JP2003174071A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ベローズの耐久性の低下を防止しつつベロー
ズの座屈を防止する。 【解決手段】 処理室１４に隣設した待機室３と、待機
室３に設置されウエハＷを支持して処理室１４に搬入搬
出するボート１９と、ボート１９を昇降させるボートエ
レベータ２０と、ボート１９とボートエレベータ２０と
の連結部を待機室３の内部空間と隔離するように被覆す
るベローズ４１、４２とを備えており、ベローズは長手
方向で複数に分割され、隣合う分割体同士間に介設され
た変形防止板４５によって一体に連結され、各変形防止
板４５にはベローズの伸長時に隣の変形防止板４５に係
合するガイドロッド４８が取り付けられている。 【効果】 ベローズが伸長して行く段階で各分割体の長
さはガイドロッドの長さで規制されることで、各分割体
の長さは互いに均等になるため、各分割体の負荷が均等
になり、その結果、ベローズ全体としての耐久性の低下
を防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、基板処理装置に関
し、特に、中空伸縮体の構造に係り、例えば、半導体素
子を含む半導体集積回路が作り込まれる半導体ウエハ
（以下、ウエハという。）に不純物を拡散したり絶縁膜
や金属膜等のＣＶＤ膜を形成したりする基板処理装置に
利用して有効なものに関する。 【０００２】 【従来の技術】日本国特許庁特許公報の特開平１０−１
８１８７０号には、基板処理装置に使用される密閉容器
内搬送装置が開示されている。すなわち、この密閉容器
内搬送装置は、密閉容器内に収容された被搬送物支持具
と、この被搬送物支持具を駆動する駆動機構とを含んで
なる密閉容器内搬送装置において、被搬送物搬送空間と
駆動機構収容空間とが第一ベローズと第二ベローズとに
よって密封して分離されており、駆動機構収容空間内に
電気配線等が敷設され、被搬送物搬送空間内の圧力と、
駆動機構収容空間内の圧力とが個別に制御されるように
構成されている。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】前記した密閉容器内搬
送装置においては、被搬送物の搬送ストロークが長くな
ると、ベローズが座屈し易くなるという問題点がある。
このベローズの座屈を防止するための構造としては、次
のような構造が考えられる。ベローズは長手方向で複数
に分割されているとともに、隣合う分割体同士間にそれ
ぞれ介設された複数枚の変形防止板（以下、フランジと
いう。）によって一体的に連結されており、これらフラ
ンジにはフランジの直線運動を案内するガイドロッドが
ベローズの全長にわたって挿通されている。 【０００４】しかし、フランジにガイドロッドを全長に
わたって挿通してベローズの座屈を防止する構造におい
ては、次のような問題点がある。直線駆動によって伸縮
されるベローズが短縮された状態においてもガイドロッ
ドの長さは不変であるため、密閉容器内のスペースの有
効利用を図ることができない。また、ベローズが短縮状
態から伸長される時に、ベローズやフランジの重さによ
り、ベローズの複数の分割体のうち上側の分割体の方が
伸長する割合が大きくなるため、上側の分割体の負荷が
大きくなってしまい、ベローズ全体としての耐久性が低
下してしまう。 【０００５】本発明の目的は、スペースの有効利用が可
能でベローズの耐久性の低下を防止しつつベローズの座
屈の発生を防止することにある。 【０００６】 【課題を解決するための手段】本発明に係る基板処理装
置は、基板を処理する処理室と、この処理室に隣設した
密閉室と、この密閉室の内部に配設されて前記基板を支
持して移動する移動体と、この移動体を移動させる駆動
装置と、この駆動装置と前記移動体との連結部を前記密
閉室の内部空間に対して隔離するように被覆する中空伸
縮体とを備えている基板処理装置であって、前記中空伸
縮体は長手方向で複数に分割されているとともに、隣合
う分割体同士間にそれぞれ介設された変形防止部材によ
って一体的に連結されており、これら変形防止部材には
前記中空伸縮体が伸長した時に隣の変形防止部材に係合
するガイドロッドがそれぞれ取り付けられていることを
特徴とする。 【０００７】前記した手段によれば、中空伸縮体は長手
方向で複数に分割されているとともに、隣合う分割体同
士間にそれぞれ介設された変形防止部材によって一体的
に連結され、かつ、各変形防止部材にはガイドロッドが
取り付けられているため、座屈は防止されることにな
る。しかも、各変形防止部材に取り付けられたガイドロ
ッドは中空伸縮体が伸長した時に隣の変形防止部材に係
合するようにそれぞれ構成されていることにより、中空
伸縮体が伸長して行く段階で各分割体の長さはガイドロ
ッドの長さによって規制されるため、各分割体の長さは
互いに均等になる。その結果、各分割体の負荷は均等に
なるので、中空伸縮体全体としての耐久性の低下を防止
することができる。 【０００８】 【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面に即して説明する。 【０００９】本実施の形態において、本発明に係る基板
処理装置は、半導体装置の製造方法にあってウエハに不
純物を拡散したり絶縁膜や金属膜等のＣＶＤ膜を形成し
たりする工程に使用されるバッチ式縦形拡散・ＣＶＤ装
置（以下、バッチ式ＣＶＤ装置という。）として構成さ
れている。なお、このバッチ式ＣＶＤ装置１においては
ウエハ搬送用のキャリアとしてはＦＯＵＰ（front open
ing unified pod 。以下、ポッドという。）が使用され
ている。 【００１０】以下の説明において、前後左右は図１を基
準とする。すなわち、ポッドオープナ３９側が前側、そ
の反対側すなわちヒータユニット１３側が後側、クリー
ンユニット３７側が左側、その反対側すなわちウエハ移
載装置３０のエレベータ３６側が右側とする。 【００１１】図１および図２に示されているように、バ
ッチ式ＣＶＤ装置１は筐体２を備えており、筐体２の後
側にはボート１９が処理室１４に対する搬入搬出に対し
て待機するボート搬入搬出室（以下、待機室という。）
３を形成した筐体４が設置されている。筐体４は大気圧
未満の圧力（以下、負圧という。）を維持可能な気密性
能を有するように構築されており、この筐体（以下、耐
圧筐体という。）４によりロードロック方式の待機室３
が構成されている。耐圧筐体４はボート１９を収納可能
な容積を有する略直方体の箱形状に形成されている。耐
圧筐体４の前面壁にはゲート６によって開閉されるウエ
ハ搬入搬出口５が開設されている。耐圧筐体４の後面壁
には、保守点検等に際してボートを待機室３に対して出
し入れするための保守点検口７が開設されており、通常
時には、保守点検口７はゲート８によって閉塞されてい
る。耐圧筐体４には待機室３を負圧に排気するための排
気管９と、待機室３へ窒素（Ｎ₂ ）ガスを給気するため
の給気管１０とがそれぞれ接続されている。 【００１２】図２に示されているように、耐圧筐体４の
天井壁にはボート搬入搬出口１１が開設されており、ボ
ート搬入搬出口１１はシャッタ１２によって開閉される
ようになっている。耐圧筐体４の上にはヒータユニット
１３が垂直方向に設置されており、ヒータユニット１３
の内部には処理室１４を形成するプロセスチューブ１５
が配置されている。プロセスチューブ１５は上端が閉塞
し下端が開口した円筒形状に形成されてヒータユニット
１３に同心円に配置されており、プロセスチューブ１５
の円筒中空部によって処理室１４が構成されている。プ
ロセスチューブ１５は耐圧筐体４の天井壁の上にマニホ
ールド１６を介して支持されており、マニホールド１６
にはプロセスチューブ１５の円筒中空部によって形成さ
れた処理室１４に原料ガスやパージガス等を導入するた
めのガス導入管１７と、プロセスチューブ１５の内部を
排気するための排気管１８とが接続されている。マニホ
ールド１６は耐圧筐体４のボート搬入搬出口１１に同心
円に配置されている。 【００１３】図１に示されているように、待機室３の後
側左隅部には移動体としてのボート１９を昇降させるた
めの駆動装置としてのボートエレベータ２０が設置され
ている。図２〜図５に示されているように、ボートエレ
ベータ２０は上側取付板２１Ａと下側取付板２２Ａとに
よって垂直にそれぞれ敷設されたガイドレール２３およ
び送りねじ軸２４を備えており、ガイドレール２３には
昇降台２５が垂直方向に昇降自在に嵌合されている。昇
降台２５は送りねじ軸２４に垂直方向に進退自在に螺合
されている。なお、作動やバックラッシュを良好なもの
とするために、送りねじ軸２４と昇降台２５との螺合部
にはボールねじ機構が使用されている。送りねじ軸２４
の上端部は上側取付板２１Ａおよび耐圧筐体４の天井壁
を貫通して待機室３の外部に突出されており、待機室３
の外部に設置されたモータ２６によって正逆回転駆動さ
れるように連結されている。 【００１４】昇降台２５の側面にはアーム２７が水平に
突設されており、アーム２７の先端には支柱２８を介し
てシールキャップ２９が水平に据え付けられている。シ
ールキャップ２９はプロセスチューブ１５の炉口になる
耐圧筐体４のボート搬入搬出口１１をシールするととも
に、ボート１９を垂直に支持するように構成されてい
る。ボート１９は複数枚（例えば、２５枚、５０枚、１
００枚、１２５枚、１５０枚ずつ等）のウエハＷをその
中心を揃えて水平に支持した状態で、プロセスチューブ
１５の処理室１４に対してボートエレベータ２０による
シールキャップ２９の昇降に伴って搬入搬出するように
構成されている。 【００１５】図１および図２に示されているように、筐
体２の内部にはウエハＷを移載するウエハ移載装置３０
が設置されている。ウエハ移載装置３０はロータリーア
クチュエータ３１を備えており、ロータリーアクチュエ
ータ３１は上面に設置された第一リニアアクチュエータ
３２を水平面内で回転させるように構成されている。第
一リニアアクチュエータ３２の上面には第二リニアアク
チュエータ３３が設置されており、第一リニアアクチュ
エータ３２は第二リニアアクチュエータ３３を水平移動
させるように構成されている。第二リニアアクチュエー
タ３３の上面には移動台３４が設置されており、第二リ
ニアアクチュエータ３３は移動台３４を水平移動させる
ように構成されている。移動台３４にはウエハＷを下か
ら支持するツィーザ３５が複数枚（本実施の形態におい
ては五枚）、等間隔に配置されて水平に取り付けられて
いる。ウエハ移載装置３０は送りねじ装置等によって構
成されたエレベータ３６によって昇降されるようになっ
ている。エレベータ３６の反対側には筐体２の内部にク
リーンエアを供給するクリーンユニット３７が設置され
ている。 【００１６】図１および図２に示されているように、筐
体２の正面壁にはウエハを筐体２に対して搬入搬出する
ためのウエハ搬入搬出口３８が開設されており、ウエハ
搬入搬出口３８にはポッドオープナ３９が設置されてい
る。ポッドオープナ３９はポッドＰを載置する載置台３
９ａと、載置台３９ａに載置されたポッドＰのキャップ
を着脱するキャップ着脱機構３９ｂとを備えており、載
置台３９ａに載置されたポッドＰのキャップをキャップ
着脱機構３９ｂによって着脱することにより、ポッドＰ
のウエハ出し入れ口を開閉するようになっている。ポッ
ドオープナ３９の載置台３９ａに対してはポッドＰが、
図示しない工程内搬送装置（ＲＧＶ）によって供給およ
び排出されるようになっている。なお、図１中、４０は
ノッチ合わせ装置である。 【００１７】図２〜図５に示されているように、本実施
の形態においては、第一中空伸縮体としての第一ベロー
ズ４１と第二中空伸縮体としての第二ベローズ４２と
が、ガイドレール２３および送りねじ軸２４の外側にお
ける昇降台２５の上下にそれぞれ設置されている。耐圧
筐体４の天井壁および上側取付板２１Ａにおける第一ベ
ローズ４１の中空部内に対応する位置には第一連通孔４
３が開設されており、耐圧筐体４の底壁および下側取付
板２２Ａにおける第二ベローズ４２の中空部内に対応す
る位置には第二連通孔４４が開設されている。この第一
連通孔４３および第二連通孔４４により、第一ベローズ
４１の中空部内と第二ベローズ４２の中空部内とは待機
室３の外部である大気圧にそれぞれ連通されている。 【００１８】第一ベローズ４１および第二ベローズ４２
の中間部の中空部内には、第一ベローズ４１および第二
ベローズ４２の座屈を防止する変形防止部材としての変
形防止板４５が複数枚宛（本実施の形態においては四枚
宛）、上下方向に略等間隔に配列されて水平にそれぞれ
介設されている。第一ベローズ４１は変形防止板４５の
枚数に対応して上下方向に複数段（本実施の形態におい
ては五段）にそれぞれ略等間隔に分割されており、各段
の分割体４１ａの上下の開口縁辺は上側に位置する変形
防止板４５の下面と下側に位置する変形防止板４５の上
面とにそれぞれ固定されている。但し、最上段の分割体
４１ａの上側開口縁辺は上側取付板２１Ａの下面に固定
され、最下段の分割体４１ａの下側開口縁辺は昇降台２
５の上面に固定された上側取付板２１Ｂに固定されてい
る。同様に、第二ベローズ４２も複数段に分割されてお
り、各段の分割体４２ａは各変形防止板４５または下側
取付板２２Ａ、２２Ｂにそれぞれ固定されている。 【００１９】図６および図７は第一ベローズ４１を代表
的に示している。以下、本実施の形態に係るベローズの
構成を第一ベローズを代表にして説明する。 【００２０】図６（ｂ）に示されているように、変形防
止板４５は円形リング形の平板形状に形成されており、
変形防止板４５の外径は第一ベローズ４１の外径よりも
若干大きめに設定されているとともに、変形防止板４５
の内径は第一ベローズ４１の内径よりも小さく設定され
ている。変形防止板４５には円形の小孔４６が複数個
（本実施の形態においては１５個）、周方向に等間隔
（本実施の形態においては２４度置き）に配置されて厚
さ方向に開設されている。この小孔４６群のうち周方向
の等間隔の位置（本実施の形態においては１２０度置き
の位置）の複数個（本実施の形態においては３個）の小
孔４６には、ガイドブッシュ４７がそれぞれ固定されて
おり、これらのガイドブッシュ４７にはガイドロッド４
８が直交する方向に摺動自在にそれぞれ支持されてい
る。第一ベローズ４１において、隣合う変形防止板４
５、４５同士における各ガイドブッシュ４７の取付位置
は、周方向に互いにずらされており、各ガイドブッシュ
４７に支持されたガイドロッド４８、４８同士が干渉し
ないようになっている。 【００２１】各ガイドロッド４８の長さは第一ベローズ
４１が伸長した状態における分割体４１ａの長さと略等
しくなるように設定されている。各ガイドロッド４８の
下端にはストッパ４９がガイドブッシュ４７の一端面に
係合するように突設されており、分割体４１ａが伸長し
た状態においてガイドブッシュ４７の一端面に係合する
ようになっている。 【００２２】以下、前記構成に係るバッチ式ＣＶＤ装置
を使用した半導体装置の製造方法における成膜工程を説
明する。 【００２３】これから成膜すべきウエハＷは複数枚がポ
ッドＰに収納された状態で、成膜工程を実施するバッチ
式ＣＶＤ装置１へ工程内搬送装置によって搬送されて来
る。図１および図２に示されているように、搬送されて
来たポッドＰはポッドオープナ３９の載置台３９ａの上
に工程内搬送装置から受け渡されて載置される。ポッド
Ｐのキャップがキャップ着脱機構３９ｂによって取り外
され、ポッドＰのウエハ出し入れ口が開放される。 【００２４】ポッドＰがポッドオープナ３９により開放
されると、ウエハＷはポッドＰから五枚宛、筐体２の内
部に設置されたウエハ移載装置３０のツィーザ３５によ
って筐体２のウエハ搬入搬出口３８を通してピックアッ
プされ、ウエハ搬入搬出口３８を通して筐体２の内部に
搬入される。五枚のウエハＷが筐体２の内部へウエハ移
載装置３０によって搬入されると、耐圧筐体４のウエハ
搬入搬出口５がゲート６によって開放される。ウエハ移
載装置３０のツィーザ３５によって保持された五枚のウ
エハＷはボート１９へウエハ移載装置３０によってウエ
ハ搬入搬出口５を通じて装填（チャージング）される。 【００２５】以降、ウエハＷのポッドＰからボート１９
へのウエハ移載装置３０による装填作業が繰り返され
る。この間、ボート搬入搬出口１１がシャッタ１２によ
って閉鎖されることにより、プロセスチューブ１５の高
温雰囲気が待機室３に流入することは防止されている。
このため、装填途中のウエハＷおよび装填されたウエハ
Ｗが高温雰囲気に晒されることはなく、ウエハＷが高温
雰囲気に晒されることによる自然酸化等の弊害の派生は
防止されることになる。 【００２６】図１および図２に示されているように、予
め指定された枚数のウエハＷがボート１９へ装填される
と、ウエハ搬入搬出口５はゲート６によって閉鎖され
る。ちなみに、耐圧筐体４の保守点検口７はゲート８に
よって閉鎖されており、ボート搬入搬出口１１はシャッ
タ１２によって閉鎖されている。このように気密が維持
された状態で、待機室３は排気管９によって真空に排気
され、続いて、窒素ガスが給気管１０を通じて供給され
ることにより、内部の酸素や水分を除去される。この後
に、待機室３は排気管９によって再び排気されて負圧に
維持される。 【００２７】待機室３の内部の酸素や水分が真空排気お
よび窒素ガスパージによって除去され負圧に維持される
と、図４に示されているように、ボート搬入搬出口１１
がシャッタ１２によって開放される。続いて、シールキ
ャップ２９に支持されたボート１９がボートエレベータ
２０の昇降台２５によって上昇されて、プロセスチュー
ブ１５の処理室１４に搬入（ローディング）される。ボ
ート１９が上限に達すると、ボート１９を支持したシー
ルキャップ２９の上面の周辺部がボート搬入搬出口１１
をシール状態に閉塞するため、プロセスチューブ１５の
処理室１４は気密に閉じられた状態になる。このボート
１９の処理室１４への搬入に際して、待機室３の内部の
酸素や水分が予め除去されているため、ボート１９の処
理室１４への搬入に伴って外部の酸素や水分が処理室１
４に侵入することは確実に防止される。 【００２８】ここで、ボート１９を処理室１４へ搬入す
る昇降台２５が上昇する際には、第一ベローズ４１は上
方向に短縮し、第二ベローズ４２は上方向に伸長する必
要があるが、第一ベローズ４１の中空部内は第一連通孔
４３によって大気圧に連通され、第二ベローズ４２の中
空部内は第二連通孔４４によって大気圧に連通されてい
るため、第一ベローズ４１は上方向に短縮し、第二ベロ
ーズ４２は上方向に伸長することができる。また、第一
ベローズ４１の中空部内および第二ベローズ４２の中空
部内は待機室３からそれぞれ隔離されているため、第一
ベローズ４１の短縮および第二ベローズ４２の伸長（特
に、第一ベローズ４１の短縮）に伴って、第一ベローズ
４１の中空部内および第二ベローズ４２の中空部内の大
気中の酸素や水分、並びに、送りねじ軸２４や昇降台２
５の雌ねじ孔およびガイドレール２３に塗布された潤滑
油（グリース）からの蒸発ガス等が待機室３に侵入する
ことはない。 【００２９】その後、プロセスチューブ１５の処理室１
４は気密に閉じられた状態で、所定の圧力となるように
排気管１８によって排気され、ヒータユニット１３によ
って所定の温度に加熱され、所定の原料ガスがガス導入
管１７によって所定の流量だけ供給される。これによ
り、予め設定された処理条件に対応する所望の膜がウエ
ハＷに形成される。 【００３０】予め設定された処理時間が経過すると、図
２および図３に示されているように、ボート１９がボー
トエレベータ２０の昇降台２５によって下降されること
により、処理済みウエハＷを保持したボート１９が待機
室３に搬出（アンローディング）される。この際、第一
ベローズ４１の中空部内は第一連通孔４３によって大気
圧に連通され、第二ベローズ４２の中空部内は第二連通
孔４４によって大気圧に連通されているため、昇降台２
５の下降に伴って、第一ベローズ４１は下方向に伸長
し、第二ベローズ４２は下方向に短縮する。そして、第
一ベローズ４１の中空部内および第二ベローズ４２の中
空部内は待機室３からそれぞれ隔離されているため、第
一ベローズ４１の伸長および第二ベローズ４２の短縮
（特に、第二ベローズ４２の短縮）に伴って、第一ベロ
ーズ４１の中空部内および第二ベローズ４２の中空部内
の汚染物質が待機室３に侵入することはない。 【００３１】ボート１９が待機室３に搬出されると、ボ
ート搬入搬出口１１がシャッタ１２によって閉鎖される
とともに、待機室３に窒素ガスが給気管１０によって供
給される。次いで、待機室３のウエハ搬入搬出口５がゲ
ート６によって開放され、ボート１９の処理済みウエハ
Ｗがウエハ移載装置３０によって脱装（ディスチャージ
ング）される。次に、筐体２のウエハ搬入搬出口３８お
よびポッドオープナ３９の載置台３９ａに載置された空
のポッドＰのキャップがポッドオープナ３９によって開
放され、ウエハ移載装置３０によってディスチャージン
グされた処理済のウエハＷが載置台３９ａの空のポッド
Ｐにウエハ搬入搬出口３８を通じて収納される。 【００３２】所定枚数の処理済みウエハＷが収納される
と、ポッドＰはポッドオープナ３９のキャップ着脱機構
３９ｂによってキャップを装着された後に、載置台３９
ａから次の処理工程へ工程内搬送装置によって搬送され
て行く。このディスチャージング作業およびポッドＰへ
の収納作業がボート１９の全ての処理済みウエハＷにつ
いて繰り返されて行く。 【００３３】以降、前述した作用が繰り返されて、ウエ
ハＷが例えば２５枚、５０枚、１００枚、１２５枚、１
５０枚ずつ、バッチ式ＣＶＤ装置１によってバッチ処理
されて行く。 【００３４】ところで、第一ベローズ４１および第二ベ
ローズ４２の中空部内は待機室３から隔離された状態で
大気圧にそれぞれ連通されているため、待機室３が真空
排気されると、第一ベローズ４１および第二ベローズ４
２は中空部の内外の圧力差によって変形される可能性が
ある。しかし、本実施の形態においては、第一ベローズ
４１および第二ベローズ４２には複数枚の変形防止板４
５がガイドブッシュ４７やガイドロッド４８を介して上
下方向に等間隔に介設されているため、第一ベローズ４
１および第二ベローズ４２が中空部の内外の圧力差によ
って変形されることはない。すなわち、待機室３が真空
排気されて中空部の内外に差圧が発生することにより、
第一ベローズ４１および第二ベローズ４２の筒壁（胴
部）に内側から外側への力が加わっても、第一ベローズ
４１の各分割体４１ａおよび第二ベローズ４２の各分割
体４２ａの両端が各変形防止板４５および上下の取付板
２１Ａ、２１Ｂ、２２Ａ、２２Ｂにそれぞれ固定されて
おり、各変形防止板４５はガイドブッシュ４７やガイド
ロッド４８によって垂直方向に案内されるように構成さ
れているため、その力によって外側に膨らむように突出
することは防止される。 【００３５】しかも、複数のガイドブッシュ４７および
ガイドロッド４８によって昇降を適正に案内されること
により、各変形防止板４５は昇降台２５の昇降に伴って
安定して水平に昇降するため、第一ベローズ４１および
第二ベローズ４２の伸縮動作が各変形防止板４５によっ
て妨害されることはない。また、ガイドブッシュ４７お
よびガイドロッド４８は第一ベローズ４１および第二ベ
ローズ４２の中空部内に配設されているため、ガイドブ
ッシュ４７とガイドロッド４８との摺動によるパーティ
クルが待機室３に侵入することもない。 【００３６】一般に、ベローズが伸長して行く場合に
は、ベローズやフランジの重さにより、上側の領域部分
の方が伸びる割合が大きくなる傾向がある。伸びる割合
が大きいと負荷が大きくなるため、伸びる割合が大きい
部分の寿命は他の部分の寿命よりも短くなってしまう。
通例、製品の寿命は短きに従って設定されるため、ベロ
ーズの全体としての寿命は伸びる割合が大きい部分の寿
命によって決定されてしまう。そして、伸びる割合の大
きい部分の寿命を延ばすために、ベローズ全体が堅牢に
設計されることになり、ベローズ全体が大形になったり
高級になったりしてしまう。 【００３７】しかし、本実施の形態においては、第一ベ
ローズ４１および第二ベローズ４２における各分割体４
１ａおよび４２ａの伸長長さが各変形防止板４５に取り
付けられたガイドロッド４８のストロークによって規定
されることにより、第一ベローズ４１および第二ベロー
ズ４２の上側の領域の分割体４１ａおよび４２ａの負荷
が大きくなるのを防止することができるため、上側の領
域の分割体４１ａおよび４２ａの寿命が他の部分の寿命
よりも短くなってしまうのを防止することができる。例
えば、第一ベローズ４１が伸長して行く際に、上側の領
域の分割体４１ａの伸びる割合が大きくなっても、この
分割体４１ａのガイドロッド４８のストッパ４９がガイ
ドブッシュ４７の下端面に当接することにより、この分
割体４１ａの伸びは停止されるため、この分割体４１ａ
の負荷が大きくなるのを防止することができる。そし
て、上側領域の分割体４１ａおよび４２ａの負荷が大き
くなるのを防止することにより、各分割体４１ａおよび
４２ａの負荷を均等化させることができるため、第一ベ
ローズ４１および第二ベローズ４２の寿命を延長させる
ことができる。 【００３８】前記実施の形態によれば、次の効果が得ら
れる。 【００３９】1) ベローズにおける各分割体の伸長長さ
を各変形防止板に取り付けるガイドロッドのストローク
によって規定することにより、ベローズの上側領域の分
割体の負荷が大きくなるのを防止することができるた
め、上側の領域の分割体の寿命が他の部分の寿命よりも
短くなってしまうのを防止することができ、その結果、
ベローズの寿命を延長させることができる。 【００４０】2) ベローズに複数枚の変形防止板をガイ
ドブッシュやガイドロッドを介して上下方向に介設する
ことにより、各変形防止板を昇降台の昇降に伴って安定
して水平に昇降させることができるため、ベローズの伸
縮動作が各変形防止板によって妨害されるのを未然に防
止することができる。 【００４１】3) ボートエレベータの送りねじ軸やガイ
ドレール、ガイドブッシュおよびガイドロッド等をベロ
ーズによって待機室から隔離することにより、ベローズ
の伸縮に伴って、ベローズの中空部内の大気中の酸素や
水分、並びに、送りねじ軸や昇降台およびガイドレール
に塗布された潤滑油からの蒸発ガス等が待機室に侵入す
るのを防止することができる。 【００４２】4) 待機室に設置されたボートエレベータ
の昇降台の上下に第一ベローズと第二ベローズとを配設
し、第一ベローズおよび第二ベローズの中空部内を大気
圧にそれぞれ連通することにより、待機室の圧力が変化
しても昇降台の上下方向の両側の圧力は均衡するため、
ボートエレベータの昇降台を駆動するための送りねじ軸
やモータ等の駆動部は小形化することができる。 【００４３】5) 第一ベローズおよび第二ベローズの中
空部内が待機室の外部である大気圧にそれぞれ連通して
いることにより、第一ベローズと第二ベローズとの独立
した伸縮動作は自動的に確保することができるため、構
造の複雑な圧力制御弁やそれを制御するための制御シス
テム、その運用方法およびメンテナンス等を省略するこ
とができる。 【００４４】図８は本発明の他の実施の形態であるバッ
チ式ＣＶＤ装置のボートエレベータを示す一部省略背面
断面図である。 【００４５】本実施の形態が前記実施の形態と異なる点
は、一台のベローズ４１だけが待機室３の底面の上に設
置されているとともに、ガイドレール２３や送りねじ軸
２４および昇降台２５等が待機室３の外部に設置されて
おり、アーム２７の上に立設された支柱２８がベローズ
４１の中空部内に挿通されてシールキャップ２９を支持
している点、である。 【００４６】本実施の形態によれば、前記実施の形態と
同様の作用および効果を得ることができるとともに、ベ
ローズが一台であるため、その分、製造コストを低減す
ることができ、また、ボートエレベータを待機室の外部
に設置することにより、待機室の容積を小さく設定する
ことができる。また、ロングストロークであってもスペ
ースを取らないので、設置長を短縮することにより、チ
ャンバ容量を最小に抑えることができ、その結果、真空
引きの時間を短縮することができる。 【００４７】なお、本発明は前記実施の形態に限定され
るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変
更が可能であることはいうまでもない。 【００４８】例えば、中空伸縮体はベローズによって構
成するに限らず、柔軟で適当な強度を有する膜材が袋形
状に形成された中空伸縮体や、複数の筒体が内外多重に
嵌合されたテレスコープ（遠眼鏡）構造の中空伸縮体に
よって構成してもよい。 【００４９】バッチ式ＣＶＤ装置は成膜処理に使用する
に限らず、酸化膜形成処理や拡散処理等の処理にも使用
することができる。 【００５０】前記実施の形態ではバッチ式ＣＶＤ装置の
場合について説明したが、本発明はこれに限らず、基板
処理装置全般に適用することができる。 【００５１】 【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
中空伸縮体の耐久性の低下を防止しつつ座屈を防止する
ことができ、また、密閉室の有効利用を図ることができ
る。

【図面の簡単な説明】 【図１】本発明の一実施の形態であるバッチ式ＣＶＤ装
置を示す平面断面図である。 【図２】図１のII-II 線に沿う側面断面図である。 【図３】図１のIII-III 線に沿う一部省略背面断面図で
ある。 【図４】そのボートエレベータの上昇時を示す一部省略
背面断面図である。 【図５】ボートエレベータの昇降台の部分を示す分解斜
視図である。 【図６】第一ベローズを示しており、（ａ）は正面断面
図、（ｂ）は（ａ）のｂ−ｂ線に沿う断面図、（ｃ）は
底面図である。 【図７】その伸長状態を示す正面断面図である。 【図８】本発明の他の実施の形態であるバッチ式ＣＶＤ
装置のボートエレベータを示す一部省略背面断面図であ
る。 【符号の説明】 Ｗ…ウエハ（基板）、１…バッチ式ＣＶＤ装置（基板処
理装置）、２…筐体、３…待機室（密閉室）、４…耐圧
筐体、５…ウエハ搬入搬出口、６…ゲート、７…保守点
検口、８…ゲート、９…排気管、１０…給気管、１１…
ボート搬入搬出口、１２…シャッタ、１３…ヒータユニ
ット、１４…処理室、１５…プロセスチューブ、１６…
マニホールド、１７…ガス導入管、１８…排気管、１９
…ボート（移動体）、２０…ボートエレベータ（駆動装
置）、２１Ａ、２１Ｂ…上側取付板、２２Ａ、２２Ｂ…
下側取付板、２３…ガイドレール、２４…送りねじ軸、
２５…昇降台、２６…モータ、２７…アーム、２８…支
柱、２９…シールキャップ、３０…ウエハ移載装置、３
１…ロータリーアクチュエータ、３２…第一リニアアク
チュエータ、３３…第二リニアアクチュエータ、３４…
移動台、３５…ツィーザ、３６…エレベータ、３７…ク
リーンユニット、３８…ウエハ搬入搬出口、３９…ポッ
ドオープナ、３９ａ…載置台、３９ｂ…キャップ着脱機
構、４１…第一ベローズ（中空伸縮体）、４１ａ…分割
体、４２…第二ベローズ（中空伸縮体）、４２ａ…分割
体、４３…第一連通孔、４４…第二連通孔、４５…変形
防止板（変形防止部材）、４６…小孔、４７…ガイドブ
ッシュ、４８…ガイドロッド、４９…ストッパ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5F031 CA02 DA08 EA14 FA01 FA09 FA11 FA12 GA03 GA47 GA48 GA49 HA67 LA07 LA12 MA28 NA02 NA05 NA09 NA18 NA20 PA06 PA30 5F045 DP19 EB02 EB08 EM10 EN05

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 基板を処理する処理室と、この処理室に
   隣設した密閉室と、この密閉室の内部に配設されて前記
   基板を支持して移動する移動体と、この移動体を移動さ
   せる駆動装置と、この駆動装置と前記移動体との連結部
   を前記密閉室の内部空間に対して隔離するように被覆す
   る中空伸縮体とを備えている基板処理装置であって、前
   記中空伸縮体は長手方向で複数に分割されているととも
   に、隣合う分割体同士間にそれぞれ介設された変形防止
   部材によって一体的に連結されており、これら変形防止
   部材には前記中空伸縮体が伸長した時に隣の変形防止部
   材に係合するガイドロッドがそれぞれ取り付けられてい
   ることを特徴とする基板処理装置。