JP2003173571A - 光情報記録媒体、および光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents
光情報記録媒体、および光情報記録媒体の製造方法Info
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- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
- G11B7/2533—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins
- G11B7/2534—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins polycarbonates [PC]
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 記録・再生側基板と基材の厚みが異なり、情
報記録層を挟んで非対称となった光情報記録媒体におい
て、非対称構造から生じる吸湿量の差から、急激な環境
の変化、特に湿度変化に対して、大きなチルト変動を生
じてしまう。 【解決手段】 基材１３１の主面に吸湿防止膜１５１を
形成することで吸湿量を抑える。その際に、吸湿防止膜
を島状に形成する、もしくは、ドーナツ状に形成し、そ
の内径の大きさを最適化することにより、記録・再生側
基板と基材の吸湿による膨張をバランスさせられる。こ
れにより、吸湿によるチルト変化を抑制することができ
る。
報記録層を挟んで非対称となった光情報記録媒体におい
て、非対称構造から生じる吸湿量の差から、急激な環境
の変化、特に湿度変化に対して、大きなチルト変動を生
じてしまう。 【解決手段】 基材１３１の主面に吸湿防止膜１５１を
形成することで吸湿量を抑える。その際に、吸湿防止膜
を島状に形成する、もしくは、ドーナツ状に形成し、そ
の内径の大きさを最適化することにより、記録・再生側
基板と基材の吸湿による膨張をバランスさせられる。こ
れにより、吸湿によるチルト変化を抑制することができ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光情報記録媒体、お
よび光情報記録媒体の製造方法に関し、特に例えば、環
境変化に対する反りの変化を抑制した光情報記録媒体お
よび光情報記録媒体の製造方法に関する。
よび光情報記録媒体の製造方法に関し、特に例えば、環
境変化に対する反りの変化を抑制した光情報記録媒体お
よび光情報記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、情報記録の分野では様々な光情報
記録に関する研究が進められている。この光情報記録は
高密度化が可能であり、また、非接触で記録・再生が行
え、それを安価に実現できる方式として幅広い用途での
応用が実現されつつある。この光情報記録の媒体として
光ディスクがある。この光ディスクは再生専用型、追記
型、書き換え型に大別することができる。再生専用型は
音楽情報を記録したコンパクト・ディスク（ＣＤ）と称
されるディスクや画像情報を記録したレーザ・ディスク
（ＬＤ）と称されるディスクとして、また追記型は文書
ファイルや静止画ファイル等として、さらに書き換え型
はパソコン用のデータファイル等として商品化され、世
間に広く普及している。これらの光ディスクは厚さ１．
２ｍｍの透明樹脂基板に情報層を設け、それをオーバー
コートによって保護した構造、或いは１．２ｍｍの透明
樹脂基板の一方もしくは両方に情報層を設け、それら２
枚を貼り合わせた構造をもっている。
記録に関する研究が進められている。この光情報記録は
高密度化が可能であり、また、非接触で記録・再生が行
え、それを安価に実現できる方式として幅広い用途での
応用が実現されつつある。この光情報記録の媒体として
光ディスクがある。この光ディスクは再生専用型、追記
型、書き換え型に大別することができる。再生専用型は
音楽情報を記録したコンパクト・ディスク（ＣＤ）と称
されるディスクや画像情報を記録したレーザ・ディスク
（ＬＤ）と称されるディスクとして、また追記型は文書
ファイルや静止画ファイル等として、さらに書き換え型
はパソコン用のデータファイル等として商品化され、世
間に広く普及している。これらの光ディスクは厚さ１．
２ｍｍの透明樹脂基板に情報層を設け、それをオーバー
コートによって保護した構造、或いは１．２ｍｍの透明
樹脂基板の一方もしくは両方に情報層を設け、それら２
枚を貼り合わせた構造をもっている。
【０００３】また、音声だけでなく映画等の動画を情報
として記録するために、より大容量の光ディスクである
デジタル・バーサタイル・ディスク（ＤＶＤ）が開発・
商品化され、既に普及しつつある。ＤＶＤのような高密
度光ディスクの実現のために、レーザ波長を短く、かつ
開口数（ＮＡ）の大きな対物レンズを使用する、という
方式がとられた。しかし、短波長化と高ＮＡ化は、レー
ザ光の投入方向に対するディスクの傾き角度（チルト）
の許容値を小さくする。チルトの許容値を大きくするに
は基板厚さを薄くすることが有効であり、例えば、ＤＶ
Ｄではレーザ波長が６５０ｎｍ、ＮＡが０．６０であ
り、基板厚さを０．６ｍｍとしている。厚さ０．６ｍｍ
の樹脂基板はそれ単体では機械的強度が弱くチルトを生
じてしまうため、ＤＶＤは情報記録面を内側にして２枚
の基板を貼り合わせた構造になっている。
として記録するために、より大容量の光ディスクである
デジタル・バーサタイル・ディスク（ＤＶＤ）が開発・
商品化され、既に普及しつつある。ＤＶＤのような高密
度光ディスクの実現のために、レーザ波長を短く、かつ
開口数（ＮＡ）の大きな対物レンズを使用する、という
方式がとられた。しかし、短波長化と高ＮＡ化は、レー
ザ光の投入方向に対するディスクの傾き角度（チルト）
の許容値を小さくする。チルトの許容値を大きくするに
は基板厚さを薄くすることが有効であり、例えば、ＤＶ
Ｄではレーザ波長が６５０ｎｍ、ＮＡが０．６０であ
り、基板厚さを０．６ｍｍとしている。厚さ０．６ｍｍ
の樹脂基板はそれ単体では機械的強度が弱くチルトを生
じてしまうため、ＤＶＤは情報記録面を内側にして２枚
の基板を貼り合わせた構造になっている。
【０００４】さらに近い将来には地上波デジタル放送の
開始も予定されており、その記録媒体として２５ＧＢ程
度の容量に対するニーズが高まっている。ＣＤやＤＶＤ
とほぼ同じ大きさの光ディスクでこの容量を実現するた
めに、記録・再生側基板の厚さを０．１ｍｍ程度まで薄
くし、ＮＡを０．８５程度、レーザの波長を４００ｎｍ
程度にすることが提案されている。記録・再生側基板を
薄くするのは、前述したように、記録・再生側基板の厚
みが薄い方が、チルトの許容値を大きくできるからであ
り、ＮＡを０．８５程度、レーザの波長を４００ｎｍ程
度とした場合、記録・再生側基板を略０．１ｍｍとする
ことで、チルトの許容値をＤＶＤと同程度にできる。
開始も予定されており、その記録媒体として２５ＧＢ程
度の容量に対するニーズが高まっている。ＣＤやＤＶＤ
とほぼ同じ大きさの光ディスクでこの容量を実現するた
めに、記録・再生側基板の厚さを０．１ｍｍ程度まで薄
くし、ＮＡを０．８５程度、レーザの波長を４００ｎｍ
程度にすることが提案されている。記録・再生側基板を
薄くするのは、前述したように、記録・再生側基板の厚
みが薄い方が、チルトの許容値を大きくできるからであ
り、ＮＡを０．８５程度、レーザの波長を４００ｎｍ程
度とした場合、記録・再生側基板を略０．１ｍｍとする
ことで、チルトの許容値をＤＶＤと同程度にできる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＤＶＤ
との互換を維持するために光ディスクの厚みを１．２ｍ
ｍにすることで、０．１ｍｍの記録・再生側基板と１．
１ｍｍの保持基板に信号記録層が挟まれるという、非対
称な光ディスクになってしまう。非対称であることか
ら、環境の変化、特に湿度の変化による吸湿量の差（も
しくは材料が異なることによる吸水膨張率の差）が大き
くなってしまい、大きなチルト変化が生じ、記録・再生
の特性に大きな影響を与えてしまう。
との互換を維持するために光ディスクの厚みを１．２ｍ
ｍにすることで、０．１ｍｍの記録・再生側基板と１．
１ｍｍの保持基板に信号記録層が挟まれるという、非対
称な光ディスクになってしまう。非対称であることか
ら、環境の変化、特に湿度の変化による吸湿量の差（も
しくは材料が異なることによる吸水膨張率の差）が大き
くなってしまい、大きなチルト変化が生じ、記録・再生
の特性に大きな影響を与えてしまう。
【０００６】そこで本発明は、環境の変化によるチルト
の変動を抑制した光情報記録媒体および光情報記録媒体
の製造方法を提供することを目的とする。
の変動を抑制した光情報記録媒体および光情報記録媒体
の製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の光情報記録媒体は、少なくとも光透過層
と、光透過層と厚みの異なる基材と、光透過層と基材に
挟まれた１層以上の情報記録層を備え、かつ、基材の主
面の少なくとも一部に吸湿防止膜が成膜されていること
を特徴とする。上記本発明の光情報記録媒体によって、
環境変化、特に湿度の変化に対して、基材と光透過層の
吸水量、吸水膨張差をバランスさせ、チルト変動が小さ
く、記録・再生特性に影響を与えない光情報記録媒体作
製が容易であり、特に情報記録層に対して基材と光透過
層の厚みが非対称となる光情報記録媒体において有効で
ある。
に、本発明の光情報記録媒体は、少なくとも光透過層
と、光透過層と厚みの異なる基材と、光透過層と基材に
挟まれた１層以上の情報記録層を備え、かつ、基材の主
面の少なくとも一部に吸湿防止膜が成膜されていること
を特徴とする。上記本発明の光情報記録媒体によって、
環境変化、特に湿度の変化に対して、基材と光透過層の
吸水量、吸水膨張差をバランスさせ、チルト変動が小さ
く、記録・再生特性に影響を与えない光情報記録媒体作
製が容易であり、特に情報記録層に対して基材と光透過
層の厚みが非対称となる光情報記録媒体において有効で
ある。
【０００８】上記本発明の光情報記録媒体では、光透過
層の主面の少なくとも一部に、吸湿防止膜が成膜されて
いることが好ましい。これによって光透過層と基材の両
方の吸湿を抑え、チルト変動を小さくすることができ
る。
層の主面の少なくとも一部に、吸湿防止膜が成膜されて
いることが好ましい。これによって光透過層と基材の両
方の吸湿を抑え、チルト変動を小さくすることができ
る。
【０００９】上記本発明の光情報記録媒体では、吸湿防
止膜が誘電体材料からなることが好ましい。誘電体材料
はスパッタ法により容易に成膜が可能であり、１０ｎｍ
程度の厚みでも効果的に吸湿防止の効果を得ることがで
きる。
止膜が誘電体材料からなることが好ましい。誘電体材料
はスパッタ法により容易に成膜が可能であり、１０ｎｍ
程度の厚みでも効果的に吸湿防止の効果を得ることがで
きる。
【００１０】上記本発明の光情報記録媒体では、光透過
層上の少なくとも一部に保護膜を有することが好まし
い。これにより、光透過層に傷や埃がつきにくく、記録
・再生特性の劣化が抑えられる。
層上の少なくとも一部に保護膜を有することが好まし
い。これにより、光透過層に傷や埃がつきにくく、記録
・再生特性の劣化が抑えられる。
【００１１】上記本発明の光情報記録媒体では、前記光
透過層の厚さが略０．１ｍｍであることが好ましい。こ
れにより、Ｎ．Ａ．が０．８５程度、記録・再生光が４
００ｎｍ程度の光情報記録媒体装置であっても、ＤＶＤ
と同程度のチルトマージンを確保することができる。
透過層の厚さが略０．１ｍｍであることが好ましい。こ
れにより、Ｎ．Ａ．が０．８５程度、記録・再生光が４
００ｎｍ程度の光情報記録媒体装置であっても、ＤＶＤ
と同程度のチルトマージンを確保することができる。
【００１２】上記本発明の光情報記録媒体では、光透過
層と基材を合わせた厚さが略１．２ｍｍであることが好
ましい。これにより、ＤＶＤやＣＤとの互換をとること
が容易となる。
層と基材を合わせた厚さが略１．２ｍｍであることが好
ましい。これにより、ＤＶＤやＣＤとの互換をとること
が容易となる。
【００１３】上記本発明の光情報記録媒体では、吸湿防
止膜が島状に分布していることが好ましい。これによ
り、基材と光透過層の吸水量、吸水膨張差をバランスさ
せ、チルト変動を小さくすることができる。
止膜が島状に分布していることが好ましい。これによ
り、基材と光透過層の吸水量、吸水膨張差をバランスさ
せ、チルト変動を小さくすることができる。
【００１４】上記本発明の光情報記録媒体では、吸湿防
止膜がドーナツ状に成膜されていることが好ましい。こ
れにより、基材と光透過層の吸水量、吸水膨張差をバラ
ンスさせ、チルト変動を小さくすることができる。
止膜がドーナツ状に成膜されていることが好ましい。こ
れにより、基材と光透過層の吸水量、吸水膨張差をバラ
ンスさせ、チルト変動を小さくすることができる。
【００１５】上記課題を解決するための、本発明の光情
報記録媒体の製造方法では、少なくとも光透過層と、光
透過層と厚みの異なる基材と、光透過層と基材に挟まれ
た１層以上の情報記録層を備える光情報記録媒体の、基
材の主面の少なくとも一部に吸湿防止膜を成膜する際
に、光透過層上に傷つき防止膜を形成しておくことを特
徴とする。上記本発明の光情報記録媒体の製造方法によ
って、基材に吸湿防止膜を成膜する際に光透過層を傷つ
けることなく生産を行うことができる。
報記録媒体の製造方法では、少なくとも光透過層と、光
透過層と厚みの異なる基材と、光透過層と基材に挟まれ
た１層以上の情報記録層を備える光情報記録媒体の、基
材の主面の少なくとも一部に吸湿防止膜を成膜する際
に、光透過層上に傷つき防止膜を形成しておくことを特
徴とする。上記本発明の光情報記録媒体の製造方法によ
って、基材に吸湿防止膜を成膜する際に光透過層を傷つ
けることなく生産を行うことができる。
【００１６】上記課題を解決するための、本発明の光情
報記録媒体の製造方法では、少なくとも光透過層と、光
透過層と厚みの異なる基材と、光透過層と基材に挟まれ
た１層以上の情報記録層を備え、光透過層上の少なくと
も一部に吸湿防止膜が成膜された光情報記録媒体の、吸
湿防止膜上に保護膜を形成する際に、保護膜となる材料
が微粒子となって存在する雰囲気中を、光情報記録媒体
を通過させることを特徴とする。上記本発明の光情報記
録媒体の製造方法によって、吸湿防止膜上にスピンコー
ト法等によって保護膜が形成しづらい場合においても、
安定に保護膜を形成することができる。
報記録媒体の製造方法では、少なくとも光透過層と、光
透過層と厚みの異なる基材と、光透過層と基材に挟まれ
た１層以上の情報記録層を備え、光透過層上の少なくと
も一部に吸湿防止膜が成膜された光情報記録媒体の、吸
湿防止膜上に保護膜を形成する際に、保護膜となる材料
が微粒子となって存在する雰囲気中を、光情報記録媒体
を通過させることを特徴とする。上記本発明の光情報記
録媒体の製造方法によって、吸湿防止膜上にスピンコー
ト法等によって保護膜が形成しづらい場合においても、
安定に保護膜を形成することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態について説明する。図は特に記述のない限
り、断面図で示す。
の実施の形態について説明する。図は特に記述のない限
り、断面図で示す。
【００１８】（実施の形態１）ここでは、本発明の光情
報記録媒体について一例を説明する。図１から図５は本
発明による光情報記録媒体の一例である。図１に本発明
による光情報記録媒体を示した。光透過層１３２とそれ
より厚さの大きい基材１３１と、光透過層１３２と基材
１３１に挟まれた情報記録層１０５があり、基材の主面
には輪帯状に吸湿防止膜１５１が成膜されている。吸湿
防止膜の内径１４１の大きさを変化させることによっ
て、環境の変化、特に湿度変化に対するチルト変動を小
さくすることができる。
報記録媒体について一例を説明する。図１から図５は本
発明による光情報記録媒体の一例である。図１に本発明
による光情報記録媒体を示した。光透過層１３２とそれ
より厚さの大きい基材１３１と、光透過層１３２と基材
１３１に挟まれた情報記録層１０５があり、基材の主面
には輪帯状に吸湿防止膜１５１が成膜されている。吸湿
防止膜の内径１４１の大きさを変化させることによっ
て、環境の変化、特に湿度変化に対するチルト変動を小
さくすることができる。
【００１９】図２（ａ）の第１の基板１０１は射出成形
により形成した厚さ略１．１ｍｍ、直径略１２０ｍｍ、
第１の基板の中心孔１０２の直径略１５ｍｍのポリカー
ボネート基板であり、一方の主面に案内溝１０３と複数
の薄膜層で構成される記録層１０４からなる情報記録層
１０５が設けてある。ポリカーボネートはＣＤやＤＶＤ
といった光ディスクで広く用いられており、安価で射出
成形での製造も容易であるために使用したが、ポリカー
ボネート以外の、例えばアクリル系樹脂、ポリオレフィ
ン系樹脂などの樹脂材料で構わない。本実施の形態では
第１の基板は光透過層ではないため、透光性がない材料
でも構わない。
により形成した厚さ略１．１ｍｍ、直径略１２０ｍｍ、
第１の基板の中心孔１０２の直径略１５ｍｍのポリカー
ボネート基板であり、一方の主面に案内溝１０３と複数
の薄膜層で構成される記録層１０４からなる情報記録層
１０５が設けてある。ポリカーボネートはＣＤやＤＶＤ
といった光ディスクで広く用いられており、安価で射出
成形での製造も容易であるために使用したが、ポリカー
ボネート以外の、例えばアクリル系樹脂、ポリオレフィ
ン系樹脂などの樹脂材料で構わない。本実施の形態では
第１の基板は光透過層ではないため、透光性がない材料
でも構わない。
【００２０】図２（ｂ）の第２の基板１１１は、厚さ略
９０μｍ、直径略１１９．５ｍｍ、第２の基板の中心孔
１１２の直径略２２ｍｍのポリカーボネート製シート状
基板であり、情報記録層はなく平坦である。第２の基板
１１１はキャスティング法によって作られたシートから
切り取ったものである。第２の基板は、アクリル系やノ
ルボルネン系の樹脂材料からなるものでも構わない。
９０μｍ、直径略１１９．５ｍｍ、第２の基板の中心孔
１１２の直径略２２ｍｍのポリカーボネート製シート状
基板であり、情報記録層はなく平坦である。第２の基板
１１１はキャスティング法によって作られたシートから
切り取ったものである。第２の基板は、アクリル系やノ
ルボルネン系の樹脂材料からなるものでも構わない。
【００２１】図３（ａ）のように第２の基板１１１上に
ノズル１９１で、半径略２０ｍｍの略円環状に放射線硬
化性樹脂１２１を塗布する。次に、図２（ｂ）のように
第１の基板を第２の基板と略同心円になるように対向さ
せ重ね合わせる。放射線硬化性樹脂１２１を第１の基板
上に略円環状に塗布し、第２の基板と重ね合わせてもよ
い。
ノズル１９１で、半径略２０ｍｍの略円環状に放射線硬
化性樹脂１２１を塗布する。次に、図２（ｂ）のように
第１の基板を第２の基板と略同心円になるように対向さ
せ重ね合わせる。放射線硬化性樹脂１２１を第１の基板
上に略円環状に塗布し、第２の基板と重ね合わせてもよ
い。
【００２２】重ね合わせた後、図４（ａ）のように、高
速（例えば１０００〜１００００ｒｐｍ）で回転し、外
周部分まで放射線硬化性樹脂を拡散させる。これによっ
て接着部分に気泡が入りにくく、また余分な放射線硬化
性樹脂が振り切られる。また、このスピンを利用した方
法によって、放射線硬化性樹脂を非常に均一に分布させ
ることができ、記録・再生の特性も良好である。放射線
硬化性樹脂の厚みは略１０μｍとした。この後、図４
（ｂ）のように放射線１２３を照射し、放射線硬化性樹
脂を硬化した。
速（例えば１０００〜１００００ｒｐｍ）で回転し、外
周部分まで放射線硬化性樹脂を拡散させる。これによっ
て接着部分に気泡が入りにくく、また余分な放射線硬化
性樹脂が振り切られる。また、このスピンを利用した方
法によって、放射線硬化性樹脂を非常に均一に分布させ
ることができ、記録・再生の特性も良好である。放射線
硬化性樹脂の厚みは略１０μｍとした。この後、図４
（ｂ）のように放射線１２３を照射し、放射線硬化性樹
脂を硬化した。
【００２３】光透過層の形成については、このように第
２の基板と放射線硬化性樹脂で形成してもよいし、第２
の基板をシート状の粘着性材料で第１の基板に貼り合わ
せてもよい。また、放射線硬化性樹脂のみで形成するこ
とも可能である。
２の基板と放射線硬化性樹脂で形成してもよいし、第２
の基板をシート状の粘着性材料で第１の基板に貼り合わ
せてもよい。また、放射線硬化性樹脂のみで形成するこ
とも可能である。
【００２４】図４（ｃ）に示した光情報記録媒体は、基
材１３１となる第１の基板１０１の厚みが略１．１ｍｍ
で、第２の基板１１１と放射線硬化性樹脂１２１を合わ
せた光透過層１３２の厚みが略０．１ｍｍと、情報記録
層１０５に対して非対称な形になっている。そのため、
環境の変化、特に湿度の変化に対し、基材１３１と光透
過層１３２の吸湿量の差、吸湿膨張率の差などから、大
きなチルト変動を生じてしまう。このことは、光情報記
録媒体が保管されていた環境と、使用される環境の湿度
が異なることで、記録・再生特性が大きく影響を受けて
しまうことを意味する。
材１３１となる第１の基板１０１の厚みが略１．１ｍｍ
で、第２の基板１１１と放射線硬化性樹脂１２１を合わ
せた光透過層１３２の厚みが略０．１ｍｍと、情報記録
層１０５に対して非対称な形になっている。そのため、
環境の変化、特に湿度の変化に対し、基材１３１と光透
過層１３２の吸湿量の差、吸湿膨張率の差などから、大
きなチルト変動を生じてしまう。このことは、光情報記
録媒体が保管されていた環境と、使用される環境の湿度
が異なることで、記録・再生特性が大きく影響を受けて
しまうことを意味する。
【００２５】そこで、第１の基板の主面に図１のよう
に、吸湿防止膜として、ＺｎＳ−ＳｉＯ2（モル分率８
０：２０）誘電体膜を略２０ｎｍの厚さで、第１の基板
と略同心円となるように輪帯状にスパッタし、第１の基
板の吸湿を遮断した。この光情報記録媒体を気温３０
度、湿度９０％の環境に１週間以上放置し、気温２５
度、湿度５０％の環境に取り出した場合の、１日のチル
ト変動の様子を観察した。チルトは基材を上向きにして
半径５８ｍｍ部分を測定し、環境変化直後のチルト量を
ゼロ、基材方向に変化するのを正方向と定義した。チル
ト変動量は１日のうちの正方向と負方向への変動の最大
値で評価した。チルトはα角で表している。誘電体膜を
スパッタする領域の内径１４１を変化させることによっ
て、チルト変化を大きく減少させることができる。これ
を（表１）に示した。
に、吸湿防止膜として、ＺｎＳ−ＳｉＯ2（モル分率８
０：２０）誘電体膜を略２０ｎｍの厚さで、第１の基板
と略同心円となるように輪帯状にスパッタし、第１の基
板の吸湿を遮断した。この光情報記録媒体を気温３０
度、湿度９０％の環境に１週間以上放置し、気温２５
度、湿度５０％の環境に取り出した場合の、１日のチル
ト変動の様子を観察した。チルトは基材を上向きにして
半径５８ｍｍ部分を測定し、環境変化直後のチルト量を
ゼロ、基材方向に変化するのを正方向と定義した。チル
ト変動量は１日のうちの正方向と負方向への変動の最大
値で評価した。チルトはα角で表している。誘電体膜を
スパッタする領域の内径１４１を変化させることによっ
て、チルト変化を大きく減少させることができる。これ
を（表１）に示した。
【００２６】
【表１】
この時の外径１４２の大きさは直径略１１９ｍｍとし
た。本実施の形態では、誘電体膜の内径１４１が略５０
ｍｍ以上略９５ｍｍ以下の時にチルト変動を０.３°以
下、さらに略６５ｍｍ以上略８０ｍｍ以下の時にチルト
変動を０．２°以下と非常に小さくすることができた。
これは、基材の外径（光情報記録媒体の外径）に対する
吸湿防止膜の内径１４１の大きさの割合としては、略４
０％以上略８０％以下の時に０．３°以下、略５０％以
上略７０％以下の時に０．２°以下ということである。
基材主面の面積に対する吸湿防止膜の成膜面積の割合と
しては、略３５％以上略８５％以下の時に０．３°以
下、略５０％以上７０％以下の時に０．２°以下、とい
うことである。
た。本実施の形態では、誘電体膜の内径１４１が略５０
ｍｍ以上略９５ｍｍ以下の時にチルト変動を０.３°以
下、さらに略６５ｍｍ以上略８０ｍｍ以下の時にチルト
変動を０．２°以下と非常に小さくすることができた。
これは、基材の外径（光情報記録媒体の外径）に対する
吸湿防止膜の内径１４１の大きさの割合としては、略４
０％以上略８０％以下の時に０．３°以下、略５０％以
上略７０％以下の時に０．２°以下ということである。
基材主面の面積に対する吸湿防止膜の成膜面積の割合と
しては、略３５％以上略８５％以下の時に０．３°以
下、略５０％以上７０％以下の時に０．２°以下、とい
うことである。
【００２７】基材の厚みが光透過層の厚みに比べて１０
倍以上厚いため、本実施の形態のように急激に湿度の低
い環境に変わった場合、基材からの水分の放出量は光透
過層に比べてゆっくりしたものになる。それがさらに基
材の表面と基材の情報記録層に近い部分での吸湿膨張差
となることから、チルト変動に与える影響も大きい。従
って、このように基材に輪帯状に吸湿防止膜を形成する
ことにより、基材の吸湿量を大幅に減少させ、加えて、
光透過層が水分放出によって収縮する量と、基材の吸湿
防止膜が成膜されていない部分（内径領域）での収縮量
がバランスすることにより、チルト変動は小さくなる。
倍以上厚いため、本実施の形態のように急激に湿度の低
い環境に変わった場合、基材からの水分の放出量は光透
過層に比べてゆっくりしたものになる。それがさらに基
材の表面と基材の情報記録層に近い部分での吸湿膨張差
となることから、チルト変動に与える影響も大きい。従
って、このように基材に輪帯状に吸湿防止膜を形成する
ことにより、基材の吸湿量を大幅に減少させ、加えて、
光透過層が水分放出によって収縮する量と、基材の吸湿
防止膜が成膜されていない部分（内径領域）での収縮量
がバランスすることにより、チルト変動は小さくなる。
【００２８】基材と光透過層の材料や性質によって、吸
湿によるチルトの量や反りの方向が変化するため、誘電
体膜の内径の大きさは、光情報記録媒体を形成する材料
によって最適なものを選ぶことが好ましい。
湿によるチルトの量や反りの方向が変化するため、誘電
体膜の内径の大きさは、光情報記録媒体を形成する材料
によって最適なものを選ぶことが好ましい。
【００２９】また、本実施の形態では吸湿防止膜とし
て、ＺｎＳを主成分とする誘電体材料を用いたが、Ｓｉ
Ｏ2を主成分とする誘電体、Ａｌ2Ｏ3を主成分とする誘
電体、ＳｉＮを主成分とする誘電体等においても同様の
効果が得られることがわかった。誘電体の厚みが薄すぎ
ると効果が小さくなってしまうため、十分な厚みが成膜
されていることが好ましい。さらに誘電体以外の材料で
も、吸湿防止の効果があれば同様の効果を得ることがで
きる。塩化ビニリデンなどの樹脂材料でも構わない。理
論的には吸湿防止膜の厚みを微妙に変化させることによ
っても、吸湿バランスを制御することが可能ではある。
しかしながら、本実施の形態のように誘電体膜をｎｍ、
もしくはそれ以下のオーダーで制御することは非常に困
難であり、特に量産においてはロット間のばらつきが大
きくなってしまう。本実施の形態のように内径１４１の
大きさを変えるためには、スパッタ時に内径部分のマス
クの大きささえ決めてしまえばよく、ロット間のばらつ
きもほとんどなくなる。
て、ＺｎＳを主成分とする誘電体材料を用いたが、Ｓｉ
Ｏ2を主成分とする誘電体、Ａｌ2Ｏ3を主成分とする誘
電体、ＳｉＮを主成分とする誘電体等においても同様の
効果が得られることがわかった。誘電体の厚みが薄すぎ
ると効果が小さくなってしまうため、十分な厚みが成膜
されていることが好ましい。さらに誘電体以外の材料で
も、吸湿防止の効果があれば同様の効果を得ることがで
きる。塩化ビニリデンなどの樹脂材料でも構わない。理
論的には吸湿防止膜の厚みを微妙に変化させることによ
っても、吸湿バランスを制御することが可能ではある。
しかしながら、本実施の形態のように誘電体膜をｎｍ、
もしくはそれ以下のオーダーで制御することは非常に困
難であり、特に量産においてはロット間のばらつきが大
きくなってしまう。本実施の形態のように内径１４１の
大きさを変えるためには、スパッタ時に内径部分のマス
クの大きささえ決めてしまえばよく、ロット間のばらつ
きもほとんどなくなる。
【００３０】本実施の形態のように基材のみに吸湿防止
膜をすることは、光透過層ではないために記録・再生光
への影響を考慮する必要はなく、誘電体の厚みも自由で
あるし、さらには不透明であっても構わない。
膜をすることは、光透過層ではないために記録・再生光
への影響を考慮する必要はなく、誘電体の厚みも自由で
あるし、さらには不透明であっても構わない。
【００３１】吸湿防止膜の外径１４２の大きさを変える
ことは効果的ではなかった。逆に、吸湿防止膜の外径の
大きさが基材の外径の略９０％まで小さくなると、外周
端に近い部分の領域のみにおいて大きくチルトが変化す
ることがある。吸湿防止膜は信号記録層の外径と同じ
か、もしくはそれ以上に広く形成されていることが好ま
しい。本実施の形態では、信号記録層の外径は１１８ｍ
ｍであったので、１１８ｍｍ以上（基材の外径の略９８
％以上）であることが好ましい。
ことは効果的ではなかった。逆に、吸湿防止膜の外径の
大きさが基材の外径の略９０％まで小さくなると、外周
端に近い部分の領域のみにおいて大きくチルトが変化す
ることがある。吸湿防止膜は信号記録層の外径と同じ
か、もしくはそれ以上に広く形成されていることが好ま
しい。本実施の形態では、信号記録層の外径は１１８ｍ
ｍであったので、１１８ｍｍ以上（基材の外径の略９８
％以上）であることが好ましい。
【００３２】誘電体膜を成膜する際に、ハンドリング等
によって光透過層にキズがついたりすると、記録・再生
特性が劣化するため、本実施の形態では図５（ａ）のよ
うに、第２の基板上に傷つき防止膜１６１を形成した後
に、誘電体膜のスパッタを行った。傷つき防止膜１６１
としては、シート状の樹脂材料を用い、光透過層と略同
じ大きさに打ち抜き、スパッタ後に剥離が容易な微弱な
接着材料によって第１の基板に貼った。或いは、傷つき
防止膜を第２の基板に形成するのは、第１の基板と第２
の基板を貼り合わせる前でも構わない。この場合は、第
２の基板となるシート状ポリカーボネートと傷つき防止
膜を一体化した後に、第２の基板の大きさに打ち抜い
た。
によって光透過層にキズがついたりすると、記録・再生
特性が劣化するため、本実施の形態では図５（ａ）のよ
うに、第２の基板上に傷つき防止膜１６１を形成した後
に、誘電体膜のスパッタを行った。傷つき防止膜１６１
としては、シート状の樹脂材料を用い、光透過層と略同
じ大きさに打ち抜き、スパッタ後に剥離が容易な微弱な
接着材料によって第１の基板に貼った。或いは、傷つき
防止膜を第２の基板に形成するのは、第１の基板と第２
の基板を貼り合わせる前でも構わない。この場合は、第
２の基板となるシート状ポリカーボネートと傷つき防止
膜を一体化した後に、第２の基板の大きさに打ち抜い
た。
【００３３】さらに、光透過層表面の硬度が低い、或い
は摩擦係数が大きいといった場合、光情報記録媒体を使
用する際に、キズがついたり、埃が付着したりして記録
・再生特性が劣化することが予想される。そこでこのよ
うな場合には、図５（ｂ）のように光透過層上に保護膜
１６２を形成することが好ましい。本実施の形態では放
射線硬化性樹脂であるハードコート剤をスピンコート法
で塗布し、放射線照射により硬化した。保護膜形成時に
第２の基板上に既にキズや埃があることは好ましくない
ため、保護膜形成直前まで、前述した傷つき防止膜１６
１が第２の基板に形成されていることが好ましい。
は摩擦係数が大きいといった場合、光情報記録媒体を使
用する際に、キズがついたり、埃が付着したりして記録
・再生特性が劣化することが予想される。そこでこのよ
うな場合には、図５（ｂ）のように光透過層上に保護膜
１６２を形成することが好ましい。本実施の形態では放
射線硬化性樹脂であるハードコート剤をスピンコート法
で塗布し、放射線照射により硬化した。保護膜形成時に
第２の基板上に既にキズや埃があることは好ましくない
ため、保護膜形成直前まで、前述した傷つき防止膜１６
１が第２の基板に形成されていることが好ましい。
【００３４】なお、本実施の形態では情報記録層として
信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型につい
て説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、
反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいこ
とは言うまでもない。図５（ｃ）に示したような、分離
層２３３を挟んで２つの情報記録層を有するいわゆる２
層光情報記録媒体、２層以上の複数有するような多層式
の光情報記録媒体であっても構わない。光磁気ディスク
に対しても有効である。さらに、本実施の形態のような
円盤状ディスクだけでなく、光カードのようなものに対
しても有効である。
信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型につい
て説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、
反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいこ
とは言うまでもない。図５（ｃ）に示したような、分離
層２３３を挟んで２つの情報記録層を有するいわゆる２
層光情報記録媒体、２層以上の複数有するような多層式
の光情報記録媒体であっても構わない。光磁気ディスク
に対しても有効である。さらに、本実施の形態のような
円盤状ディスクだけでなく、光カードのようなものに対
しても有効である。
【００３５】このようにして、上記実施の形態の光情報
記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によっ
てもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得るこ
とが可能である。
記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によっ
てもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得るこ
とが可能である。
【００３６】以上、本発明の実施の形態について例を挙
げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定され
ず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用
することができる。
げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定され
ず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用
することができる。
【００３７】（実施の形態２）実施の形態２では、本発
明の光情報記録媒体について一例を説明する。なお、実
施の形態１で説明したのと同様の部分については、重複
する説明を省略する場合がある。第１の基板と第２の基
板を貼り合わせるまでは、実施の形態１と同じである。
明の光情報記録媒体について一例を説明する。なお、実
施の形態１で説明したのと同様の部分については、重複
する説明を省略する場合がある。第１の基板と第２の基
板を貼り合わせるまでは、実施の形態１と同じである。
【００３８】実施の形態１では、吸湿防止膜の内径を変
化させることによって、環境変化によるチルト変動を抑
えた。本実施の形態では、誘電体材料をドット状にスパ
ッタすることによって、チルト変動を抑えた。実施の形
態１と同じく、ＺｎＳ−ＳｉＯ2（モル分率８０：２
０）誘電体材料を、メッシュ状のマスクを用い、図６
（ａ）（基材側から見た図）のようにドット状に分布さ
せた。一つのドットの大きさは略１ｃｍ2で、基材の主
面の面積の略６０％が成膜されている。これによって、
実施の形態１と同様にチルト変動を抑えることができ
た。基材主面の面積に対する吸湿防止膜の成膜面積を変
えた時の結果を（表２）に示す。この時の実験条件、チ
ルト測定については、実施の形態１と同じである。
化させることによって、環境変化によるチルト変動を抑
えた。本実施の形態では、誘電体材料をドット状にスパ
ッタすることによって、チルト変動を抑えた。実施の形
態１と同じく、ＺｎＳ−ＳｉＯ2（モル分率８０：２
０）誘電体材料を、メッシュ状のマスクを用い、図６
（ａ）（基材側から見た図）のようにドット状に分布さ
せた。一つのドットの大きさは略１ｃｍ2で、基材の主
面の面積の略６０％が成膜されている。これによって、
実施の形態１と同様にチルト変動を抑えることができ
た。基材主面の面積に対する吸湿防止膜の成膜面積を変
えた時の結果を（表２）に示す。この時の実験条件、チ
ルト測定については、実施の形態１と同じである。
【００３９】
【表２】
さらには、ドット状の分布ではなく、図６（ｂ）のよう
な網目状、図６（ｃ）のような放射状ドット、図７
（ａ）のようなランダムドット、図７（ｂ）のような放
射状等のあるパターンを有するように吸湿防止膜を分布
させることによって、基材と光透過層の吸湿による変化
をバランスさせることができ、チルト変動を抑えること
ができる。図６（ａ）から図７（ｂ）に示したパターン
を、図７（ｃ）にドット状のパターンで例を示したよう
に、輪帯状領域に形成しても構わない。図６（ａ）から
図７（ｃ）は全て基材側から見た図で示した。
な網目状、図６（ｃ）のような放射状ドット、図７
（ａ）のようなランダムドット、図７（ｂ）のような放
射状等のあるパターンを有するように吸湿防止膜を分布
させることによって、基材と光透過層の吸湿による変化
をバランスさせることができ、チルト変動を抑えること
ができる。図６（ａ）から図７（ｂ）に示したパターン
を、図７（ｃ）にドット状のパターンで例を示したよう
に、輪帯状領域に形成しても構わない。図６（ａ）から
図７（ｃ）は全て基材側から見た図で示した。
【００４０】基材は光透過層と異なり、記録・再生光に
影響を及ぼさないため、自由なパターンで形成すること
が可能である。上記以外の保護膜、傷つき防止膜等につ
いては実施の形態１で述べたのと同様である。
影響を及ぼさないため、自由なパターンで形成すること
が可能である。上記以外の保護膜、傷つき防止膜等につ
いては実施の形態１で述べたのと同様である。
【００４１】なお、本実施の形態では情報記録層として
信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型につい
て説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、
反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいこ
とは言うまでもない。情報記録層を複数有するような、
いわゆる多層式の光情報記録媒体であっても構わない。
さらには、光磁気ディスクに対しても有効である。
信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型につい
て説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、
反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいこ
とは言うまでもない。情報記録層を複数有するような、
いわゆる多層式の光情報記録媒体であっても構わない。
さらには、光磁気ディスクに対しても有効である。
【００４２】このようにして、上記実施の形態の光情報
記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によっ
てもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得るこ
とが可能である。
記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によっ
てもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得るこ
とが可能である。
【００４３】以上、本発明の実施の形態について例を挙
げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定され
ず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用
することができる。
げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定され
ず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用
することができる。
【００４４】（実施の形態３）実施の形態３では、本発
明の光情報記録媒体について一例を説明する。なお、実
施の形態１および２で説明したのと同様の部分について
は、重複する説明を省略する場合がある。第１の基板と
第２の基板を貼り合わせるまでは、実施の形態１と同じ
である。
明の光情報記録媒体について一例を説明する。なお、実
施の形態１および２で説明したのと同様の部分について
は、重複する説明を省略する場合がある。第１の基板と
第２の基板を貼り合わせるまでは、実施の形態１と同じ
である。
【００４５】実施の形態１および２では、第１の基板の
みに吸湿防止膜を形成した。しかしながら、第１の基板
と第２の基板の環境変化に対するバランスによっては、
第１の基板のみへの形成では、チルト変動を抑えられな
い場合がある。そこで、本実施の形態では図８（ａ）の
ように、第１の基板からなる基材上と、第２の基板を含
む光透過層上の両方に吸湿防止膜を形成した。実施の形
態１で述べたように、光透過層上への吸湿防止膜の形成
については、記録・再生光への影響を考慮しなくてはな
らない。
みに吸湿防止膜を形成した。しかしながら、第１の基板
と第２の基板の環境変化に対するバランスによっては、
第１の基板のみへの形成では、チルト変動を抑えられな
い場合がある。そこで、本実施の形態では図８（ａ）の
ように、第１の基板からなる基材上と、第２の基板を含
む光透過層上の両方に吸湿防止膜を形成した。実施の形
態１で述べたように、光透過層上への吸湿防止膜の形成
については、記録・再生光への影響を考慮しなくてはな
らない。
【００４６】本実施の形態では、吸湿防止膜としてＺｎ
Ｓ−ＳｉＯ2（モル分率８０：２０）誘電体材料を利用
し、記録・再生光の透過率減少が数％程度で抑えられる
ように、光透過層上への成膜を略１０ｎｍとした。光情
報記録媒体と略同心になるように直径６０ｍｍから１１
９ｍｍの領域までに成膜した。基材と光透過層の両方に
おいて吸湿が抑えられ、実施の形態１と同様の実験を行
った結果、湿度の変化に対するチルト変動が±０．１°
以下に抑えられた。
Ｓ−ＳｉＯ2（モル分率８０：２０）誘電体材料を利用
し、記録・再生光の透過率減少が数％程度で抑えられる
ように、光透過層上への成膜を略１０ｎｍとした。光情
報記録媒体と略同心になるように直径６０ｍｍから１１
９ｍｍの領域までに成膜した。基材と光透過層の両方に
おいて吸湿が抑えられ、実施の形態１と同様の実験を行
った結果、湿度の変化に対するチルト変動が±０．１°
以下に抑えられた。
【００４７】光透過層上に吸湿防止膜を形成する場合、
吸湿防止膜によっては硬度が低かったり、摩擦係数が大
きかったりして、キズがついたり、埃が付着したりして
記録・再生特性が劣化することがある。そこでこのよう
な場合には、図８（ｂ）のように吸湿防止膜上に保護膜
１６３を形成することが好ましい。本実施の形態では放
射線硬化性樹脂であるハードコート剤をスピンコート法
で塗布し、放射線照射により硬化した。さらに、吸湿防
止膜とハードコート剤との相性等によっては、スピンコ
ート法で塗布しにくい場合がある。このような場合に
は、ハードコート剤等の保護膜となる材料を霧状にした
雰囲気を作り、その雰囲気中に光情報記録媒体を通過さ
せた後に硬化する、等でも保護膜形成が十分に可能であ
る。
吸湿防止膜によっては硬度が低かったり、摩擦係数が大
きかったりして、キズがついたり、埃が付着したりして
記録・再生特性が劣化することがある。そこでこのよう
な場合には、図８（ｂ）のように吸湿防止膜上に保護膜
１６３を形成することが好ましい。本実施の形態では放
射線硬化性樹脂であるハードコート剤をスピンコート法
で塗布し、放射線照射により硬化した。さらに、吸湿防
止膜とハードコート剤との相性等によっては、スピンコ
ート法で塗布しにくい場合がある。このような場合に
は、ハードコート剤等の保護膜となる材料を霧状にした
雰囲気を作り、その雰囲気中に光情報記録媒体を通過さ
せた後に硬化する、等でも保護膜形成が十分に可能であ
る。
【００４８】基材と光透過層の材料の組み合わせによっ
ては、実施の形態１および２で述べたように、吸湿防止
膜の成膜領域を変化させたり、ドット状に分布させたり
することも有効である。但し光透過層上にパターンを有
する吸湿防止膜を形成することは記録・再生光への影響
を考慮し、避けることが好ましい。基材側の吸湿防止膜
については記録・再生光への影響を考慮しなくていいた
め、光透過層に形成した吸湿防止膜と異なる材料を用い
ても構わない。上記以外の保護膜、傷つき防止膜等につ
いては実施の形態１で述べたのと同様である。
ては、実施の形態１および２で述べたように、吸湿防止
膜の成膜領域を変化させたり、ドット状に分布させたり
することも有効である。但し光透過層上にパターンを有
する吸湿防止膜を形成することは記録・再生光への影響
を考慮し、避けることが好ましい。基材側の吸湿防止膜
については記録・再生光への影響を考慮しなくていいた
め、光透過層に形成した吸湿防止膜と異なる材料を用い
ても構わない。上記以外の保護膜、傷つき防止膜等につ
いては実施の形態１で述べたのと同様である。
【００４９】なお、本実施の形態では情報記録層として
信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型につい
て説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、
反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいこ
とは言うまでもない。情報記録層を複数有するような、
いわゆる多層式の光情報記録媒体であっても構わない。
さらには、光磁気ディスクに対しても有効である。
信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型につい
て説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、
反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいこ
とは言うまでもない。情報記録層を複数有するような、
いわゆる多層式の光情報記録媒体であっても構わない。
さらには、光磁気ディスクに対しても有効である。
【００５０】このようにして、上記実施の形態の光情報
記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によっ
てもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得るこ
とが可能である。
記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によっ
てもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得るこ
とが可能である。
【００５１】以上、本発明の実施の形態について例を挙
げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定され
ず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用
することができる。
げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定され
ず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用
することができる。
【００５２】（実施の形態４）実施の形態４では、本発
明の光情報記録媒体について一例を説明する。なお、実
施の形態１ないし３のいずれかで説明したのと同様の部
分については、重複する説明を省略する場合がある。第
１の基板と第２の基板を貼り合わせるまでは、実施の形
態１と同じである。
明の光情報記録媒体について一例を説明する。なお、実
施の形態１ないし３のいずれかで説明したのと同様の部
分については、重複する説明を省略する場合がある。第
１の基板と第２の基板を貼り合わせるまでは、実施の形
態１と同じである。
【００５３】実施の形態３では、基材と光透過層の主面
の両方に吸湿防止膜を形成した。しかしながら、基材と
光透過層の材料によってはこれでも十分でない場合が考
えられる。そこで、端面部分からの吸湿も防げるよう
に、図９のように光情報記録媒体の全ての面に吸湿防止
膜を形成することも可能である。これによって、光情報
記録媒体は湿度の影響を全く受けなくなる。全面に吸湿
防止膜を形成する手法としては、液体状の吸湿防止膜材
料中に光情報記録媒体を浸ける、気体状（霧状も含む）
の吸湿防止膜材料を吹き付けるなどの後に硬化すること
が考えられる。光透過層上に形成される吸湿防止膜につ
いては、記録・再生光に影響がないように、透明度、均
一性等に気をつけなければならない。
の両方に吸湿防止膜を形成した。しかしながら、基材と
光透過層の材料によってはこれでも十分でない場合が考
えられる。そこで、端面部分からの吸湿も防げるよう
に、図９のように光情報記録媒体の全ての面に吸湿防止
膜を形成することも可能である。これによって、光情報
記録媒体は湿度の影響を全く受けなくなる。全面に吸湿
防止膜を形成する手法としては、液体状の吸湿防止膜材
料中に光情報記録媒体を浸ける、気体状（霧状も含む）
の吸湿防止膜材料を吹き付けるなどの後に硬化すること
が考えられる。光透過層上に形成される吸湿防止膜につ
いては、記録・再生光に影響がないように、透明度、均
一性等に気をつけなければならない。
【００５４】上記以外の保護膜、傷つき防止膜等につい
ては実施の形態１で述べたのと同様である。
ては実施の形態１で述べたのと同様である。
【００５５】なお、本実施の形態では情報記録層として
信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型につい
て説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、
反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいこ
とは言うまでもない。情報記録層を複数有するような、
いわゆる多層式の光情報記録媒体であっても構わない。
さらには、光磁気ディスクに対しても有効である。
信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型につい
て説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、
反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいこ
とは言うまでもない。情報記録層を複数有するような、
いわゆる多層式の光情報記録媒体であっても構わない。
さらには、光磁気ディスクに対しても有効である。
【００５６】このようにして、上記実施の形態の光情報
記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によっ
てもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得るこ
とが可能である。
記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によっ
てもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得るこ
とが可能である。
【００５７】以上、本発明の実施の形態について例を挙
げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定され
ず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用
することができる。
げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定され
ず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用
することができる。
【００５８】（実施の形態５）実施の形態５では、本発
明の光情報記録媒体について一例を説明する。なお、実
施の形態１ないし４のいずれかで説明したのと同様の部
分については、重複する説明を省略する場合がある。第
１の基板と第２の基板を貼り合わせるまでは、実施の形
態１と同じである。
明の光情報記録媒体について一例を説明する。なお、実
施の形態１ないし４のいずれかで説明したのと同様の部
分については、重複する説明を省略する場合がある。第
１の基板と第２の基板を貼り合わせるまでは、実施の形
態１と同じである。
【００５９】吸湿防止膜の成膜パターンとして、実施の
形態１ないし４で述べた以外にも、図１０（ａ）のよう
に外周から内周に向かって薄くなっていくようなパター
ンも可能である。このようなパターンでは、スピンコー
ト法などによって吸湿防止膜を形成することが可能であ
る。
形態１ないし４で述べた以外にも、図１０（ａ）のよう
に外周から内周に向かって薄くなっていくようなパター
ンも可能である。このようなパターンでは、スピンコー
ト法などによって吸湿防止膜を形成することが可能であ
る。
【００６０】また吸湿防止膜の材料によっては硬度、応
力などが異なるため、輪帯状領域ごとに厚みを大きく変
化させたり、材料を変えることによって、吸湿防止の効
果だけでなく、引っ張り強度という観点からもチルト変
動を抑えることが可能となる。この時光情報記録媒体の
記録・再生特性を考慮し、対称性を維持し、輪帯状にパ
ターンを形成することが好ましい。具体的には、図１０
（ｂ）のように輪帯状領域ごとに材料の厚みが異なる、
図１０（ｃ）のように輪帯状領域ごとに吸湿防止膜の材
料が異なる、また、図１１のように材料の異なるものを
重ね塗りする、などといったことも可能である。光情報
記録媒体を形成する材料ごとに最適なパターンを選択す
ることが好ましい。
力などが異なるため、輪帯状領域ごとに厚みを大きく変
化させたり、材料を変えることによって、吸湿防止の効
果だけでなく、引っ張り強度という観点からもチルト変
動を抑えることが可能となる。この時光情報記録媒体の
記録・再生特性を考慮し、対称性を維持し、輪帯状にパ
ターンを形成することが好ましい。具体的には、図１０
（ｂ）のように輪帯状領域ごとに材料の厚みが異なる、
図１０（ｃ）のように輪帯状領域ごとに吸湿防止膜の材
料が異なる、また、図１１のように材料の異なるものを
重ね塗りする、などといったことも可能である。光情報
記録媒体を形成する材料ごとに最適なパターンを選択す
ることが好ましい。
【００６１】上記以外の保護膜、傷つき防止膜等につい
ては実施の形態１で述べたのと同様である。
ては実施の形態１で述べたのと同様である。
【００６２】なお、本実施の形態では情報記録層として
信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型につい
て説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、
反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいこ
とは言うまでもない。情報記録層を複数有するような、
いわゆる多層式の光情報記録媒体であっても構わない。
さらには、光磁気ディスクに対しても有効である。
信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型につい
て説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、
反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいこ
とは言うまでもない。情報記録層を複数有するような、
いわゆる多層式の光情報記録媒体であっても構わない。
さらには、光磁気ディスクに対しても有効である。
【００６３】このようにして、上記実施の形態の光情報
記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によっ
てもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得るこ
とが可能である。
記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によっ
てもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得るこ
とが可能である。
【００６４】以上、本発明の実施の形態について例を挙
げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定され
ず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用
することができる。
げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定され
ず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用
することができる。
【００６５】（実施の形態６）実施の形態６では、本発
明の光情報記録媒体について一例を説明する。なお、実
施の形態１ないし５のいずれかで説明したのと同様の部
分については、重複する説明を省略する場合がある。第
１の基板と第２の基板を貼り合わせるまでは、実施の形
態１と同じである。
明の光情報記録媒体について一例を説明する。なお、実
施の形態１ないし５のいずれかで説明したのと同様の部
分については、重複する説明を省略する場合がある。第
１の基板と第２の基板を貼り合わせるまでは、実施の形
態１と同じである。
【００６６】図１２のように、基材の主面に吸湿防止膜
を形成した後に、吸湿防止膜上にバランス層を形成す
る。吸湿防止膜によって基材が湿度から受ける影響を完
全に排除し、光透過層とバランス層の吸湿量、吸湿膨張
率をほぼ同一にすることでチルト変動を非常に小さくす
ることができる。理想的には、バランス層と光透過層を
まったく同じ厚みの同じ材料で形成すれば、吸湿量、吸
湿膨張率が全く同じとなり、チルト変動をほぼゼロとす
ることが可能である。
を形成した後に、吸湿防止膜上にバランス層を形成す
る。吸湿防止膜によって基材が湿度から受ける影響を完
全に排除し、光透過層とバランス層の吸湿量、吸湿膨張
率をほぼ同一にすることでチルト変動を非常に小さくす
ることができる。理想的には、バランス層と光透過層を
まったく同じ厚みの同じ材料で形成すれば、吸湿量、吸
湿膨張率が全く同じとなり、チルト変動をほぼゼロとす
ることが可能である。
【００６７】上記以外の保護膜、傷つき防止膜等につい
ては実施の形態１で述べたのと同様である。
ては実施の形態１で述べたのと同様である。
【００６８】なお、本実施の形態では情報記録層として
信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型につい
て説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、
反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいこ
とは言うまでもない。情報記録層を複数有するような、
いわゆる多層式の光情報記録媒体であっても構わない。
さらには、光磁気ディスクに対しても有効である。
信号記録再生が可能な薄膜層からなる記録可能型につい
て説明したが、情報信号を凹凸のピットとして記録し、
反射層を設けた、いわゆる再生専用型であってもよいこ
とは言うまでもない。情報記録層を複数有するような、
いわゆる多層式の光情報記録媒体であっても構わない。
さらには、光磁気ディスクに対しても有効である。
【００６９】このようにして、上記実施の形態の光情報
記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によっ
てもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得るこ
とが可能である。
記録媒体によれば、環境の変化、特に湿度の変化によっ
てもチルト変化が非常に小さい光情報記録媒体を得るこ
とが可能である。
【００７０】以上、本発明の実施の形態について例を挙
げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定され
ず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用
することができる。
げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定され
ず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用
することができる。
【００７１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光情報記
録媒体および光情報記録媒体の製造方法によれば、環境
変化、特に湿度の変化に対して、チルト変動が小さく、
記録・再生特性に影響を与えない光情報記録媒体作製が
容易であり、特に情報記録層に対して基材と光透過層の
厚みが非対称となる光情報記録媒体において有効であ
る。具体的には、基材上に吸湿防止膜を形成し、その際
に吸湿防止膜の形成領域を変える、もしくは島状などの
あるパターンで形成することにより、基材と光透過層の
吸湿量、吸湿膨張差をバランスさせた光情報記録媒体を
得ることができる。
録媒体および光情報記録媒体の製造方法によれば、環境
変化、特に湿度の変化に対して、チルト変動が小さく、
記録・再生特性に影響を与えない光情報記録媒体作製が
容易であり、特に情報記録層に対して基材と光透過層の
厚みが非対称となる光情報記録媒体において有効であ
る。具体的には、基材上に吸湿防止膜を形成し、その際
に吸湿防止膜の形成領域を変える、もしくは島状などの
あるパターンで形成することにより、基材と光透過層の
吸湿量、吸湿膨張差をバランスさせた光情報記録媒体を
得ることができる。
【００７２】本発明によれば、以上のような有利な効果
を得ることができる。
を得ることができる。
【図１】本発明による光情報記録媒体を示す図
【図２】本発明による光情報記録媒体を示す図
【図３】本発明による光情報記録媒体を示す図
【図４】本発明による光情報記録媒体を示す図
【図５】本発明による光情報記録媒体を示す図
【図６】本発明による別の光情報記録媒体を示す図
【図７】本発明による別の光情報記録媒体を示す図
【図８】本発明による別の光情報記録媒体を示す図
【図９】本発明による別の光情報記録媒体を示す図
【図１０】本発明による別の光情報記録媒体を示す図
【図１１】本発明による別の光情報記録媒体を示す図
【図１２】本発明による別の光情報記録媒体を示す図
１０１ 第１の基板
１０２ 第１の基板の中心孔
１０３ 案内溝
１０４ 記録層
１０５ 情報記録層
１１１ 第２の基板
１１２ 第２の基板の中心孔
１２１ 放射線硬化性樹脂
１２２ 滴
１２３ 放射線
１２４ 硬化後の放射線硬化性樹脂
１３１ 基材
１３２ 光透過層
１４１ 内径
１４２ 外径
１５１ 吸湿防止膜
１５２ 吸湿防止膜
１５３ 吸湿防止膜
１６１ 傷つき防止膜
１６２ 保護膜
１６３ 保護膜
１９１ ノズル
２０５ 情報記録層１
２１５ 情報記録層２
２３１ 基材
２３２ 光透過層
２３３ 分離層
３０１、３０２、３０３、３０４、３０５、３０６ 吸
湿防止膜 ５０１ バランス層 ５０２ 吸湿防止膜
湿防止膜 ５０１ バランス層 ５０２ 吸湿防止膜
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３５ Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３５Ｆ
５４１ ５４１Ｂ
7/26 ５３１ 7/26 ５３１
(72)発明者 大野 鋭二
大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器
産業株式会社内
Ｆターム(参考） 5D029 KA07 LA03 LA05 LA14 LA15
LA17 LB02 LB04 LC21 RA01
RA07 RA18 RA19 RA45 RA47
5D121 AA04 AA07 EE16 EE21
Claims (34)
- 【請求項１】少なくとも、光透過層と、前記光透過層と
厚みの異なる基材と、前記光透過層と前記基材に挟まれ
た１層以上の情報記録層を備え、 かつ、前記基材の主面の少なくとも一部に、吸湿防止膜
が成膜されていることを特徴とする光情報記録媒体。 - 【請求項２】少なくとも、光透過層と、前記光透過層と
厚みの異なる基材と、前記光透過層と前記基材に挟まれ
た１層以上の情報記録層を備えた基板に、 前記基材の主面の少なくとも一部に、吸湿防止膜を成膜
するることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】少なくとも、光透過層と、前記光透過層と
厚みの異なる基材と、前記光透過層と前記基材に挟まれ
た１層以上の情報記録層を備え、 かつ、全ての面に吸湿防止膜が成膜されていることを特
徴とする光情報記録媒体。 - 【請求項４】前記光透過層上の前記吸湿防止膜が、記録
再生光に対して、略透明であることを特徴とする請求項
３に記載の光情報記録媒体。 - 【請求項５】前記吸湿防止膜が、誘電体材料からなるこ
とを特徴とする請求項１、３、４のいずれかに記載の光
情報記録媒体。 - 【請求項６】前記誘電体材料が、ＺｎＳを主成分とする
ことを特徴とする請求項５記載の光情報記録媒体。 - 【請求項７】前記誘電体材料が、ＺｎＳ−２０ｍｏｌ％
ＳｉＯ2であることを特徴とする請求項６記載の光情報
記録媒体の製造方法。 - 【請求項８】前記誘電体材料が、ＳｉＯ2を主成分とす
ることを特徴とする請求項３記載の光情報記録媒体。 - 【請求項９】前記吸湿防止膜が、樹脂材料からなること
を特徴とする請求項１または請求項３、４のいずれかに
記載の光情報記録媒体。 - 【請求項１０】前記樹脂材料が、塩化ビニリデンである
ことを特徴とする請求項９記載の光情報記録媒体。 - 【請求項１１】前記光透過層上の少なくとも一部に、保
護膜を有することを特徴とする請求項１または、請求項
５ないし１０のいずれかに記載の光情報記録媒体。 - 【請求項１２】前記光透過層の主面に成膜された前記吸
湿防止膜上に、保護膜を有することを特徴とする請求項
３ないし１０のいずれかに記載の光情報記録媒体。 - 【請求項１３】前記基材がポリカーボネートからなるこ
とを特徴とする請求項１または請求項３から１２のいず
れかに記載の光情報記録媒体。 - 【請求項１４】前記光透過層が、放射線硬化性樹脂と、
シート状基板からなることを特徴とする請求項１または
請求項３から１３のいずれかに記載の光情報記録媒体。 - 【請求項１５】前記光透過層が、粘着性樹脂材料と、シ
ート状基板からなることを特徴とする請求項１または請
求項３から１３のいずれかに記載の光情報記録媒体。 - 【請求項１６】前記シート状基板がポリカーボネートで
あることを特徴とする請求項１４または１５に記載の光
情報記録媒体。 - 【請求項１７】前記光透過層が、放射線硬化性樹脂から
なることを特徴とする請求項１または請求項３から１３
のいずれかに記載の光情報記録媒体。 - 【請求項１８】前記光透過層の厚さが略０．１ｍｍであ
ることを特徴とする請求項１または請求項３から１７の
いずれかに記載の光情報記録媒体。 - 【請求項１９】前記光透過層と前記基材を合わせた厚さ
が、略１．２ｍｍであることを特徴とする請求項１また
は請求項３から１７のいずれかに記載の光情報記録媒
体。 - 【請求項２０】前記基板上の前記吸湿防止膜が、あるパ
ターンで成膜されていることを特徴とする請求項１また
は請求項３から１９のいずれかに記載の光情報記録媒
体。 - 【請求項２１】前記パターンが、ドット状であることを
特徴とする請求項２０記載の光情報記録媒体。 - 【請求項２２】前記パターンが、網目状であることを特
徴とする請求項２０記載の光情報記録媒体。 - 【請求項２３】請求項１または請求項３から１９のいず
れかに記載の光情報記録媒体の基板上の前記吸湿防止膜
を、あるパターンで成膜することを特徴とする光情報記
録媒体の製造方法。 - 【請求項２４】前記基材が円盤形状であって、前記パタ
ーンが輪帯状の領域に形成されていることを特徴とする
請求項２０ないし２３のいずれかに記載の光情報記録媒
体。 - 【請求項２５】前記基材が円盤形状であって、前記基材
上の前記吸湿防止膜が、輪帯状に成膜されていることを
特徴とする請求項１または請求項３から１９のいずれか
に記載の光情報記録媒体。 - 【請求項２６】請求項１または請求項３から１９のいず
れかに記載の光情報記録媒体の輪帯状に成膜された前記
吸湿防止膜の内径を、前記基材の外径の４０％以上８０
％以下の大きさとすることを特徴とする光情報記録媒体
の製造方法。 - 【請求項２７】輪帯状に成膜された前記吸湿防止膜の内
径が、前記基材の外径の５０％以上７０％以下の大きさ
であることを特徴とする請求項２６記載の光情報記録媒
体の製造方法。 - 【請求項２８】輪帯状に成膜された前記吸湿防止膜の外
径が、前記基材の外径の９０％以上の大きさであること
を特徴とする請求項２５ないし２７のいずれかに記載の
光情報記録媒体の製造方法。 - 【請求項２９】輪帯状に成膜された前記吸湿防止膜の外
径が、前記基材の外径の９８％以上の大きさであること
を特徴とする請求項２８記載の光情報記録媒体の製造方
法。 - 【請求項３０】前記吸湿防止膜が、前記基材の主面の３
５％以上８５％以下に成膜されていることを特徴とする
請求項２、２３，２６から２９のいずれかに記載の光情
報記録媒体の製造方法。 - 【請求項３１】前記吸湿防止膜が、前記基材の主面の５
０％以上７０％以下に成膜されていることを特徴とする
請求項１または３から２２、２４，２５のいずれかに記
載の光情報記録媒体。 - 【請求項３２】前記基材に成膜された前記吸湿防止膜上
に、バランス層を形成することを特徴とする請求項１ま
たは３から２２、２４，２５のいずれかに記載の光情報
記録媒体。 - 【請求項３３】少なくとも、光透過層と、前記光透過層
と厚みの異なる基材と、前記光透過層と前記基材に挟ま
れた１層以上の情報記録層を備える光情報記録媒体の、
前記基材の主面の少なくとも一部に、吸湿防止膜を成膜
する際に、 前記光透過層上に傷つき防止膜を形成しておくことを特
徴とする光情報記録媒体の製造方法。 - 【請求項３４】少なくとも、光透過層と、前記光透過層
と厚みの異なる基材と、前記光透過層と前記基材に挟ま
れた１層以上の情報記録層を備え、前記光透過層上の少
なくとも一部に吸湿防止膜が成膜された光情報記録媒体
の、前記吸湿防止膜上に保護膜を形成する際に、 前記保護膜となる材料が微粒子となって存在する雰囲気
中を、前記光情報記録媒体を通過させることを特徴とす
る光情報記録媒体の製造方法。
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