JP2003181257A - 微小流路を有するセル基板およびその製造方法 - Google Patents
微小流路を有するセル基板およびその製造方法Info
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- JP2003181257A JP2003181257A JP2001385029A JP2001385029A JP2003181257A JP 2003181257 A JP2003181257 A JP 2003181257A JP 2001385029 A JP2001385029 A JP 2001385029A JP 2001385029 A JP2001385029 A JP 2001385029A JP 2003181257 A JP2003181257 A JP 2003181257A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 接着剤のカナルへの流入を防ぎ、歩留まりを
高くするとともに、寸法精度の高い微小流路を形成す
る。 【解決手段】 微小流路３２を上面に有する浮き出し段
差と、浮き出し段差の周囲に設けられた溜まり溝３６と
が形成された第１基板３１と、微小流路３２の蓋とな
り、浮き出し段差と嵌合する堀込み段差が形成された第
２基板３３とを備え、第１基板３１と第２基板３３とを
接合して構成する。
高くするとともに、寸法精度の高い微小流路を形成す
る。 【解決手段】 微小流路３２を上面に有する浮き出し段
差と、浮き出し段差の周囲に設けられた溜まり溝３６と
が形成された第１基板３１と、微小流路３２の蓋とな
り、浮き出し段差と嵌合する堀込み段差が形成された第
２基板３３とを備え、第１基板３１と第２基板３３とを
接合して構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、微小流路を有する
セル基板およびその製造方法に関し、より詳細には、化
学分析などの分野において微小量の液体を混合するのに
用いられる微小流路を有するセル基板およびその製造方
法に関する。
セル基板およびその製造方法に関し、より詳細には、化
学分析などの分野において微小量の液体を混合するのに
用いられる微小流路を有するセル基板およびその製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】各種液体の合成、反応により産生される
液体の化学分析を行うにあたり、廃液の量を減らすため
に微小量の液体を混合することができる、微小流路（以
下、カナルという）を有するセル基板が用いられてい
る。セル基板に設けられた寸法精度のよいカナルによ
り、微小量で精度の高い合成、反応を行うことができ
る。
液体の化学分析を行うにあたり、廃液の量を減らすため
に微小量の液体を混合することができる、微小流路（以
下、カナルという）を有するセル基板が用いられてい
る。セル基板に設けられた寸法精度のよいカナルによ
り、微小量で精度の高い合成、反応を行うことができ
る。
【０００３】図１に、従来のカナルを有するセル基板の
一例を示す。カナルを有するセル基板は、ガラス基板１
１とカバー１３とを熱融着または接着剤で接合すること
により、構成されている。ガラス基板１１とカバー１３
とは、板ガラスまたは石英ガラスが使用される。ガラス
基板１１には、レーザ加工、ウェットエッチング法、ま
たはドライエッチング法により、Ｙ字型のカナル１２が
形成されている。カバー１３には、Ｙ字型のカナル１２
の各々の頂点に対応する位置に、注入口１４ａ，１４ｂ
と排出口１５とが設けられている。注入口１４ａ，１４
ｂから注入された液体は、カナル１２に沿って合成さ
れ、排出口１５に導かれるようになっている。
一例を示す。カナルを有するセル基板は、ガラス基板１
１とカバー１３とを熱融着または接着剤で接合すること
により、構成されている。ガラス基板１１とカバー１３
とは、板ガラスまたは石英ガラスが使用される。ガラス
基板１１には、レーザ加工、ウェットエッチング法、ま
たはドライエッチング法により、Ｙ字型のカナル１２が
形成されている。カバー１３には、Ｙ字型のカナル１２
の各々の頂点に対応する位置に、注入口１４ａ，１４ｂ
と排出口１５とが設けられている。注入口１４ａ，１４
ｂから注入された液体は、カナル１２に沿って合成さ
れ、排出口１５に導かれるようになっている。
【０００４】図２に、従来のカナルを有するセル基板の
他の例を示す。カナルを有するセル基板は、ガラス基板
２１とカナル２２を有する流路基板２３とカバー１３と
を熱融着または接着剤で接合することにより、構成され
ている。流路基板２３には、レーザ加工、ウェットエッ
チング法、またはドライエッチング法により、Ｙ字型の
スリット状のカナル２２が形成されている。
他の例を示す。カナルを有するセル基板は、ガラス基板
２１とカナル２２を有する流路基板２３とカバー１３と
を熱融着または接着剤で接合することにより、構成され
ている。流路基板２３には、レーザ加工、ウェットエッ
チング法、またはドライエッチング法により、Ｙ字型の
スリット状のカナル２２が形成されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ウェッ
トエッチング法でカナルを形成するセル基板は、等方的
エッチングのため、寸法精度の高いカナルを形成するこ
とが難しいという問題があった。ドライエッチング法で
カナルを形成するセル基板は、寸法精度の高いカナルを
形成することができるが、高価な真空装置を必要とし、
長時間の加工が必要で、生産効率が低いという問題もあ
った。
トエッチング法でカナルを形成するセル基板は、等方的
エッチングのため、寸法精度の高いカナルを形成するこ
とが難しいという問題があった。ドライエッチング法で
カナルを形成するセル基板は、寸法精度の高いカナルを
形成することができるが、高価な真空装置を必要とし、
長時間の加工が必要で、生産効率が低いという問題もあ
った。
【０００６】また、複数の基板を熱融着により接合する
ために、量産性が低く、コストが高いという問題もあっ
た。接着剤により接合する場合にあっては、接着剤がカ
ナルを埋めてしまうために、歩留まりが低いという問題
もあった。
ために、量産性が低く、コストが高いという問題もあっ
た。接着剤により接合する場合にあっては、接着剤がカ
ナルを埋めてしまうために、歩留まりが低いという問題
もあった。
【０００７】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たもので、その目的とするところは、セル基板を構成す
る際の一体化が容易であって、寸法精度の高い微小流路
を有するセル基板およびその製造方法を提供することに
ある。
たもので、その目的とするところは、セル基板を構成す
る際の一体化が容易であって、寸法精度の高い微小流路
を有するセル基板およびその製造方法を提供することに
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、請求項１に記載の発明は、複数の
液体を合成し、合成物の化学分析を行うための微小流路
を有するセル基板において、微小流路を上面に有する浮
き出し段差と、該浮き出し段差の周囲に設けられた溜ま
り溝とが形成された第１基板と、前記微小流路の蓋とな
り、前記浮き出し段差と嵌合する堀込み段差が形成され
た第２基板とを備え、前記第１基板と前記第２基板とを
接合して構成されることを特徴とする。
的を達成するために、請求項１に記載の発明は、複数の
液体を合成し、合成物の化学分析を行うための微小流路
を有するセル基板において、微小流路を上面に有する浮
き出し段差と、該浮き出し段差の周囲に設けられた溜ま
り溝とが形成された第１基板と、前記微小流路の蓋とな
り、前記浮き出し段差と嵌合する堀込み段差が形成され
た第２基板とを備え、前記第１基板と前記第２基板とを
接合して構成されることを特徴とする。
【０００９】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の前記微小流路の側壁の屈曲部は、曲率を有する形状で
あることを特徴とする。
の前記微小流路の側壁の屈曲部は、曲率を有する形状で
あることを特徴とする。
【００１０】請求項３に記載の発明は、請求項１または
２に記載の前記微小流路は、液体が合成される前の、複
数の流路の断面積の合計が、液体が合成された後の流路
の断面積と等しいことを特徴とする。
２に記載の前記微小流路は、液体が合成される前の、複
数の流路の断面積の合計が、液体が合成された後の流路
の断面積と等しいことを特徴とする。
【００１１】請求項４に記載の発明は、請求項１、２ま
たは３に記載の前記微小流路の横断面の形状は、方形、
円形、半円形または台形のいずれかであることを特徴と
する。
たは３に記載の前記微小流路の横断面の形状は、方形、
円形、半円形または台形のいずれかであることを特徴と
する。
【００１２】請求項５に記載の発明は、請求項１ないし
４のいずれかに記載の前記微小流路は、液体が合成され
た後の流路の底面に、薄膜電極を有することを特徴とす
る。
４のいずれかに記載の前記微小流路は、液体が合成され
た後の流路の底面に、薄膜電極を有することを特徴とす
る。
【００１３】請求項６に記載の発明は、複数の液体を合
成し、合成物の化学分析を行うための微小流路を有する
セル基板の製造方法において、第１基板に浮き出し段差
を形成する工程と、前記浮き出し段差の上面に微小流路
を形成する工程と、前記浮き出し段差の周囲に溜まり溝
を形成する工程と、第２基板に前記微小流路の蓋とな
り、前記浮き出し段差と嵌合する堀込み段差を形成する
工程と、前記第１基板と前記第２基板とを接合して微小
流路を有するセル基板を形成する工程とを備えたことを
特徴とする。
成し、合成物の化学分析を行うための微小流路を有する
セル基板の製造方法において、第１基板に浮き出し段差
を形成する工程と、前記浮き出し段差の上面に微小流路
を形成する工程と、前記浮き出し段差の周囲に溜まり溝
を形成する工程と、第２基板に前記微小流路の蓋とな
り、前記浮き出し段差と嵌合する堀込み段差を形成する
工程と、前記第１基板と前記第２基板とを接合して微小
流路を有するセル基板を形成する工程とを備えたことを
特徴とする。
【００１４】請求項７に記載の発明は、請求項６に記載
の前記微小流路を形成する工程は、フローティングパー
ティクル研磨法、ウォータージェット法、エッチング
法、リプレス法またはゾルゲル法のいずれかの方法で形
成することを特徴とする。
の前記微小流路を形成する工程は、フローティングパー
ティクル研磨法、ウォータージェット法、エッチング
法、リプレス法またはゾルゲル法のいずれかの方法で形
成することを特徴とする。
【００１５】請求項８に記載の発明は、複数の液体を合
成し、合成物の化学分析を行うための微小流路を有する
セル基板の製造方法において、微小流路を形成する凸部
を底面に有し、浮き出し段差を形成する凹部と、該凹部
の周囲に設けられた溜まり溝を形成する凸部とを有する
第１金型により第１基板を成形し、前記微小流路の蓋と
なり、前記浮き出し段差と嵌合する堀込み段差を形成す
る凸部を有する第２金型により第２基板を成形し、前記
第１基板と前記第２基板とを接合して構成することを特
徴とする。
成し、合成物の化学分析を行うための微小流路を有する
セル基板の製造方法において、微小流路を形成する凸部
を底面に有し、浮き出し段差を形成する凹部と、該凹部
の周囲に設けられた溜まり溝を形成する凸部とを有する
第１金型により第１基板を成形し、前記微小流路の蓋と
なり、前記浮き出し段差と嵌合する堀込み段差を形成す
る凸部を有する第２金型により第２基板を成形し、前記
第１基板と前記第２基板とを接合して構成することを特
徴とする。
【００１６】請求項９に記載の発明は、請求項８に記載
の前記第１金型および前記第２金型は、フローティング
パーティクル研磨法またはウォータージェット法により
形成された金型であることを特徴とする。
の前記第１金型および前記第２金型は、フローティング
パーティクル研磨法またはウォータージェット法により
形成された金型であることを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施形態について詳細に説明する。
の実施形態について詳細に説明する。
【００１８】図３に、本発明の第１の実施形態にかかる
カナルを有するセル基板を示す。図３（ａ）は、斜視図
であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）のａａ’における中
央横断面図である。カナルを有するセル基板は、樹脂基
板３１とカバー３３とを接着剤で接合することにより、
構成されている。
カナルを有するセル基板を示す。図３（ａ）は、斜視図
であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）のａａ’における中
央横断面図である。カナルを有するセル基板は、樹脂基
板３１とカバー３３とを接着剤で接合することにより、
構成されている。
【００１９】樹脂基板３１には浮き出し段差が設けられ
ており、浮き出し段差の表面に、Ｙ字型のカナル３２が
形成されている。浮き出し段差の周囲には、溜まり溝と
してドレイン３６が設けられている。ドレイン３６は、
樹脂基板３１とカバー３３とを張り合わせた際に、余分
な接着剤が流れ込む溝となる。ドレイン３６の形状は、
浮き出し段差の周囲を取り囲むものに限定されるもので
はない。このような構成により、浮き出し段差とドレイ
ン３６とにより、接着剤のカナル３２への流入を防ぐこ
とができる。
ており、浮き出し段差の表面に、Ｙ字型のカナル３２が
形成されている。浮き出し段差の周囲には、溜まり溝と
してドレイン３６が設けられている。ドレイン３６は、
樹脂基板３１とカバー３３とを張り合わせた際に、余分
な接着剤が流れ込む溝となる。ドレイン３６の形状は、
浮き出し段差の周囲を取り囲むものに限定されるもので
はない。このような構成により、浮き出し段差とドレイ
ン３６とにより、接着剤のカナル３２への流入を防ぐこ
とができる。
【００２０】ここで、カナル３２が形成された樹脂基板
３１を作製する方法は、既知のフローティングパーティ
クル研磨法、またはウォータージェット法を用いて形成
した金型を使用する。カナルの寸法精度は、金型の寸法
精度に依存するので、加工歪みの少ない平滑な側壁、底
面を有するカナルを形成することができる。このような
機械的な加工方法、エッチング法、リプレス法またはゾ
ルゲル法を用いて、樹脂基板３１にカナル３２を直接形
成してもよい。
３１を作製する方法は、既知のフローティングパーティ
クル研磨法、またはウォータージェット法を用いて形成
した金型を使用する。カナルの寸法精度は、金型の寸法
精度に依存するので、加工歪みの少ない平滑な側壁、底
面を有するカナルを形成することができる。このような
機械的な加工方法、エッチング法、リプレス法またはゾ
ルゲル法を用いて、樹脂基板３１にカナル３２を直接形
成してもよい。
【００２１】カバー３３は、樹脂基板３１の浮き出し段
差に対応して、堀込み段差が形成され、カナル３２の蓋
となり、一体型のセル基板を構成するようになってい
る。カバー３３には、Ｙ字型のカナル３２の各々の頂点
に対応する位置に、注入口３４ａ，３４ｂと排出口３５
とが設けられている。また、樹脂基板３１の四隅には突
起３７ａ〜３７ｄが設けられ、カバー３３の四隅には接
合穴３８ａ〜３８ｂが設けられ、それぞれ勘合するよう
構成されている。
差に対応して、堀込み段差が形成され、カナル３２の蓋
となり、一体型のセル基板を構成するようになってい
る。カバー３３には、Ｙ字型のカナル３２の各々の頂点
に対応する位置に、注入口３４ａ，３４ｂと排出口３５
とが設けられている。また、樹脂基板３１の四隅には突
起３７ａ〜３７ｄが設けられ、カバー３３の四隅には接
合穴３８ａ〜３８ｂが設けられ、それぞれ勘合するよう
構成されている。
【００２２】カナルを有するセル基板の使用方法につい
て説明する。最初に、合成する液体を、キャピラリー等
で注入口３４ａ，３４ｂにする。注入された液体は、Ｙ
字型のカナル３２に沿って合成される。合成された液体
は、透明な樹脂基板３１とカバー３３とを通して、光学
特性等の測定が行われる。測定が終了すると、合成され
た液体は、排出口３５から排出される。
て説明する。最初に、合成する液体を、キャピラリー等
で注入口３４ａ，３４ｂにする。注入された液体は、Ｙ
字型のカナル３２に沿って合成される。合成された液体
は、透明な樹脂基板３１とカバー３３とを通して、光学
特性等の測定が行われる。測定が終了すると、合成され
た液体は、排出口３５から排出される。
【００２３】図４に、本発明の第２の実施形態にかかる
カナルを有するセル基板の樹脂基板を示す。図４（ａ）
は、上面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）のａａ’
における中央横断面図である。図５に、本発明の第２の
実施形態にかかるカナルを有するセル基板のカバーを示
す。図５（ａ）は、底面図であり、図５（ｂ）は、図５
（ａ）のａａ’における中央横断面図である。第２の実
施形態においては、溝状のドレイン３６と突起３７ａ〜
３７ｄとをカバー３３に設け、接合穴３８ａ〜３８ｂを
樹脂基板３１に設けた。
カナルを有するセル基板の樹脂基板を示す。図４（ａ）
は、上面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）のａａ’
における中央横断面図である。図５に、本発明の第２の
実施形態にかかるカナルを有するセル基板のカバーを示
す。図５（ａ）は、底面図であり、図５（ｂ）は、図５
（ａ）のａａ’における中央横断面図である。第２の実
施形態においては、溝状のドレイン３６と突起３７ａ〜
３７ｄとをカバー３３に設け、接合穴３８ａ〜３８ｂを
樹脂基板３１に設けた。
【００２４】図６に、本発明の一実施形態にかかるカナ
ルを示す。カナルの断面形状は、カナルを流れる液体の
層流を維持するために、様々な形状を適用することがで
きる。図６（ａ）は方形、図６（ｂ）は円形、図６
（ｃ）は半円形、６（ｄ）は台形の形状を有する。
ルを示す。カナルの断面形状は、カナルを流れる液体の
層流を維持するために、様々な形状を適用することがで
きる。図６（ａ）は方形、図６（ｂ）は円形、図６
（ｃ）は半円形、６（ｄ）は台形の形状を有する。
【００２５】図７に、本発明の一実施形態にかかるカナ
ルの側壁形状を示す。図７（ａ）は、加工前の側壁形状
を示した斜視図である。図７（ｂ）は、側壁を加工した
カナルを示した斜視図である。カナル７１は、スムース
な層流を維持するために、側壁の屈曲部７２，７３ａ，
７３ｂに曲率を有している。
ルの側壁形状を示す。図７（ａ）は、加工前の側壁形状
を示した斜視図である。図７（ｂ）は、側壁を加工した
カナルを示した斜視図である。カナル７１は、スムース
な層流を維持するために、側壁の屈曲部７２，７３ａ，
７３ｂに曲率を有している。
【００２６】図８に、本発明の一実施形態にかかるカナ
ルの断面形状を示す。図８（ａ）に示したカナルは、液
体が合流する前のカナル８１ａ，８１ｂの断面積の合計
が、液体が合流した後のカナル８１ｃの断面積と等し
い。このようにして、カナルを流れる液体の層流を安定
させることができる。
ルの断面形状を示す。図８（ａ）に示したカナルは、液
体が合流する前のカナル８１ａ，８１ｂの断面積の合計
が、液体が合流した後のカナル８１ｃの断面積と等し
い。このようにして、カナルを流れる液体の層流を安定
させることができる。
【００２７】図８（ｂ）に示したカナルは、カナルの幅
は全て等しいが、深さが異なる。液体が合流した後のカ
ナル８１ｃは、液体が合流する位置から排出口のある位
置まで、徐々に深くなる。排出口のある位置では、カナ
ル８１ａ，８１ｂの断面積の合計が、カナル８１ｃの断
面積と等しい。このようにして、カナルを流れる液体の
層流を安定させることができる。
は全て等しいが、深さが異なる。液体が合流した後のカ
ナル８１ｃは、液体が合流する位置から排出口のある位
置まで、徐々に深くなる。排出口のある位置では、カナ
ル８１ａ，８１ｂの断面積の合計が、カナル８１ｃの断
面積と等しい。このようにして、カナルを流れる液体の
層流を安定させることができる。
【００２８】図９に、本発明の第３の実施形態にかかる
カナルを有するセル基板を示す。カナルを有するセル基
板を、カバー３３の上面から見た図である。第３の実施
形態においては、３液を合成するために、樹脂基板３１
には、Ｙ字型のカナル３２にカナル９１を接続した。カ
バー３３には、カナル９１への注入口３４ｃを設けてい
る。このようにして、複数の液体を合成することができ
るカナルを、樹脂基板３１上に自由に形成することがで
きる。
カナルを有するセル基板を示す。カナルを有するセル基
板を、カバー３３の上面から見た図である。第３の実施
形態においては、３液を合成するために、樹脂基板３１
には、Ｙ字型のカナル３２にカナル９１を接続した。カ
バー３３には、カナル９１への注入口３４ｃを設けてい
る。このようにして、複数の液体を合成することができ
るカナルを、樹脂基板３１上に自由に形成することがで
きる。
【００２９】図１０に、本発明の第４の実施形態にかか
るカナルを有するセル基板を示す。カナルを有するセル
基板を、カバー３３の上面から見た図である。樹脂基板
３１には、合成された液体の分析を行うための薄膜電極
１０１ａ〜１０１ｃが、カナルの底面に設けられ、リー
ド１０２ａ〜１０２ｃに接続されている。接着剤によ
り、低温または常温で接合するので、薄膜電極を設けた
樹脂基板を作製することができる。このようにして、合
成された液体の電気的な特性の測定を容易に行うことが
できる。
るカナルを有するセル基板を示す。カナルを有するセル
基板を、カバー３３の上面から見た図である。樹脂基板
３１には、合成された液体の分析を行うための薄膜電極
１０１ａ〜１０１ｃが、カナルの底面に設けられ、リー
ド１０２ａ〜１０２ｃに接続されている。接着剤によ
り、低温または常温で接合するので、薄膜電極を設けた
樹脂基板を作製することができる。このようにして、合
成された液体の電気的な特性の測定を容易に行うことが
できる。
【００３０】図１１に、本発明の第５の実施形態にかか
るカナルを有するセル基板を示す。カナルを有するセル
基板を、カバー３３の上面から見た図である。３液を合
成するために、樹脂基板３１には、Ｙ字型のカナル３２
にカナル９１を接続し、薄膜電極１０１ａ〜１０１ｃと
リード１０２ａ〜１０２ｃとを設けた。
るカナルを有するセル基板を示す。カナルを有するセル
基板を、カバー３３の上面から見た図である。３液を合
成するために、樹脂基板３１には、Ｙ字型のカナル３２
にカナル９１を接続し、薄膜電極１０１ａ〜１０１ｃと
リード１０２ａ〜１０２ｃとを設けた。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
浮き出し段差とドレインとを備えたので、接着剤のカナ
ルへの流入を防ぎ、歩留まり高くすることが可能とな
る。
浮き出し段差とドレインとを備えたので、接着剤のカナ
ルへの流入を防ぎ、歩留まり高くすることが可能とな
る。
【００３２】また、本発明によれば、基板とカバーと
に、樹脂プレートを使用することにより、金型を使用し
た成形が可能となり、形状の自由度が高く、平滑な平面
を有し、寸法精度の高いカナルを形成することが可能と
なる。
に、樹脂プレートを使用することにより、金型を使用し
た成形が可能となり、形状の自由度が高く、平滑な平面
を有し、寸法精度の高いカナルを形成することが可能と
なる。
【図１】従来のカナルを有するセル基板の一例を示した
斜視図である。
斜視図である。
【図２】従来のカナルを有するセル基板の他の例を示し
た斜視図である。
た斜視図である。
【図３】本発明の第１の実施形態にかかるカナルを有す
るセル基板を示した図である。
るセル基板を示した図である。
【図４】本発明の第２の実施形態にかかるカナルを有す
るセル基板の樹脂基板を示した図である。
るセル基板の樹脂基板を示した図である。
【図５】本発明の第２の実施形態にかかるカナルを有す
るセル基板のカバーを示した図である。
るセル基板のカバーを示した図である。
【図６】本発明の一実施形態にかかるカナルを示した断
面図である。
面図である。
【図７】本発明の一実施形態にかかるカナルの側壁形状
を示した斜視図である。
を示した斜視図である。
【図８】本発明の一実施形態にかかるカナルの断面形状
を示した斜視図である。
を示した斜視図である。
【図９】本発明の第３の実施形態にかかるカナルを有す
るセル基板を示した上面図である。
るセル基板を示した上面図である。
【図１０】本発明の第４の実施形態にかかるカナルを有
するセル基板を示した上面図である。
するセル基板を示した上面図である。
【図１１】本発明の第５の実施形態にかかるカナルを有
するセル基板を示した上面図である。
するセル基板を示した上面図である。
１１，２１ ガラス基板
３１ 樹脂基板
１２，２２，３２ カナル
１３，３３ カバー
１４ａ，１４ｂ，３４ａ，３４ｂ 注入口
１５，３５ 排出口
２３ 流路基板
３６ ドレイン
３７ａ〜３７ｄ 突起
３８ａ〜３８ｂ 接合穴
─────────────────────────────────────────────────────
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(72)発明者 澤田 雅弘
東京都新宿区西新宿二丁目１番１号 エ
ヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株
式会社内
(72)発明者 石井 芳一
東京都新宿区西新宿二丁目１番１号 エ
ヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株
式会社内
(72)発明者 田部井 久男
東京都新宿区西新宿二丁目１番１号 エ
ヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株
式会社内
(72)発明者 浅野 祐一郎
東京都文京区西片１−17−10 株式会社エ
ーアンドエー研究所内
(72)発明者 石原 張男
長野県上田市大手１丁目３番３号 株式会
社石原産業内
Ｆターム(参考） 4G035 AB37 AC01 AE13 AE17
Claims (9)
- 【請求項１】 複数の液体を合成し、合成物の化学分析
を行うための微小流路を有するセル基板において、 微小流路を上面に有する浮き出し段差と、該浮き出し段
差の周囲に設けられた溜まり溝とが形成された第１基板
と、 前記微小流路の蓋となり、前記浮き出し段差と嵌合する
堀込み段差が形成された第２基板とを備え、 前記第１基板と前記第２基板とを接合して構成されるこ
とを特徴とする微小流路を有するセル基板。 - 【請求項２】 前記微小流路の側壁の屈曲部は、曲率を
有する形状であることを特徴とする請求項１に記載の微
小流路を有するセル基板。 - 【請求項３】 前記微小流路は、液体が合成される前
の、複数の流路の断面積の合計が、液体が合成された後
の流路の断面積と等しいことを特徴とする請求項１また
は２に記載の微小流路を有するセル基板。 - 【請求項４】 前記微小流路の横断面の形状は、方形、
円形、半円形または台形のいずれかであることを特徴と
する請求項１、２または３に記載の微小流路を有するセ
ル基板。 - 【請求項５】 前記微小流路は、液体が合成された後の
流路の底面に、薄膜電極を有することを特徴とする請求
項１ないし４のいずれかに記載の微小流路を有するセル
基板。 - 【請求項６】 複数の液体を合成し、合成物の化学分析
を行うための微小流路を有するセル基板の製造方法にお
いて、 第１基板に浮き出し段差を形成する工程と、 前記浮き出し段差の上面に微小流路を形成する工程と、 前記浮き出し段差の周囲に溜まり溝を形成する工程と、 第２基板に前記微小流路の蓋となり、前記浮き出し段差
と嵌合する堀込み段差を形成する工程と、 前記第１基板と前記第２基板とを接合して微小流路を有
するセル基板を形成する工程とを備えたことを特徴とす
る微小流路を有するセル基板の製造方法。 - 【請求項７】 前記微小流路を形成する工程は、フロー
ティングパーティクル研磨法、ウォータージェット法、
エッチング法、リプレス法またはゾルゲル法のいずれか
の方法で形成することを特徴とする請求項６に記載の微
小流路を有するセル基板の製造方法。 - 【請求項８】 複数の液体を合成し、合成物の化学分析
を行うための微小流路を有するセル基板の製造方法にお
いて、 微小流路を形成する凸部を底面に有し、浮き出し段差を
形成する凹部と、該凹部の周囲に設けられた溜まり溝を
形成する凸部とを有する第１金型により第１基板を成形
し、 前記微小流路の蓋となり、前記浮き出し段差と嵌合する
堀込み段差を形成する凸部を有する第２金型により第２
基板を成形し、 前記第１基板と前記第２基板とを接合して構成すること
を特徴とする微小流路を有するセル基板の製造方法。 - 【請求項９】 前記第１金型および前記第２金型は、フ
ローティングパーティクル研磨法またはウォータージェ
ット法により形成された金型であることを特徴とする請
求項８に記載の微小流路を有するセル基板の製造方法。
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Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004333185A (ja) * | 2003-05-01 | 2004-11-25 | Enplas Corp | 試料取扱装置 |
| JP2006204983A (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Sekisui Chem Co Ltd | マイクロリアクターの製造方法 |
| JP2006208388A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Boehringer Ingelheim Microparts Gmbh | 試料液を検査するための装置および方法 |
| JP2007021790A (ja) * | 2005-07-13 | 2007-02-01 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | プラスチックの接合方法、及びその方法を利用して製造されたバイオチップ又はマイクロ分析チップ |
| JP2007190504A (ja) * | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Kao Corp | マイクロ流体デバイス |
| JP2007190505A (ja) * | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Kao Corp | マイクロ流体デバイス |
| JP2008221208A (ja) * | 2007-02-14 | 2008-09-25 | Univ Nagoya | 流体の混合装置、流体の混合方法及び金型構造 |
| JP2010517001A (ja) * | 2007-01-17 | 2010-05-20 | アジレント・テクノロジーズ・インク | 流体導入用の側面開口部を有するマイクロ流体チップ |
| JP2011194379A (ja) * | 2010-03-24 | 2011-10-06 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | マイクロ流路デバイス |
| JP2014524585A (ja) * | 2011-08-19 | 2014-09-22 | ロゴス バイオシステムズ インコーポレイテッド | マイクロチップ |
| JP2022063804A (ja) * | 2020-10-12 | 2022-04-22 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | スタティックミキサー |
-
2001
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Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4526109B2 (ja) * | 2003-05-01 | 2010-08-18 | 株式会社エンプラス | 試料取扱装置 |
| JP2004333185A (ja) * | 2003-05-01 | 2004-11-25 | Enplas Corp | 試料取扱装置 |
| JP2006204983A (ja) * | 2005-01-25 | 2006-08-10 | Sekisui Chem Co Ltd | マイクロリアクターの製造方法 |
| JP4540491B2 (ja) * | 2005-01-25 | 2010-09-08 | 積水化学工業株式会社 | マイクロリアクターの製造方法 |
| JP2006208388A (ja) * | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Boehringer Ingelheim Microparts Gmbh | 試料液を検査するための装置および方法 |
| JP2007021790A (ja) * | 2005-07-13 | 2007-02-01 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | プラスチックの接合方法、及びその方法を利用して製造されたバイオチップ又はマイクロ分析チップ |
| JP2007190504A (ja) * | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Kao Corp | マイクロ流体デバイス |
| JP2007190505A (ja) * | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Kao Corp | マイクロ流体デバイス |
| JP4716880B2 (ja) * | 2006-01-20 | 2011-07-06 | 花王株式会社 | マイクロ流体デバイス |
| JP2010517001A (ja) * | 2007-01-17 | 2010-05-20 | アジレント・テクノロジーズ・インク | 流体導入用の側面開口部を有するマイクロ流体チップ |
| JP2008221208A (ja) * | 2007-02-14 | 2008-09-25 | Univ Nagoya | 流体の混合装置、流体の混合方法及び金型構造 |
| JP2013139034A (ja) * | 2007-02-14 | 2013-07-18 | Nagoya Univ | 流体の混合装置、流体の混合方法及び金型構造 |
| JP2011194379A (ja) * | 2010-03-24 | 2011-10-06 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | マイクロ流路デバイス |
| JP2014524585A (ja) * | 2011-08-19 | 2014-09-22 | ロゴス バイオシステムズ インコーポレイテッド | マイクロチップ |
| JP2022063804A (ja) * | 2020-10-12 | 2022-04-22 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | スタティックミキサー |
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