JP2003183267A - 光学的に純粋な（ｒ）−体または（ｓ）−体のテトラヒドロフラニルケトンの製造方法 - Google Patents

光学的に純粋な（ｒ）−体または（ｓ）−体のテトラヒドロフラニルケトンの製造方法

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JP2003183267A JP2002352586A JP2002352586A JP2003183267A JP 2003183267 A JP2003183267 A JP 2003183267A JP 2002352586 A JP2002352586 A JP 2002352586A JP 2002352586 A JP2002352586 A JP 2002352586A JP 2003183267 A JP2003183267 A JP 2003183267A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 経済的であるとともに、光学純度の減少なし
に副生成物としての３級アルコールの生成を最小限にす
る光学的に純粋な（Ｒ）−体または（Ｓ）−体のテトラ
フラニルケトンの製造方法を提供すること。 【解決手段】（Ｒ）または（Ｓ）−２−テトラヒドロフ
ランアミドを脱水剤及びアミン塩基の存在下、反応温度
５０〜１００℃及び反応時間２〜６時間の条件下で脱水
反応させ、（Ｒ）または（Ｓ）−２−テトラヒドロフラ
ンニトリルを得る段階と、有機溶媒中で得られた化合物
を求核剤と反応温度−８０〜１００℃及び反応時間１０
分〜４時間の条件下で求核付加反応させた後、酸性水溶
液を用いて加水分解させ、（Ｒ）または（Ｓ）−テトラ
ヒドロフラニルケトンを得る段階と、前記段階で得た反
応生成物を回収する段階とを含むことを特徴とする光学
的に純粋な（Ｒ）または（Ｓ）−テトラヒドロフラニル
ケトンの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学的に純粋な
（Ｒ）−体または（Ｓ）−体のテトラヒドロフラニルケ
トンの製造方法に関し、さらに詳しくは、（Ｒ）−体ま
たは（Ｓ）−体の２−テトラヒドロフランアミドを脱水
剤及びアミン塩基の存在下、脱水反応させて得た（Ｒ）
−体または（Ｓ）−体の２−テトラヒドロフランニトリ
ルを求核剤と求核付加反応させた後加水分解させ、産業
上利用可能な高光学純度を有する（Ｒ）−体または
（Ｓ）−体のテトラヒドロフラニルケトンを製造する方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術・発明が解決しようとする課題】一般的
に、（Ｒ）−体または（Ｓ）−体のテトラヒドロフラニ
ルケトン化合物は、光学活性医薬品及び動物医薬品の重
要な医薬中間体であり、且つ抗ウィルス医薬品として用
いられる抗生物質及びその他光学活性化学製品の製造の
基礎となる原料である。従来、光学的に純粋な（Ｒ）−
体または（Ｓ）−体のテトラヒドロフラニルケトンの個
別的な製造は非常に限定的に試みられてきたが、ラセミ
テトラヒドロフラニルケトン製造方法の代表的な例は次
の通りである。
【０００３】例えば、特許文献１には、（Ｒ）−２−テ
トラヒドロフロ酸を出発物質としてシュウ酸クロリドで
カルボン酸を活性化させた後、過剰量のジアゾメタンと
反応させ、その後さらに４８％の臭化水素水溶液と反応
させて（Ｒ）−２−アセチルテトラヒドロフランブロミ
ドを製造する方法が開示されており、非特許文献１に
は、ラセミ２−テトラヒドロフロ酸を出発物質として前
記特許と同一の方法によってジアゾメタンと反応させた
後、さらに塩酸と反応させて２−アセチルテトラヒドロ
フランクロリドを製造する方法が開示されているが、前
記特許及び文献による方法は爆発危険性の極めて大きい
ジアゾメタンを使用しなければならないので、工業規模
で製造するには不適である。
【０００４】また、非特許文献２にはラセミ２−テトラ
ヒドロフロ酸とフェニル臭化マグネシウムまたはフェニ
ルリチウムなどを反応させてテトラヒドロフラニルケト
ンを製造する方法が開示されているが、前記文献の方法
は出発物質として（Ｒ）−体または（Ｓ）−体の２−テ
トラヒドロフロ酸を使用する場合に、工業規模における
適用ではでラセミ化が起こるのため光学純度が低くなる
上、副生成物として多量の３級アルコールが生成される
ので、工業生産において様々な問題が起きる。
【０００５】一方、カルボン酸の求核付加反応で生成さ
れる化合物としてのケトンは、出発物質として用いられ
るカルボン酸より求核付加反応に対する活性が大きいた
め、前記ケトンのさらなる求核付加反応によって多量の
３級アルコールが生成されて反応収率が低下することは
公知の事実である。かかる問題点を解決するために、様
々な方法が試みられている。例えば、カルボン酸と水素
化リチウムを反応モル比１：１で反応させてまずカルボ
ン酸リチウム塩を作った後、それを有機リチウム化合物
またはグリニャール試薬と反応させるケトンの製造方法
が公知であるが、この方法を光学的に純粋なテトラヒド
フラニルケトンの製造に適用した場合、工業規模ではラ
セミ化が起って光学純度が低くなるため、工業規模への
適用は困難である。
【０００６】また、Ｎ,Ｏ−ジメチルヒドロキシアミン
塩酸塩を用いてカルボン酸をＮ,Ｏ−ジメチルヒドロキ
シアミドに転換させた後、有機リチウム化合物またはグ
リニャール試薬と反応させるケトンの製造方法が公知で
あるが、この方法は副生成物としての３級アルコールの
生成を抑制することが可能な方法であるが、使用される
Ｎ,Ｏ−ジメチルヒドロキシアミン塩酸塩が高価な化合
物であるので、経済性の面で工業的な適用には不適であ
る。また、光学的に純粋なテトラヒドロフラニルケトン
の製造に適用した場合、ラセミ化が起って光学純度が低
くなるため工業規模への適用は困難である。
【０００７】一方、非特許文献３にはカルボン酸を塩化
チオニルで活性化させた後、鉄（III）触媒下で、グリ
ニャール試薬と反応させるケトンの製造方法が開示され
ているが、この方法も光学的に純粋なテトラヒドロフラ
ニルケトンの製造に適用した場合、ラセミ化が起こって
光学純度が低くなるため工業規模への適用が困難である
という問題点があった。
【０００８】
【特許文献１】国際公開公報ＷＯ９２／１６９６号明細
書
【非特許文献１】J.Antibiot.1994, 47(2), 253
【非特許文献２】J.Heterocycl.Chem.1995, 32(1), 109
【非特許文献３】Tetrahedron Lett.1984, 25(42), 480
5
【０００９】
【課題を解決するための手段】前述した問題点を解決す
るために、本発明者が広範囲な研究を鋭意重ねた結果、
（Ｒ）−体または（Ｓ）−体の２−テトラヒドロフラン
アミドを出発物質として脱水反応によって得た（Ｒ）−
体または（Ｓ）−体の２−テトラヒドロフランニトリル
を求核剤と求核付加反応させた後、酸性水溶液を用いて
加水分解させることからなる、高い光学純度を有する
（Ｒ）−体または（Ｓ）−体のテトラヒドロフラニルケ
トンを得ることが可能な方法を見出し、本発明を完成し
た。従って、本発明の目的は、産業上利用可能な高い光
学純度を有する（Ｒ）−テトラヒドロフラニルケトンの
経済的な製造方法を提供することにある。本発明の他の
目的は、産業的上利用可能な高い光学純度を有する
（Ｓ）−テトラヒドロフラニルケトンの経済的な製造方
法を提供することにある。
【００１０】上記目的を達成するための本発明の方法
は、下記化学式１ａで表される（Ｒ）−２−テトラヒド
ロフランアミドを脱水剤及びアミン塩基の存在下、反応
温度５０〜１００℃及び反応時間２〜６時間の条件下で
脱水反応させ、下記化学式２ａで表される（Ｒ）−２−
テトラヒドロフランニトリルを得る段階と、
【化７】
【化８】 有機溶媒中で前記化学式２ａで表される（Ｒ）−２−テ
トラヒドロフランニトリルを求核剤と反応温度−８０〜
１００℃及び反応時間１０分〜４時間の条件下で求核付
加反応させた後、酸性水溶液を用いて加水分解させ、下
記化学式３ａで表される（Ｒ）−テトラヒドロフラニル
ケトンを得る段階；前記段階で得た反応生成物を回収す
る段階とを含む。
【化９】 （式中、Ｒは直鎖状または枝分かれした炭素数１〜３０
の飽和または不飽和脂肪族アルキル基、置換されたまた
は非置換の炭素数３〜３０の飽和または不飽和環状アル
キル基、または置換されたまたは非置換の炭素数６〜３
０のアルキル基である。)
【００１１】さらに、上記他の目的を達成するための本
発明の方法は、下記化学式１ｂで表される（Ｓ）−２−
テトラヒドロフランアミドを脱水剤及びアミン塩基の存
在下、反応温度５０〜１００℃及び反応時間２〜６時間
の条件下で脱水反応させ、下記化学式２ｂで表される
（Ｓ）−２−テトラヒドロフランニトリルを得る段階
と、
【化１０】
【化１１】 有機溶媒中で前記化学式２ｂで表される（Ｓ）−２−テ
トラヒドロフランニトリルを求核剤と反応温度−８０〜
１００℃及び反応時間１０分〜４時間の条件下で求核付
加反応させた後、酸性水溶液を用いて加水分解させ、下
記化学式３ｂで表される（Ｓ）−テトラヒドロフラニル
ケトンを得る段階；前記段階で得た反応生成物を回収す
る段階とを含む。
【化１２】 （式中、Ｒは直鎖状または枝分かれした炭素数１〜３０
の飽和または不飽和脂肪族アルキル基、置換されたまた
は非置換の炭素数３〜３０の飽和または不飽和環状アル
キル基、または置換されたまたは非置換の炭素数６〜３
０のアルキル基である。)
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明をより具体的に説明
する。前述したように、本発明は、光学的に純粋な
（Ｒ）−体または（Ｓ）−体のテトラヒドロフラニルケ
トンの製造方法に関するもので、さらに詳しくは、
（Ｒ）−体または（Ｓ）−体の２−テトラヒドロフラン
アミドを脱水剤及びアミン塩基の存在下、脱水反応させ
て得た（Ｒ）−体または（Ｓ）−体の２−テトラヒドロ
フランニトリルを求核剤と求核付加反応させた後、酸性
水溶液を用いて加水分解させ、光学的に純粋な（Ｒ）−
体または（Ｓ）−体のテトラヒドロフラニルケトンの製
造方法に関するものである。
【００１３】本発明によれば、出発物質としての（Ｒ）
−２−テトラヒドロフランアミドは下記化学式１ａで表
示され、（Ｓ）−２−テトラヒドロフランアミドは下記
化学式１ｂで表される。
【化１３】
【化１４】 本発明によれば、前記それぞれの（Ｒ）−体または
（Ｓ）−体の２−テトラヒドロフランアミドを１.０〜
１.５当量の脱水剤及び１.０〜７.０当量のアミン塩基
の存在下、反応時間２〜６時間、反応温度５０〜１００
℃の条件下で脱水反応させ、下記化学式２ａで表される
（Ｒ）−２−テヒラヒドロフランニトリルまたは下記化
学式２ｂで表される（Ｓ）−２−テトラヒドロフランニ
トリルをそれぞれ得る。
【化１５】
【化１６】
【００１４】この際、前記脱水反応で使用された脱水剤
及びアミン塩基の量が本発明の範囲を外れた場合、脱水
反応が行われないか或いは多量の廃棄物が発生して生産
上不利である。また、前記反応時間が２時間未満であれ
ば、反応転換率が低下し、反応時間が６時間を超える
と、不要な反応時間を多く費やすことになり非経済的で
ある。さらに前記反応温度が５０℃未満であれば、反応
転換率１００％に至る時間が長くなり、反応時間が１０
０℃を超えると、高い温度による多量の副生成物が生成
される。
【００１５】本発明のアミン塩基としては、メチルアミ
ン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン等の
１級アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソ
プロピルアミン等の２級アミン、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、ジエチルイソプロピルアミン等の３級
アミン及びピリジンなどからなる群より選ばれた一つを
使用することができ、好ましくはピリジンを使用するこ
とが良い。
【００１６】また、本発明の脱水剤としては、塩化チオ
ニル、塩化パラトルエンスルホン、五酸化リン、オキシ
三塩化リン、ジメチルスルホキシドとシュウ酸クロリド
の混合物、無水トリフルオロ酢酸、及びホルムアルデヒ
ドと蟻酸の混合物からなる群より選ばれた一つを使用す
ることができ、好ましくは塩化パラトルエンスルホンを
使用することが良い。
【００１７】その後、前記脱水反応から得た（Ｒ）−体
または（Ｓ）−体の２−テトラヒドロフランニトリルそ
れぞれの化合物をグリニャール試薬または有機リチウム
化合物のような求核剤と１：１.０〜１：３.０の当量比
で反応温度−８０〜１００℃及び反応時間１０分〜４時
間の条件下で求核付加反応させる。その後、加水分解に
よって下記化学式３ａで表される（Ｒ）−テトラヒドロ
フラニルケトンまたは下記化学式３ｂで表される（Ｓ）
−テトラヒドロフラニルケトンをそれぞれ得る。
【化１７】
【化１８】 （式中、Ｒは直鎖状または枝分かれした炭素数１〜３０
の飽和または不飽和脂肪族アルキル基、置換されたまた
は非置換の炭素数３〜３０の飽和または不飽和環状アル
キル基、または置換されたまたは非置換の炭素数６〜３
０のアルキル基である。)
【００１８】本発明によれば、前記求核付加反応は、有
機溶媒下で前記（Ｒ）−体または（Ｓ）−体の２−テト
ラヒドロフランニトリルそれぞれの化合物と求核剤を徐
々に投入する。この際、投入される（Ｒ）−体または
（Ｓ）−体の２−テトラヒドロフランニトリルと求核剤
の当量比は１：１〜１：３、好ましくは１：１.１〜
１：２、最も好ましくは１：１.１〜１：１.３が良く、
前記当量比が１：１未満であれば、有機溶媒中の水分及
び不純物によって求核剤が一部消費されるので反応転換
率が減少し、１：３を超えると、無駄に過剰量使用され
て非経済的である。
【００１９】本発明に使用可能な求核剤としては、塩化
メチルマグネシウムや臭化メチルマグネシウム、ヨウ化
メチルマグネシウム、塩化エチルマグネシウム、臭化エ
チルマグネシウム、ヨウ化エチルマグネシウム、塩化ノ
ルマルプロピルマグネシウム、臭化ノルマルプロピルマ
グネシウム、ヨウ化ノルマルプロピルマグネシウム、塩
化イソプロピルマグネシウム、臭化イソプロピルマグネ
シウム、ヨウ化イソプロピルマグネシウム、塩化シクロ
ペンチルマグネシウム、塩化シクロヘキシルマグネシウ
ム、臭化シクロペンチルマグネシウム、臭化シクロヘキ
シルマグネシウム、ヨウ化シクロペンチルマグネシウ
ム、ヨウ化シクロヘキシルマグネシウム、臭化プロパギ
ルマグネシウム、塩化ビニールマグネシウム、臭化ビニ
ールマグネシウム、塩化フェニルマグネシウム、臭化フ
ェニルマグネシウム及びヨウ化フェニルマグネシウムな
どのグリニャール試薬、メチルリチウムやエチルリチウ
ム、プロピルリチウム、イソプロピルリチウム、ノルマ
ルブチルリチウム、イソブチルリチウム、ネオブチルリ
チウム、フェニルリチウムなどの有機リチウム化合物、
ジメチル亜鉛やジエチル亜鉛などの有機亜鉛化合物、及
びトリメチルアルミニウムやトリエチルアルミニウムな
どの有機アルミニウム化合物からなる群より選ばれた一
つであり、これに限定されず、その他必要に応じて製造
して使用することができる。
【００２０】また、前記有機溶媒としては、ジエチルエ
ーテル、ジノルマルブチルエーテル、メチルネオブチル
エーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、１,４−ジオキサン、ノルマルヘキサン、ノルマル
ヘプタン、ベンゼン、トルエン及びキシレンならびにそ
れらの混合物からなる群より一つ以上選択して使用する
ことができ、好ましくはジエチルエーテル、ジブチルエ
ーテル、メチルネオブチルエーテル、イソプロピルエー
テル、テトラヒドロフラン及び１,４−ジオキサンから
なる群より一つ以上選択して使用することがよく、最も
好ましくはテトラヒドロフランを使用することが良い。
【００２１】本発明の求核付加反応は−８０〜１００
℃、好ましくは−２０〜５０℃、最も好ましくは０〜３
０℃の反応温度で行われることが良く、前記反応温度が
−８０℃未満であれば、反応時間が長くて非経済的であ
り、１００℃を超えると、生成物のラセミ化反応が起っ
て光学純度が減少する。また、本発明の求核付加反応は
１０分〜４時間、好ましくは１０分〜２時間、最も好ま
しくは３０分〜１時間行われることが良く、前記反応時
間が１０分未満であれば、反応転換率が減少し、４時間
を超えると、無駄に時間を費やすことになり非経済的で
ある。
【００２２】前記求核付加反応の終結後、酸性水溶液で
加水分解を行って（Ｒ）−体または（Ｓ）−体のテトラ
ヒドロフラニルケトンを光学純度の減少なしに効率よく
製造することができる。前述したように、本発明に係る
（Ｒ）−体または（Ｓ）−体のテトラヒドロフラニルケ
トンの製造方法は、従来の技術で使用した（Ｒ）−体ま
たは（Ｓ）−体の２−テトラヒドロフロ酸の代りに、前
記化学式２ａ及び化学式２ｂでそれぞれ表示される
（Ｒ）−体または（Ｓ）−体の２−テトラヒドロフラン
ニトリルを使用することにより、求核剤の使用量を１当
量以上減少させることができるので経済的であり、光学
純度の減少なしに副生成物の３級アルコールの生成を最
小限にした（Ｒ）−体または（Ｓ）−体のテトラヒドロ
フラニルケトンを得ることができるので、工業規模への
適用が可能である。
【００２３】
【実施例】以下、下記実施例によって本発明をより具体
的に説明するが、これに本発明の範疇が限定されるもの
ではない。 （実施例１）１Ｌの反応器にピリジン１９５ｇを導入し
て攪拌した。ここに、９９.１％の光学純度（ee）を有
する（Ｓ）−２−テトラヒドロフランアミド４０.５ｇ
と塩化パラトルエンスルホン７３.８ｇを添加後、５０
℃で２時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮させて殆ど
のピリジンを除去し、氷水入りの水槽に反応器を入れた
後、希塩酸を添加して攪拌した。さらにジクロロメタン
を添加し抽出した後、水層は除去した。その後、抽出し
た有機層から減圧下でジクロロメタンを除去し、これを
再び減圧下で蒸留して（Ｓ）−２−テトラヒドロフラン
ニトリル２５ｇを得た。その後、０.５Ｌの反応器を０
℃の温度に低下させた後、それに濃度３Ｍの塩化メチル
マグネシウムのテトラヒドロフラン溶液を０.１Ｌ導入
した。さらに、前記反応から得た（Ｓ）−２−テトラヒ
ドロフランニトリル２５ｇ及びテトラヒドロフラン０.
０７Ｌの溶液を徐々に滴加した。この際、前記反応器内
の温度を１５℃以上にならないように調節後、０．５時
間攪拌した。前記反応溶液を、予め用意した濃塩酸３２
ｇ及び水０.２Ｌの溶液に温度が２５℃以上にならない
ようにしながら徐々に滴加した。ここに酢酸エチルを入
れて抽出した後、溶媒を減圧下で除去し、再び減圧下で
蒸留して（Ｓ）−２−アセチル−テトラヒドロフラン１
７.７ｇを得た。光学純度は９９.１％ｅｅであった。
【００２４】（実施例２）０.５Ｌの反応器にピリジン
７０ｇを導入して攪拌した。ここに、９８.５％の光学
純度（ｅｅ）を有する（Ｒ）−２−テトラヒドロフラン
アミド２０ｇと塩化パラトルエンスルホン３７ｇを添加
後、５０℃で２時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮さ
せて殆どのピリジンを除去し、氷水入りの水槽に反応器
を入れた後、希塩酸を添加して攪拌した。さらにジクロ
ロメタンを添加し、抽出した後、水層は除去した。その
後、抽出した有機層から減圧下でジクロロメタンを除去
し、これを再び減圧下で蒸留して（Ｒ）−２−テトラヒ
ドロフランニトリル１３.５ｇを得た。その後、１Ｌの
反応器を０℃の温度に低下させた後、これに濃度１.６
Ｍのノルマルブチルリチウムのノルマルヘキサン溶液を
０.４Ｌ導入した。さらに、前記反応から得た（Ｒ）−
２−テトラヒドロフランニトリル１３．５ｇ及びテトラ
ヒドロフラン０.０７Ｌの溶液を徐々に滴加した。この
際、前記反応器内の温度を１５℃以上にならないように
調節した後、１時間攪拌した。前記反応溶液を、予め用
意した濃塩酸６５ｇ及び水０.４Ｌの溶液に温度が２５
℃以上にならないようにしながら徐々に滴加した。ここ
に酢酸エチルを入れて抽出した後、溶媒を減圧下で除去
し、再び減圧下で蒸留して（Ｒ）−１−（２−テトラヒ
ドロフラニル）−１−ペンタノン１９．６ｇを得た。光
学純度は９８.５％ｅｅであった。
【００２５】
【発明の効果】上述したように、本発明に係る製造方法
は、（Ｒ）−体または（Ｓ）−体の２−テトラヒドロフ
ロ酸の代りに、（Ｒ）−体または（Ｓ）−体の２−テト
ラヒドロフランニトリルを使用することにより、求核剤
の使用量を１当量以上減少させることができるため経済
的であるとともに、光学純度の減少なしに副生成物とし
ての３級アルコールの生成を最小限にして産業上の利用
性の高い（Ｒ）−体または（Ｓ）−体のテトラヒドロフ
ラニルケトンの製造方法を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 イム ジョン−ホ 大韓民国，デジョン、ユソン−ク、ジョン ミン−ドン、エキスポ アパート 102− 502 Ｆターム(参考） 4C037 CA09

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下記化学式１ａで表される（Ｒ）−２−
    テトラヒドロフランアミドを脱水剤及びアミン塩基の存
    在下、反応温度５０〜１００℃及び反応時間２〜６時間
    の条件下で脱水反応させ、下記化学式２ａで表される
    （Ｒ）−２−テトラヒドロフランニトリルを得る段階
    と、 【化１】 【化２】 有機溶媒中で前記化学式２ａで表される（Ｒ）−２−テ
    トラヒドロフランニトリルを求核剤と反応温度−８０〜
    １００℃及び反応時間１０分〜４時間の条件下で求核付
    加反応させた後、酸性水溶液を用いて加水分解させ、下
    記化学式３ａで表される（Ｒ）−テトラヒドロフラニル
    ケトンを得る段階と、前記段階で得た反応生成物を回収
    する段階とを含むことを特徴とする光学的に純粋な
    （Ｒ）−テトラヒドロフラニルケトンの製造方法。 【化３】 （式中、Ｒは直鎖状または枝分かれした炭素数１〜３０
    の飽和または不飽和脂肪族アルキル基、置換されたまた
    は非置換の炭素数３〜３０の飽和または不飽和環状アル
    キル基、または置換されたまたは非置換の炭素数６〜３
    ０のアルキル基である。）
  2. 【請求項２】 下記化学式１ｂで表される（Ｓ）−２−
    テトラヒドロフランアミドを脱水剤及びアミン塩基の存
    在下、反応温度５０〜１００℃及び反応時間２〜６時間
    の条件下で脱水反応させ、下記化学式２ｂで表される
    （Ｓ）−２−テトラヒドロフランニトリルを得る段階
    と、 【化４】 【化５】 有機溶媒中で、前記化学式２ｂで表される（Ｓ）−２−
    テトラヒドロフランニトリルを求核剤と反応温度−８０
    〜１００℃及び反応時間１０分〜４時間の条件下で求核
    付加反応させた後、酸性水溶液を用いて加水分解させ、
    下記化学式３ｂで表される（Ｓ）−テトラヒドロフラニ
    ルケトンを得る段階と、前記段階で得た反応生成物を回
    収する段階とを含むことを特徴とする光学的に純粋な
    （Ｓ）−テトラヒドロフラニルケトンの製造方法。 【化６】 （式中、Ｒは直鎖状または枝分かれした炭素数１〜３０
    の飽和または不飽和脂肪族アルキル基、置換されたまた
    は非置換の炭素数３〜３０の飽和または不飽和環状アル
    キル基、または置換されたまたは非置換の炭素数６〜３
    ０のアルキル基である。）
  3. 【請求項３】 前記脱水剤は、塩化チオニル、塩化パラ
    トルエンスルホン、五酸化リン、オキシ三塩化リン、ジ
    メチルスルホキシドとシュウ酸クロリドの混合物、無水
    トリフルオロ酢酸、及びホルムアルデヒドと蟻酸の混合
    物からなる群より選ばれた一つであることを特徴とする
    請求項１または２記載の製造方法。
  4. 【請求項４】 前記アミン塩基は、メチルアミン、エチ
    ルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ジメチルア
    ミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、トリメ
    チルアミン、トリエチルアミン、ジエチルイソプロピル
    アミン及びピリジンからなる群より選ばれた一つである
    ことを特徴とする請求項１または２記載の製造方法。
  5. 【請求項５】 前記求核剤は、塩化メチルマグネシウ
    ム、臭化メチルマグネシウム、ヨウ化メチルマグネシウ
    ム、塩化エチルマグネシウム、臭化エチルマグネシウ
    ム、ヨウ化エチルマグネシウム、塩化ノルマルプロピル
    マグネシウム、臭化ノルマルプロピルマグネシウム、ヨ
    ウ化ノルマルプロピルマグネシウム、塩化イソプロピル
    マグネシウム、臭化イソプロピルマグネシウム、ヨウ化
    イソプロピルマグネシウム、塩化シクロペンチルマグネ
    シウム、塩化シクロヘキシルマグネシウム、臭化シクロ
    ペンチルマグネシウム、臭化シクロヘキシルマグネシウ
    ム、ヨウ化シクロペンチルマグネシウム、ヨウ化シクロ
    ヘキシルマグネシウム、臭化プロパギルマグネシウム、
    塩化ビニールマグネシウム、臭化ビニールマグネシウ
    ム、塩化フェニルマグネシウム、臭化フェニルマグネシ
    ウム、ヨウ化フェニルマグネシウム、メチルリチウム、
    エチルリチウム、プロピルリチウム、イソプロピルリチ
    ウム、ノルマルブチルリチウム、イソブチルリチウム、
    ネオブチルリチウム、フェニルリチウム、ジメチル亜
    鉛、ジエチル亜鉛、トリメチルアルミニウム、トリエチ
    ルアルミニウム及びその他必要に応じて製造して使用す
    る求核剤からなる群より選ばれた一つであることを特徴
    とする請求項１または２記載の製造方法。
  6. 【請求項６】 前記有機溶媒は、ジエチルエーテル、ジ
    ノルマルブチルエーテル、メチルネオブチルエーテル、
    イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１,４−
    ジオキサン、ノルマルヘキサン、ノルマルヘプタン、ベ
    ンゼン、トルエン及びキシレンならびにそれらの混合物
    からなる群より一つ以上選択されたことを特徴とする請
    求項１または２記載の製造方法。
  7. 【請求項７】 前記（Ｒ）−２−テトラヒドロフランニ
    トリルと求核剤の反応モル比は１：１〜１：３であるこ
    とを特徴とする請求項１記載の光学的に純粋な（Ｒ）−
    テトラヒドロフラニルケトンの製造方法。
  8. 【請求項８】 前記（Ｓ）−２−テトラヒドロフランニ
    トリルと求核剤の反応モル比は１：１〜１：３であるこ
    とを特徴とする請求項２記載の光学的に純粋な（Ｓ）−
    テトラヒロドフラニルケトンの製造方法。
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