JP2003186135A - 熱現像感光材料及び熱現像感光材料の画像識別方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高感度で、点質ランクが高く、残色が低減さ
れ、且つ、画像部と非画像部との反射光量差が大きい熱
現像感光材料、及び前記熱現像感光材料の画像識別方法
を提供する。 【解決手段】 支持体上に、少なくとも、有機銀粒子、
ハロゲン化銀粒子、還元剤及び硬調化剤を含有する感光
性層を有する熱現像感光材料が、下記一般式（１）で表
される染料を含有することを特徴とする熱現像感光材
料。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、熱現像感光材料及
び前記熱現像感光材料の画像識別方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、熱現像記録材料は、レーザ記録と
それに続く熱現像プロセスにより画像形成が行われ、印
刷版等への焼付透過原稿フィルムや、医療診断用フィル
ムとして用いられている。

【０００３】特に、印刷版等への焼付透過原稿フィルム
に用いられる熱現像感光材料の場合、熱現像後の該感光
材料は、刷版機にかけられ、ＰＳ板に焼き付けられる
が、そのＰＳ板に焼き付けるときに高い位置精度が要求
される。

【０００４】例えば、カラー印刷物の場合、イエロー、
マゼンタ、シアン、ブラックの４版の寸法精度が合わな
ければ、色ズレをおこしてしまう。そこで、位置を正確
に合わせるため、トンボと呼ばれる巾５０μｍ〜１００
μｍの十字の画像が位置指標として、各々の版に露光さ
れる。

【０００５】例えば、ネガ画像の場合、トンボは黒化さ
れていない画像となり、その周りは黒化している。この
濃度差を光センサが読み取って、位置を把握する。この
センサの光源波長は、種々あるが、６５０ｎｍ〜６７０
ｎｍの赤色ＬＥＤ（発光ダイオード）または、ＬＤを使
用していることが多い。また、これらセンサの多くは射
出光部と受光部が一体となった反射型センサが一般的で
ある。

【０００６】しかしながら、黒化した画像部と未黒化の
非画像部を反射型センサで識別することには多大の技術
的課題があった。その課題とは、黒化部は光の反射量が
少なく、また未露光部は光が透過してしまい反射光量が
少なくなりやすい等の問題点が挙げられる。

【０００７】上記記載の問題点に対して、未露光部に金
属板状の反射板を設置し反射光量を多くする等の試みが
行われている。この方法によってある程度改良される
が、鏡面反射ではセンサの受光部に戻ってくる光量が少
ない、また、反射板とセンサ受光部の距離によっては識
別ができないケースもあった。

【０００８】また、熱現像感光材料には、ハレーション
防止のために通常、染料が用いられているが、該染料は
露光波長によって種々のものがあり、一般的に６００ｎ
ｍ〜７００ｎｍに吸収をもつものが多いため、センサに
使用される光を吸収し、その結果として、画像部と非画
像部の反射光量差が小さくなり、更に識別が困難になる
という問題点があった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高感
度で、点質ランクが高く、残色が低減され、且つ、画像
部と非画像部との反射光量差が大きい熱現像感光材料、
及び前記熱現像感光材料の画像識別方法を提供すること
である。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記の構成１〜９により達成された。

【００１１】１．支持体上に、少なくとも、有機銀粒
子、ハロゲン化銀粒子、還元剤及び硬調化剤を含有する
感光性層を有する熱現像感光材料が、前記一般式（１）
で表される染料を含有することを特徴とする熱現像感光
材料。

【００１２】２．アミジン化合物誘導体またはグアニジ
ン化合物誘導体の二酸塩基プレカーサを含有することを
特徴とする前記１に記載の熱現像感光材料。

【００１３】３．支持体と感光性層との間に、球形微粒
子を含有する層を有することを特徴とする前記１または
２に記載の熱現像感光材料。

【００１４】４．支持体の一方の面上に感光性層を有
し、該支持体を挟んで、もう一方の面上に、球形微粒子
を含有する層を有することを特徴とする前記１〜３のい
ずれか１項に記載の熱現像感光材料。

【００１５】５．熱現像感光材料を熱現像処理して得ら
れた画像を識別する熱現像感光材料の画像識別方法にお
いて、再帰性反射板を用いて画像の識別を行うことを特
徴とする熱現像感光材料の画像識別方法。

【００１６】６．前記１〜４のいずれか１項に記載の熱
現像感光材料を用いることを特徴とする前記５に記載の
熱現像感光材料の画像識別方法。

【００１７】７．再帰性反射板が球形微粒子を含有する
ことを特徴とする前記５または６に記載の熱現像感光材
料の画像識別方法。

【００１８】８．再帰性反射板として、マイクロプリズ
ムを用いることを特徴とする前記５または６に記載の熱
現像感光材料の画像識別方法。

【００１９】９．６００ｎｍ以下に最大発光波長を有す
る発光光源を用いることを特徴とする前記５〜８のいず
れか１項に記載の熱現像感光材料の画像識別方法。

【００２０】以下、本発明を詳細に説明する。本発明者
等は上記記載の種々の問題点を詳細に検討した結果、支
持体上に、少なくとも、有機銀粒子、ハロゲン化銀粒
子、還元剤及び硬調化剤を含有する感光性層を有する熱
現像感光材料に、前記一般式（１）で表される染料を含
有することにより、高感度で、点質ランクが高く、残色
が低減され、且つ、画像部と非画像部との反射光量差が
大きい熱現像感光材料を提供することに成功した。

【００２１】また、本発明の熱現像感光材料は、上記の
ように画像部と非画像部との反射光量差が大きいため、
従来公知の反射センサを用いても画像部と非画像部との
識別の識別の精度が向上するが、本発明においては、更
に再帰性反射板を用いた画像識別方法を用いることで、
カラー印刷等においても極めて色ズレの少ない画像を与
えることができるようになった。

【００２２】《染料》本発明の熱現像感光材料に係る前
記一般式（１）で表される染料について説明する。

【００２３】一般式（１）において、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅、
Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₁で各々表される置
換基としては、例えばアルキル基（メチル基、エチル
基、ブチル基、イソブチル基等）、アルケニル基（２−
プロペニル基、１−プロペニル基、１−メチル−３−ブ
テニル基等）、アラルキル基（例えば、ベンジル基、フ
エネチル基等）、アルキルチオ基またはアリールチオ基
（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ
基等）、ハロゲン原子（例えば、フッソ原子、塩素原
子、臭素原子、沃素原子等）、アリール基（例えば、フ
ェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−トリル基、ナフ
チル基等）、複素環基（例えば、ピリジル基、ピロリル
基、２−メチルピロリル基、インドリル基、イミダゾリ
ル基、フリル基、チアゾリル基、ピリミジニル基等）、
アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基等）、ア
シルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイル
オキシ基等）、シアノ基、トリフルオロメチル基、アル
キルスルホニル基またはアリールスルホニル基（例え
ば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等）、
カルバモイル基（例えば、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルカルバモイル基、Ｎ−モルホリノカルボニル基
等）、スルファモイル基（スルファモイル基、Ｎ−フェ
ニルスルファモイル基、モルフォリノスルファモイル基
等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベ
ンゾイルアミノ基等）、スルホニルアミノ基（例えば、
メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ
基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、トリフルオロメト
キシカルボニル基等）が挙げられる。

【００２４】一般式（１）において、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃で表さ
れるアルキル基は、上記記載のＲ₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、
Ｒ₁₇、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₁と同義である。

【００２５】一般式（１）において、Ｒ₂₂、Ｒ₂₃で表さ
れる−（ＣＨ₂）_n−ＣＯＯＭ基、−（ＣＨ₂）_n−ＳＯ₃
Ｍ基においては、ｎは２以上の整数を表すが、好ましく
は、２以上１０以下である。

【００２６】Ｍで表されるアルカリ金属原子としては、
リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、ルビジ
ウム原子、セシウム原子、フランシウム原子を表す。

【００２７】一般式（１）において、Ｒ₂₄、Ｒ₂₅が各々
連結して形成する５員環または６員環としては、シクロ
ヘキサン環、シクロペンタン環が好ましく用いられる。

【００２８】一般式（１）において、Ｒ₂₆で表されるア
ルキル基は、上記記載のＲ₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、
Ｒ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₁と同義である。

【００２９】一般式（１）において、Ｒ₂₆で表されるア
リール基は、上記記載のＲ₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、
Ｒ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₁と同義である。

【００３０】以下に、一般式（１）で表される染料の具
体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。

【００３１】

【化２】

【００３２】本発明に係る一般式（１）で表される染料
は、特開平１１−２２３８９８号、英国特許第１，１３
３，９８６号、米国特許第３．２４７，１２７号、同第
４，０４２，３９７号等を参考にして合成することが出
来る。

【００３３】本発明に係る一般式（１）で表される染料
の本発明の熱現像感光材料中の含有量としては、５ｍｇ
／ｍ²〜２００ｍｇ／ｍ²が好ましく、更に好ましくは、
１０ｍｇ／ｍ²〜１００ｍｇ／ｍ²であり、特に好ましく
は、１５ｍｇ／ｍ²〜７０ｍｇ／ｍ²である。

【００３４】また、本発明に係る一般式（１）で表され
る染料は、本発明の熱現像感光材料を構成するいずれの
層に含まれていても良いが、本発明に記載の効果を好ま
しく得る観点から、感光性層、バック層に含有されるこ
とが好ましく、更に好ましくは、バック層に含有される
ことである。

【００３５】《アミジン化合物誘導体、グアニジン化合
物誘導体の二酸塩基プレカーサ》本発明に係るアミジン
化合物誘導体、グアニジン化合物誘導体の二酸塩基プレ
カーサについて説明する。

【００３６】熱現像処理後の残色低減を更に向上させる
観点から、本発明の熱現像感光材料は、アミジン化合物
誘導体、グアニジン化合物誘導体の二酸塩基プレカーサ
を含有することが好ましい。

【００３７】以下に、アミジン化合物誘導体またはグア
ニジン化合物誘導体の二酸塩基プレカーサーの例を示す
が本発明はこれらに限定されない。

【００３８】

【化３】

【００３９】

【化４】

【００４０】

【化５】

【００４１】

【化６】

【００４２】

【化７】

【００４３】

【化８】

【００４４】

【化９】

【００４５】

【化１０】

【００４６】本発明に係るアミジン化合物誘導体、グア
ニジン化合物誘導体の各々の二酸塩基プレカーサーにつ
いては、例えば、特公平７−５９５４５号、同８−１０
３２１号等の記載を参考にして合成することが出来る。

【００４７】本発明に係るアミジン化合物誘導体、グア
ニジン化合物誘導体の二酸塩基プレカーサの熱現像感光
材料中の含有量としては、５ｍｇ／ｍ²〜２００ｍｇ／
ｍ²が好ましく、更に好ましくは、１０ｍｇ／ｍ²〜１０
０ｍｇ／ｍ²以下であり、特に好ましくは、１５ｍｇ／
ｍ²〜７０ｍｇ／ｍ²である。

【００４８】また、アミジン化合物誘導体及びグアニジ
ン化合物誘導体プレカーサは、従来、水系分散塗布等に
より使用されることが多いが、ＭＥＫ（メチルエチルケ
トン）等の溶剤塗布で溶解して用いると６００ｎｍ〜７
００ｎｍ領域の光の反射量が分散塗布より多く、好まし
いことが分かった。

【００４９】《球形微粒子》本発明に係る球形微粒子に
ついて説明する。

【００５０】非画像部の反射光量向上の観点から、本発
明に係る球形微粒子は、請求項３に記載のように、支持
体と感光性層との間に設けられる層に含有される態様や
請求項４に記載のように、感光性層を有する支持体面と
は逆側の面に設けられる層中に含有されることが好まし
い。

【００５１】球形微粒子の具体例としては、ガラスビー
ズ、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）や球状シリ
カなどの透明度が高い粒子が好ましく、該球形微粒子の
平均粒径は、０．０１μｍ以上１０μｍ以下が好まし
く、更に好ましくは、０．０５μｍ以上５μｍ以下であ
り、特に好ましくは、０．０５μｍ以上３μｍ以下であ
る。

【００５２】上記記載の層中における球形微粒子の含有
量は、０．１ｍｇ／ｍ²以上１０ｇ／ｍ²以下が好まし
く、更に好ましくは、０．５ｍｇ／ｍ²以上１ｇ／ｍ²以
下であり、特に好ましくは、１ｍｇ／ｍ²以上５００ｍ
ｇ／ｍ²以下である。

【００５３】また、本発明に係る球形微粒子は、後述す
る、本発明に係る再帰性反射板中にも好ましく用いられ
る。

【００５４】次に本発明の熱現像感光材料の識別方法に
ついて説明する。 《熱現像感光材料の識別方法》本発明の熱現像感光材料
の識別方法では、従来、画像部と非画像部との反射光量
差が小さく、色ズレが起きやすかったが、従来、画像識
別時に用いられていた金属板やＫＢｒ板等に代わって再
帰性反射板を用いることにより、高精度の識別が可能に
なり、その結果として、カラー印刷などにおいても極め
て色ズレの少ない画像が得られるようになった。

【００５５】また、上記記載の再帰性反射板を用いる画
像識別方法においては、上記一般式（１）で表される染
料を含有し、熱現像後の残色の少ない熱現像感光材料を
用いることにより、更に好ましく本発明に記載の効果を
得ることが出きることを本発明者等は見出した。

【００５６】ここで、本発明に係る再帰性反射板につい
て説明する。 （再帰性反射板）本発明に係る再帰性反射板とは、該反
射板に入射した光が再び入射方向へ帰る反射板である。
例えば、６５０ｎｍのレーザ光を鏡面の垂線に対し４５
度の角度で入射すると、反射光は垂線に対し４５度の角
度で鏡面反射し、入射方向には戻ってこないのが通常で
ある。本発明において、再帰反射するとは、鏡面反射よ
り多い光量が入射方向に戻ってくることを指す。

【００５７】上記記載のような再帰性反射を行わせる為
には、上記記載のガラスビーズのような球形微粒子を含
有させたり、マイクロプリズム等を使用することにより
達成できる。

【００５８】再帰性反射板に含有させる球形微粒子とし
ては、上記記載のガラスビーズ、ＰＭＭＡ（ポリメチル
メタクリレート）や球状シリカなどの透明度が高い粒子
が好ましく用いられる。また、該球形微粒子の平均粒径
は、０．０１μｍ以上１０μｍ以下が好ましく、更に好
ましくは、０．０５μｍ以上５μｍ以下であり、特に好
ましくは、０．０５μｍ以上３μｍ以下である。

【００５９】再帰性反射板中における前記球形微粒子の
含有量は、０．１ｍｇ／ｍ²以上１０ｇ／ｍ²以下が好ま
しく、更に好ましくは、０．５ｍｇ／ｍ²以上１ｇ／ｍ²
以下であり、特に好ましくは、１ｍｇ／ｍ²以上５００
ｍｇ／ｍ²以下である。

【００６０】（マイクロプリズム）また、再帰性反射板
として、マイクロプリズムを用いる場合は、図１に示す
ような、ピラミッド型の四角錐や三角錐を縦横に整列さ
せた構成が好ましく用いられる。

【００６１】図１において、１０は再帰性反射板の一態
様であるマイクロプリズムを示し、１０ａは、マイクロ
プリズム１０を構成するプリズムシートである。

【００６２】前記プリズムシート１０ａを斜視図で表し
たものが１０ｂであるが３平面を一単位として形成され
ていることが判る。

【００６３】前記プリズムシート１０ａは、例えば、ア
クリル樹脂などを金型でプレスした成形したものに、銀
などを蒸着することにより作製することが出来る。

【００６４】上記のようにして作製したプリズムシート
１０ａを敷き詰めることにより、本発明に係るプリズム
シート１０が作製される。

【００６５】上記記載のマイクロプリズムの一辺の長さ
は、センサ光源の熱現像感光材料面上でのスポット径
（センサ光源のスポット径の大きさは１０μｍ以上２ｍ
ｍ以下が好ましい）によるが、１μｍ以上５００μｍ以
下が好ましく、更に好ましくは、５μｍ以上２００μｍ
以下である。

【００６６】ここで、スポット径の大きさをＳμｍ、マ
イクロプリズムの一辺の大きさをＭμｍとすると、０．
０２≦Ｓ／Ｍ≦２０００の範囲に調整することが好まし
く、更に好ましくは、０．２≦Ｓ／Ｍ≦１００の範囲に
調整することであり、特に好ましくは、０．５≦Ｓ／Ｍ
≦５０の範囲になるように調整することである。

【００６７】（識別センサ）本発明の熱現像感光材料の
識別方法に用いられる識別センサとしては、識別センサ
の光源波長は４００ｎｍ〜６００ｎｍが好ましく、更に
好ましくは、５００ｎｍ〜６００ｎｍである。

【００６８】本発明の熱現像感光材料に用いられる素材
について説明する。 《有機銀粒子（有機銀塩ともいう）》本発明に用いられ
る有機銀塩は還元可能な銀源であり、還元可能な銀イオ
ン源を含有する有機酸である。本発明において用いられ
る有機酸としては、脂肪族カルボン酸、炭素環式カルボ
ン酸、複素環式カルボン酸、複素環式化合物等がある
が、特に長鎖（１０〜３０、好ましくは１５〜２５の炭
素原子数）の脂肪族カルボン酸及び含窒素複素環を有す
る複素環式カルボン酸等が好ましく用いられる。また、
配位子が４．０〜１０．０の銀イオンに対する総安定定
数を有する有機銀塩錯体も有用である。

【００６９】本発明に用いられる有機酸銀塩の例として
は、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ第１７０
２９及び２９９６３に記載されており、次のものがあ
る：脂肪酸の銀塩（例えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘ
ン酸、アラキジン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラ
ウリン酸等の銀塩）；銀のカルボキシアルキルチオ尿素
塩（例えば、１−（３−カルボキシプロピル）チオ尿
素、１−（３−カルボキシプロピル）−３，３−ジメチ
ルチオ尿素等）；アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カ
ルボン酸との重合反応生成物の銀錯体（例えば、アルデ
ヒド類（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチル
アルデヒド等）とヒドロキシ置換芳香族カルボン酸類
（例えば、サリチル酸、安息香酸、３，５−ジヒドロキ
シ安息香酸、５，５−チオジサリチル酸等）との重合反
応生成物の銀錯体等）、チオン類の銀塩または錯体（例
えば、３−（２−カルボキシエチル）−４−ヒドロキシ
メチル−４−チアゾリン−２−チオン、及び３−カルボ
キシメチル−４−チアゾリン−２−チオン）、イミダゾ
ール、ピラゾール、ウラゾール、１，２，４−チアゾー
ル及び１Ｈ−テトラゾール、３−アミノ−５−ベンジル
チオ−１，２，４−トリアゾール及びベンゾトリアゾー
ルから選択される窒素酸と銀との錯体また塩；サッカリ
ン、５−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩；及びメ
ルカプチド類の銀塩。上記記載の有機銀塩の中でも、脂
肪酸の銀塩が好ましく用いられ、更に好ましく用いられ
るのは、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀およびステアリン
酸銀である。

【００７０】本発明に用いられる水系有機銀塩の分散物
は、硝酸銀と有機酸アルカリ金属塩を混合することによ
り得られるが、有機銀塩生成時にハロゲン化銀次いで硝
酸銀を加える混合法を用いて製造されることが好まし
い。

【００７１】例えば、有機酸にアルカリ金属水酸化物
（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）を
加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ（例えば、ベヘン酸
ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど）を作製した
後に、ハロゲン化銀を加え、次いで硝酸銀を添加、混合
して本発明に用いられる水系有機銀塩分散物を作製する
事が出来る。更に、有機酸のアルカリ金属塩、硝酸銀及
びハロゲン化銀を各々、同時に添加、混合するいわゆる
コントロールトリプルジェット法を用いて本発明に用い
られる水系有機銀塩分散物を作製することができる。

【００７２】本発明においては、生産工程上の簡便性の
観点からは、上記のコントロールダブルジェット法を用
いた水系有機銀塩分散物の製造方法が好ましく用いられ
る。また、高感度の熱現像感光材料を製造する観点から
は、上記のコントロールトリプルジェット法を用いた水
系有機銀塩分散物の製造方法が好ましく用いられる。

【００７３】《ハロゲン化銀粒子》本発明に用いられる
ハロゲン化銀粒子は光センサとして機能する。本発明に
おいては、画像形成後の白濁を低く抑え、且つ、良好な
画質を得るために平均粒子サイズが０．１μｍ以下が好
ましく、更に好ましくは０．０１μｍ〜０．１μｍであ
り、特に好ましくは０．０２μｍ〜０．０８μｍであ
る。

【００７４】ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀
粒子が立方体或いは八面体のいわゆる正常晶である場合
には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。また、正常
晶でない場合、例えば球状、棒状、或いは平板状の粒子
の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考え
たときの直径をしめす。また、ハロゲン化銀は単分散で
あることが好ましい。

【００７５】ここでいう単分散とは、下記式で求められ
る単分散度が４０％以下の場合を表す。本発明において
は、単分散度としては、３０％以下が更に好ましく、特
に好ましくは０．１％以上２０％以下である。

【００７６】単分散度＝（粒径の標準偏差）／（粒径の
平均値）×１００ 本発明では、ハロゲン化銀粒子が平均粒径０．１μｍ以
下でかつ単分散粒子であることがより好ましく、この範
囲にすることで画像の粒状性も向上する。

【００７７】ハロゲン化銀粒子の形状については、特に
制限はないが、ミラー指数〔１００〕面の占める割合が
高いことが好ましく、この割合が５０％以上、更には７
０％以上、特に８０％以上であることが好ましい。ミラ
ー指数〔１００〕面の比率は増感色素の吸着における
〔１１１〕面と〔１００〕面との吸着依存性を利用した
Ｔ．Ｔａｎｉ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｃｉ．，２９，
１６５（１９８５）により求めることができる。

【００７８】またもう一つの好ましいハロゲン化銀の形
状は、平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影
面積の平方根を粒径ｒμｍとして垂直方向の厚みがｈμ
ｍである場合のアスペクト比＝ｒ／ｈが３以上のものを
いう。その中でも、更に好ましくはアスペクト比が３以
上５０以下である。また粒径は０．１μｍ以下であるこ
とが好ましく、さらに０．０１μｍ〜０．０８μｍが好
ましい。これらは米国特許第５，２６４，３３７号、同
第５，３１４，７９８号、同第５，３２０，９５８号等
に記載されており、上記特許を参考にして目的の平板状
粒子を得ることができる。

【００７９】本発明においてこれらの平板状粒子を用い
た場合、更に画像の鮮鋭性も向上する。ハロゲン組成と
しては特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化
銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよ
い。本発明に用いられるＡｇＸ粒子は、Ｐ．Ｇｌａｆｋ
ｉｄｅｓ著Ｃｈｉｍｉｅ ｅｔ Ｐｈｙｓｉｑｕｅ Ｐ
ｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｑｕｅ（Ｐａｕｌ Ｍｏｎｔｅｌ
社刊、１９６７年）、Ｇ．Ｆ．Ｄｕｆｆｉｎ著 Ｐｈｏ
ｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｅｍｕｌｓｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓ
ｔｒｙ（Ｔｈｅ Ｆｏｃａｌ Ｐｒｅｓｓ刊、１９６６
年）、Ｖ．Ｌ．Ｚｅｌｉｋｍａｎ ｅｔ ａｌ著Ｍａｋ
ｉｎｇ ａｎｄ Ｃｏａｔｉｎｇ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐ
ｈｉｃ Ｅｍｕｌｓｉｏｎ（Ｔｈｅ Ｆｏｃａｌ Ｐｒ
ｅｓｓ刊、１９６４年）等に記載された方法を用いて作
製されたＡｇ乳剤を用いて調製することが出来る。

【００８０】本発明に用いられるハロゲン化銀は有機銀
塩に対して０．７５質量％〜３０質量％の量で含有され
ることが好ましい。

【００８１】本発明に用いられるハロゲン化銀には、周
期表の６族から１１族に属する金属イオンを含有するこ
とが好ましい。上記の金属としては、Ｗ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐ
ｔ、Ａｕが好ましい。

【００８２】これらの金属イオンは金属錯体または金属
錯体イオンの形でハロゲン化銀に導入できる。これらの
金属錯体または金属錯体イオンとしては、下記一般式で
表される６配位金属錯体が好ましい。

【００８３】一般式 〔ＭＬ₆〕^m 式中、Ｍは周期表の６〜１１族の元素から選ばれる遷移
金属、Ｌは配位子、ｍは０、−、２−、３−または４−
を表す。Ｌで表される配位子の具体例としては、ハロゲ
ン化物（弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物）、シアン
化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナー
ト、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニ
トロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはア
コ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位
子が存在する場合には、配位子の一つまたは二つを占め
ることが好ましい。Ｌは同一でもよく、また異なってい
てもよい。

【００８４】Ｍとして特に好ましい具体例は、ロジウム
（Ｒｈ）、ルテニウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）、イ
リジウム（Ｉｒ）及びオスミウム（Ｏｓ）である。

【００８５】以下に遷移金属錯体イオンの具体例を示す
が本発明はこれらに限定されない。 １：〔ＲｈＣｌ₆〕^3- ２：〔ＲｕＣｌ₆〕^3- ３：〔ＲｅＣｌ₆〕^3- ４：〔ＲｕＢｒ₆〕^3- ５：〔ＯｓＣｌ₆〕^3- ６：〔ＩｒＣｌ₆〕^4- ７：〔Ｒｕ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^2- ８：〔ＲｕＢｒ₄（Ｈ₂Ｏ）〕^2- ９：〔Ｒｕ（ＮＯ）（Ｈ₂Ｏ）Ｃｌ₄〕^- １０：〔ＲｈＣｌ₅（Ｈ₂Ｏ）〕^2- １１：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^2- １２：〔Ｒｅ（ＮＯ）（ＣＮ）₅〕^2- １３：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃｌ（ＣＮ）₄〕^2- １４：〔Ｒｈ（ＮＯ）₂Ｃｌ₄〕^- １５：〔Ｒｈ（ＮＯ）（Ｈ₂Ｏ）Ｃｌ₄〕^- １６：〔Ｒｕ（ＮＯ）（ＣＮ）₅〕^2- １７：〔Ｆｅ（ＣＮ）₆〕^3- １８：〔Ｒｈ（ＮＳ）Ｃｌ₅〕^2- １９：〔Ｏｓ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^2- ２０：〔Ｃｒ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^2- ２１：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^- ２２：〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ₄（ＴｅＣＮ）〕^2- ２３：〔Ｒｕ（ＮＳ）Ｃｌ₅〕^2- ２４：〔Ｒｅ（ＮＳ）Ｃｌ₄（ＳｅＣＮ）〕^2- ２５：〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ（ＳＣＮ）₄〕^2- ２６：〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕^2- ２７：〔Ｉｒ（ＮＳ）Ｃｌ₅〕^2- これらの金属イオン、金属錯体または金属錯体イオンは
一種類でもよいし、同種の金属及び異種の金属を二種以
上併用してもよい。これらの金属イオン、金属錯体また
は金属錯体イオンの含有量としては、一般的にはハロゲ
ン化銀１モル当たり１×１０^-9〜１×１０^-2モルが適当
であり、好ましくは１×１０^-8〜１×１０^-4モルであ
る。

【００８６】これらの金属を提供する化合物は、ハロゲ
ン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み
込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つ
まり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段
階で添加してもよいが、特に核形成、成長、物理熟成の
段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段
階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の段
階で添加する。

【００８７】添加に際しては、数回に渡って分割して添
加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させる
こともできるし、特開昭６３−２９６０３号、特開平２
−３０６２３６号、同３−１６７５４５号、同４−７６
５３４号、同６−１１０１４６号、同５−２７３６８３
号等に記載されている様に粒子内に分布を持たせて含有
させることもできる。好ましくは粒子内部に分布をもた
せることができる。

【００８８】これらの金属化合物は、水或いは適当な有
機溶媒（例えば、アルコール類、エーテル類、グリコー
ル類、ケトン類、エステル類、アミド類）に溶解して添
加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶
液もしくは金属化合物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に溶
解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液または水
溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶
液とハライド溶液が同時に混合されるとき第３の水溶液
として添加し、３液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子
を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水
溶液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調
製時に予め金属のイオンまたは錯体イオンをドープして
ある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等
がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属
化合物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に溶解した水溶液を
水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。

【００８９】粒子表面に添加する時には、粒子形成直後
または物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時
に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入するこ
ともできる。

【００９０】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は粒
子形成後に脱塩してもしなくてもよいが、脱塩を施す場
合、ヌードル法、フロキュレーション法等、当業界で知
られている方法を用いて水洗することにより脱塩するこ
とができる。

【００９１】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は化
学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感法
としては当業界でよく知られているように硫黄増感法、
セレン増感法、テルル増感法を用いることができる。ま
た金化合物や白金、パラジウム、イリジウム化合物等の
貴金属増感法や還元増感法を用いることができる。硫黄
増感法、セレン増感法、テルル増感法に好ましく用いら
れる化合物としては公知の化合物を用いることができる
が、特開平７−１２８７６８号等に記載の化合物を使用
することができる。テルル増感剤としては例えばジアシ
ルテルリド類、ビス（オキシカルボニル）テルリド類、
ビス（カルバモイル）テルリド類、ジアシルテルリド
類、ビス（オキシカルボニル）ジテルリド類、ビス（カ
ルバモイル）ジテルリド類、Ｐ＝Ｔｅ結合を有する化合
物、テルロカルボン酸塩類、テルロカルボン酸エステル
類、ジ（ポリ）テルリド類、テルリド類、テルロール
類、テルロアセタール類、テルロスルホナート類、Ｐ−
Ｔｅ結合を有する化合物、含Ｔｅヘテロ環類、テルロカ
ルボニル化合物、無機テルル化合物、コロイド状テルル
などを用いることができる。貴金属増感法に好ましく用
いられる化合物としては例えば塩化金酸、カリウムクロ
ロオーレート、カリウムオーリチオシアネート、硫化
金、金セレナイド、あるいは米国特許第２，４４８，０
６０号、英国特許第６１８，０６１号などに記載されて
いる化合物を好ましく用いることができる。

【００９２】還元増感法の具体的な化合物としてはアス
コルビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一ス
ズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導
体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等
を用いることができる。また、乳剤のｐＨを７以上また
はｐＡｇを８．３以下に保持して熟成することにより還
元増感することができる。また、粒子形成中に銀イオン
のシングルアディション部分を導入することにより還元
増感することができる。

【００９３】《還元剤》本発明の熱現像感光材料には還
元剤を内蔵させることが好ましい。好適な還元剤の例
は、米国特許第３，７７０，４４８号、同第３，７７
３，５１２号、同第３，５９３，８６３号、及びＲｅｓ
ｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ第１７０２９及び２
９９６３に記載されており、次のものがある。アミノヒ
ドロキシシクロアルケノン化合物（例えば、２−ヒドロ
キシピペリジノ−２−シクロヘキセノン）；還元剤の前
駆体としてアミノリダクトン類（ｒｅｄｕｃｔｏｎｅ
ｓ）エステル（例えば、ピペリジノヘキソースリダクト
ンモノアセテート）；Ｎ−ヒドロキシ尿素誘導体（例え
ば、Ｎ−ｐ−メチルフェニル−Ｎ−ヒドロキシ尿素）；
アルデヒドまたはケトンのヒドラゾン類（例えば、アン
トラセンアルデヒドフェニルヒドラゾン）；ホスファー
アミドフェノール類；ホスファーアミドアニリン類；ポ
リヒドロキシベンゼン類（例えば、ヒドロキノン、ｔ−
ブチル−ヒドロキノン、イソプロピルヒドロキノン及び
（２，５−ジヒドロキシ−フェニル）メチルスルホ
ン）；スルフヒドロキサム酸類（例えば、ベンゼンスル
フヒドロキサム酸）；スルホンアミドアニリン類（例え
ば、４−（Ｎ−メタンスルホンアミド）アニリン）；２
−テトラゾリルチオヒドロキノン類（例えば、２−メチ
ル−５−（１−フェニル−５−テトラゾリルチオ）ヒド
ロキノン）；テトラヒドロキノキサリン類（例えば、
１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリン）；アミド
オキシン類；アジン類（例えば、脂肪族カルボン酸アリ
ールヒドラザイド類とアスコルビン酸の組み合わせ）；
ポリヒドロキシベンゼンとヒドロキシルアミンの組み合
わせ、リダクトン及び／またはヒドラジン；ヒドロキサ
ム酸類；アジン類とスルホンアミドフェノール類の組み
合わせ；α−シアノフェニル酢酸誘導体；ビス−β−ナ
フトールと１，３−ジヒドロキシベンゼン誘導体の組み
合わせ；５−ピラゾロン類；スルホンアミドフェノール
還元剤；２−フェニルインダン−１，３−ジオン等；ク
ロマン；１，４−ジヒドロピリジン類（例えば、２，６
−ジメトキシ−３，５−ジカルボエトキシ−１，４−ジ
ヒドロピリジン）；ビスフェノール類（例えば、ビス
（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニ
ル）メタン、ビス（６−ヒドロキシ−ｍ−トリ）メシト
ール（ｍｅｓｉｔｏｌ）、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シ−３−メチルフェニル）プロパン、４，５−エチリデ
ン−ビス（２−ｔ−ブチル−６−メチル）フェノー
ル）、紫外線感応性アスコルビン酸誘導体及び３−ピラ
ゾリドン類。中でも特に好ましい還元剤はヒンダードフ
ェノール類である。ヒンダードフェノール類としては下
記一般式（Ａ）で表される化合物が挙げられる。

【００９４】

【化１１】

【００９５】式中、Ｒは水素原子、または炭素原子数１
〜１０のアルキル基（例えば、ブチル基、２，４，４−
トリメチルペンチル基等）を表し、Ｒ′及びＲ″は炭素
原子数１〜５のアルキル基（例えば、メチル基、エチル
基、ｔ−ブチル基等）を表す。

【００９６】一般式（Ａ）で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は、これらに限定されな
い。

【００９７】

【化１２】

【００９８】

【化１３】

【００９９】前記一般式（Ａ）で表される化合物を始め
とする還元剤の使用量は好ましくは銀１モル当り１×１
０^-2〜１０モル、特に１×１０^-2〜１．５モルである。

【０１００】《カブリ防止剤》本発明の熱現像感光材料
中にはカブリ防止剤が含まれて良い。有効なカブリ防止
剤として知られているものは水銀イオンであり、感光材
料中にカブリ防止剤として水銀化合物を使用することに
ついては、例えば米国特許第３，５８９，９０３号に開
示されている。しかし、水銀化合物は環境的に好ましく
ないので、例えば米国特許第４，５４６，０７５号及び
同第４，４５２，８８５号及び特開昭５９−５７２３４
号に開示されている様な非水銀カブリ防止剤が本発明に
おいては好ましく用いられる。

【０１０１】特に好ましい非水銀カブリ防止剤として
は、米国特許第３，８７４，９４６号及び同第４，７５
６，９９９号に開示されているような化合物、−Ｃ（Ｘ
₁）（Ｘ₂）（Ｘ₃）（ここでＸ₁及びＸ₂はハロゲン原子
を表し、Ｘ₃は水素またはハロゲン原子を表す）で表さ
れる置換基を１以上備えたヘテロ環状化合物が挙げられ
る。

【０１０２】また、その他に好適なカブリ防止剤として
は、特開平９−２８８３２８号の段落番号〔００３０〕
〜〔００３６〕に記載されている化合物、特開平９−９
０５５０号の段落番号〔００６２〕〜〔００６３〕等に
記載の化合物、米国特許第５，０２８，５２３号及び欧
州特許第６００，５８７号、同第６０５，９８１号、同
第６３１，１７６号等に開示されている化合物等を用い
ることが出来る。

【０１０３】《色調剤》本発明の熱現像感光材料には、
現像後の銀色調を改良する目的で色調剤を添加すること
が好ましい。好適な色調剤の例はＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄ
ｉｓｃｌｏｓｕｒｅ第１７０２９号に開示されており、
次のものがある。

【０１０４】イミド類（例えば、フタルイミド）；環状
イミド類、ピラゾリン−５−オン類、及びキナゾリノン
（例えば、スクシンイミド、３−フェニル−２−ピラゾ
リン−５−オン、１−フェニルウラゾール、キナゾリン
及び２，４−チアゾリジンジオン）；ナフタールイミド
類（例えば、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタールイミ
ド）；コバルト錯体（例えば、コバルトのヘキサミント
リフルオロアセテート）、メルカプタン類（例えば、３
−メルカプト−１，２，４−トリアゾール）；Ｎ−（ア
ミノメチル）アリールジカルボキシイミド類（例えば、
Ｎ−（ジメチルアミノメチル）フタルイミド）；ブロッ
クされたピラゾール類、イソチウロニウム（ｉｓｏｔｈ
ｉｕｒｏｎｉｕｍ）誘導体及びある種の光漂白剤の組み
合わせ（例えば、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレン（１−カル
バモイル−３，５−ジメチルピラゾール）、１，８−
（３，６−ジオキサオクタン）ビス（イソチウロニウム
トリフルオロアセテート）、及び２−（トリブロモメチ
ルスルホニル）ベンゾチアゾールの組み合わせ）；メロ
シアニン染料（例えば、３−エチル−５−（（３−エチ
ル−２−ベンゾチアゾリニリデン（ベンゾチアゾリニリ
デン））−１−メチルエチリデン）−２−チオ−２，４
−オキサゾリジンジオン）；フタラジノン、フタラジノ
ン誘導体またはこれらの誘導体の金属塩（例えば、４−
（１−ナフチル）フタラジノン、６−クロロフタラジノ
ン、５，７−ジメチルオキシフタラジノン、及び２，３
−ジヒドロ−１，４−フタラジンジオン）；フタラジノ
ンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ（例えば、６−ク
ロロフタラジノン＋ベンゼンスルフィン酸ナトリウムま
たは８−メチルフタラジノン＋ｐ−トリスルホン酸ナト
リウム）；フタラジン＋フタル酸の組み合わせ；フタラ
ジン（フタラジンの付加物を含む）とマレイン酸無水
物、及びフタル酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸ま
たはｏ−フェニレン酸誘導体及びその無水物（例えば、
フタル酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸及
びテトラクロロフタル酸無水物）から選択される少なく
とも１つの化合物との組み合わせ；キナゾリンジオン
類、ベンゾオキサジン、ナルトキサジン誘導体；ベンゾ
オキサジン−２，４−ジオン類（例えば、１，３−ベン
ゾオキサジン−２，４−ジオン）；ピリミジン類及び不
斉−トリアジン類（例えば、２，４−ジヒドロキシピリ
ミジン）、及びテトラアザペンタレン誘導体（例えば、
３，６−ジメルカプト−１，４−ジフェニル−１Ｈ，４
Ｈ−２，３ａ，５，６ａ−テトラアザペンタレン）。好
ましい色調剤としてはフタラゾンまたはフタラジンであ
る。

【０１０５】《増感色素》本発明の熱現像感光材料に
は、例えば特開昭６３−１５９８４１号、同６０−１４
０３３５号、同６３−２３１４３７号、同６３−２５９
６５１号、同６３−３０４２４２号、同６３−１５２４
５号、米国特許第４，６３９，４１４号、同第４，７４
０，４５５号、同第４，７４１，９６６号、同第４，７
５１，１７５号、同第４，８３５，０９６号に記載され
た増感色素が使用できる。

【０１０６】本発明に使用される有用な増感色素は例え
ばＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｉｔｅｍ
１７６４３IV−Ａ項（１９７８年１２月ｐ．２３）に記
載もしくは引用された文献に記載されている。特に各種
スキャナー光源の分光特性に適した分光感度を有する増
感色素を有利に選択することができる。例えば特開平９
−３４０７８号、同９−５４４０９号、同９−８０６７
９号記載の化合物が好ましく用いられる。

【０１０７】《メルカプト化合物、ジスルフィド化合
物、チオン化合物》本発明には現像を抑制あるいは促進
させ現像を制御するため、分光増感効率を向上させるた
め、現像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプ
ト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有さ
せることができる。

【０１０８】本発明にメルカプト化合物を使用する場
合、いかなる構造のものでも良いが、Ａｒ−ＳＭ、Ａｒ
−Ｓ−Ｓ−Ａｒで表されるものが好ましい。式中、Ｍは
水素原子またはアルカリ金属原子であり、Ａｒは１個以
上の窒素、イオウ、酸素、セレニウムまたはテルリウム
原子を有する芳香環または縮合芳香環を表す。

【０１０９】該芳香環としては、芳香族炭素環及び複素
芳香族環が用いられるが、本発明においては複素芳香族
環が好ましく用いられる。複素芳香族環としては、例え
ばベンゾイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾチ
アゾール、ナフトチアゾール、ベンゾオキサゾール、ナ
フトオキサゾール、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラ
ゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、ト
リアゾール、チアジアゾール、テトラゾール、トリアジ
ン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プ
リン、キノリンまたはキナゾリノンである。この複素芳
香族環は、例えば、ハロゲン原子（例えば、Ｂｒおよび
Ｃｌ等）、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシ基、ア
ルキル基（例えば、１個以上の炭素原子、好ましくは１
〜４個の炭素原子を有するもの）およびアルコキシ基
（例えば、１個以上の炭素原子、好ましくは１〜４個の
炭素原子を有するもの）からなる置換基群から選択され
るものを有してもよい。メルカプト置換複素芳香族化合
物としては、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−
メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾ
チアゾール、２−メルカプト−５−メチルベンゾチアゾ
ール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２
−メルカプトキノリン、８−メルカプトプリン、２，
３，５，６−テトラクロロ−４−ピリジンチオール、４
−ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジン、２−メルカ
プト−４−フェニルオキサゾールなどが挙げられるが、
本発明はこれらに限定されない。

【０１１０】《マット剤》本発明においては、感光性層
側にマット剤を含有することが好ましく、熱現像後の画
像の傷つき防止のためには感光材料の表面にマット剤を
配することが好ましく、そのマット剤を乳剤層側の全バ
インダに対し、質量比で０．５〜３０％含有することが
好ましい。

【０１１１】本発明に用いられるマット剤の材質は有機
物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機物として
は、スイス特許第３３０，１５８号等に記載のシリカ、
仏国特許第１，２９６，９９５号等に記載のガラス粉、
英国特許第１，１７３，１８１号等に記載のアルカリ土
類金属またはカドミウム、亜鉛等の炭酸塩等をマット剤
として用いることができる。有機物としては、米国特許
第２，３２２，０３７号等に記載の澱粉、ベルギー特許
第６２５，４５１号や英国特許第９８１，１９８号等に
記載された澱粉誘導体、特公昭４４−３６４３号等に記
載のポリビニルアルコール、スイス特許第３３０，１５
８号等に記載のポリスチレン或いはポリメタクリレー
ト、米国特許第３，０７９，２５７号等に記載のポリア
クリロニトリル、米国特許第３，０２２，１６９号等に
記載されたポリカーボネートの様な有機マット剤を用い
ることができる。

【０１１２】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。本発明においてマット剤の粒
径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。

【０１１３】本発明に用いられるマット剤は、平均粒径
が０．５μｍ〜１０μｍであることが好ましく、更に好
ましくは１．０μｍ〜８．０μｍである。又、粒子サイ
ズ分布の変動係数としては、５０％以下であることが好
ましく、更に好ましくは４０％以下であり、特に好まし
くは３０％以下となるマット剤である。

【０１１４】ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下
記の式で表される値である。 （粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）×１００ 本発明に用いられるマット剤は任意の構成層中に含むこ
とができるが、本発明の目的を達成するためには好まし
くは感光性層以外の構成層であり、更に好ましくは支持
体から見て最も外側の層である。

【０１１５】本発明に用いられるマット剤の添加方法
は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であっても
よいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマ
ット剤を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類
のマット剤を添加する場合は、両方の方法を併用しても
よい。

【０１１６】《導電性化合物》本発明においては帯電性
を改良するために金属酸化物および／または導電性ポリ
マーなどの導電性化合物を構成層中に含ませることがで
きる。これらはいずれの層に含有させてもよいが、好ま
しくは下引層、バッキング層、感光性層と下引の間の層
などに含まれる。

【０１１７】本発明においては米国特許第５，２４４，
７７３号カラム１４〜２０に記載された導電性化合物が
好ましく用いられる。

【０１１８】《添加剤》各種の添加剤は感光性層、非感
光性層、またはその他の構成層のいずれに添加しても良
い。本発明の熱現像感光材料には上述した以外に例え
ば、界面活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外
線吸収剤、被覆助剤等を用いても良い。これらの添加剤
及び上述したその他の添加剤はＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉ
ｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｉｔｅｍ１７０２９（１９７８年６
月、ｐ．９〜１５）に記載されている化合物を好ましく
用いることができる。

【０１１９】《バインダ》本発明の熱現像感光材料に好
適なバインダは透明または半透明で、一般に無色であ
り、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、
その他フィルムを形成する媒体、例えば：ゼラチン、ア
ラビアゴム、ポリ（ビニルアルコール）、ヒドロキシエ
チルセルロース、セルロースアセテート、セルロースア
セテートブチレート、ポリ（ビニルピロリドン）、カゼ
イン、デンプン、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メチルメ
タクリル酸）、ポリ（塩化ビニル）、ポリ（メタクリル
酸）、コポリ（スチレン−無水マレイン酸）、コポリ
（スチレン−アクリロニトリル）、コポリ（スチレン−
ブタジエン）、ポリ（ビニルアセタール）類（例えば、
ポリ（ビニルホルマール）及びポリ（ビニルブチラー
ル））、ポリ（エステル）類、ポリ（ウレタン）類、フ
ェノキシ樹脂、ポリ（塩化ビニリデン）、ポリ（エポキ
シド）類、ポリ（カーボネート）類、ポリ（ビニルアセ
テート）、セルロースエステル類、ポリ（アミド）類が
ある。親水性でも非親水性でもよい。また感光材料の表
面を保護したり擦り傷を防止するために、感光性層の外
側に非感光性層を有することができる。これらの非感光
性層に用いられるバインダは感光性層に用いられるバイ
ンダと同じ種類でも異なった種類でもよい。

【０１２０】本発明においては、熱現像の速度を速める
ために感光性層のバインダ量が１．５〜１０ｇ／ｍ²が
好ましく、更に好ましくは１．７〜８ｇ／ｍ²である。

【０１２１】《支持体》本発明で用いられる支持体は現
像処理後の画像の変形を防ぐためにプラスチックフイル
ム（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボ
ネート、ポリイミド、ナイロン、セルローストリアセテ
ート、ポリエチレンナフタレート）であることが好まし
い。

【０１２２】その中でも好ましい支持体としては、ポリ
エチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略す）及びシン
ジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプ
ラスチック（以下ＳＰＳと略す）の支持体が挙げられ
る。支持体の厚みとしては５０μｍ〜３００μｍ程度、
好ましくは７０μｍ〜１８０μｍである。

【０１２３】また熱処理したプラスチック支持体を用い
ることもできる。採用するプラスチックとしては、前記
のプラスチックが挙げられる。支持体の熱処理とはこれ
らの支持体を製膜後、感光性層が塗布されるまでの間
に、支持体のガラス転移点より３０℃以上高い温度で、
好ましくは３５℃以上高い温度で、更に好ましくは４０
℃以上高い温度で加熱することがよい。但し、支持体の
融点を超えた温度で加熱しては本発明の効果は得られな
い。

【０１２４】次に用いられるプラスチックについて説明
する。ＰＥＴはポリエステルの成分が全てポリエチレン
テレフタレートからなるものであるが、ポリエチレンテ
レフタレート以外に、酸成分としてテレフタル酸、ナフ
タレン−２，６−ジカルボン酸、イソフタル酸、ブチレ
ンジカルボン酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、
アジピン酸等と、グリコール成分としてエチレングリコ
ール、プロピレングリコール、ブタンジオール、シクロ
ヘキサンジメタノール等との変性ポリエステル成分が全
ポリエステルの１０モル％以下含まれたポリエステルで
あってもよい。

【０１２５】ＳＰＳは通常のポリスチレン（アタクチッ
クポリスチレン）と異なり立体的に規則性を有したポリ
スチレンである。ＳＰＳの規則的な立体規則性構造部分
をラセモ連鎖といい、２連鎖、３連鎖、５連鎖、あるい
はそれ以上と規則的な部分がより多くあることが好まし
く、本発明において、ラセモ連鎖は、２連鎖で８５％以
上、３連鎖で７５％以上、５連鎖で５０％以上、それ以
上の連鎖で３０％以上であることが好ましい。ＳＰＳの
重合は特開平３−１３１８４３号明細書記載の方法に準
じて行うことが出来る。

【０１２６】本発明に用いられる支持体の製膜方法及び
下引製造方法は公知の方法を用いることができるが、好
ましくは、特開平９−５００９４号の段落〔００３０〕
〜〔００７０〕に記載された方法を用いることである。

【０１２７】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理に
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源（有機銀
塩）、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を通常（有機）バインダマトリ
ックス中に分散した状態で含有している熱現像感光材料
であることが好ましい。本発明の熱現像感光材料は常温
で安定であるが、露光後高温（例えば、８０℃〜１４０
℃）に加熱することで現像される。加熱することで有機
銀塩（酸化剤として機能する）と還元剤との間の酸化還
元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露光
でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促進
される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成した
銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をな
し、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部から
水等の処理液を供給することなしで進行する。

【０１２８】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも一層の感光性層を有している。支持体の上に感光
性層のみを形成しても良いが、感光性層の上に少なくと
も１層の非感光性層を形成することが好ましい。感光性
層に通過する光の量または波長分布を制御するために感
光性層と同じ側にフィルター染料層および／または反対
側にアンチハレーション染料層、いわゆるバッキング層
を形成しても良いし、感光性層に染料または顔料を含ま
せても良い。用いられる染料としては所望の波長範囲で
目的の吸収を有するものであればいかなる化合物でも良
いが、例えば特開昭５９−６４８１号、特開昭５９−１
８２４３６号、米国特許第４，２７１，２６３号、米国
特許第４，５９４，３１２号、欧州特許公開５３３，０
０８号、欧州特許公開６５２，４７３号、特開平２−２
１６１４０号、特開平４−３４８３３９号、特開平７−
１９１４３２号、特開平７−３０１８９０号などの記載
の化合物が好ましく用いられる。

【０１２９】またこれらの非感光性層には前記のバイン
ダやマット剤を含有することが好ましく、さらにポリシ
ロキサン化合物やワックスや流動パラフィンのようなス
ベリ剤を含有してもよい。

【０１３０】感光性層は複数層にしても良く、また階調
の調節のため感度を高感層／低感層または低感層／高感
層にしても良い。

【０１３１】熱現像感光材料の詳細は前述のとおり例え
ば米国特許第３，１５２，９０４号、同第３，４５７，
０７５号、及びＤ．モーガン（Ｍｏｒｇａｎ）による
「ドライシルバー写真材料（Ｄｒｙ Ｓｉｌｖｅｒ Ｐ
ｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌ）」やＤ．
モーガン（Ｍｏｒｇａｎ）とＢ．シェリー（Ｓｈｅｌ
ｙ）による「熱によって処理される銀システム（Ｔｈｅ
ｒｍａｌｌｙ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｄ Ｓｉｌｖｅｒ Ｓ
ｙｓｔｅｍｓ）」（イメージング・プロセッシーズ・ア
ンド・マテリアルズ（Ｉｍａｇｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｓｓ
ｅｓ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ）Ｎｅｂｌｅｔｔｅ
第８版、スタージ（Ｓｔｕｒｇｅ）、Ｖ．ウォールワ
ース（Ｗａｌｗｏｒｔｈ）、Ａ．シェップ（Ｓｈｅｐ
ｐ）編集、第２頁、１９６９年）等に開示されている。
その中でも本発明においては、感光材料を８０〜１４０
℃で熱現像することで画像を形成させ、定着を行わない
ことが特徴である。そのため、未露光部に残ったハロゲ
ン化銀や有機銀塩は除去されずにそのまま感光材料中に
残る。

【０１３２】本発明においては、熱現像処理した後の、
４００ｎｍにおける支持体を含んだ感光材料の光学透過
濃度が０．２以下であることが好ましい。光学透過濃度
の更に好ましい値は０．０２以上０．２以下である。

【０１３３】《硬調化剤：現像促進効果を有する物質を
放出する化合物ともいう》本発明の熱現像感光材料にお
いては、熱現像温度の上昇に伴い、現像促進効果を有す
る物質を放出する化合物を含有していることが特徴であ
る。本発明において、熱現像温度の上昇に伴い、現像促
進効果を有する物質を放出する化合物としては、特に制
限はないが、好ましい化合物としてはヒドラジン誘導体
またはビニル化合物であり、具体的には、下記一般式
（Ｇ）で表される化合物または下記一般式〔Ｈ〕で表さ
れる化合物が好ましく用いられる。

【０１３４】初めに、一般式（Ｇ）で表される化合物に
ついて説明する。

【０１３５】

【化１４】

【０１３６】上記一般式（Ｇ）において、ＸとＲはシス
の形で表示してあるが、ＸとＲがトランスの形も一般式
（Ｇ）に含まれる。このことは具体的化合物の構造表示
においても同様である。

【０１３７】一般式（Ｇ）において、Ｘは電子吸引性基
を表し、Ｗは水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、ア
シル基、チオアシル基、オキサリル基、オキシオキサリ
ル基、チオオキサリル基、オキサモイル基、オキシカル
ボニル基、チオカルボニル基、カルバモイル基、チオカ
ルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ
スルホニル基、チオスルホニル基、スルファモイル基、
オキシスルフィニル基、チオスルフィニル基、スルフィ
ナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ基、Ｎ−
カルボニルイミノ基、Ｎ−スルホニルイミノ基、ジシア
ノエチレン基、アンモニウム基、スルホニウム基、ホス
ホニウム基、ピリリウム基又はインモニウム基を表す。

【０１３８】Ｒはハロゲン原子、ヒドロキシル基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アル
ケニルオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニ
ルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、アルケニルチオ基、アシルチオ基、アルコキシカル
ボニルチオ基、アミノカルボニルチオ基、ヒドロキシル
基又はメルカプト基の有機又は無機の塩（例えば、ナト
リウム塩、カリウム塩、銀塩等）、アミノ基、アルキル
アミノ基、環状アミノ基（例えば、ピロリジノ基）、ア
シルアミノ基、オキシカルボニルアミノ基、複素環基
（５〜６員の含窒素ヘテロ環、例えばベンツトリアゾリ
ル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル
基等）、ウレイド基又はスルホンアミド基を表す。Ｘと
Ｗ、ＸとＲは、それぞれ互いに結合して環状構造を形成
してもよい。ＸとＷが形成する環としては、例えば、ピ
ラゾロン、ピラゾリジノン、シクロペンタンジオン、β
−ケトラクトン、β−ケトラクタム等が挙げられる。

【０１３９】一般式（Ｇ）について更に説明すると、Ｘ
の表す電子吸引性基とは、置換基定数σｐが正の値をと
りうる置換基のことである。具体的には、置換アルキル
基（ハロゲン置換アルキル等）、置換アルケニル基（シ
アノビニル等）、置換・未置換のアルキニル基（トリフ
ルオロメチルアセチレニル、シアノアセチレニル等）、
置換アリール基（シアノフェニル等）、置換・未置換の
複素環基（ピリジル、トリアジニル、ベンゾオキサゾリ
ル等）、ハロゲン原子、シアノ基、アシル基（アセチ
ル、トリフルオロアセチル、ホルミル等）、チオアセチ
ル基（チオアセチル、チオホルミル等）、オキサリル基
（メチルオキサリル等）、オキシオキサリル基（エトキ
サリル等）、チオオキサリル基（エチルチオオキサリル
等）、オキサモイル基（メチルオキサモイル等）、オキ
シカルボニル基（エトキシカルボニル等）、カルボキシ
ル基、チオカルボニル基（エチルチオカルボニル等）、
カルバモイル基、チオカルバモイル基、スルホニル基、
スルフィニル基、オキシスルホニル基（エトキシスルホ
ニル等）、チオスルホニル基（エチルチオスルホニル
等）、スルファモイル基、オキシスルフィニル基（メト
キシスルフィニル等）、チオスルフィニル基（メチルチ
オスルフィニル等）、スルフィナモイル基、ホスホリル
基、ニトロ基、イミノ基、Ｎ−カルボニルイミノ基（Ｎ
−アセチルイミノ等）、Ｎ−スルホニルイミノ基（Ｎ−
メタンスルホニルイミノ等）、ジシアノエチレン基、ア
ンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ピリ
リウム基、インモニウム基が挙げられるが、アンモニウ
ム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、インモニウム
基等が環を形成したヘテロ環状のものも含まれる。σｐ
値として０．３０以上の置換基が特に好ましい。

【０１４０】Ｗとして表されるアルキル基としては、例
えば、メチル、エチル、トリフルオロメチル等が、アル
ケニル基としては、例えば、ビニル、ハロゲン置換ビニ
ル、シアノビニル等が、アルキニル基としては、例え
ば、アセチレニル、シアノアセチレニル等が、アリール
基としては、例えば、ニトロフェニル、シアノフェニ
ル、ペンタフルオロフェニル等が、複素環基としては、
例えば、ピリジル、ピリミジル、トリアジニル、スクシ
ンイミド、テトラゾリル、トリアゾリル、イミダゾリ
ル、ベンゾオキサゾリル等が挙げられる。Ｗとしてはσ
ｐ値が正の電子吸引性基が好ましく、更にはその値が
０．３０以上のものが好ましい。

【０１４１】上記Ｒの置換基の内、好ましくはヒドロキ
シル基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ
基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基又はメルカプト基の
有機又は無機の塩、複素環基が挙げられ、更に好ましく
はヒドロキシル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基又は
メルカプト基の有機又は無機の塩、複素環基が挙げら
れ、特に好ましくはヒドロキシル基、ヒドロキシル基又
はメルカプト基の有機又は無機の塩が挙げられる。

【０１４２】また上記Ｘ及びＷの置換基の内、置換基中
にチオエーテル結合を有するものが好ましい。

【０１４３】以下に一般式（Ｇ）で表される化合物の具
体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。

【０１４４】

【化１５】

【０１４５】

【化１６】

【０１４６】

【化１７】

【０１４７】

【化１８】

【０１４８】

【化１９】

【０１４９】

【化２０】

【０１５０】

【化２１】

【０１５１】

【化２２】

【０１５２】

【化２３】

【０１５３】

【化２４】

【０１５４】

【化２５】

【０１５５】

【化２６】

【０１５６】

【化２７】

【０１５７】

【化２８】

【０１５８】

【化２９】

【０１５９】

【化３０】

【０１６０】

【化３１】

【０１６１】

【化３２】

【０１６２】

【化３３】

【０１６３】

【化３４】

【０１６４】次いで、下記一般式〔Ｈ〕で表される化合
物について、以下説明する。

【０１６５】

【化３５】

【０１６６】上記一般式〔Ｈ〕において、Ａ₀はそれぞ
れ置換基を有してもよい脂肪族基、芳香族基、複素環基
又は−Ｇ₀−Ｄ₀基を、Ｂ₀はブロッキング基を表し、
Ａ₁、Ａ ₂はともに水素原子、又は一方が水素原子で他方
はアシル基、スルホニル基又はオキザリル基を表す。こ
こで、Ｇ₀は−ＣＯ−基、−ＣＯＣＯ−基、−ＣＳ−
基、−Ｃ（＝ＮＧ₁Ｄ₁）−基、−ＳＯ−基、−ＳＯ₂−
基又は−Ｐ（Ｏ）（Ｇ₁Ｄ₁）−基を表し、Ｇ₁は単なる
結合手、−Ｏ−基、−Ｓ−基又は−Ｎ（Ｄ₁）−基を表
し、Ｄ₁は脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子
を表し、分子内に複数のＤ₁が存在する場合、それらは
同じであっても異なってもよい。Ｄ₀は水素原子、脂肪
族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アルキルチオ基又はアリールチオ基
を表す。好ましいＤ₀としては、水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられる。

【０１６７】一般式〔Ｈ〕において、Ａ₀で表される脂
肪族基は、好ましくは炭素数１〜３０のものであり、特
に炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が
好ましく、例えば、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル
基、オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げ
られ、これらは更に適当な置換基（例えば、アリール
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホキシ基、スルホンアミド
基、スルファモイル基、アシルアミノ基、ウレイド基
等）で置換されていてもよい。

【０１６８】一般式〔Ｈ〕において、Ａ₀で表される芳
香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例
えば、ベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、Ａ₀で
表される複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫
黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子
を含む複素環が好ましく、例えば、ピロリジン環、イミ
ダゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピ
リジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、
ベンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げら
れる。Ａ₀の芳香族基、複素環基及び−Ｇ₀−Ｄ₀基は置
換基を有していてもよい。Ａ₀として、特に好ましく
は、アリール基及び−Ｇ₀−Ｄ₀基である。

【０１６９】又、一般式〔Ｈ〕において、Ａ₀は耐拡散
基又はハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むことが
好ましい。耐拡散基としては、カプラー等の不動性写真
用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラス
ト基としては、写真的に不活性であるアルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、
フェノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置
換基部分の炭素数の合計は８以上であることが好まし
い。

【０１７０】一般式〔Ｈ〕において、ハロゲン化銀吸着
促進基としては、チオ尿素、チオウレタン基、メルカプ
ト基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミ
ド複素環基、メルカプト複素環基或いは特開昭６４−９
０４３９号に記載の吸着基等が挙げられる。

【０１７１】一般式〔Ｈ〕において、Ｂ₀はブロッキン
グ基を表し、好ましくは−Ｇ₀−Ｄ₀基であり、Ｇ₀は−
ＣＯ−基、−ＣＯＣＯ−基、−ＣＳ−基、−Ｃ（＝ＮＧ
₁Ｄ₁）−基、−ＳＯ−基、−ＳＯ₂−基又は−Ｐ（Ｏ）
（Ｇ₁Ｄ₁）−基を表す。好ましいＧ₀としては−ＣＯ−
基、−ＣＯＣＯ−基が挙げられ、Ｇ₁は単なる結合手、
−Ｏ−基、−Ｓ−基又は−Ｎ（Ｄ₁）−基を表し、Ｄ₁は
脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分
子内に複数のＤ₁が存在する場合、それらは同じであっ
ても異なってもよい。Ｄ₀は水素原子、脂肪族基、芳香
族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルチオ基又はアリールチオ基を表し、好
ましいＤ₀としては水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アミノ基等が挙げられる。Ａ₁、Ａ₂はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基（アセチル
基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、スル
ホニル基（メタンスルホニル基、トルエンスルホニル基
等）、又はオキザリル基（エトキザリル基等）を表す。

【０１７２】以下に一般式〔Ｈ〕で表される化合物の具
体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。

【０１７３】

【化３６】

【０１７４】

【化３７】

【０１７５】更に好ましいヒドラジン誘導体は、下記一
般式（Ｈ−１）、（Ｈ−２）、（Ｈ−３）、（Ｈ−４）
で表される。

【０１７６】

【化３８】

【０１７７】一般式（Ｈ−１）において、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及
びＲ₁₃はそれぞれ独立に置換もしくは無置換のアリール
基またはヘテロアリール基を表すが、アリール基として
具体的には、例えば、フェニル、ｐ−メチルフェニル、
ナフチルなどが挙げられる。ヘテロアリール基として、
具体的にはトリアゾール残基、イミダゾール残基、ピリ
ジン残基、フラン残基、チオフェン残基などが挙げられ
る。また、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃はそれぞれ任意の連結基
を介して結合してもよい。Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃が置換基
を有する場合、その置換基としては、例えば、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環
基、４級化された窒素原子を含む複素環基、ヒドロキシ
ル基、アルコキシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピ
レンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む）、アリール
オキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、ウレタン基、カルボキシル基、イミド基、アミノ
基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド
基、チオウレイド基、スルファモイルアミノ基、セミカ
ルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、４
級のアンモニウム基、（アルキル、アリール、またはヘ
テロ環）チオ基、メルカプト基、（アルキルまたはアリ
ール）スルホニル基、（アルキルまたはアリール）スル
フィニル基、スルホ基、スルファモイル基、アシルスル
ファモイル基、（アルキルもしくはアリール）スルホニ
ルウレイド基、（アルキルもしくはアリール）スルホニ
ルカルバモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、リン酸アミド基などが挙げられる。Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及び
Ｒ₁₃として、好ましくはいずれもが置換もしくは無置換
のフェニル基であり、より好ましくはＲ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ
₁₃のいずれもが無置換のフェニル基である。

【０１７８】Ｒ₁₄はヘテロアリールオキシ基又はヘテロ
アリールチオ基を表すが、ヘテロアリールオキシ基とし
て、具体的には、ピリジルオキシ基、ピリミジルオキシ
基、インドリルオキシ基、ベンゾチアゾリルオキシ基、
ベンズイミダゾリルオキシ基、フリルオキシ基、チエニ
ルオキシ基、ピラゾリルオキシ基、イミダゾリルオキシ
基等が挙げられる。ヘテロアリールチオ基として、具体
的には、ピリジルチオ基、ピリミジルチオ基、インドリ
ルチオ基、ベンゾチアゾリルチオ基、ベンズイミダゾリ
ルチオ基、フリルチオ基、チエニルチオ基、ピラゾリル
チオ基、イミダゾリルチオ基等が挙げられる。Ｒ₁₄とし
て、好ましくはピリジルオキシ基又はチエニルオキシ基
である。

【０１７９】Ａ₁、Ａ₂はともに水素原子、又は一方が水
素原子で他方はアシル基（アセチル、トリフルオロアセ
チル、ベンゾイル等）、スルホニル基（メタンスルホニ
ル、トルエンスルホニル等）又はオキザリル基（エトキ
ザリル等）を表す。好ましくはＡ₁、Ａ₂ともに水素原子
の場合である。

【０１８０】一般式（Ｈ−２）において、Ｒ₂₁は置換も
しくは無置換のアルキル基、アリール基またはヘテロア
リール基を表すが、アルキル基として、具体的には、メ
チル基、エチル基、ｔ−ブチル基、２−オクチル基、シ
クロヘキシル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基等が
挙げられる。アリール基及びヘテロアリール基として、
具体的にはＲ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃と同様のものが挙げられ
る。また、Ｒ₂₁が置換基を有する場合の置換基の具体的
な例としては、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃の置換基と同様のも
のが挙げられる。Ｒ₂₁として好ましくはアリール基また
はヘテロアリール基であり、特に好ましくは置換もしく
は無置換のフェニル基である。

【０１８１】Ｒ₂₂は水素、アルキルアミノ基、アリール
アミノ基、ヘテロアリールアミノ基を表すが、アルキル
アミノ基として、具体的にはメチルアミノ基、エチルア
ミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、エチルメチルアミノ基等
が挙げられる。アリールアミノ基としてはアニリノ基、
ヘテロアリール基としてはチアゾリルアミノ基、ベンズ
イミダゾリルアミノ基、ベンズチアゾリルアミノ基等が
挙げられる。Ｒ₂₂として、好ましくはジメチルアミノ基
またはジエチルアミノ基である。Ａ₁、Ａ₂は一般式（Ｈ
−１）で記載したＡ₁、Ａ₂と同様である。

【０１８２】一般式（Ｈ−３）において、Ｒ₃₁、Ｒ₃₂は
各々水素原子または一価の置換基を表すが、一価の置換
基としては、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃の置換基として挙げら
れた基が挙げられ、好ましくは、アルキル基、アリール
基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アミノ基が挙げ
られる。更に好ましくはアリール基またはアルコキシ基
である。特に好ましいのは、Ｒ₃₁とＲ₃₂の少なくとも一
つがｔｅｒｔ−ブトキシ基であるものであり、別の好ま
しい構造は、Ｒ₃₁がフェニル基のとき、Ｒ₃₂がｔｅｒｔ
−ブトキシ基である。

【０１８３】Ｇ₃₁、Ｇ₃₂は各々−ＣＯ−基、−ＣＯＣＯ
−基、−Ｃ（＝Ｓ）−、スルホニル基、スルホキシ基、
−Ｐ（＝Ｏ）Ｒ₃₃−基又はイミノメチレン基を表し、Ｒ
₃₃はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニル
オキシ基、アリールオキシ基又はアミノ基を表す。但
し、Ｇ₃₁がスルホニル基のとき、Ｇ₃₂はカルボニル基で
はない。Ｇ₃₁、Ｇ₃₂として、好ましくは−ＣＯ−基、−
ＣＯＣＯ−基、スルホニル基または−ＣＳ−であり、よ
り好ましくは互いに−ＣＯ−基または互いにスルホニル
基である。Ａ₁、Ａ₂は、各々一般式（Ｈ−１）で記載し
たＡ₁、Ａ₂と同様である。

【０１８４】一般式（Ｈ−４）において、Ｒ₄₁、Ｒ₄₂お
よびＲ₄₃は、各々一般式（Ｈ−１）におけるＲ₁₁、Ｒ₁₂
およびＲ₁₃と同義である。Ｒ₄₁、Ｒ₄₂およびＲ₄₃として
好ましくはいずれもが置換もしくは無置換のフェニル基
であり、より好ましくはＲ₄₁、Ｒ₄₂及びＲ₄₃のいずれも
が無置換のフェニル基である。Ｒ₄₄、Ｒ₄₅は各々無置換
または置換アルキル基を表すが、具体的な例としてはメ
チル基、エチル基、ｔ−ブチル基、２−オクチル基、シ
クロヘキシル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基等が
挙げられる。Ｒ₄₄、Ｒ₄₅として好ましくは互いにエチル
基である。Ａ₁、Ａ₂は、各々一般式（Ｈ−１）で記載し
たＡ₁、Ａ₂と同様である。

【０１８５】以下に、本発明の一般式（Ｈ−１）〜（Ｈ
−４）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は
これらに限定されるものではない。

【０１８６】

【化３９】

【０１８７】

【化４０】

【０１８８】

【化４１】

【０１８９】

【化４２】

【０１９０】

【化４３】

【０１９１】これら本発明の一般式（Ｈ−１）〜（Ｈ−
４）で表される化合物は、公知の方法により容易に合成
することができる。例えば、米国特許第５，４６４，７
３８号、同５，４９６，６９５号を参考にして合成する
ことができる。

【０１９２】その他に好ましく用いることのできるヒド
ラジン誘導体は、米国特許第５，５４５，５０５号カラ
ム１１〜２０に記載の化合物Ｈ−１〜Ｈ−２９、米国特
許第５，４６４，７３８号カラム９〜１１に記載の化合
物１〜１２である。これらのヒドラジン誘導体は公知の
方法で合成することができる。

【０１９３】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明するが、本
発明はこれらに限定されない。

【０１９４】実施例１ 《熱現像感光材料１の作製》 （下引済みＰＥＴ支持体の作製）帝人（株）製の２軸延
伸熱固定済みの厚さ１２５μｍのポリエチレンテレフタ
レート（ＰＥＴ）フィルムの両面に、下記プラズマ処理
を施した後、一方の面に下記下引塗布液ａ−１を乾燥膜
厚０．８μｍになるように塗設、乾燥させて下引層Ａ−
１を形成した。次いで、反対側の面に下記帯電防止加工
用の下引塗布液ｂ−１を乾燥膜厚０．８μｍになるよう
に塗設し乾燥させて帯電防止加工下引層Ｂ−１を形成し
た。ついで、それぞれの下引層の表面にも下記に示すプ
ラズマ処理を施した。

【０１９５】（プラズマ処理）プラズマ処理の条件とし
ては、バッチ式の大気圧プラズマ処理装置（イーシー化
学社製、ＡＰ−Ｉ−Ｈ−３４０）を用いて、高周波出力
が４．５ｋＷ、周波数が５ｋＨｚ、処理時間が５秒で、
ガス条件としてアルゴン、窒素及び水素の体積比をそれ
ぞれ９０％、５％及び５％で、プラズマ処理を行った。

【０１９６】 （下引塗布液ａ−１） ブチルアクリレート（３０質量％）、ｔ−ブチルアクリレート（２０質量％） 、スチレン（２５質量％）、２−ヒドロキシエチルアクリレート（２５質量％） 、の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７０ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ ポリスチレン微粒子（平均粒径３μｍ） ０．０５ｇ コロイダルシリカ（平均粒径９０ｎｍ） ０．１ｇ 水で１リットルに仕上げる （下引塗布液ｂ−１） 酸化錫（インジウムを０．１％ドープした平均粒径３６ｎｍ） ０．２６ｇ／ｍ²になる量 ブチルアクリレート（３０質量％）、スチレン（２０質量％）、グリシジル アクリレート（４０質量％）の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７０ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水で１リットルに仕上げる 〔支持体の熱処理〕上記の下引済み支持体の下引乾燥工
程において、支持体を１４０℃で加熱し、その後、徐々
に冷却した。その際、１×１０⁵Ｐａの張力で搬送し
た。

【０１９７】〔バック層面側塗布〕下記の組成からなる
バック層塗布液とバック保護層塗布液を、それぞれ塗布
前に準絶対濾過精度２０μｍのフィルタを用いて濾過し
た後、押し出しコータで前記作製した支持体の帯電防止
加工した下引層Ｂ−１面上に、総ウェット膜厚が３０μ
ｍになるよう、毎分１２０ｍの速度で同時重層塗布し、
６０℃で４分間乾燥を行った。

【０１９８】 （バック層塗布液） メチルエチルケトン １６．４ｇ／ｍ² ポリエステル樹脂（Ｂｏｓｔｉｃ社製 Ｖｉｔｅｌ ＰＥ２２００Ｂ） １０６ｍｇ／ｍ² 染料 表１に示す量 安定化剤Ｂ−１（住友化学社製 スミライザーＢＰＡ） ２０ｍｇ／ｍ² 安定化剤Ｂ−２（吉富製薬社製 トミソーブ７７） ２０ｍｇ／ｍ² セルロースアセテートプロピレート（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製 ＣＡＰ５０４−０．２） １．０ｇ／ｍ² セルロースアセテートブチレート（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製 ＣＡＢ３８１−２０） １．０ｇ／ｍ²

【０１９９】

【化４４】

【０２００】 〔バック保護層塗布液〕 メチルエチルケトン ２２ｇ／ｍ² ポリエステル樹脂（Ｂｏｓｔｉｃ社製 Ｖｉｔｅｌ ＰＥ２２００Ｂ） １０６ｍｇ／ｍ² 帯電防止剤１（＊１） ２２ｍｇ／ｍ² フッ素系界面活性剤Ｆ−１：Ｃ₈Ｆ₁₇ＳＯ₃Ｌｉ １０ｍｇ／ｍ² セルロースアセテートプロピレート（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製 ＣＡＰ５０４−０．２） １．０ｇ／ｍ² セルロースアセテートブチレート（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製、 ＣＡＢ３８１−２０） １．０ｇ／ｍ² マット剤（富士デビソン社製 サイロイド７４；平均粒子サイズ７μｍの シリカ） １７ｍｇ／ｍ² ＊１；帯電防止剤１ （ＣＨ₃）₃ＳｉＯ−〔（ＣＨ₃）₂ＳｉＯ〕₂₀−〔ＣＨ₃ ＳｉＯ｛ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀（ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₅ＣＨ₃ ｝〕₃₀−Ｓｉ（ＣＨ₃）₃ 〔画像形成層面側の塗布〕 （感光性ハロゲン化銀乳剤の調製） 〈溶液Ａ１〉 フェニルカルバモイルゼラチン ８８．３ｇ 化合物（Ａ）（１０％メタノール溶液） １０ｍｌ 臭化カリウム ０．３２ｇ 水で５４２９ｍｌに仕上げる 〈溶液Ｂ１〉 ０．６７モル／Ｌ硝酸銀水溶液 ２６３５ｍｌ 〈溶液Ｃ１〉 臭化カリウム ５１．５５ｇ 沃化カリウム １．４７ｇ 水で６６０ｍｌに仕上げる 〈溶液Ｄ１〉 臭化カリウム １５４．９ｇ 沃化カリウム ４．４１ｇ 塩化イリジウム（１％溶液） ０．９３ｍｌ 〈溶液Ｅ１〉 ０．４モル／Ｌ臭化カリウム水溶液 下記銀電位制御量 〈溶液Ｆ１〉 ５６％酢酸水溶液 １６．０ｍｌ 〈溶液Ｇ１〉 無水炭酸ナトリウム １．７２ｇ 水で１５１ｍｌに仕上げる 化合物（Ａ）：ＨＯ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_n−［ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂Ｏ］₁₇− （ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_mＨ （ｍ＋ｎ＝５〜７） 特公昭５８−５８２８８号に記載の混合撹拌機を用い
て、溶液Ａ１に溶液Ｂ１の１／４量及び溶液Ｃ１の全量
を４５℃、ｐＡｇ８．０９に制御しながら、同時混合法
により４分４５秒を要して添加し、核形成を行った。７
分間経過後、溶液Ｂ１の残り及び溶液Ｄ１の全量を、温
度４５℃、ｐＡｇ８．０９に制御しながら、同時混合法
により１４分１５秒かけて添加した。混合中、反応溶液
のｐＨは５．６であった。５分間撹拌した後、４０℃に
降温し、溶液Ｆ１を全量添加し、ハロゲン化銀乳剤を沈
降させた。沈降部分２０００ｍｌを残し、上澄み液を取
り除き、水を１０リットル加え、撹拌後、再度ハロゲン
化銀を沈降させた。沈降部分１５００ｍｌを残し、上澄
み液を取り除き、更に水を１０リットル加え、撹拌後、
ハロゲン化銀を沈降させた。沈降部分１５００ｍｌを残
し、上澄み液を取り除いた後、溶液Ｇ１を加え、６０℃
に昇温し、更に１２０分撹拌した。最後に、ｐＨが５．
８になるように調整し、銀量１モル当たり１１６１ｇに
なるように水を添加した。なお、上記の各ｐＡｇ抑制
は、溶液Ｅ１を用いて適宜行った。

【０２０１】この乳剤は、平均粒子サイズ０．０５８μ
ｍ、粒子サイズの変動係数１２％、〔１００〕面比率９
２％の立方体沃臭化銀粒子であった。

【０２０２】さらに、得られた上記粒子に、ハロゲン化
銀１モルあたり２×１０^-4モルのチオ硫酸ナトリウムで
化学増感を施した後、４−ヒドロキシ−６−メチル−
１，３，３ａ，７−テトラザインデンを添加した。

【０２０３】（粉末有機銀塩の調製）４７２０ｍｌの純
水に、ベヘン酸１３０．８ｇ、アラキジン酸６７．７
ｇ、ステアリン酸４３．６ｇ、パルミチン酸２．３ｇを
８０℃で溶解した。次に、１．５モル／Ｌの水酸化ナト
リウム水溶液５４０．２ｍｌを添加し、濃硝酸６．９ｍ
ｌを加えた後、５５℃に冷却して脂肪酸ナトリウム溶液
を得た。上記の脂肪酸ナトリウム溶液の温度を５５℃に
保ったまま、３１．７ｇの上記の感光性ハロゲン化銀乳
剤と純水４６５ｍｌを添加し、５分間攪拌した。

【０２０４】次に、１モル／Ｌの硝酸銀溶液７０２．６
ｍｌを２分間かけて添加し、１０分間攪拌し、有機銀塩
分散物を得た。その後、得られた有機銀塩分散物を水洗
容器に移し、脱イオン水を加えて攪拌後、静置させて有
機銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を除去
した。その後、排水の電導度が２μＳ／ｃｍになるまで
脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実
施した後、気流式乾燥機フラッシュジェットドライヤー
（株式会社セイシン企業製）を用いて、乾燥機の入口熱
風温度を７５℃の運転条件により、含水率が０．１％に
なるまで乾燥して粉末有機銀塩を得た。この時、乾燥熱
風は、大気中の空気を電気ヒーターで加熱したものを使
用した。また、有機銀塩組成物の含水率測定には、赤外
線水分計を使用した。

【０２０５】（予備分散液の調製）ポリビニルブチラー
ル粉末（Ｍｏｎｓａｎｔｏ社製、Ｂｕｔｖａｒ Ｂ−７
９）１４．５７ｇをメチルエチルケトン（以下ＭＥＫと
略す）１４５７ｇに溶解し、ＶＭＡ−ＧＥＴＺＭＡＮＮ
社製ディゾルバーＤＩＳＰＥＲＭＡＴ ＣＡ−４０Ｍ型
にて、攪拌しながら上記調製した粉末有機銀塩の５００
ｇを徐々に添加し、十分混合することにより、予備分散
液を調製した。

【０２０６】（感光性乳剤分散液の調製）上記調製した
予備分散液をポンプを用いて、ミル内の滞留時間が１０
分間となるようにして、０．５ｍｍ径のジルコニアビー
ズ（東レ製トレセラム）を内容積の８０％充填したメデ
ィア型分散機ＤＩＳＰＥＲＭＡＴ ＳＬ−Ｃ１２ＥＸ型
（ＶＭＡ−ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）に供給し、ミル周速
１３ｍ／ｓにて分散を行なうことにより、感光性乳剤分
散液を調製した。

【０２０７】分散後に、電子顕微鏡写真で有機銀塩粒子
を観察した。透過型電子顕微鏡を用いて、３００個の有
機銀塩粒子の粒径と厚みを測定した結果、２０５個がア
スペクト比が３以上で、分散度２５％の単分散平板状有
機銀塩であった。尚、平均粒径は０．７μｍであった。
また、後述の方法で塗布乾燥し、熱現像感光材料中に含
有せしめた後、同様に有機銀塩粒子を観察したところ、
同じ粒子であることが、確認できた。

【０２０８】（感光性層（画像形成層ともいう）用塗布
液の調製）上記調製した感光性乳剤分散液（１６４１
ｇ）およびＭＥＫ５０６ｇを攪拌しながら、２１℃に保
温し、かぶり防止剤１（１１．２％メタノール溶液）を
１０．７５ｇ加え、１時間攪拌した。さらに、臭化カル
シウム（１１．２％メタノール溶液）を１３．６ｇ添加
して２０分攪拌した。続いて、下記安定剤液を１．３ｇ
添加して１０分間攪拌した後、９０．５ｇの下記赤外増
感色素液を添加して、１時間攪拌した。その後、温度を
１３℃まで降温し、さらに３０分攪拌した。次いで、１
３℃に保温したまま、ポリビニルブチラール（Ｍｏｎｓ
ａｎｔｏ社製Ｂｕｔｖａｒ Ｂ−７９）３４９．６ｇを
添加して３０分攪拌した後、５−メチル−２−メルカプ
トベンゾイミダゾール９５ｍｇとテトラクロロフタル酸
３．５ｇを添加して３０分間攪拌した。その後、１．２
ｇの５−ニトロインダゾール、０．４ｇの５−ニトロベ
ンゾイミダゾール、２．４ｇの硬調化剤（例示化合物７
２−１５）、１．０ｇの硬調化剤（例示化合物Ｈ−４−
２）およびＭＥＫ２２５ｇを添加した。更に、撹拌を続
けながら、下記添加液ａを３７３．５ｇ、下記添加液ｂ
を１４８．６ｇ、下記添加液ｃを２２５ｇ順次添加し、
撹拌することにより感光性層用塗布液を調製した。

【０２０９】〈安定剤液の調製〉０．９ｇの安定剤１、
０．２８ｇの酢酸カリウムをメタノール１０．１ｇに溶
解し安定剤液を調製した。

【０２１０】〈赤外増感色素液の調製〉２９ｍｇの赤外
増感色素１、４．５ｇの２−クロロ−安息香酸、８．４
ｇの安定剤２および２８０ｍｇの５−メチル−２−メル
カプトベンゾイミダゾールを７７．２ｍｌのＭＥＫに暗
所にて溶解し赤外増感色素液を調製した。

【０２１１】〈添加液ａの調製〉１０７ｇの還元剤Ａ−
４、４．８ｇの４−メチルフタル酸、０．７４ｇのＤＢ
１をＭＥＫ２６０ｇに溶解し、添加液ａとした。

【０２１２】〈添加液ｂの調製〉１１．６ｇのかぶり防
止剤２をＭＥＫ１３７ｇに溶解し添加液ｂとした。

【０２１３】〈添加液ｃの調製〉２１．７ｇのアルコキ
シシラン化合物：Ｐｈ−ＮＨ−（ＣＨ₂）−Ｓｉ−（Ｏ
ＣＨ₃）₃と４５ｇのかぶり防止剤３を１５９ｇのＭＥＫ
に溶解し、添加液ｃとした。

【０２１４】

【化４５】

【０２１５】（表面保護層塗布液の調製）１ｍ²あたり
ＭＥＫ１５．９ｇを攪拌しながら、セルロースアセテー
トブチレート（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社
製、ＣＡＢ１７１−１５）：１．８ｇ、ポリメチルメタ
クリル酸（ローム＆ハース社製、パラロイドＡ−２
１）：８５ｍｇ、ベンゾトリアゾール：２０ｍｇ、フッ
素系界面活性剤Ｆ−１：１３ｍｇ、フッ素系界面活性剤
Ｆ−２（Ｃ₈Ｆ₁₇（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₂Ｃ₈Ｆ₁₇）：５０ｍ
ｇを添加し、溶解した。次に、下記マット剤分散液１．
７５ｇおよび添加液ｄを２．９ｇ順次添加、攪拌し、表
面保護層塗布液を調製した。

【０２１６】〈マット剤分散液の調製〉１ｍ²あたり
１．７ｇのＭＥＫに、平均粒径６．０μｍの単分散シリ
カ３０ｍｇを添加し、ディゾルバー型ホモジナイザに
て、８０００ｒｐｍで３０分間分散して、マット剤分散
液を調製した。

【０２１７】〈添加液ｄの調製〉１ｍ²あたり０．１７
ｇになる量のフタラジンを、１ｍ²あたり２．７３ｇに
なる量のＭＥＫに溶解し、添加液ｄとした。

【０２１８】（感光性層側の塗布）前記調製した感光性
層用塗布液と表面保護層塗布液の粘度を、溶媒量を調整
することにより、それぞれ０．２２８Ｐａ・ｓ、０．１
８４Ｐａ・ｓとし、それぞれの塗布液を準絶対濾過精度
２０μｍのフィルタに通して濾過後、エクストルージョ
ン型ダイコータのスリットより吐出、積層して、前記バ
ック層を塗設した支持体の下引層Ａ−１の上に、毎分９
０ｍの速度で同時重層塗布した。その８秒後に、乾燥温
度７５℃、露点温度１０℃の熱風を用いて５分間乾燥
後、環境温湿度として２３℃、５０％ＲＨ、張力１９６
Ｎ／ｍでロール状に巻き取ることにより、表１に記載の
ような熱現像感光材料試料１を作製した。得られた熱現
像感光材料試料１の画像形成層の塗布銀量は１．５ｇ／
ｍ²、表面保護層は乾燥膜厚で２．５μｍであった。

【０２１９】《熱現像感光材料試料２〜９の作製》熱現
像感光材料試料１の作製において、上記記載のバック層
塗布液中の化合物を表１に記載のように変化させた以外
は同様にして、熱現像感光材料２〜９を、各々作製し
た。

【０２２０】《熱現像感光材料の評価》以上のようにし
て作製した熱現像感光材料試料１〜９の各々について、
以下に記載の熱現像処理を行った後、下記に記載のよう
な評価を行った。

【０２２１】（熱現像処理）上記作製した熱現像感光材
料試料を、生保存性の代用評価として５０℃３日間保管
した後、特開昭５９−１３０４９４号に記載の高周波重
畳法を用いて縦マルチモードにした波長７８０ｎｍの半
導体レーザを露光源とする露光機により、ウェッジを介
した露光を画像形成層面側より行った後、市販の熱現像
処理装置にて、１０５℃で２０秒間予備加熱し、１２０
℃で２０秒間熱現像処理、その後の冷却部１１０℃５秒
の処理を行った。なお、熱現像処理装置の搬送速度は、
２５ｍｍ／秒で行った。

【０２２２】《感度評価》熱現像後、得られた画像の評
価を濃度計ＰＤＡ−６５（コニカ製）を用いて行った。
測定の結果は、Ｄｍｉｎ（カブリ）と感度（Ｄｍｉｎよ
り１．０高い濃度を与える露光量の比の逆数）で評価し
た。Ｄｍｉｎについては値が小さい程良く、感度は熱現
像感光材料１の感度を１００として相対感度で各々表１
に示す。

【０２２３】《点質の評価》・点質は、ルーペで網％が
５０％付近の網点を目視評価し、下記のような１０段階
にランク評価した。

【０２２４】１０：１００倍でも全くフリンジがなく未
露光部と黒化部が非常に明確 ８以上１０未満：極僅かにフリンジ有り、印刷画像には
全く表れない ７以上８未満：５０倍で僅かにフリンジが見える ５以上７未満：５０倍でフリンジがはっきり分かる ４以上５未満：フリンジが多く、カラー印刷では問題に
されるレベル ４未満：アミ点がぼやけて、印刷品質（カラー、モノク
ロ）不良 本発明においては、点質評価が７以上のものが実用可で
ある。

【０２２５】《非画像部の反射光量》図２に示すよう
に、未露光の熱現像感光材料を現像処理した試料１の乳
剤層側をセンサ２に向け、バック層側のセンサ光が当た
る部分に厚さ２ｍｍ、３ｃｍ×３ｃｍのＫＢｒ板３を載
せた。センサ２のレンズ上部から試料１までの距離を約
３ｍｍに設定し、この時のアンプ４に表示される数値が
反射光量である。ここで、センサ２の光源としては、Ｆ
Ｓ−Ｖ１（キーエンス社製のアンプ）、ファイバ５とし
てＦＵ−２１Ｘ（キーエンス社製）、センサ２のレンズ
としてはＦ２−ＨＡ（キーエンス社製）を使用し、電源
６には１８Ｖの直流電源を使用した。

【０２２６】《画像部の反射光量》蛍光灯下２００Ｌｕ
ｘで１分曝写した部分（画像部）を現像処理し、非画像
部の反射光量と同様に測定し、この時のアンプに表示さ
れる数値を画像部の反射光量とした。

【０２２７】《残色評価》熱現像処理後の試料をＸ−Ｒ
ｉｔｅ ３６１Ｔを用いて白色光モードで残色を測定し
た。

【０２２８】得られた結果を表１に示す。

【０２２９】

【表１】

【０２３０】表１から、比較に比べて本発明の試料は、
感度が高く、点質ランクに優れ、非画像部の反射光量が
大きく、且つ、残色も少ないことが明らかである。

【０２３１】実施例２ 《熱現像感光材料試料１１〜１９の作製》実施例１の熱
現像感光材料１の作製において、バック層塗布液の調製
において、染料を表２に記載のように変更し、且つ、セ
ルロースアセテートブチレート（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈ
ｅｍｉｃａｌ社製：ＣＡＢ３８１−２０）の添加後に、
表２に示すアミジン化合物またはグアニジン化合物を添
加した以外は同様にして、熱現像感光材料試料１１〜１
９を各々作製した。

【０２３２】得られた熱現像感光材料試料１１〜１９の
評価は、実施例１に記載の方法を用いて同様に評価し
た。得られた結果を表２に示す。

【０２３３】

【表２】

【０２３４】表２から、比較に比べて本発明の試料は、
感度が高く、点質ランクに優れ、非画像部の反射光量が
大きく、且つ、残色も少ないことが明らかである。

【０２３５】実施例３ 《熱現像感光材料試料２１、２３〜３１、４１、４２の
作製》実施例１の熱現像感光材料試料１の作製におい
て、表３に記載の染料、アミジン化合物またはグアニジ
ン化合物を用い、更に、下記に示す中間層用塗布液を感
光性層の下に設けた以外は同様にして、熱現像感光材料
試料２１、２３〜３１、４１、４２を各々作製した。

【０２３６】 （中間層用塗布液） ＭＥＫ（メチルエチルケトン） １０ｇ／ｍ² ＣＡＢ３８１−２０ ０．５ｇ／ｍ² 微粒子 表３に示す量 《熱現像感光材料試料２２、３２〜４０、４３、４４の
作製》実施例１の熱現像感光材料試料１の作製におい
て、表３に記載の染料、アミジン化合物またはグアニジ
ン化合物を用い、更に、上記記載の中間層用塗布液をバ
ック層の下に設けた以外は同様にして、熱現像感光材料
試料２２、３２〜４０、４３、４４を各々作製した。

【０２３７】表３に微粒子として記載のＳＯ−Ｅ１、Ｓ
Ｏ−Ｅ２、ＳＯ−Ｅ５はＡｄｍａｔｅｃｈｓ社製球形シ
リカであり、平均粒径はそれぞれ０．２〜０．３μｍ、
０．４〜０．６μｍ、１．３〜２．０μｍである。ま
た、表３に記載のＰＭＭＡはポリメチルメタアクリレー
トの球形微粒子で１μｍ、５μｍの数値は、各々平均粒
径を示す。

【０２３８】得られた熱現像感光材料試料２１〜４４
は、各々実施例１に記載の方法を用いて同様に評価し
た。得られた結果を表３に示す。

【０２３９】

【表３】

【０２４０】表３から、比較に比べて本発明の試料は、
感度が高く、点質ランクに優れ、非画像部の反射光量が
大きく、且つ、残色も少ないことが明らかである。

【０２４１】実施例４ 《熱現像感光材料試料５１、５３〜５８の作製》実施例
１の熱現像感光材料試料２の作製において、表４に記載
のように、染料、アミジン化合物またはグアニジン化合
物、更に微粒子を用いた以外は同様にして、熱現像感光
材料試料５１、５３〜５８を各々作製した。

【０２４２】《熱現像感光材料試料５２、６０、６２、
６３の作製》実施例１の熱現像感光材料試料５の作製に
おいて、表４に記載の染料、アミジン化合物またはグア
ニジン化合物、更に微粒子を用いた以外は同様にして、
熱現像感光材料試料５２、６０、６２、６３を各々作製
した。

【０２４３】《熱現像感光材料試料５９の作製》実施例
２の熱現像感光材料試料１２の作製において、アミジン
化合物またはグアニジン化合物として、化合物ＢＰ−３
を化合物ＢＰ−３７に変更し、更に微粒子を用いた以外
は同様にして熱現像感光材料試料５９を作製した。

【０２４４】《熱現像感光材料試料６１の作製》実施例
２の熱現像感光材料試料１８の作製において微粒子を添
加した以外は全く同様にして、熱現像感光材料６１を作
製した。

【０２４５】《再帰性反射板１の作製：球形微粒子含
有》１２５μｍの透明ＰＥＴベースに、下記に調製の塗
布液を塗布、乾燥して再帰性反射板１を作製した。

【０２４６】 （塗布液） ＭＥＫ １０ｇ／ｍ² ＣＡＢ３８１−２０ ０．５ｇ／ｍ² 微粒子 表４に示す量 得られた熱現像感光材料５１〜６３の各々については、
実施例１に記載と同様に露光、熱現像処理を行い、再帰
性反射板として、図１に記載のＫＢｒ板の代わりに、上
記の再帰性反射板１を用いた以外は同様にして画像部の
反射光量、非画像部の反射光量を測定した。得られた結
果を表４に示す。

【０２４７】

【表４】

【０２４８】表４から、ＫＢｒ板に比べ、再帰性反射板
を用いることにより、試料の非画像部の反射光量が大き
くなる傾向があることが明らかである。

【０２４９】実施例５ 《熱現像感光材料試料７１〜７８の作製》実施例１の熱
現像感光材料試料５の作製と同様にして、熱現像感光材
料試料７１〜７８を各々作製した。

【０２５０】《熱現像感光材料試料７９の作製》実施例
１の熱現像感光材料試料８の作製と同様にして、熱現像
感光材料試料７９を作製した。

【０２５１】得られた熱現像感光材料については、実施
例１に記載と同様に露光、熱現像処理を行い、次いで、
下記に記載のように再帰性反射板（マイクロプリズム）
を用いて反射光量（非画像部、画像部）を求めた。

【０２５２】《反射光量の評価：再帰性反射板（マイク
ロプリズム）使用》表５に記載のような底辺と高さにな
るような三角錐を図２のように配置した金型を作製し、
ポリカーボネート製の再帰性反射板として用いるマイク
ロプリズムを作製した。前記マイクロプリズムを用いる
にあたり、図１に示すＫＢｒ板を除いて、前記マイクロ
プリズムを試料側に配置し、実施例４と同様に、非画像
部、画像部の反射光量を測定した。

【０２５３】得られた結果を表５に示す。

【０２５４】

【表５】

【０２５５】表５から、ＫＢｒ板の代わりに、再帰性反
射板としてマイクロプリズムを用いると、更に非画像部
の反射光量が上がることが判る。

【０２５６】実施例６ 《熱現像感光材料試料８１、８２の作製》実施例２の熱
現像感光材料試料１１、１２の作製と同様にして、熱現
像感光材料試料８１、８２を各々作製した。

【０２５７】《熱現像感光材料試料８３の作製》実施例
１の熱現像感光材料試料５の作製と同様にして、熱現像
感光材料試料８３を作製した。

【０２５８】《熱現像感光材料試料８４の作製》実施例
２の熱現像感光材料試料１５の作製と同様にして、熱現
像感光材料試料８４を作製した。

【０２５９】《熱現像感光材料試料８５、８６の作製》
実施例２の熱現像感光材料試料１１、１２の作製と同様
にして、熱現像感光材料試料８５、８６を各々作製し
た。

【０２６０】《熱現像感光材料試料８７の作製》実施例
１の熱現像感光材料試料５の作製と同様にして、熱現像
感光材料試料８７を作製した。

【０２６１】《熱現像感光材料試料８８の作製》実施例
２の熱現像感光材料試料１５の作製と同様にして、熱現
像感光材料試料８８を作製した。

【０２６２】得られた熱現像感光材料試料８１〜８４に
ついては、実施例１に記載と同様に露光、熱現像処理を
行い、次いで、反射光量を求めるにあたり、下記のよう
な露光条件に代え、反射光量Δを算出した以外は実施例
５に記載と同様にして反射光量を求めた。

【０２６３】反射光量Δ＝（非画像部−画像部） 反射光量Δの算出は、未露光部と蛍光灯下２００Ｌｕｘ
で１分曝写した部分（画像部）を現像処理し、それぞれ
の部分の反射光量を測定し、その差を反射光量Δ（非画
像部−画像部）とした。

【０２６４】得られた熱現像感光材料試料８５〜８８の
反射光量の測定にあたり、図２に記載のアンプＦＳ−Ｖ
１の代わりに、ＦＳ−Ｔ１Ｇ（キーエンス社製）を用い
た以外は上記の熱現像感光材料試料８１〜８４の場合と
同様にして反射光量Δを求めた。

【０２６５】得られた結果を表６に示す。

【０２６６】

【表６】

【０２６７】表６から、ＫＢｒ板の代わりに、再帰性反
射板としてマイクロプリズムを用いることにより、更に
非画像部の反射光量が上がることが判る。

【０２６８】

【発明の効果】本発明により、高感度で、点質ランクが
高く、残色が低減され、且つ、画像部と非画像部との反
射光量差が大きい熱現像感光材料、及び前記熱現像感光
材料の画像識別方法を提供することが出来た。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る再帰性反射板として用いられるマ
イクロプリズムの一例を示す模式図である。

【図２】本発明の画像識別方法に用いられる装置構成の
一態様を示す模式図である。

【符号の説明】

１ 試料 ２ センサ ３ ＫＢｒ板 ４ アンプ ５ ファイバ ６ 電源 １０ マイクロプリズム １０ａ、１０ｂ プリズムシート

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に、少なくとも、有機銀粒子、
   ハロゲン化銀粒子、還元剤及び硬調化剤を含有する感光
   性層を有する熱現像感光材料が、下記一般式（１）で表
   される染料を含有することを特徴とする熱現像感光材
   料。 【化１】 〔式中、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇は、各々水素原子また
   は置換基を表し、Ｒ₁₄とＲ₁₅、またはＲ₁₅とＲ₁₆は、各
   々連結して環を形成してもよい。Ｒ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ ₂₀、Ｒ
   ₂₁は、各々水素原子または置換基を表し、Ｒ₁₈とＲ₁₉、
   またはＲ₁₉とＲ₂₀は、各々連結して環を形成してもよ
   い。Ｒ₂₂、Ｒ₂₃は、各々アルキル基、−（ＣＨ₂）_n−Ｃ
   ＯＯＭ基または−（ＣＨ₂）_n−ＳＯ₃Ｍ基を表す（ここ
   で、ｎは２以上の整数を表し、Ｍは水素原子またはアル
   カリ金属原子を表す。）。Ｒ₂₄、Ｒ₂₅は、各々連結して
   ５員環または６員環を形成する基を表し、Ｒ₂₆は水素原
   子、アルキル基またはアリール基を表し、Ａ₂は−Ｓ
   −、−Ｓｅ−、−Ｏ−または−Ｃ（ＣＨ₃）₂−を表し、
   Ａ₃、Ａ₄およびＡ₅は、各々酸素原子または硫黄原子を
   表す。〕
2. 【請求項２】 アミジン化合物誘導体またはグアニジン
   化合物誘導体の二酸塩基プレカーサを含有することを特
   徴とする請求項１に記載の熱現像感光材料。
3. 【請求項３】 支持体と感光性層との間に、球形微粒子
   を含有する層を有することを特徴とする請求項１または
   ２に記載の熱現像感光材料。
4. 【請求項４】 支持体の一方の面上に感光性層を有し、
   該支持体を挟んで、もう一方の面上に、球形微粒子を含
   有する層を有することを特徴とする請求項１〜３のいず
   れか１項に記載の熱現像感光材料。
5. 【請求項５】 熱現像感光材料を熱現像処理して得られ
   た画像を識別する熱現像感光材料の画像識別方法におい
   て、 再帰性反射板を用いて画像の識別を行うことを特徴とす
   る熱現像感光材料の画像識別方法。
6. 【請求項６】 請求項１〜４のいずれか１項に記載の熱
   現像感光材料を用いることを特徴とする請求項５に記載
   の熱現像感光材料の画像識別方法。
7. 【請求項７】 再帰性反射板が球形微粒子を含有するこ
   とを特徴とする請求項５または６に記載の熱現像感光材
   料の画像識別方法。
8. 【請求項８】 再帰性反射板として、マイクロプリズム
   を用いることを特徴とする請求項５または６に記載の熱
   現像感光材料の画像識別方法。
9. 【請求項９】 ６００ｎｍ以下に最大発光波長を有する
   発光光源を用いることを特徴とする請求項５〜８のいず
   れか１項に記載の熱現像感光材料の画像識別方法。