキサン単位は、ジオルガノシロキサン単
位、例えば式RSiO3/2R3O1/2およびSiO
4/2〔式中、Rはそれぞれ上記の意味を有する〕で示
されるシロキサン単位として存在していてもよい。この
別のシロキサン単位の量は、10モル%を上廻らない。
【0067】アルキル基の意味を有するRの例は、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基およびオクチル基であり;アルケニル基としては、
ビニル基、アリル基、エチルアリル基およびブタジエニ
ル基を使用することができ;かつアリール基としては、
フェニル基およびトリル基を使用することができる。
【0068】置換された炭化水素基Rの例は、殊にハロ
ゲン化された炭化水素基、例えば3,3,3−トリフル
オロプロピル基、クロロフェニル基およびブロモトリル
基;ならびにシアンアルキル基、例えばβ−シアンエチ
ル基である。
【0069】基Rとしてのポリマーの例は、炭素原子を
介して珪素に結合したポリスチレン基、ポリビニルアセ
テート基、ポリアクリレート基、ポリメタクリレート基
およびポリアクリルニトリル基である。
【0070】特に、基Rの主要部分は、簡単な入手可能
性のためにメチル基からなる。残りの基Rは、殊にビニ
ル基および/またはフェニル基である。
【0071】殊に、水の遮断下に貯蔵可能で、水の侵入
時に室温でエラストマーに硬化する配合物が存在する場
合には、Zは、加水分解可能な基である。このような基
の例は、アミノ基、アミノオキシ基、アルケニルオキシ
基(例えば、HC=CHCO−)、アシルオキシ基
およびホスフェート基である。なかんずく、簡単な入手
可能性のために、Zとしては、アシルオキシ基、殊にア
セトキシ基が有利である。加水分解可能な原子Zの例
は、ハロゲン原子および水素原子である。アルケニル基
Zの例は、殊にビニル基である。
【0072】本発明の範囲内で使用されるオルガノポリ
シロキサンの粘度は、25℃で500000cP、有利
に25℃で150000cPを上廻らない。それに応じ
て、値xは、有利に40000を上廻らない。また、種
々のオルガノポリシロキサンからの混合物を使用するこ
ともできる。
【0073】このオルガノポリシロキサンと疎水性珪酸
および場合によっては本発明による配合物の他の成分と
混合は、任意の公知方法で、例えば機械的混合装置中で
行なうことができる。単に如何なる順序で混合成分の添
加が実施されるのかは、極めて迅速で簡単に遂行され
る。
【0074】特に、本発明により使用される珪酸は、エ
ラストマーに対して硬化可能な物質の全質量に対して
0.5〜60質量%、有利に10〜40質量%または4
0〜60質量%の量で使用される。同様に、HTV−オ
ルガノポリシロキサンエラストマーの場合には、60質
量%まで使用されることができる。
【0075】反応性末端単位を含有するジオルガノポリ
シロキサン中に唯一の反応性末端単位としてSi結合ヒ
ドロキシル基を有する反応性末端単位が存在する場合に
は、このジオルガノポリシロキサンは、自体公知の方法
で硬化させるためかまたは空気中に含有される水によっ
て、場合により他の水の添加下にエラストマーに硬化す
る化合物に変換するために、架橋剤と、場合によっては
縮合触媒の存在で公知方法で反応されなければならな
い。HTV−ジオルガノポリシロキサンエラストマーの
場合には、相応する好ましい温度で有機過酸化物、例え
ばビス−2,4−ジクロロベンゾイルペルオキシド、過
酸化ベンゾイル、過安息香酸第三ブチルまたは過酢酸第
三ブチルは、0.5〜5.0質量%で使用されることが
できる。
【0076】熱加硫オルガノシロキサンとしては、有機
置換基がメチル基、エチル基、フェニル基、トリフルオ
ロメチルフェニル基[FCC]またはトリメチ
ルシルメチレン基[(CHSiCH−]からな
るもの、例えばジメチルシロキサン、ジエチルシロキサ
ン、フェニルメチルシロキサン、フェニルエチルシロキ
サン、エチルメチルシロキサン、トリメチルシルメチレ
ンメチルシロキサン、トリメチルシルメチレンエチルシ
ロキサン、トロフルオロメチルフェニルメチルシロキサ
ンもしくはトリフルオロメチルフェニルエチルシロキサ
ンまたはこのような化合物のコポリマーを使用すること
ができる。更に、ポリマーは、制限された量のジフェニ
ルシロキサン単位、ビス−トリメチルシルメチレンシロ
キサン単位、ビス−トルフルオロメチルフェニルシロキ
サン単位ならびに式RSiO1. およびRSiO
0.5の単位を有するシロキサンを含有することがで
き、この場合Rは、上記の基の中の1つを表わす。
【0077】本発明による配合物は、シランの添加によ
って架橋されることができる。従って、シリコーンゴム
配合物は、付加的に一般式 R′4−tSiZ′ 〔式中、R′は、1〜50個の炭素原子を有し、置換さ
れていないかまたはO、S、F、Cl、Br、Iで置換
された、それぞれ同一かまたは異なるアルキル基、アル
コキシ基、アリール基、アルケニル基および/または5
〜5000個の繰返し単位を有するポリスチレン基、ポ
リビニルアセテート基、ポリアクリレート基、ポリメタ
クリレート基およびポリアクリルニトリル基であり、
Z′は、それぞれ同一かまたは異なり、H、OH、C
l、Br、アミノ基、アミノオキシ基、アルケニルオキ
シ基、アリールオキシ基またはホスフェート基であり、
この場合有機基は、20個までの炭素原子を有すること
ができ、tは、3または4である〕で示される架橋剤を
0.01〜20質量%、有利に0.5〜5質量%含有す
ることができる。
【0078】上記式のシランの例は、メチルトリアセト
キシシラン、エチルトリアセトキシシラン、イソプロピ
ルトリアセトキシシラン、イソプロポキシトリアセトキ
シシラン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリス
ジエチルアミノオキシシラン、メチルトリス(−シクロ
ヘキシルアミノ)−シラン、メチルトリス(−ジエチル
ホスフェート)−シランおよびメチルトリス(−メチル
エチルケトオキシム)−シランである。
【0079】更に、本発明によるシリコーンゴム配合物
は、オルガノポリシロキサンおよび架橋剤と共に付加的
に官能化されていないポリシロキサンを0.5〜99.
5質量%、有利に2.0〜30.0質量%含有すること
が可能である。
【0080】この場合に使用されるポリシロキサンは、
500000cP(500Pas)までの粘度を有する
ことができる。本発明によるHTVシリコーンゴムのた
めには、例えばバイシロン(Baysilone) MS 10
(粘度10〜20mPas)またはディストリビュータ
ー油Si 200(粘度約28mPas)、但し、双方
ともGE Bayer Silicones社から入手可能である、が適し
ている。RTV−2Kシリコーンゴムのためには、例え
ば同じ製造業者の油M 100(粘度約100mPa
s)を使用することができる。
【0081】疎水性沈降珪酸の物理的化学的物質データ
の記載された組合せは、顕著な強化充填剤を生じる。公
知の沈降珪酸と比較して明らかに減少された平衡湿分含
量は、加工の際、例えば無圧の加硫の際に利点をもたら
し、この場合には、公知の水和沈降珪酸の使用と比較し
て無孔の加硫物を生じる。最適に調節されたpH値およ
び低いDBP値は、著しく短縮された軟質圧延時間を生
じる。最後に、低い湿分含量との組合せの低い電解質含
量は、加硫物の良好な電気的性質を生じる。常温硬化シ
リコーンゴム−パッキング材料において、使用された疎
水性沈降珪酸は、その僅かな含水量のために硬化されて
いない物質の貯蔵能に対して利点を示す。また、僅かな
含水量は、加硫物のより良好な化学的長時間負荷可能性
を生じる。
【0082】勿論、本発明による配合物は、オルガノポ
リシロキサン以外に疎水化された珪酸、架橋剤および架
橋触媒、場合によっては従来法で多くの場合にかまたは
しばしばエラストマーに硬化可能な物質中に使用される
充填剤を含有することができる。このような物質の例
は、50m/g未満の表面積を有する充填剤、例えば
石英粉、カオリン、層状珪酸塩、タウ鉱物(Taumineral
ien)、珪藻土、さらに珪酸ジルコニウムおよび炭酸カ
ルシウム、さらに熱分解法により製造された未処理の二
酸化珪素、有機樹脂、例えばポリ塩化ビニル粉末、オル
ガノポリシロキサン樹脂、繊維状充填剤、例えばアスベ
スト、ガラス繊維および有機顔料、可溶性着色剤、香
料、腐食防止剤、水の影響に抗する物質を安定化する薬
剤、例えば無水酢酸、硬化を遅延させる薬剤、例えばベ
ンゾトリアゾールおよび可塑剤、例えばトリメチルシロ
キシ基によって末端封鎖されたジメチルポリシロキサン
である。
【0083】更に、シリコーンゴム配合物は、付加的に
触媒としてのPt、Sn、Tiおよび/またはZnの金
属の有機化合物または無機化合物0.01〜6質量%お
よび/または抑制剤0.01〜6質量%および/または
殺真菌剤または殺菌剤0.01〜6質量%および/また
は付着助剤0.01〜6質量%を含有することができ
る。
【0084】次の実施例は、本発明を詳説するが、これ
によって本発明の範囲が制限されることはない。
【0085】
【実施例】実施例:珪酸塩エダクトとして、好ましくは
極めて低いシラノール基密度、即ちアルカリ金属消費量
/BET表面積の低い比、ほぼ同じBET表面積の際の
比較的高いCTAB表面積ならびに高い白色度および純
度を有する沈降珪酸が使用される。
【0086】製造−基礎珪酸 反応容器中に水50.0mを装入する。水ガラス溶液
9.2mおよびHSO0.9mを攪拌しながら
受器に徐々に添加し、この場合には、混合物中で添加の
間、アルカリ性のpH値を維持する。水ガラスおよびH
SOの添加の終結後、得られた懸濁液のph値は、
アルカリ性の範囲内にある。懸濁液を酸性にし、濾別
し、脱イオン水で洗浄する。親水性基礎珪酸の乾燥は、
有利に短時間の乾燥によって行なうことができる。次の
データは、こうして得られた乾燥された沈降珪酸に関す
るものである。
【0087】 BET表面積[m/g] 150〜170、 CTAB表面積[m/g] 150〜170、 2時間/105℃で乾燥した基板に対する灼熱減量 3±0.5 (DIN 55921)[%]、 pH値5%(メタノール水溶液)(DIN 53200) 6〜7、 導電率(5%の水性分散液中)[μS] 100未満、 突き固め密度 250g/lを上廻る、 シアーズ数 13未満。
【0088】基礎珪酸とポリシロキサンとの混合は、炭
素含量が一定になるまで実施され、即ち混合比は、必要
とされる炭素含量に調節するための計算の割合から明ら
かである。
【0089】1.測定方法 1.1 メタノール湿潤性 表面が加水分解不可能である有機基で変性されている珪
酸は、多くの場合に水によって変性されない。
【0090】しかし、この疎水性珪酸は、メタノール/
水混合物よって湿潤されうる。質量%で表わされる、前
記混合物に対するメタノールの含量は、変性された珪酸
の疎水性についての1つの基準である。メタノール含量
が高くなればなるほど、物質は、ますます良好に疎水化
される。
【0091】測定の実施:15mlの内容積を有する6
個の遠心分離ガラス容器中に疎水性珪酸または珪酸塩2
00mgを計量供給し、これらのガラス容器の全てにメ
タノール濃度を増加させるメタノール−水混合物8ml
を添加する。混合物のメタノール濃度は、予想すべきメ
タノール湿潤性により左右される。遠心分離ガラス容器
を緊密に閉鎖し、次に強力に振盪させる(10回の上下
運動)。次に、湿潤された珪酸−珪酸塩含量の分離のた
めに、ガラス容器を5分間、2500r.p.m.で遠心
分離する。湿潤された含分は、沈殿物を形成し、この沈
殿物の体積は、遠心分離ガラス容器の目盛りで読み取る
ことができる。沈殿物の体積は、メタノール−水混合物
の濃度に対してグラフにプロットされる。これらの個々
の測定点は、1本の曲線を生じ、この曲線の状態および
傾斜は、試験された試料の疎水化度を特性決定してい
る。
【0092】装置: 高精度計量器 遠心分離機 遠心分離ガラス容器、目盛り付き ディスペンセット(Dispensetten) 1.2 DBP吸収値 沈降珪酸の吸い上げ能力に対する1つの基準であるDB
P吸収値は、次のようにして測定される:ジブチルフタ
レート値の測定は、ブラベンダープラストグラフを用い
て行なわれる。DBP値は、液体に対する粉末状生成物
の吸い上げ能力または吸収能の1つの基準である。吸収
能は、試験される物質の湿分含量、粒度および計量供給
量に依存する。
【0093】装置および試薬 メトローム(Metrohm)社の書込み装置マルチ−ドジマ
ート(Multi-Dosimat)を備えたブラベンダープラスト
グラフ。
【0094】ジブチルフタレート。
【0095】実施 珪酸12.5gをブラベンダープラストグラフの混練機
中に装入する。絶えず混合しながら(混練機の羽根の回
転速度125r.p.m.)、ジブチルフタレートを4m
l/分の速度で混合物中に流入させる。混入には、僅か
な力需要が必要とされる。測定の終結時頃に、混合物は
劣悪に流動性になる。この事実は、目盛りに示されてい
る力需要の上昇の点で記録される。300の目盛りの結
果の場合には、DBP計量供給は、自動的に遮断され
る。
【0096】評価 DBPの密度は、1047g/mlである。DBP吸収
値は、無水の乾燥された物質に対するものである。より
いっそう高い湿分含量を有する沈降珪酸を使用する際
に、この沈降珪酸がDBP吸収値の測定前に乾燥されて
いない場合には、この値を補正表により補正すべきであ
る。
【0097】
【表1】
【0098】含水量に相応する補正値は、実験により測
定されたDBP吸収値に加算され;例えば5.8%の含
水量は、DBP吸収値の33g/100gの加算値を意
味する。
【0099】1.3 粒度 粒度は、”モールヴァン マスターサイザー(Malvern
Mastersizer)”を用いてエタノール中で5分間の超音
波処理後に測定される。測定は、体積分布からの平均粒
度d4.3を生じる。
【0100】1.4 DIN 5033による標準色価
の測定 使用 データカラー(Datacolor)3890の分光測光器を用
いて、標準色価Ryは、珪酸、珪酸塩およびゼオライト
(粉末懸濁液)の際に測定される。
【0101】測定の実施:測定すべき珪酸は、最初に約
8〜15μmの平均粒径に粉砕され、引続き粉末圧縮機
でペレットに圧縮される。必要とされる量は、粉末の微
粒度に依存する。圧縮機の閉じ蓋のねじが最後の動作に
達するまで、粉末を充填する。
【0102】そのために、試料は、測定器の下方に置か
れ、制御計算機上で白色度測定のメニュー点Rおよび
460が選択される。試料標示の入力後、”スペース
(Space)”キーが測定の開始時に実行される。保存コ
ードの入力後、測定値がプリントアウトされる。値の計
算は、自動的に式:
【0103】
【数1】
【0104】により行なわれ、この場合、Y(λ)は、
標準スペクトル値の関数を表わし、S(λ)は、照射源
の相対スペクトル線分布を表わし、R(λ)は、試料の
スペクトル規約反射率を表わす。
【0105】1.5 珪酸、珪酸塩および疎水性珪酸の
シアーズ数の測定 1.使用:pH6〜pH9の範囲内の0.1N KOH
での滴定によって、遊離OH基を測定することができ
る。
【0106】2.機器 2.1 0.01gの精度での高精度計量器、 2.2 10mlおよび20mlのビュレット、1個の
pHの電極および1個のポンプ(例えば、NOUVAG-ポン
プ、型SP 40/6)を装備したメモチトレータ(Memotitra
tor)DL 70、メットラー(Mettler)社、 2.3 プリンター 2.4 滴定容器250ml、メットラー(Mettler)
社、 2.5 ウルトラ−ターラックス(Ultra-Turrax)80
00〜24000r.p.m. 2.6 温度調整された水浴、 2.7 メタノールまたは脱イオン水を計量供給するた
めの2個のディスペンサー10〜100ml、 2.8 脱イオン水を計量供給するための1個のディス
ペンサー10〜50ml、 2.9 1個の測定シリンダ100ml、 2.10 IKA ユニバーサルミル(Universalmuehl
e)M 20。
【0107】3.試薬 3.1 メタノールp.A.、 3.2 塩化ナトリウム溶液、(脱イオン水1000m
l中のNaCl p.A.250g)、 3.3 0.1N 塩酸、 3.4 0.1N 苛性カリ液、 3.5 脱イオン水、 3.6 緩衝液pH7およびpH9。
【0108】4.実施 4.1 試料の準備 試料約10gをIKA ユニバーサルミル(Universalm
uehle)M 20中で60秒間粉砕する。
【0109】重要な点:極めて微細に粉砕された試料だ
けが再現可能な結果をもたらすので、この条件は、正確
に維持されなければならない。
【0110】4.2 分析の実施 4.2.1 項目4.1で準備された試料2.50gを
250mlの滴定容器中に計量供給する。
【0111】4.2.2 メタノールp.A.60mlを
供給する。
【0112】4.2.3 試料の完全な湿潤後、脱イオ
ン水40mlを添加する。
【0113】4.2.4 ウルトラ−ターラックス(Ul
tra-Turrax)を用いて30秒間、約18000r.p.
m.の回転数で分散させる。
【0114】4.2.5 脱イオン水100mlを用い
て、容器縁部および攪拌機に付着している試料粒子を懸
濁液中に洗浄する。
【0115】4.2.6 温度調整された水浴中の試料
を25℃に温度処理する(少なくとも20分間)。
【0116】4.2.7 pH電極を緩衝液でpH7お
よびpH9に較正する。
【0117】4.2.8 試料を方法S 911により
メモチトレータ(Memotitrator)DL70中で滴定す
る。不明瞭な滴定経過の場合には、事後に二重測定を実
施する。
【0118】結果として、次のものがプリントアウトさ
れる: pH、 V ml/5g、 V ml/5g。
【0119】5.計算式:
【0120】
【数2】
【0121】V=KOH mlまたはHCl ml
pH6まで/物質5g V=KOHの消費量 ml pH9まで/物質5g E=計量供給量。
【0122】原理:最初に、懸濁液の出発pH値を測定
し、その後に結果に応じて、KOHまたはHClを用い
てpH値を6に調節する。その後に、NaCl溶液20
mlを供給する。次に、0.1N KOHを用いて、p
H値が9になるまで滴定を継続させる。
【0123】シアーズ数
【0124】
【化1】
【0125】1.6 DIN/ISO 787/11に
関連する突き固め密度の測定 測定の実施:試験すべき試料10gを高精度計量器上で
0.01gの精度で計量供給し、突き固め体積の目盛り
付きの250mlのガラスシリンダー中に詰める。12
50回の突き固め後、突き固められた物質の体積を読み
取る。
【0126】計算式:
【0127】
【数3】
【0128】突き固め体積は、読み取られた値に相当す
る。
【0129】E=gでの計量供給量 I=mlでの内容量。
【0130】機器: 高精度計量器、 突き固め体積計 エンゲルスマン(Engelsmann)社、ル
ートビヒスハーフェン在目盛り付きの250mlのガラ
スシリンダー エンゲルスマン(Engelsmann)社、ルー
トビヒスハーフェン在。
【0131】注釈:特殊な場合には、物質は、計量供給
前に500μmの篩を通して篩別されることができるか
または計量供給量は、高めることができる。これは、試
験報告に記載されなければならない。
【0132】1.7 CTAB表面積の測定 1.使用 この方法は、”ゴム作用を有する表面”とも呼称され
る”外側”表面に対するCTAB(N−セチル−N,
N,N−トリメチルアンモニウムブロミド)の吸着に基
づく。
【0133】CTABの吸着は、水溶液中で攪拌しなが
ら超音波処理下に行なわれる。吸着されていない過剰の
CTABは、NDSS(ジオクチルナトリウムスルホス
クシネート溶液)を用いての再滴定によってチトロプロ
セッサー(Titroprozessor)で測定され、この場合に
は、最終点は、溶液の混濁の最大によって記載され、フ
ォトトローデ(Phototrode)で測定される。
【0134】計算のためには、場所の需要は、CTAB
分子1個当たり0.35nm2と仮定される。
【0135】測定は、ASTM 3765に関連して行
なわれる。
【0136】全ての一連の試験に場合に、珪酸 型VN
3の標準試料が一緒に用いて使用されうる。
【0137】2.反応式:(再滴定)
【0138】
【化2】
【0139】3.機器 3.1 ミル、例えば工業製品IKA、型:M20、 3.2 分析計量器、 3.3 電磁攪拌機 3.4 電磁攪拌小棒、 3.5 次のもの:pH電極、例えば工業製品メットラ
ー(Mettler)、型 DG 111、フォトトローデ(Phototr
ode)、例えば工業製品メットラー(Mettler)、型DP55
0およびピストンビュレット、NDSS溶液のための2
0mlの内容積、ピストンビュレット、KOH、0.1
Nのための10mlの内容積を装備したチトロプロセッ
サー(Titroprozessor)、例えばMETTLER、型 DL 55ま
たはDL 70、 3.6 ポリプロピレンからなる滴定皿100ml、 3.7 滴定ガラス容器、150mlの内容積、スナッ
プキャップで閉鎖可能、 3.8 三角フラスコ、100mlの内容積、ねじ付き
閉じ蓋またはNS栓で閉鎖可能、 3.9 超音波浴、 3.10 圧力濾過装置、 3.11 硝酸セルロースからなるメンブランフィルタ
ー、孔径0.1μm、47mmφ、例えばサルトリウス
(Sartorius)、型 113 58、 3.12 ピペット、5ml、100ml。
【0140】4.試薬: 4.1 苛性カリ液、0.1N、 4.2 CTAB溶液、0.0151モル/l、 CTAB 5.50gをビーカー中で熱い(約30〜4
0℃)脱イオン水約800mlに攪拌しながら(電磁攪
拌機)溶解し、1 lの測定フラスコ中に移し、脱イオ
ン水を23〜25℃への冷却後に目印に達するまで注入
し、貯蔵瓶に移す。
【0141】注意点:溶液の貯蔵および測定の実施は、
23℃以上で行なわなければならない。それというの
も、CTABは、前記温度未満では晶出するからであ
る。溶液は、10〜14日間、使用前に製造されるべき
である。
【0142】 4.3 NDSS溶液0.00426モル/l NDSS 1.895g(ジオクチルナトリウムスルホ
スクシネート)をビーカー中で脱イオン水約800ml
と混合し、全てが溶解するまで電磁攪拌機で攪拌する。
引続き、この溶液を1 lの測定フラスコに移し、目印
まで脱イオン水を注入し、貯蔵瓶に移す。
【0143】NDSS溶液は、簡単に生物学的に分解さ
れる。従って、得られた溶液は、良好に密閉することが
できるが、3ヶ月を超えて貯蔵されるべきではない。
【0144】CTAB溶液の濃度は、正確なものと仮定
されている:0.0151モル/l。
【0145】NDSS溶液の濃度は、毎日、”盲検滴定
(Blindtitration)”によって測定することができる。
【0146】5.実施 5.1 盲検滴定(Blindtitration)(NDSS溶液の
濃度の測定)。
【0147】5.2 CTAB溶液5mlについてのN
DSS溶液の消費量は、全ての測定順序で毎日1回試験
することができる(盲検値)。
【0148】5.1.2 CTAB溶液5mlを正確に
滴定皿中にピペットで注入する。
【0149】5.1.3 脱イオン水約50mlを添加
する。
【0150】5.1.4 滴定が終結するまでチトロプ
ロセッサー(Titroprozessor)での滴定。全ての盲検滴
定(Blindtitration)は、二重測定として実施すること
ができ、一致しない値の場合には、結果の再現可能性が
与えられるまで、さらに滴定を実施することができる。
【0151】5.2 吸着 5.2.1 造粒された粒子状の試料をミル中で粉砕す
る(ミルの舞いカッターは、覆われてなければならな
い)。
【0152】5.2.2 粉砕された試料500mgを
正確に0.1gの精度を有する分析計量器上で計量供給
する。
【0153】5.2.3 計量供給された試料量を定量
的に電磁攪拌機小棒を備えた150mlの滴定容器中に
移す。
【0154】5.2.4 CTAB100mlを正確に
供給し、滴定容器を蓋で閉鎖し、15分間電磁攪拌機上
で攪拌する。
【0155】5.2.5 滴定容器をチトロプロセッサ
ー(Titroprozessor)にねじ込み、懸濁液のpH値をK
OH 0.1モル/lで±0.05の値で調節する。
【0156】5.2.6 超音波浴中での懸濁液の4分
間の処理。
【0157】5.2.7 メンブランフィルターを装備
した圧力フィルターによる濾過。
【0158】吸着の間、必ず温度が23℃〜25℃の範
囲に維持されるように注意すべきである。
【0159】5.3 滴定 5.3.1 濾液5ml(項目5.2.7参照)を10
0mlの滴定皿中にピペットで注入し、脱イオン水を約
50mlになるまで注入する。
【0160】5.3.2 滴定皿を滴定器にねじ込む。
【0161】5.3.3 最大の混濁になるまで所定の
測定法によりNDSS溶液を滴定する。全ての混濁は、
二重測定法として実施することができ、一致しない値の
場合には、結果の再現可能性が与えられるまで、さらに
滴定を実施することができる。
【0162】6.計算式
【0163】
【数4】
【0164】V=盲検試料(CTAB5mlを使用し
た際のNDSS ml)、 V=使用量(濾液5mlを使用した際のNDSS m
l)、 E=計量供給量 CTAB g/l(5.5g)、 578.435=mでのCTAB 1gの場所需要
量。
【0165】測定値は、通常、無水物質に対して補正さ
れて記載することができる:
【0166】
【数5】
【0167】標準試料の測定値が3±m/gを超えて
偏向する場合には、一連の全測定は、繰り返すべきであ
る。
【0168】7.注釈 1.に関して 刊行物には、NDSS(ジオクチルナト
リウムスルホスクシネート)、またアエロゾルOTが記
載されている。
【0169】9を上廻るpH値を有する試料、例えばエ
クストルシル(Extrusil)については、pH値が測定さ
れるが、しかし補正されない。それというのも、酸は表
面を変化しうるからである。
【0170】フォトトローデ(Phototrode)は、100
%の透過率に相応して、滴定の開始前に1000mVに
調節される。
【0171】3.に関して CTAB溶液の所定の異な
る容積を測定するためには、ディスペンサーまたはピス
トンピペットが規則的に較正される限り、これらディス
ペンサーまたはピストンピペットが使用されてもよい。
【0172】4.に関して 項目4.1および4.3に
記載の溶液は、直ちに使用可能な溶液と見なすことがで
きる。供給業者は、現在のところ、クラフト(Kraft)
社、ディスブルク(Duisburg)在である。
【0173】電話:0203-58-3025。
【0174】−注文番号−No.6056.4 CTAb溶液0.0151 m
l/l −注文番号−No.6057.4 NDSS溶液0.00423モル/l (2.5リットルのガラス瓶中) 5.2.4に関して 各反語に湿潤していない疎水性珪
酸は、該疎水性珪酸を湿潤させるために、pH値の調節
前にウルトラ−ターラックス(Ultra-Turrax)で注意深
く分散される。
【0175】5.2.5に関して pH値の調節のため
には、滴定器の使用が推奨される。滴定は、最終点法に
より実施される。
【0176】5.2.7に関して 濾過のためには、圧
縮ガス瓶からの窒素が使用され、前圧力は、4〜6バー
ルに調節されるべきである。
【0177】6.に関して 一連の測定の場合によって
は必要とされる繰返しの場合には、殊にpH値の調節に
使用されるpH計量器は再度新たに較正されることに注
意すべきである。
【0178】1.8 水蒸気吸収値(水蒸気等温線)の
測定 水蒸気吸収値の測定のために、試料は、一定の温度(3
0℃)で異なる相対空気湿度に晒される。この試料は、
一定の質量に調節されるまで維持される。
【0179】完全に乾燥された空気(即ち、空気湿分
は、ほぼ零に等しい)を用いて開始される。平衡の達成
後、この質量は、基準点として選択され、即ち高い空気
湿分の際の水蒸気吸収量は、完全に乾燥された空気中の
試料質量(平衡調節後)と湿った空気中の試料質量(平
衡調節後)との間の差として表わされる。空気湿分は、
10%の間隔で変動される。
【0180】ヒステリシス効果を排除するために、水吸
着率ならびに水蒸気吸着率が測定される。
【0181】例1 基礎珪酸を乾燥させかつシリコーン油(DOW CORNING
(R)200 FLUID 50 CS 、炭素含量約33%、粘度50m
Pas)で被覆することを、スピンフラッシュ乾燥機上
で行なう。次に、珪酸を室温で少なくとも48時間、珪
酸が少なくとも20%のメタノール湿潤性を有するまで
状態調節する。状態調節された珪酸の分析データは、第
1.1表中に記載されている。
【0182】
【表2】
【0183】次に、渦動床中での温度調節を異なる酸素
含量の際に行なう。試験パラメーターは、第1.2表中
に記載されている。
【0184】
【表3】
【0185】試験は、酸素含量と変色との関連を示す。
試験2および3の場合にのみ、94%を上廻る規約反射
率が達成される。この珪酸は、試験1からの珪酸とは異
なり、シリコーンゴム中で目視可能な変色を示さない。
酸化され温度調節された沈降珪酸の分析データは、第
1.3表中に記載されている。
【0186】
【表4】
【0187】例2 基礎珪酸をゲリケミキサー(Gericke-Mischer)中でシ
リコーン油(ジメチルポリシロキサン、50mPas、
例えばDOW CORNING(R)200 FLUID 50 CS 、炭素含量約3
3%)との質量比1:1で被覆する。こうして生成され
た粉末を105℃の温度で1時間状態調節する。この場
合には、実際に水湿潤性である物質が精製されるが、し
かし、珪酸とシリコーン油とは、水中でもはや互いに分
離しない。このマスターバッチと基礎珪酸のフィルター
ケーキとの混合によって、安定な配合物が生成され、こ
の場合には、シリコーン油は、もはや親水性のフィルタ
ーケーキと分離しない。こうして得られた疎水性マスタ
ーバッチおよびフィルターケーキを、一緒にスピンフラ
ッシュ乾燥機中に供給し、そこで混合し、乾燥させる。
ジメチルシロキサン処理された珪酸を、これが少なくと
も20%のメタノール湿潤性を達成するまで室温で3日
間の熟成によって状態調節する。状態調節された珪酸の
分析データは、第2.1表中に記載されている。
【0188】
【表5】
【0189】状態調節された沈降珪酸の温度調節を酸化
条件下でマッフル炉中で約1〜2cmの嵩高さで330
〜360℃を上廻る温度の際に1時間行なう。酸化され
て温度調節された沈降珪酸の分析データは、第2.3表
中に記載されている。
【0190】
【表6】
【0191】例3 珪酸(フィルターケーキの形)上でのシリコーン油(5
0mPasの粘度、メチル末端基を有する、例えばDOW
CORNING(R)200 FLUID 50 CS 、炭素含量約33%)の前
分配を同時に乾燥させながらスピンフラッシュ乾燥機中
で行なう。ジメチルシロキサン処理された珪酸を、これ
が少なくとも20%のメタノール湿潤性を達成するまで
室温で少なくとも48時間状態調節する。状態調節され
た珪酸の分析データは、第3.1表中に記載されてい
る。
【0192】
【表7】
【0193】物質の温度調節を酸化条件下でマッフル炉
中で約1〜2cmの嵩高さで330〜360℃を上廻る
温度の際に1時間行なう。酸化されて温度調節された沈
降珪酸の分析データは、第3.2表中に記載されてい
る。
【0194】
【表8】
【0195】例4 基礎珪酸をゲリケミキサー(Gericke-Mischer)中でシ
リコーン油(ジメチルポリシロキサン、50mPas、
例えばDOW CORNING(R)200 FLUID 50 CS 、炭素含量約3
3%)との質量比1:1で被覆する。こうして生成され
た粉末を105℃の温度で少なくとも1時間状態調節す
る。この場合には、実際に水湿潤性である物質が精製さ
れるが、しかし、珪酸とシリコーン油とは、水中でもは
や互いに分離しない。このマスターバッチと水との混合
によって、安定な懸濁液が生成され、この場合には、シ
リコーン油は、もはや珪酸と分離しない。懸濁液の分析
データは、第4.1表中に記載されている。
【0196】
【表9】
【0197】懸濁液の乾燥を噴霧乾燥機上で行なう。ジ
メチルシロキサン処理された珪酸を、これが少なくとも
20%のメタノール湿潤性を達成するまで室温で少なく
とも48時間の熟成によって状態調節する。状態調節さ
れた珪酸の分析データは、第4.2表中に記載されてい
る。
【0198】
【表10】
【0199】状態調節された沈降珪酸の温度調節を酸化
条件下でマッフル炉中で約1〜2cmの嵩高さで330
〜360℃を上廻る温度の際に1時間行なう。酸化され
て温度調節された沈降珪酸の分析データは、第4.3表
中に記載されている。
【0200】
【表11】
【0201】例5 基礎珪酸(固体含量12.8%)の珪酸懸濁液中に強力
に剪断する混合装置を用いてシリコーン油(ポリジメチ
ルポリシロキサン、50mPas、例えばDOWCORNING
(R)200 FLUID 50 CS 、炭素含量約33%)を懸濁させ
る。珪酸懸濁液中でのシリコーン油の分配を即座の噴霧
乾燥によって保存する。ジメチルシロキサン処理された
珪酸を、これが少なくとも20%のメタノール湿潤性を
達成するまで室温で少なくとも48時間の熟成によって
状態調節する。状態調節された珪酸の分析データは、第
5.1表中に記載されている。
【0202】
【表12】
【0203】物質の温度調節を酸化条件下でマッフル炉
中で約1〜2cmの嵩高さで330〜360℃を上廻る
温度の際に1時間行なう。酸化されて温度調節された沈
降珪酸の分析データは、第5.2表中に記載されてい
る。
【0204】
【表13】
【0205】例6 疎水性基礎珪酸を乾式でシリコーン油(ポリジメチルポ
リシロキサン、粘度50mPas、例えばDOW CORNING
(R)200 FLUID 50 CS 、炭素含量約33%)で被覆し、
これが少なくとも20%のメタノール湿潤性を達成する
まで室温で少なくとも48時間の熟成によって状態調節
する。物質の温度調節を酸化条件下で330〜360℃
を上廻る温度の際に1時間行なう。生じる物質の分析デ
ータは、第6.1表中に記載されている。
【0206】
【表14】
【0207】例7 第7.1表、第7.2表および図7.3は、LSR−、
2K−RTVおよびHTVシリコーンゴム混合物中での
例6に記載の沈降珪酸のレオロジー特性、機械的性質お
よび光学的性質を示す。
【0208】
【表15】
【0209】図3は、40%の充填度で加工助剤を用い
ない混練時間の間のHTVシリコーンゴム系の粘度経過
を示す。
【0210】本発明によるシリコーンゴム混合物は、僅
かに濃縮される性質を有し、後収縮(Nachverstrammun
g)を殆んど示さない。こうして得られた加硫物は、変
色の徴候を全く示さない。
【0211】第7.4表は、加工助剤を用いることなし
に極めて短時間で生じる加工時間を示す。配合物の明度
は、高い。
【0212】
【表16】
【0213】即ち、加工は、予定通りに簡単かつ迅速に
行なわれ、変色のない配合物を生じる。
【図面の簡単な説明】
【図1】均質な疎水化を生じる珪酸の急勾配のメタノー
ル湿潤性曲線を示す線図。
【図2】通常の疎水性珪酸のメタノール湿潤性を示す線
図。
【図3】40%の充填度で加工助剤を用いない混練時間
の間のHTVシリコーンゴム系の粘度経過を示す線図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウーヴェ シャッハテリー アメリカ合衆国 ニューヨーク プリンス トン ブルックリン コート 5 ビー (72)発明者 クリスティアン パンツ ドイツ連邦共和国 ヴェッセリング ヴェ ーザーシュトラーセ 39 (72)発明者 ラルフ シュモル ドイツ連邦共和国 ボン マックス−エル ンスト−シュトラーセ 30 Fターム(参考) 3J040 BA01 EA15 FA06 HA30 4C089 AA06 BE11 CA06 4J002 CP031 CP081 CP121 DJ006 DJ016 GB01 GC00 GH01 GJ02 GN00

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次の性質: −炭素含量 3.1%を上廻り、 −メタノール湿潤性 60%を上廻り、 −規約反射率 94%を上廻り、 −BET/CTAB比 1を上廻り、および3未満、 −DBP吸収値 230g未満/100g −BET表面積 50〜110m/g −CTAB表面積 30m/gを上廻り、 −30℃および30RFでの水蒸気吸収値 1.3未満、 −30℃および70RFでの水蒸気吸収値 1.7未満 を有する疎水性珪酸0.5〜60質量%および式 ZSiR3−n−O−[SiRO]−SiR3−n−Z 〔式中、Rは、1〜50個の炭素原子を有し、置換され
    ていないかまたはO、S、F、Cl、Br、Iで置換さ
    れた、それぞれ同一かまたは異なるアルキル基、アルコ
    キシ基、アリール基、ヒドロキシ基、水素化物基、アル
    ケニル基および/または50〜10000個の繰返し単
    位を有するポリスチレン基、ポリビニルアセテート基、
    ポリアクリレート基、ポリメタクリレート基およびポリ
    アクリルニトリル基であり、Zは、それぞれ同一かまた
    は異なり、H、OH、Cl、Br、アミノ基、アミノオ
    キシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基または
    ホスフェート基であり、この場合有機基は、20個まで
    の炭素原子を有することができ、nは、1〜3であり、
    Xは、100〜15000である〕で示されるオルガノ
    ポリシロキサン30〜99.5質量%を含有するシリコ
    ーンゴム配合物。
  2. 【請求項2】 シリコーンゴム化合物が付加的に式 R′4−tSiZ′ 〔式中、R′は、1〜50個の炭素原子を有し、置換さ
    れていないかまたはO、S、F、Cl、Br、Iで置換
    された、それぞれ同一かまたは異なるアルキル基、アル
    コキシ基、アリール基、アルケニル基および/または5
    〜5000個の繰返し単位を有するポリスチレン基、ポ
    リビニルアセテート基、ポリアクリレート基、ポリメタ
    クリレート基およびポリアクリルニトリル基であり、
    Z′は、それぞれ同一かまたは異なり、H、OH、C
    l、Br、アミノ基、アミノオキシ基、アルケニルオキ
    シ基、アリールオキシ基またはホスフェート基であり、
    この場合有機基は、20個までの炭素原子を有すること
    ができ、tは、3または4である〕を有する架橋剤を
    0.01〜20質量%含有する、請求項1記載のシリコ
    ーンゴム配合物。
  3. 【請求項3】 シリコーンゴム配合物が官能化されてい
    ないポリシロキサンを付加的に0.5〜99.5質量%
    含有する、請求項1または2記載のシリコーンゴム配合
    物。
  4. 【請求項4】 シリコーンゴム配合物が付加的に触媒と
    しての金属Pt、Sn、Tiおよび/またはZnの有機
    化合物または無機化合物0.01〜6質量%および/ま
    たは抑制剤0.01〜6質量%および/または殺真菌剤
    または殺菌剤0.01〜6質量%および/または付着助
    剤0.01〜6質量%を含有する、請求項1から3まで
    のいずれか1項に記載のシリコーンゴム配合物。
  5. 【請求項5】 オルガノポリシロキサンが最大5000
    00cPの粘度を有する、請求項1から4までのいずれ
    か1項に記載のシリコーンゴム配合物。
  6. 【請求項6】 疎水性珪酸が1.6未満の変更されたシ
    アーズ数を有する、請求項1から5までのいずれか1項
    に記載のシリコーンゴム配合物。
  7. 【請求項7】 疎水性珪酸が5.0〜9.0のpH値を
    有する、請求項1から6までのいずれか1項に記載のシ
    リコーンゴム配合物。
  8. 【請求項8】 疎水性珪酸が2%未満の含水量を有す
    る、請求項1から7までのいずれか1項に記載のシリコ
    ーンゴム配合物。
  9. 【請求項9】 疎水性珪酸が500μS未満の導電率を
    有する、請求項1から8までのいずれか1項に記載のシ
    リコーンゴム配合物。
  10. 【請求項10】 疎水性珪酸が3%を上廻る灼熱減量を
    有する、請求項1から9までのいずれか1項に記載のシ
    リコーンゴム配合物。
  11. 【請求項11】 疎水性珪酸が疎水性沈降珪酸である、
    請求項1から10までのいずれか1項に記載のシリコー
    ンゴム配合物。
  12. 【請求項12】 次の群:高温架橋性シリコーンゴム
    (HTV)、液状シリコーンゴム(LSR/LIM)な
    らびに室温架橋性2成分系シリコーンゴム(2K−RT
    V)のシリコーンゴム系への請求項1から11までのい
    ずれか1項に記載のシリコーンゴム配合物の使用。
  13. 【請求項13】 点火プラグ、自動車への応用、パッキ
    ングリング、スポーツ製品、成形材料、歯科用複合材
    料、シリコーンゴム被覆または塗料系への請求項1から
    11までのいずれか1項に記載のシリコーンゴム配合物
    の使用。
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