JP2003172614A - 変位計測方法、変位計測装置、ｘ線分析方法及びｘ線分析装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 分析対象の試料等の被測定物の表面における
変位量測定等の形状測定を簡素な構成でかつ迅速に行な
う変位計測方法、変位計測装置を提供する。また、精度
よくかつ迅速に試料のＸ線分析を行うＸ線分析方法及び
Ｘ線分析装置を提供する。 【解決手段】 この変位計測方法は、被測定物２の表面
２ａにラインレーザビーム照射部１からラインレーザビ
ームを照射し表面からの反射ビームを受光することで表
面の変位を測定するステップと、被測定物とラインレー
ザビーム照射部とを相対的に回転させるステップと、を
含み、変位測定と回転とを繰り返すことによりラインレ
ーザビームよりも広い領域の測定を行うことで、精度の
よい測定を短時間で行うことができる。または、連続的
に相対回転させながら変位測定を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被測定物の表面の
変位測定を精度よくかつ迅速に行うことのできる変位計
測方法、変位計測装置、この変位計測方法を用いたＸ線
分析方法及びＸ線分析装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、蛍光Ｘ線分析装置の使用用途の一
つとして工場等の管理分析についての使用があり、この
工場の管理分析では製品の生産工程と対応して多数の試
料について分析が行われる。このため、日々行われる蛍
光Ｘ線分析を迅速に行うことが生産性の向上のために求
められている。

【０００３】一方、蛍光Ｘ線分析は分析試料の表面形
状、高さ形状に差があると、Ｘ線強度に影響を与え、分
析値が変動してしまい、精度のよい蛍光Ｘ線分析を行う
ことができない問題があった。これに対し、本願の発明
者らは、先に、分析対象の試料の分析面形状に基づいて
Ｘ線強度の補正を行うことで精度の良い蛍光Ｘ線分析が
可能な蛍光Ｘ線分析装置を提案した（特願２０００−２
７３０２０）。

【０００４】ところが、蛍光Ｘ線分析の前に行う従来の
変位計による形状測定によれば、次のような問題があっ
た。 （１）変位計または試料をＸＹステージを用いてＸ軸、
Ｙ軸またはＺ軸をそれぞれに駆動させて計測を行なうた
めに、駆動部が多く、計測時間がかかる。その結果、蛍
光Ｘ線分析に時間を要し、生産性が低下してしまう。 （２）軸の駆動個所が多いため、計測器のメンテナンス
個所が多くなり、保守または設置時の軸等の調整が複雑
になる。

【０００５】特開平７−２６０４４０号公報は、被測定
物の立体的な外形形状を正確に測定するために異なる高
さに複数のレーザ変位計を配置したアームを被測定部の
周りに回転させる測定方法を開示するが、かかる測定方
法では試料の表面形状を測定することはできない。

【０００６】また、特開平７−２５３３０７号公報は、
回転台に取り付けられたレーザ変位計を回転させながら
レーザ光を照射しその反射光でブロックの凹面の変位を
測定する方法を開示するが、凹面全体を測定するには回
転数が多くなりまたレーザ変位計を移動させる必要があ
り、測定に時間がかかるとともに駆動部が多くなり、保
守が大変である。

【０００７】また、特開２０００−３３７８３５公報
は、レンズを回転台に載せて回転しながらレーザ変位計
からレーザ光を照射してレンズの偏肉量を測定する方法
を開示するが、同様にレンズ全体を測定するには回転数
が多くなりまたレーザ変位計を移動させる必要があり、
測定に時間がかかるとともに駆動部が多くなり、保守が
大変である。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述のよう
な従来技術の問題に鑑み、分析対象の試料等の被測定物
の表面における変位量測定等の形状測定を簡素な構成で
かつ迅速に行なうことができる変位計測方法、変位計測
装置を提供することを目的とする。また、この変位計測
方法及び変位計測装置を用いて精度よくかつ迅速に試料
のＸ線分析を行うことができるＸ線分析方法及びＸ線分
析装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による変位計測方法は、被測定物の表面にラ
インレーザビーム照射部からラインレーザビームを照射
し前記表面からの反射ビームを受光することで前記表面
の変位を測定する変位計測方法であって、前記被測定物
と前記ラインレーザビーム照射部とを相対的に回転させ
ながら前記測定を行うことで前記ラインレーザビームよ
りも広い領域の測定を行うことを特徴とする。

【００１０】この変位計測方法によれば、表面の変位測
定をラインレーザビームを用いて行うので測定精度が向
上するとともに、被測定物と照射部とを相対的に回転さ
せながらラインレーザビームにより測定を行うので、ラ
インレーザビームに対応する線状領域よりも大きな領域
を短時間で測定することができ、迅速な測定が可能とな
る。例えば、ラインレーザビームの長さを直径とした円
状領域についての変位測定が被測定物を半回転させるだ
けで完了するので、短時間で測定ができる。

【００１１】この場合、前記被測定物と前記ラインレー
ザビーム照射部とを相対的に連続回転させながら所定時
間内における変位量変化を測定することで、その所定時
間に測定された測定値の平均変位量を求めることができ
る。

【００１２】また、本発明による別の変位計測方法は、
被測定物の表面にラインレーザビーム照射部からライン
レーザビームを照射し前記表面からの反射ビームを受光
することで前記表面の変位を測定するステップと、前記
被測定物と前記ラインレーザビーム照射部とを相対的に
回転させるステップと、を含み、前記変位測定と前記回
転とを繰り返すことで前記ラインレーザビームよりも広
い領域の測定を行うことを特徴とする。

【００１３】この変位計測方法によれば、表面の変位測
定をラインレーザビームを用いて行うので測定精度が向
上するとともに、ラインレーザビームによる１ライン分
の測定後に被測定物を相対回転させて次の１ライン分の
測定を行うことを繰り返すので、ラインレーザビームに
対応する線状領域よりも大きな領域を短時間で測定する
ことができ、迅速な測定が可能となる。例えば、ライン
レーザビームの長さを直径とした円状領域についての変
位測定が被測定物を半回転させるだけで完了するので、
短時間で測定ができる。

【００１４】前記被測定物の回転中心軸と前記ラインレ
ーザビームの長手方向の中心とがほぼ一致しているとき
には、被測定物の回転中心軸を中心としラインレーザビ
ームの長さを直径とした円状領域についての変位測定が
被測定物を半回転させるだけで完了する。

【００１５】また、前記被測定物の回転中心軸と前記ラ
インレーザビームの長手方向の中心とがずれているとき
には、より大きな領域について変位測定が可能となり、
例えば、ラインレーザビームが被測定物の円状領域の半
径に相当するように設定することで、その円状領域につ
いての変位測定が被測定物を一回転させるだけで完了
し、ラインレーザビームの２倍の直径の円状領域を測定
できる。

【００１６】なお、上述の変位測定と回転とを同期して
繰り返しながら実行することで更に効率的な測定ができ
る。

【００１７】また、本発明による変位計測装置は、被測
定物の表面にラインレーザビームを照射する照射手段
と、前記表面からの反射ビームを受光する受光手段と、
前記被測定物と前記照射手段とを相対的に回転させる回
転手段と、前記表面からの反射ビームを前記受光手段で
受光することで前記表面の変位を測定する測定手段と、
を備え、前記回転手段による回転を行いながら前記測定
手段による測定を行うことで前記ラインレーザビームよ
りも広い領域の測定を行うことを特徴とする。

【００１８】この変位計測装置によれば、表面の変位測
定をラインレーザビームを用いて行うので測定精度が向
上するとともに、被測定物と照射手段とを相対的に回転
させながらラインレーザビームにより測定を行うので、
ラインレーザビームに対応する線状領域よりも大きな領
域を短時間で測定することができ、迅速な測定が可能と
なる。また、変位計測装置の駆動軸としては、回転手段
の回転駆動軸だけで構成可能であるので、効率的かつ迅
速に測定が可能であるとともに、装置の構成が簡単で、
モータ、ギア等の部品点数が少なく安価に装置を構成で
きる。また、駆動部分が少ないため保守点検が容易であ
る。

【００１９】この場合、前記回転手段により前記被測定
物と前記照射手段とを相対的に連続回転させながら前記
測定手段が所定時間内における変位量変化を測定するこ
とで、その所定時間に測定された測定値の平均変位量を
求めることができる。

【００２０】また、本発明による別の変位計測装置は、
被測定物の表面にラインレーザビームを照射する照射手
段と、前記表面からの反射ビームを受光する受光手段
と、前記被測定物と前記照射手段とを相対的に回転させ
る回転手段と、前記表面からの反射ビームを前記受光手
段で受光することで前記表面の変位を測定する測定手段
と、を備え、前記測定手段による測定と前記回転手段に
よる回転とを繰り返すことで前記ラインレーザビームよ
りも広い領域の測定を行うことを特徴とする。

【００２１】この変位計測装置によれば、表面の変位測
定をラインレーザビームを用いて行うので測定精度が向
上するとともに、ラインレーザビームによる１ライン分
の測定後に被測定物を相対回転させて次の１ライン分の
測定を行うことを繰り返すので、ラインレーザビームに
対応する線状領域よりも大きな領域を短時間で測定する
ことができ、迅速な測定が可能となる。また、変位計測
装置の駆動軸としては、回転手段の回転駆動軸だけで構
成可能であるので、効率的かつ迅速に測定が可能である
とともに、装置の構成が簡単で、モータ、ギア等の部品
点数が少なく安価に装置を構成できる。また、駆動部分
が少ないため保守点検が容易である。

【００２２】この場合、前記ラインレーザビームによる
測定が終了すると前記測定手段から信号を発生し、この
信号に同期して前記回転手段が回転するように構成する
ことで、測定と回転とが同期して繰り返されることで更
に効率的な測定ができる。

【００２３】また、ラインビーム式レーザ変位計を備
え、このラインビーム式レーザ変位計が前記照射手段と
前記受光手段とを含むように構成できる。

【００２４】また、本発明によるＸ線分析方法は、分析
対象の試料の表面にラインレーザビーム照射部からライ
ンレーザビームを照射し前記表面からの反射ビームを受
光することで前記表面の変位を測定する際に、前記試料
と前記ラインレーザビーム照射部とを相対的に回転させ
ながら前記変位測定を行うことで前記表面の所定領域に
おいて変位測定を行うステップと、前記変位を測定した
試料についてＸ線分析を行うステップと、前記Ｘ線分析
の結果を前記表面の変位計測結果に基づいて補正するス
テップと、を含むことを特徴とする。

【００２５】また、本発明による別のＸ線分析方法は、
分析対象の試料の表面にラインレーザビーム照射部から
ラインレーザビームを照射し前記表面からの反射ビーム
を受光することで前記表面の変位を測定し、前記試料と
前記ラインレーザビーム照射部とを相対的に回転させて
から前記変位測定を行うことを繰り返すことで前記表面
の所定領域において変位測定を行うステップと、前記変
位を測定した試料についてＸ線分析を行うステップと、
前記Ｘ線分析の結果を前記表面の変位計測結果に基づい
て補正するステップと、を含むことを特徴とする。

【００２６】上述の各Ｘ線分析方法によれば、試料表面
の変位測定をラインレーザビームを用いて行うので試料
表面の変位測定精度が向上するとともに、試料を相対回
転させながら測定を連続的に行うか、または、試料を相
対回転させて測定を繰り返し行うので、迅速に変位測定
ができる。このため、その試料についてのＸ線分析結果
を精度よく得られた変位測定結果に基づいて補正できる
ので、精度のよいＸ線分析を行うことができ、また迅速
に変位測定を行うことができるので、Ｘ線分析を全体と
して迅速に行うことができる。従って、生産性を向上さ
せることができる。

【００２７】上述の各Ｘ線分析方法では、前記試料のＸ
線分析のステップの実行後に、前記Ｘ線分析を行った試
料について前記変位測定のステップを実行するようにし
てもよい。

【００２８】また、上述のＸ線分析方法は、前記試料を
試料受渡位置に移動させるステップと、前記試料を前記
試料受渡位置からＸ線分析のためのＸ線分析位置まで移
動させるステップと、前記Ｘ線分析のステップの実行後
に前記試料を前記試料受渡位置まで移動させるステップ
と、前記Ｘ線分析を行っている間に次の試料を前記試料
受渡位置に移動させるステップと、を含むことが好まし
く、試料のＸ線分析が終了すると、次の別の試料につい
てのＸ線分析を直ちに行うことができるので、生産性よ
くＸ線分析を行うことができる。

【００２９】また、前記試料を試料受渡位置に移動させ
るステップと、前記試料を前記試料受渡位置からＸ線分
析のための予備室に移動させるステップと、前記予備室
を真空排気してから前記試料をＸ線分析位置まで移動さ
せるステップと、前記Ｘ線分析のステップの実行後に前
記試料を前記Ｘ線分析位置から前記予備室まで移動させ
るステップと、前記予備室から前記試料を前記試料受渡
位置まで移動させるステップと、前記Ｘ線分析を行って
いる間に次の試料を前記試料受渡位置から前記予備室ま
で移動させるステップと、を含み、前記Ｘ線分析を行っ
た試料を前記Ｘ線分析位置から前記予備室まで移動させ
るステップと前記次の試料を前記予備室から前記Ｘ線分
析位置まで移動させるステップとをほぼ同時に行うこと
が好ましい。これにより、予備室を介して試料の受渡し
を行う場合でも、試料のＸ線分析が終了すると、次の別
の試料についてのＸ線分析を直ちに行うことができるの
で、生産性よくＸ線分析を行うことができる。

【００３０】なお、上述の試料の表面の変位測定の終了
後、次の試料について変位測定を行うことができるが、
上述のように、かかる測定を迅速に行うことができるの
で、Ｘ線分析を行っている間に次の試料を試料受渡位置
からＸ線分析位置または予備室まで移動させるステップ
を迅速にかつタイミングよく実行でき、その結果、上述
の両動作をほぼ同時に実行できるようになる。

【００３１】また、前記試料の表面の高さ変位情報と前
記Ｘ線分析におけるＸ線強度との関係情報を予め求めて
おき、前記表面の変位計測結果から得た前記試料の表面
高さ変位情報に基づいて前記Ｘ線強度を補正することが
好ましい。これにより、試料の表面形状に起因するＸ線
分析の結果のばらつきを精度よく補正できる。

【００３２】また、本発明によるＸ線分析装置は、分析
対象の試料の表面にラインレーザビームを照射し前記表
面からの反射ビームを受光することで前記表面の変位を
測定するラインビーム式レーザ変位計と、前記試料と前
記レーザ変位計とを相対的に回転させる回転手段と、前
記回転を行いながら前記変位測定を行うことで前記表面
の所定領域において変位測定を行う測定手段と、前記試
料についてＸ線分析を行うＸ線分析手段と、前記Ｘ線分
析の結果を前記表面の変位計測結果に基づいて補正する
補正手段と、を備えることを特徴とする。

【００３３】また、本発明による別のＸ線分析装置は、
分析対象の試料の表面にラインレーザビームを照射し前
記表面からの反射ビームを受光することで前記表面の変
位を測定するラインビーム式レーザ変位計と、前記試料
と前記レーザ変位計とを相対的に回転させる回転手段
と、前記変位測定と前記回転とを繰り返すことで前記表
面の所定領域において変位測定を行う測定手段と、前記
試料についてＸ線分析を行うＸ線分析手段と、前記Ｘ線
分析の結果を前記表面の変位計測結果に基づいて補正す
る補正手段と、を備えることを特徴とする。

【００３４】上述の各Ｘ線分析装置によれば、試料表面
の変位測定をラインレーザビームを用いて行うので試料
表面の変位測定精度が向上するとともに、試料を相対回
転させながら測定を連続的に行うか、または、試料を相
対回転させて測定を繰り返し行うので、迅速に変位測定
ができる。このため、その試料についてのＸ線分析結果
を精度よく得られた変位測定結果に基づいて補正できる
ので、精度のよいＸ線分析を行うことができ、また迅速
に変位測定を行うことができるので、Ｘ線分析を全体と
して迅速に行うことができる。従って、生産性を向上さ
せることができる。なお、上述の各Ｘ線分析装置では、
同一試料について変位測定後にＸ線分析を行うことがで
き、また、その逆の順序で行うこともできる。

【００３５】上述のＸ線分析装置は、前記Ｘ線分析手段
がＸ線照射を行うＸ線分析室と、前記試料を試料受渡位
置から前記Ｘ線分析室まで移動させる移動手段と、を備
え、前記試料が前記Ｘ線分析室にある間に次の試料を前
記試料受渡位置に移動させ、前記移動手段が前記Ｘ線分
析を行った試料を前記Ｘ線分析室から前記試料受渡位置
まで移動させる動作と前記次の試料を前記試料受渡位置
から前記Ｘ線分析室まで移動させる動作とをほぼ同時に
行うように構成することが好ましい。これにより、試料
のＸ線分析が終了すると、次の別の試料についてのＸ線
分析を直ちに行うことができるので、生産性よくＸ線分
析を行うことができる。

【００３６】上述のＸ線分析装置は、前記Ｘ線分析手段
がＸ線分析を行うＸ線分析室と、前記試料を試料受渡位
置からＸ線分析のための予備室に移動させる第１の移動
手段と、前記予備室を真空排気してから前記試料を前記
Ｘ線分析室まで移動させる第２の移動手段と、を更に備
え、前記試料が前記Ｘ線分析室にある間に前記第１の移
動手段が次の試料を前記予備室に移動させ、前記第２の
移動手段が前記Ｘ線分析を行った試料を前記Ｘ線分析室
から前記予備室まで移動させる動作と前記次の試料を前
記予備室から前記Ｘ線分析室まで移動させる動作とをほ
ぼ同時に行うように構成することが好ましい。これによ
り、予備室を介して試料の受渡しを行う場合でも、試料
のＸ線分析が終了すると、次の別の試料についてのＸ線
分析を直ちに行うことができるので、生産性よくＸ線分
析を行うことができる。

【００３７】また、前記試料の表面の高さ変位情報と前
記Ｘ線分析におけるＸ線強度との関係情報を記憶する記
憶手段を備え、前記補正手段が前記表面の変位計測結果
から得た前記試料の表面高さ変位情報と前記記憶手段に
記憶された関係情報とにより前記Ｘ線強度を補正するこ
とが好ましい。これにより、試料の表面形状に起因する
Ｘ線分析の結果のばらつきを精度よく補正できる。

【００３８】

【発明の実施の形態】以下、本発明による第１及び第２
の実施の形態について図面を用いて説明する。

【００３９】〈第１の実施の形態〉

【００４０】図１は本発明の実施の形態を示す変位計測
装置の全体構成を概略的に示す図であり、図２は図１の
変位計測装置の測定範囲を説明するための側面図（ａ）
及び平面図（ｂ）であり、図３は図１の変位計測装置の
変位計と被測定物との位置関係を示す側面図（ａ）及び
平面図（ｂ）であり、図４は図１の変位計測装置の変位
計と被測定物との別の位置関係を示す側面図である。

【００４１】図１に示すように、変位計測装置は、ライ
ンビーム式レーザ変位計１と、ラインビーム式レーザ変
位計１を制御しかつ得られた測定データを処理する制御
装置６と、ラインビーム式レーザ変位計１からラインレ
ーザビームが照射される被測定物である分析対象の試料
２を保持するホルダ３と、試料２をホルダ３とともに回
転させる回転台４と、回転台４をギアを経由して回転さ
せるパルスモータ（ステップモータ）５とを備える。

【００４２】ラインビーム式レーザ変位計１は、試料２
の表面２ａにラインレーザビームを照射するラインビー
ム照射部と、その表面２ａからのライン反射ビームを受
光するライン受光センサとを有する。図２（ａ）のよう
に、ラインビーム式レーザ変位計１から線状のラインレ
ーザビームを照射し、表面２ａからの反射ビームを受光
することで、図２（ｂ）のように、表面２ａ上のビーム
幅ｗに相当する線状領域８においてラインビーム式レー
ザ変位計１と試料２の表面２ａとの間の距離を精度よく
測定でき、この測定距離に基づいて表面２ａにおける凹
凸による微小な変位、即ち、微少な表面形状を測定する
ことができる。

【００４３】ホルダ３は、図１のように、内部に円板形
状の試料２をコイルばね３ａにより押し当て部材３ｂと
マスク３ｃとの間に挟み、マスク３ｃの外周端面３ｄに
対し押し付けるようにして保持し固定しており、回転台
４上に載置され、パルスモータ５の回転により回転す
る。

【００４４】パルスモータ５は、制御装置６がラインビ
ーム式レーザ変位計１で試料２の表面２ａの線状領域８
における測定の終了に同期してパルス信号を発生し、こ
のパルス信号により微小角度だけ回転するようになって
いる。かかる微小角の回転後に表面２ａで次の線状領域
８の測定を行うことを繰り返して、回転台４及びホルダ
３がパルスモータ５により半回転することで試料２の表
面２ａにおける線状領域８の幅ｗを直径とする、図２
（ｂ）の破線で示す円状領域８ａについて測定を完了す
ることができる。

【００４５】また、ラインビーム式レーザ変位計１と回
転台４との位置は、回転台４の回転中心軸とラインビー
ム式レーザ変位計１のビーム幅ｗの中心とが図１の一点
鎖線で示す中心軸７に一致するように調整でき、また、
回転台４の平面とラインビーム照射部及びライン受光セ
ンサとが互いに平行となるようにその平行度が調整でき
るようになっている。この中心軸７と試料２の中心ｃと
を一致させるように回転台４におけるホルダ３の位置を
調整することにより、図２（ｂ）、図３（ａ）のように
試料２の中心ｃを中心とした半径ｗ／２の円状領域８ａ
について測定を行うことができる。

【００４６】表面形状の計測結果は、制御装置６内の演
算部での演算処理により最大値、最小値及び平均値を得
てこれらを制御装置６の表示部６ａに表示し、また外部
に出力信号として出力するとともに、制御装置６の記憶
部に記憶し格納することができる。

【００４７】図１〜図３の変位計測装置の動作について
説明すると、ラインビーム式レーザ変位計１に対して平
行度が保たれた回転台４の上にホルダ３に収められ固定
された試料２を載せる。このとき、試料の中心ｃが図１
の中心軸７と合うように調整する。なお、回転台４に対
してホルダ３内の試料２の表面２ａは平行度が保たれて
いる。

【００４８】次に、ビームライン式レーザ変位計１から
ラインレーザビームを試料２の表面２ａに照射してライ
ンレーザビームによる１ライン分の変位測定を行ない、
この計測が終了すると、これに同期して制御装置６から
発生するパルス信号でパルスモータ５が所定の微小角だ
け回転し、ホルダ３とともに試料２も回転する。

【００４９】同様にして、ビームライン式レーザ変位計
１により次の測定を行い、パルス信号を発生させ回転台
４を回転させることを繰り返す。このようなラインレー
ザビーム一本分の形状計測及びその形状測定に同期した
パルスモータ５の微小回転を試料２が半回転するまで繰
り返して行う。試料２の表面２ａにおいてラインレーザ
ビームの幅ｗに対応する直径の円状領域８ａ内の全体の
形状を測定でき、その表面形状の計測結果を制御装置６
の表示部６ａに表示し、また制御装置６の記憶部に記憶
させる。

【００５０】以上の図１〜図３のような変位計測装置に
よれば、試料２の表面２ａにおける変位測定をレーザビ
ームを用いて行うので通常の光ビームの場合と比べて測
定精度が向上するとともに、ラインレーザビームによる
測定後に試料２を回転させることを繰り返しながら行う
ので短時間で測定が終了し迅速に測定ができる。

【００５１】また、図１〜図３の変位計測装置のパルス
モータを連続回転するアナログ式のモータに置き換えて
もよく、この場合、試料２を連続的に回転させながら所
定時間で変位量変化を測定し、その所定時間内に測定さ
れた測定値の平均を求めることにより、試料２の平均表
面変位量を求めることができるので、上述と同様に短時
間で測定が終了し迅速に測定ができる。

【００５２】従来の点発光の光ビームによるＸＹステー
ジを用いた変位計測装置では、ＸＹステージでＸ方向に
微少量だけずらしながら一点づづ測定し、Ｘ方向の１ラ
イン分が終了すると、Ｙ方向に微少量ずらして再びＸ方
向に一点づづ測定することを繰り返して行うので、きわ
めて時間を要していたのに対し、本実施の形態の変位計
測装置によれば、ラインレーザビームで１ライン分の測
定（ビーム幅ｗに対応する）を即座に行い、この１ライ
ン分の測定の終了に同期して試料２を回転させて連続的
に測定を行うことができるので、きわめて短時間に測定
を行うことができる。または、アナログ式のモータで試
料２を連続的に回転させながらラインレーザビームで測
定を行うことができるので、きわめて短時間に測定を行
うことができる。

【００５３】また、蛍光Ｘ線分析用のホルダ３で試料２
を覆うようにして配置されるマスク３ｃは、図２（ｂ）
の一点鎖線に示すように、通常、円形状であり、従来の
ＸＹステージで各軸方向に矩形状の図３（ｂ）の破線で
示す領域１０で計測を行なう場合と比べると、図３
（ｂ）のように円状領域８ａで計測を行なった方が矩形
状領域１０の隅部１０ａの不要な部分で計測を行わない
ので、効率的で短時間計測が可能となる。

【００５４】また、変位計測装置の駆動軸としては、パ
ルスモータ５と回転台４との間の回転軸だけであるの
で、装置構成が簡単で、モータ、ギア等の部品点数が少
なく安価に装置を構成できるとともに、駆動部分が少な
いため保守点検が容易となる。

【００５５】なお、ラインレーザビームで１ライン分の
測定に要する時間はほぼ一定であるので、制御装置６か
らのパルス信号の発生の時間間隔は、この測定時間より
もわずかに長く設定しておくことで、簡単にパルスモー
タ５の回転時間間隔を制御できる。また、１ライン分の
測定時間に合わせてパルス信号の発生のタイミングを調
整することで、その計測の目的に応じた制御が可能とな
る。

【００５６】次に、図４により、より大きな面積の領域
を測定するためにビームライン式レーザ変位計１の位置
を中心軸７に対しずらして配置した例について説明す
る。図４のように、試料２よりも大きな面積の試料９の
回転中心ｃ’（中心軸７と一致する）にラインレーザビ
ームの端を合わせるようにビームライン式レーザ変位計
１の位置を調整する。この状態で、ラインレーザビーム
で１ライン分の測定を行いながら上述のようにパルスモ
ータ５で回転させ、試料９が１回転することで、試料９
の表面９ａ上のラインレーザビーム幅ｗを半径とし中心
ｃ’を中心とするする円状領域の全体について測定を行
うことができる。図４の配置により、図３の場合と比べ
て２倍の直径の円状領域について測定を行うことができ
る。

【００５７】〈第２の実施の形態〉

【００５８】次に、図５、図６により、図１〜図３の変
位計測装置を用いた蛍光Ｘ線分析装置について説明す
る。図５は第２の実施の形態による蛍光Ｘ線分析装置の
概略的構成を示す要部の側断面図であり、図６は図５の
蛍光Ｘ線分析装置の動作を示すフローチャートである。

【００５９】図５に示すように、蛍光Ｘ線分析装置は、
試料２をそれぞれ保持した複数のホルダ３（図１）を公
転可能に保持するターンテーブル１１と、ターンテーブ
ル１１を回転させるモータ１２と、ターンテーブル１１
上の試料受渡位置２０に対しホルダ３を把持し搬送する
ためのアーム部１３ａを有するアーム搬送部１３と、搬
送部１３により搬送されたホルダ３を一時的に保管し内
部が配管１４ａを通して真空排気される予備室１４とを
備える。

【００６０】また、図５の蛍光Ｘ線分析装置は、ホルダ
３を予備室１４と蛍光Ｘ線分析位置２１との間を移動さ
せる間に保持する保持部材１６と、ホルダ３を移動させ
るときに保持する保持部材１６を予備室１４と蛍光Ｘ線
分析位置２１との間を搬送するための搬送部１５と、配
管１７ａを通して真空排気される蛍光Ｘ線分析室１７
と、蛍光Ｘ線分析室１７内の蛍光Ｘ線分析位置２１にあ
るホルダ３の試料２の表面２ａに対しＸ線を照射するＸ
線管１８と、Ｘ線管１８からの試料２に対するＸ線照射
で表面２ａから発生する蛍光Ｘ線の強度を検出し分光分
析を行う分光室１９と、を備える。

【００６１】また、予備室１４とＸ線分析室１７との間
に、両室１４と１７を隔離しかつ連通させるように図５
の矢印のように移動可能な移動部材１４ｂが設けられて
おり、予備室１４は真空排気するときに移動部材１４ｂ
で密閉され、Ｘ線分析室１７との間でホルダ３を移動さ
せるときに移動部材１４ｂで開放されるようになってい
る。

【００６２】図５の蛍光Ｘ線分析装置は、更に、図１と
同様の変位計測装置を備え、ターンテーブル１１上の変
位量測定位置２２にあるホルダ３に保持された試料２の
表面２ａにビームライン式レーザ変位計１からラインレ
ーザビームを照射することで上述のように表面２ａにお
ける変位量を測定できるようになっている。

【００６３】次に、図５の蛍光Ｘ線分析装置による分析
工程Ｓ０１〜Ｓ１４について図６を参照して説明する。
まず、蛍光Ｘ線分析用の試料２を保持したホルダ３をタ
ーンテーブル１１上の図５の変位量測定位置２２にセッ
トし（Ｓ０１）、この変位量測定位置２２で搬送を待機
している間に回転台４上にあるホルダ３の試料２の表面
（分析面）２ａについて上述と同等にして変位量（表面
高さ）の測定を行い、その変位量測定値を図１の制御装
置６の記憶部に記憶し格納する（Ｓ０２）。

【００６４】次に、ターンテーブル１１をモータ１２で
回転させ、変位量測定を行った試料２をホルダ３ととも
に図５の試料受渡位置２０に移動させる（Ｓ０３）。次
に、搬送アーム部１３でホルダ３を把持してアーム部１
３ａが回動しホルダ３を予備室１４内に移動させた（Ｓ
０４）後に、移動部材１４ｂにより密閉された状態の予
備室１４内の真空排気を行う（Ｓ０５）。

【００６５】なお、工程Ｓ０２の変位量測定後に、次の
分析すべき試料２があるかどうかを判断し（Ｓ１３）、
次の試料２があるときには、同様にして搬送待機位置２
２で変位量測定が行われる。

【００６６】次に、予備室１４が所定の圧力まで真空排
気されると、移動部材１４ｂが開放され、予備室１４内
で保持部材１６に保持されたホルダ３が真空排気された
蛍光Ｘ線分析室１７内で搬送部１５の駆動により回動し
て蛍光Ｘ線分析位置２１に移動する（Ｓ０６）。この蛍
光Ｘ線分析位置２１でホルダ３の試料２の表面２ａに対
しＸ線管１８からＸ線が照射され、このＸ線照射で表面
２ａから発生した蛍光Ｘ線が分光室１９に向かい、分光
室１９でそのＸ線強度が検出されて分光分析される（Ｓ
０７）。

【００６７】上述のようにして得られた分析データを工
程Ｓ０２で測定し記憶された試料２の表面（分析面）２
ａの変位量（表面高さ）に基づいて補正してから（Ｓ１
１）、分析データとして出力する（Ｓ１２）。

【００６８】上述の工程Ｓ１１における補正の例を図７
により説明する。図７は、元素Ｐｂの分析時における試
料２の分析面２ａの平均高さとＸ線強度との関係を実験
的に求め、この関係を図７の近似式により表したもので
ある。図７のように、工程Ｓ０２の測定で得た変位量
（表面高さ）から所定領域内における平均高さｚを求
め、図７の近似式で平均高さｚに対応するＸ線強度ｓを
求め、このＸ線強度ｓを補正されたＸ線強度とする。な
お、図７のような近似式が図１の制御装置６の記憶部に
記憶されている。

【００６９】上述の図７のような関係データを分析対象
の各元素ごとに予め求めておき、各元素ごとに補正する
ことで、試料２に含まれる各元素成分についての分析デ
ータを得ることができる。このとき、分析面２ａの変位
量（高さ）を精度よく測定できるので、精度よく補正さ
れた分析データを得ることができる。

【００７０】また、上述のＸ線強度測定（Ｓ０７）が終
了すると、その分析の終了した試料２を保持するホルダ
３を搬送部材１６の搬送部１５による回動で予備室１４
へ移動させ（Ｓ０８）、次に、搬送アーム部１３でホル
ダ３を把持してアーム部１３ａが回動し、ターンテーブ
ル１１上の試料受渡位置２０に移動させる（Ｓ０９）。
次に、ターンテーブル１１を回動させて分析の終了した
試料２を保持するホルダ３を排出する（Ｓ１０）。

【００７１】一方、Ｘ線強度測定の工程Ｓ０７の間に、
次の分析すべき試料２があるか判断し（Ｓ１４）、次の
試料２があるときには、上述の工程Ｓ０８の前に、次の
試料２を予備室１４に同様にして移動させ予備室１４を
真空排気しておく（Ｓ０４，Ｓ０５）。その後、蛍光Ｘ
線分析室１７内で保持部材１６に保持されたホルダ３が
搬送部１５の回動により蛍光Ｘ線分析位置２１に移動す
る（Ｓ０６）。この搬送部１５の回動は、上述の分析の
終了した試料２のホルダ３を排出するときの工程Ｓ０８
における搬送部１５の回動と同じ工程でなされるので、
試料の分析のための搬送と分析後の試料の回収とを効率
的に行うことができる。

【００７２】上述のようにして蛍光Ｘ線分析位置２１に
移動した次の試料２について同様にしてＸ線分析を行
う。このようにして、多数の分析試料２について次々に
Ｘ線分析を行うことができる。

【００７３】なお、上述の次の分析すべき試料２がある
かの判断工程Ｓ１４は、先に行った同様の工程Ｓ１３の
判断結果を援用してもよく、また、次の試料２について
の工程Ｓ０４，Ｓ０５の実行を先の試料２の工程Ｓ０６
とともに開始するようにしてもよい。

【００７４】以上のように、図５の蛍光Ｘ線分析装置に
よれば、図１の変位計測装置で試料２の表面（分析面）
２ａの変位量（表面高さ）の測定を精度よくかつ短時間
に行うことができ、Ｘ線強度測定結果を精度よく得られ
た変位測定結果に基づいて補正できるので精度のよいＸ
線分析を行うことができるとともに、迅速に変位測定を
行うことができるのでＸ線分析を全体として迅速に行う
ことができる。従って、生産性よくＸ線分析を実行でき
る。

【００７５】例えば、Ｘ線分析に要する時間が試料１個
当たり２〜３分程度であり、本実施の形態では１個の試
料の変位量の測定時間が従来の変位計測装置では５〜１
０分程度であったのに対し３０秒程度にでき、変位量測
定時間をＸ線分析時間よりもかなり短くでき、多数の試
料についてのＸ線分析工程に要する時間を大幅に短縮す
ることができる。これにより、製品の生産工程に付随し
て行われる分析管理を効率的に短縮して実行することが
できるので、生産性を向上できる。

【００７６】また、図１の変位計測装置では、試料２を
ホルダ３で保持し固定した状態でその分析面２ａの表面
高さ（変位量）を測定でき、その測定した同じ状態で蛍
光Ｘ線分析を行うので、精度よくＸ線強度を補正するこ
とができる。

【００７７】次に、図５の蛍光Ｘ線分析装置による別の
分析工程Ｓ２１〜Ｓ３５について図８を参照して説明す
る。この分析工程は、最初に試料のＸ線分析を行い、そ
の後その試料の変位量測定を行うものである。まず、蛍
光Ｘ線分析用の試料２を保持したホルダ３をターンテー
ブル１１上にセットし（Ｓ２１）、試料２をホルダ３と
ともに図５の試料受渡位置２０に移動させる（Ｓ２
２）。次に、搬送アーム部１３で予備室１４内に移動さ
せた（Ｓ２３）後に、予備室１４内の真空排気を行う
（Ｓ２４）。なお、工程Ｓ２２の試料受渡位置２０への
移動後に、次の分析すべき試料２がある場合（Ｓ３
４）、次の試料２をターンテーブル１１上にセットす
る。

【００７８】次に、予備室１４の真空排気後、保持部材
１６に保持されたホルダ３が予備室１４から搬送部１５
により回動して蛍光Ｘ線分析位置２１に移動する（Ｓ２
５）。蛍光Ｘ線分析位置２１で試料２のＸ線強度測定を
行う（Ｓ２６）。その後、その分析の終了した試料２を
保持するホルダ３を予備室１４へ移動させ（Ｓ２７）、
次に、搬送アーム部１３でホルダ３をターンテーブル１
１上の試料受渡位置２０に移動させる（Ｓ２８）。次
に、ターンテーブル１１を回動させて分析の終了した試
料２を保持するホルダ３を変位量測定位置２２へ移動さ
せる（Ｓ２９）。ホルダ３の試料２の表面（分析面）２
ａについて上述と同等にして変位量（表面高さ）の測定
を行う（Ｓ３０）。この測定された試料２の表面（分析
面）２ａの変位量（表面高さ）に基づいて工程Ｓ２６で
測定したＸ線強度を図７と同様にして補正してから（Ｓ
３１）、分析データとして出力する（Ｓ３２）。測定の
終了したホルダ３はターンテーブル１１から排出される
（Ｓ３３）。

【００７９】一方、Ｘ線強度測定の工程Ｓ２６の間に、
次の分析すべき試料２があるか判断し（Ｓ３５）、次の
試料２があるときには、図６と同様に、次の試料２を予
備室１４から蛍光Ｘ線分析位置２１に移動するが、この
移動は、上述の分析の終了した試料２のホルダ３を蛍光
Ｘ線分析位置２１から移動させる工程と同時に行われる
ので、試料の分析のための搬送と分析後の試料の回収と
を効率的に行うことができる。このようにして、ホルダ
３内の試料を次々とＸ線分析することができる。

【００８０】以上のように図８の分析工程によれば、多
数のホルダ３内の試料を効率的にＸ線分析することがで
き、その後、上述のようにきわめて短時間に試料の表面
変位量を精度よく測定でき、Ｘ線強度測定結果を精度よ
く得られた変位測定結果に基づいて補正できるので、Ｘ
線分析を精度よく行うことができかつＸ線分析を全体と
して迅速に行うことができる。従って、生産性よくＸ線
分析を実行できる。

【００８１】以上のように本発明を実施の形態及び実施
例により説明したが、本発明はこれらに限定されるもの
ではなく、本発明の技術的思想の範囲内で各種の変形が
可能である。例えば、図１の変位計測装置では、被測定
物を下方に変位計を上方に配置したが、上下逆でもよ
く、また両者を水平方向に配置してもよく、水平方向か
ら傾いた傾斜方向に配置してもよい。また、被測定物と
しては、蛍光Ｘ線分析用の試料に限定されずに、表面で
の変位量や表面形状を測定する必要のある他の物であっ
てもよいことは勿論である。また、図１では、被測定物
を回転させたが、変位計を回転させるようにしてもよ
く、両方を回転させてもよい。

【００８２】また、図５、図６では、予備室がある蛍光
Ｘ線分析装置を説明したが、本発明は予備室がない場合
にも適用でき、この場合、試料のＸ線分析を行っている
間に、次の試料の変位量測定と試料受渡位置への移動を
完了させておくことが、上述のように変位量測定時間を
Ｘ線分析時間よりもかなり短くできるために可能であ
り、従って、生産性よくＸ線分析を実行できる。

【００８３】また、蛍光Ｘ線分析装置における試料の搬
送方式は、図５に示すもの以外であってもよいことは勿
論であり、変位測定をした試料を保持するホルダを自動
的に順々にＸ線分析室に搬送しつつ測定後のホルダを自
動的に回収する方式が好ましく、他の構成であってもよ
い。

【００８４】

【発明の効果】本発明によれば、被測定物の表面におけ
る変位量測定等の形状測定を簡素な構成でかつ迅速に行
なうことができる変位計測方法、変位計測装置を提供で
きる。また、かかる変位計測方法及び変位計測装置を用
いて精度よくかつ迅速に試料のＸ線分析を行うことがで
きるＸ線分析方法及びＸ線分析装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施の形態による変位計測装置の全体構
成を概略的に示す図である。

【図２】図１の変位計測装置の測定範囲を説明するため
の側面図（ａ）及び平面図（ｂ）である。

【図３】図１の変位計測装置の変位計と被測定物との位
置関係を示す側面図（ａ）及び平面図（ｂ）である。

【図４】図１の変位計測装置の変位計と被測定物との別
の位置関係を示す側面図であり、変位計を中心軸に対し
ずらして配置した図である。

【図５】第２の実施の形態による蛍光Ｘ線分析装置の概
略的構成を示す要部の側断面図である。

【図６】図７の蛍光Ｘ線分析装置の動作を示すフローチ
ャートである。

【図７】蛍光Ｘ線分析結果を補正するための試料分析面
の平均高さと蛍光Ｘ線強度との関係を示す図である。

【図８】図７の蛍光Ｘ線分析装置の別の動作を示すフロ
ーチャートである。

【符号の説明】

１ ラインビーム式レーザ変位計 ２ 試料（被測定物） ２ａ 試料２の表面、分析面 ３ ホルダ ４ 回転台 ５ パルスモータ ６ 制御部（測定手段） ７ 中心軸 ８ 線状領域 ８ａ 円状領域 １３ アーム搬送部 １４ 予備室 １５ 搬送部 １６ 保持部材 １７ 蛍光Ｘ線分析室 １８ Ｘ線管 １９ 分光室 ２０ 試料受渡位置 ２１ 蛍光Ｘ線分析位置 ２２ 搬送待機位置 ｗ 線状領域８におけるラインレーザビームの
幅

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F065 AA06 AA50 BB02 CC20 DD06 FF09 MM04 MM16 PP13 2G001 AA01 AA07 AA10 BA04 BA15 CA01 CA07 CA10 FA08 FA30 GA06 GA08 JA08 KA01 KA20 PA01 PA07 PA13 2G052 CA04 CA05 GA19 HA00 HB08

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被測定物の表面にラインレーザビーム照
   射部からラインレーザビームを照射し前記表面からの反
   射ビームを受光することで前記表面の変位を測定する変
   位計測方法であって、 前記被測定物と前記ラインレーザビーム照射部とを相対
   的に回転させながら前記測定を行うことで前記ラインレ
   ーザビームよりも広い領域の測定を行うことを特徴とす
   る変位計測方法。
2. 【請求項２】 前記被測定物と前記ラインレーザビーム
   照射部とを相対的に連続回転させながら所定時間内にお
   ける変位量変化を測定することを特徴とする請求項１に
   記載の変位計測方法。
3. 【請求項３】 被測定物の表面にラインレーザビーム照
   射部からラインレーザビームを照射し前記表面からの反
   射ビームを受光することで前記表面の変位を測定するス
   テップと、前記被測定物と前記ラインレーザビーム照射
   部とを相対的に回転させるステップと、を含み、前記変
   位測定と前記回転とを繰り返すことで前記ラインレーザ
   ビームよりも広い領域の測定を行うことを特徴とする変
   位計測方法。
4. 【請求項４】 前記被測定物の回転中心軸と前記ライン
   レーザビームの長手方向の中心とがほぼ一致している請
   求項１、２または３に記載の変位計測方法。
5. 【請求項５】 前記被測定物の回転中心軸と前記ライン
   レーザビームの長手方向の中心とがずれている請求項
   １、２または３に記載の変位計測方法。
6. 【請求項６】 被測定物の表面にラインレーザビームを
   照射する照射手段と、 前記表面からの反射ビームを受光する受光手段と、 前記被測定物と前記照射手段とを相対的に回転させる回
   転手段と、 前記表面からの反射ビームを前記受光手段で受光するこ
   とで前記表面の変位を測定する測定手段と、を備え、 前記回転手段による回転を行いながら前記測定手段によ
   る測定を行うことで前記ラインレーザビームよりも広い
   領域の測定を行うことを特徴とする変位計測装置。
7. 【請求項７】 前記回転手段により前記被測定物と前記
   照射手段とを相対的に連続回転させながら前記測定手段
   が所定時間内における変位量変化を測定することを特徴
   とする請求項６に記載の変位計測装置。
8. 【請求項８】 被測定物の表面にラインレーザビームを
   照射する照射手段と、 前記表面からの反射ビームを受光する受光手段と、 前記被測定物と前記照射手段とを相対的に回転させる回
   転手段と、 前記表面からの反射ビームを前記受光手段で受光するこ
   とで前記表面の変位を測定する測定手段と、を備え、 前記測定手段による測定と前記回転手段による回転とを
   繰り返すことで前記ラインレーザビームよりも広い領域
   の測定を行うことを特徴とする変位計測装置。
9. 【請求項９】 前記ラインレーザビームによる測定が終
   了すると前記測定手段から信号を発生し、この信号に同
   期して前記回転手段が回転する請求項８に記載の変位計
   測装置。
10. 【請求項１０】 ラインビーム式レーザ変位計を備え、
    このラインビーム式レーザ変位計が前記照射手段と前記
    受光手段とを含む請求項６乃至９のいずれか１項に記載
    の変位計測装置。
11. 【請求項１１】 分析対象の試料の表面にラインレーザ
    ビーム照射部からラインレーザビームを照射し前記表面
    からの反射ビームを受光することで前記表面の変位を測
    定する際に、前記試料と前記ラインレーザビーム照射部
    とを相対的に回転させながら前記変位測定を行うことで
    前記表面の所定領域において変位測定を行うステップ
    と、 前記変位を測定した試料についてＸ線分析を行うステッ
    プと、 前記Ｘ線分析の結果を前記表面の変位計測結果に基づい
    て補正するステップと、を含むことを特徴とするＸ線分
    析方法。
12. 【請求項１２】 分析対象の試料の表面にラインレーザ
    ビーム照射部からラインレーザビームを照射し前記表面
    からの反射ビームを受光することで前記表面の変位を測
    定し、前記試料と前記ラインレーザビーム照射部とを相
    対的に回転させてから前記変位測定を行うことを繰り返
    すことで前記表面の所定領域において変位測定を行うス
    テップと、 前記変位を測定した試料についてＸ線分析を行うステッ
    プと、 前記Ｘ線分析の結果を前記表面の変位計測結果に基づい
    て補正するステップと、を含むことを特徴とするＸ線分
    析方法。
13. 【請求項１３】前記試料のＸ線分析のステップの実行後
    に、前記Ｘ線分析を行った試料について前記変位測定の
    ステップを実行することを特徴とする請求項１１または
    １２に記載のＸ線分析方法。
14. 【請求項１４】 前記試料を試料受渡位置に移動させる
    ステップと、前記試料を前記試料受渡位置からＸ線分析
    のためのＸ線分析位置まで移動させるステップと、前記
    Ｘ線分析のステップの実行後に前記試料を前記試料受渡
    位置まで移動させるステップと、前記Ｘ線分析を行って
    いる間に次の試料を前記試料受渡位置に移動させるステ
    ップと、を含むことを特徴とする請求項１１，１２また
    は１３に記載のＸ線分析方法。
15. 【請求項１５】 前記試料を試料受渡位置に移動させる
    ステップと、前記試料を前記試料受渡位置からＸ線分析
    のための予備室に移動させるステップと、前記予備室を
    真空排気してから前記試料をＸ線分析位置まで移動させ
    るステップと、前記Ｘ線分析のステップの実行後に前記
    試料を前記Ｘ線分析位置から前記予備室まで移動させる
    ステップと、前記予備室から前記試料を前記試料受渡位
    置まで移動させるステップと、前記Ｘ線分析を行ってい
    る間に次の試料を前記試料受渡位置から前記予備室まで
    移動させるステップと、を含み、 前記Ｘ線分析を行った試料を前記Ｘ線分析位置から前記
    予備室まで移動させるステップと前記次の試料を前記予
    備室から前記Ｘ線分析位置まで移動させるステップとを
    ほぼ同時に行うことを特徴とする請求項１１乃至１４の
    いずれか１項に記載のＸ線分析方法。
16. 【請求項１６】 前記試料の表面の高さ変位情報と前記
    Ｘ線分析におけるＸ線強度との関係情報を予め求めてお
    き、前記表面の変位計測結果から得た前記試料の表面高
    さ変位情報に基づいて前記Ｘ線強度を補正する請求項１
    １乃至１５のいずれか１項に記載のＸ線分析方法。
17. 【請求項１７】 分析対象の試料の表面にラインレーザ
    ビームを照射し前記表面からの反射ビームを受光するこ
    とで前記表面の変位を測定するラインビーム式レーザ変
    位計と、 前記試料と前記レーザ変位計とを相対的に回転させる回
    転手段と、 前記回転を行いながら前記変位測定を行うことで前記表
    面の所定領域において変位測定を行う測定手段と、 前記試料についてＸ線分析を行うＸ線分析手段と、 前記Ｘ線分析の結果を前記表面の変位計測結果に基づい
    て補正する補正手段と、を備えることを特徴とするＸ線
    分析装置。
18. 【請求項１８】 分析対象の試料の表面にラインレーザ
    ビームを照射し前記表面からの反射ビームを受光するこ
    とで前記表面の変位を測定するラインビーム式レーザ変
    位計と、 前記試料と前記レーザ変位計とを相対的に回転させる回
    転手段と、 前記変位測定と前記回転とを繰り返すことで前記表面の
    所定領域において変位測定を行う測定手段と、 前記試料についてＸ線分析を行うＸ線分析手段と、 前記Ｘ線分析の結果を前記表面の変位計測結果に基づい
    て補正する補正手段と、を備えることを特徴とするＸ線
    分析装置。
19. 【請求項１９】 前記Ｘ線分析手段がＸ線照射を行うＸ
    線分析室と、 前記試料を試料受渡位置から前記Ｘ線分析室まで移動さ
    せる移動手段と、を備え、 前記試料が前記Ｘ線分析室にある間に次の試料を前記試
    料受渡位置に移動させ、 前記移動手段が前記Ｘ線分析を行った試料を前記Ｘ線分
    析室から前記試料受渡位置まで移動させる動作と前記次
    の試料を前記試料受渡位置から前記Ｘ線分析室まで移動
    させる動作とをほぼ同時に行うことを特徴とする請求項
    １７または１８に記載のＸ線分析装置。
20. 【請求項２０】 前記Ｘ線分析手段がＸ線照射を行うＸ
    線分析室と、 前記試料を試料受渡位置からＸ線分析のための予備室に
    移動させる第１の移動手段と、 前記予備室を真空排気してから前記試料を前記Ｘ線分析
    室まで移動させる第２の移動手段と、を備え、 前記試料が前記Ｘ線分析室にある間に前記第１の移動手
    段が次の試料を前記予備室に移動させ、 前記第２の移動手段が前記Ｘ線分析を行った試料を前記
    Ｘ線分析室から前記予備室まで移動させる動作と前記次
    の試料を前記予備室から前記Ｘ線分析室まで移動させる
    動作とをほぼ同時に行うことを特徴とする請求項１７ま
    たは１８に記載のＸ線分析装置。
21. 【請求項２１】 前記試料の表面の高さ変位情報と前記
    Ｘ線分析におけるＸ線強度との関係情報を記憶する記憶
    手段を備え、 前記補正手段が前記表面の変位計測結果から得た前記試
    料の表面高さ変位情報と前記記憶手段に記憶された関係
    情報とにより前記Ｘ線強度を補正することを特徴とする
    請求項１７乃至２０のいずれか１項に記載のＸ線分析装
    置。