JP2003171487A - 光学用易接着性積層フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 種々の光学用途に用いられる機能層との接着
力、透明性、スクラッチ傷耐性に優れ、しかも耐候性に
優れた光学用易接着性積層フィルムを提供する。 【解決手段】 紫外線吸収剤を含有するポリエステルを
主要構成成分とするポリエステルフィルムの少なくとも
片面に皮膜を塗設した積層フィルムであって、該皮膜
が、固形分としてガラス転移点が４０〜１００℃の範囲
であるポリエステル樹脂（Ａ）を５０〜９５重量％、架
橋剤（Ｂ）を１〜４０重量％および粒子径が０．０２〜
０．２μの範囲のフィラー（Ｃ）を０．１〜２０重量％
含む塗液を用いて形成されることを特徴とする光学用易
接着性積層フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光学用易接着性積層
フィルムに関し、更に詳しくは、紫外線吸収剤を含有す
るポリエステルフィルムの少なくとも片面に、特定の組
成物からなる易接着性塗膜を形成した、優れた接着、透
明性、スクラッチ傷耐性を有する耐候性に優れた光学用
易接着性積層フィルムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ポリエステルフィルム、特にポリエチレ
ンテレフタレートやポリエチレンナフタレートの二軸延
伸フィルムは、優れた機械的性質、耐熱性、耐薬品性を
有するため、磁気テープ、強磁性薄膜テープ、写真フィ
ルム、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁
フィルム、金属板ラミネート用フィルム、ガラスディス
プレイなどの表面に貼るフィルム、各種部材の保護用フ
ィルム等の素材として広く用いられている。

【０００３】ポリエステルフィルムは、近年、各種光学
用フィルムの素材として多く用いられ、特に、液晶表示
装置の部材のプリズムレンズシート、タッチパネル、バ
ックライト等のベースフィルムや反射防止用フィルムの
ベースフィルムやディスプレイの防爆用ベースフィルム
等の用途に用いられている。このような光学用フィルム
に用いられるベースフィルムは優れた透明性とプリズム
レンズ、ハードコート、粘着剤、反射防止処理等に対す
る優れた易接着性が要求される。

【０００４】光学用フィルムは、透明性が要求されるた
め、通常内部に添加するフィラー（内添フィラー）を最
小限にする必要がある。通常、易接着層の接着力を向上
させるには易接着層にガラス転移点の低い樹脂が用いら
れる。光学用フィルムでは最小限の内添フィラーしか添
加されていないのでフィルム表面が平坦になっており、
ガラス転移点の低い樹脂を易接着層に用いるとフィルム
を巻いたり、重ね合わせた時に貼付きが発生し、フィル
ム同士が滑らずハンドリング性が悪化したり、滑りにく
いために製膜や加工工程で表面に傷が入り易くなる問題
等がある。

【０００５】また、ノート型ＰＣや、ＰＤＡなど、屋外
で使用される用途の場合、従来のポリエステルフィルム
は耐候性が劣るために、フィルムの強度が低下したり、
透明度が低下するなどの問題が生じ、長期間の使用に耐
えるものが要望されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる従来
技術の問題点を解消し、種々の光学用途に用いられる機
能層との接着力、透明性、スクラッチ傷耐性に優れ、し
かも耐候性に優れた光学用易接着性積層フィルムを提供
することを目的とするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明のかかる目的は、
本発明によれば、紫外線吸収剤を含有するポリエステル
を主要構成成分とするポリエステルフィルムの少なくと
も片面に皮膜を塗設した積層フィルムであって、該皮膜
が、固形分としてガラス転移点が４０〜１００℃の範囲
であるポリエステル樹脂（Ａ）を５０〜９５重量％、架
橋剤（Ｂ）を１〜４０重量％および粒子径が０．０２〜
０．２μの範囲のフィラー（Ｃ）を０．１〜２０重量％
含む塗液を用いて形成されることを特徴とする光学用易
接着性積層フィルムによって達成される。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。

【０００９】［ポリエステルフィルム］本発明において
光学用易接着性積層フィルムのベースフィルムに用いる
ポリエステルフィルムは紫外線吸収剤を含有するポリエ
ステルを主要構成成分とするものである。ポリエステル
フィルムを構成するポリエステルとしては、例えばテレ
フタル酸、イソフタル酸、２，６―ナフタリンジカルボ
ン酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸等の芳香族ジ
カルボン酸成分と、例えばエチレングリコール、１，４
―ブタンジオール、１，４―シクロヘキサンジメタノー
ル、１，６―ヘキサンジオール等のグリコール成分とか
ら構成される芳香族ポリエステルが好ましく、特にポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフ
タリンジカルボキシレートが好ましい。また、上記成分
等の共重合ポリエステルであっても良い。

【００１０】前記ポリエステルには、製膜時のフィルム
の巻取り性や、ハードコート層や粘着剤等を塗設する際
のフィルムの搬送性等を良くするため、必要に応じて滑
剤としての有機又は無機の微粒子を含有させることがで
きる。かかる微粒子としては、炭酸カルシウム、酸化カ
ルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸
化亜鉛、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂
粒子、尿素樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコー
ン樹脂粒子等が例示される。また、微粒子以外にも着色
剤、帯電防止剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、エチレン―プロピレン―ポリマ
ー、オレフィン系アイオノマーのような他の樹脂等も透
明性を損なわない範囲で任意に含有させることができ
る。

【００１１】［紫外線吸収剤］本発明においてポリエス
テルフィルムを構成するポリエステルには、フィルムの
耐候性を向上させるために、紫外線吸収剤を含有させる
必用がある。この紫外線吸収剤は、その種類を特に特定
されないが、下記式（Ｉ）で表わされる環状イミノエス
テル及び下記式（II）で表わされる環状イミノエステル
から選ばれる少なくとも１種の化合物を、未反応の形態
で用いるのが好ましい。

【００１２】

【化５】

【００１３】（式（Ｉ）で、Ｘ¹ は、上記式に表わされ
たＸ¹ からの２本の結合手が1位、２位の位置関係にあ
る、２価の芳香族残基であり；ｎは１、２又は３であ
り；Ｒ¹はｎ価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原
子を含有していてもよい、又はＲ ¹ はｎ＝２のとき直接
結合であることができる。）

【００１４】

【化６】

【００１５】（式（II）で、Ａは下記式（II）-ａで表
わされる基であるか又は下記式（II）-ｂで表わされる
基であり；Ｒ² およびＲ³ は同一もしくは異なり１価の
炭化水素残基であり；Ｘ² は４価の芳香族残基で、これ
は更にヘテロ原子を含有していてもよい。）

【００１６】

【化７】

【００１７】

【化８】

【００１８】かかる環状イミノエステルは紫外線吸収剤
として公知の化合物であり、例えば特開昭５９−１２９
５２号公報に記載されている。

【００１９】前記一般式（Ｉ）中、Ｘ¹ は式（Ｉ）に表
わされたＸ¹からの２本の結合手が1位、２位の位置関係
にある２価の芳香族残基であり；ｎは１、２又は３であ
り；Ｒ¹はｎ価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原
子を含有していてもよい、又はＲ¹はｎ＝２のとき直接
結合であることができる。

【００２０】Ｘ¹ としては、好ましくは例えば１，２−
フェニレン、１，２−ナフチレン、２，３−ナフチレ
ン、下記式（ａ）または（ｂ）で表わされる基を挙げる
ことができる。これらのうち、特に１，２−フェニレン
が好ましい。

【００２１】

【化９】

【００２２】（式（ａ）または（ｂ）中、Ｒは−Ｏ−、
−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−（Ｃ
Ｈ₂）−または−Ｃ（ＣＨ₃）₂−である。） Ｘ¹ について例示した上記芳香族残基は、例えば炭素数
１〜１０のアルキル例えばメチル、エチル、プロピル、
ヘキシル、デシル等；炭素数６〜１２のアリール例えば
フェニル、ナフチル等；炭素数５〜１２のシクロアルキ
ル例えばシクロペンチル、シクロヘキシル等；炭素数８
〜２０のアラルキル例えばフェニルエチル等；炭素数１
〜１０のアルコキシ例えばメトキシ、エトキシ、デシル
オキシ等；ニトロ；ハロゲン例えば塩素、臭素等；炭素
数２〜１０のアシル例えばアセチル、プロポニル、ゼン
ゾイル、デカノイル等；などの置換基で置換されていて
もよい。

【００２３】Ｒ¹ はｎ価（ただし、ｎは１、２又は３で
ある）の炭化水素残基であるか、又はｎが２であるとき
に限り直接結合であることができる。

【００２４】１価の炭化水素残基（ｎ＝１の場合）とし
ては、第一に、例えば炭素数１〜１０の未置換脂肪族
基、炭素数６〜１２の未置換芳香族基、炭素数５〜１２
の未置換脂環族基が挙げられる。

【００２５】炭素数１〜１０の未置換脂肪族基として
は、例えばメチル、エチル、プロピル、ヘキシル、デシ
ル等を、炭素数６〜１２の未置換芳香族基としては、例
えばフェニル、ナフチル、ビフェニル等を；炭素数５〜
１２の未置換脂環族基としては、例えばシクロペンチ
ル、シクロヘキシル等を挙げることができる。

【００２６】また、上記１価の炭化水素残基としては、
第二に、例えば下記式（ｃ）で表わされる基、

【００２７】

【化１０】

【００２８】（式（ｃ）中、Ｒ⁴ は炭素数２〜１０のア
ルキレン、フェニレン又はナフチレンである。） 下記式（ｄ）で表わされる基、

【００２９】

【化１１】

【００３０】（式（ｄ）中、Ｒ⁵ は炭素数１〜１０のア
ルキル基、フェニル基又はナフチル基である。） 下記式（ｅ）で表わされる基、

【００３１】

【化１２】

【００３２】（式（ｅ）中、Ｒ⁴ およびＲ⁵ の定義は上
記に同じであり、Ｒ⁶ は水素原子又はＲ⁵ に定義された
基のいずれかである。） 下記式（ｆ）で表わされる置換された脂肪族残基又は芳
香族残基を挙げることができる。

【００３３】

【化１３】

【００３４】（式（ｆ）中、Ｒ⁴ およびＲ⁶ の定義は上
記に同じであり、Ｒ⁷は水素原子又はＲ⁵に定義された基
のいずれかである。） また、上記１価の炭化水素残基としては、第三に、上記
未置換の芳香族残基が例えば上記Ｘ¹ を表わす芳香族残
基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されてい
るものを挙げることができる。それ故、かかる置換基で
置換された場合の例としては、例えばトリル、メチルナ
フチル、ニトロフェニル、ニトロナフチル、クロロフェ
ニル、ベンゾイルフェニイル、アセチルフェニル又はア
セチルナフチル等を挙げることができる。

【００３５】１価の炭化水素残基としては、上記式
（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）又は（ｆ）で表わされる基、す
なわち置換された脂肪族残基又は芳香族残基、特にその
うち置換された芳香族残基が好ましい。

【００３６】２価の炭化水素残基（ｎ＝２の場合）とし
ては、第一に、例えば２価の、炭素数２〜１０の未置換
の脂肪族残基、炭素数６〜１２の未置換の芳香族残基、
炭素数５〜１２の未置換の脂環族残基基が挙げられる。

【００３７】２価の炭素数２〜１０の未置換の脂肪族基
としては、例えばエチレン、トリメチレン、テトラメチ
レン、デカメチレン等を、２価の炭素数６〜１２の未置
換の芳香族残基としては、例えばフェニレン、ナフチレ
ン、Ｐ，Ｐ’−ビフェニレン等を；２価の炭素数５〜１
２の未置換の脂環族残基としては、例えばシクロペンチ
レン、シクロヘキシレン等を挙げることができる。

【００３８】また、上記２価の炭化水素残基としては、
第二に、例えば下記式（ｇ）又は下記式（ｈ）で表わさ
れる置換された脂肪族残基又は芳香族残基を挙げること
ができる。

【００３９】

【化１４】

【００４０】（式（ｇ）中、Ｒ⁸ はＲ⁴ に定義された基
のいずれかである。）

【００４１】

【化１５】

【００４２】（式（ｈ）中、Ｒ⁸ の定義は上記に同じで
あり、Ｒ⁹ はＲ⁴ に定義された基のいずれかであり、そ
してＲ¹⁰はＲ⁶ に定義された基のいずれかである。） また、上記２価の炭化水素残基としては、第三に、上記
未置換の２価の芳香族残基が、例えば上記Ｘ¹を表わす
芳香族基の置換基として例示したと同じ置換基で置換さ
れているものを挙げることができる。

【００４３】ｎが２の場合には、Ｒ¹ としては、これら
のうち直接結合又は上記第一〜第三の群の未置換又は置
換された２価の芳香族炭化水素残基が好ましく、特に２
本の結合手が最も離れた位置から出ている第一又は第三
の群の未置換又は置換された芳香族炭化水素残基が好ま
しく、就中Ｐ−フェニレン、Ｐ，Ｐ’−ビフェニレン又
は２，６−ナフチレンが好ましい。

【００４４】３価の炭化水素残基（ｎ＝３の場合）とし
ては、例えば３価の炭素数６〜１２の芳香族残基を挙げ
ることができる。

【００４５】かかる芳香族残基としては、例えば下記の
もの等を挙げることができる。

【００４６】

【化１６】

【００４７】かかる芳香族残基は、上記１価の芳香族残
基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されてい
てもよい。

【００４８】上記一般式（Ｉ）中、Ｒ² およびＲ³ は同
一もしくは異なり１価の炭化水素残基であり、Ｘ² は４
価の芳香族炭化水素残基である。

【００４９】Ｒ² およびＲ³ としては、上記式（Ｉ）の
説明において、ｎ＝１の場合のＲ¹について例示したと
同じ基を例として挙げることができる。

【００５０】４価の芳香族炭化水素残基としては、例え
ば下記で表わされる基を挙げることができる。

【００５１】

【化１７】

【００５２】（ここで、Ｒの定義は式（ａ）に同じ。） 上記４価の芳香族残基は、上記式（Ｉ）の説明におい
て、Ｒ¹ を表わす１価の芳香族残基の置換基として例示
したと同じ置換基で置換されていてもよい。

【００５３】本発明において用いられる上記式（Ｉ）お
よび（II）で表わされる環状イミノエステルの具体例と
しては、例えば下記の化合物を挙げることができる。

【００５４】（上記式（Ｉ）の化合物） （ｎ＝１の場合の化合物）２−メチル−３，１−ベンゾ
オキサジン−４−オン、２−ブチル−３，１−ベンゾオ
キサジン−４−オン、２−フェニル−３，１−ベンゾオ
キサジン−４−オン、２−（１−又は２−ナフチル）−
３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（４−ビフ
ェニル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−
ｐ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−
オン、２−ｍ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサ
ジン−４−オン、２−ｐ−ベンゾイルフェニル−３，１
−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−メトキシフェ
ニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｏ−
メトキシフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン、２−シクロヘキシル−３，１−ベンゾオキサジン−
４−オン、２−ｐ−（又はｍ−）フタルイミドフェニル
−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、Ｎ−フェニル
−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イ
ル）フタルイミド、Ｎ−ベンゾイル−４−（３，１−ベ
ンゾオキサジン−４−オン−２−イル）アニリン、Ｎ−
ベンゾイル−Ｎ−メチル−４−（３，１−ベンゾオキサ
ジン−４−オン−２−イル）アニリン、２−（ｐ−（Ｎ
−メチルカルボニル）フェニル）−３，１−ベンゾオキ
サジン−４−オン。

【００５５】（ｎ＝２の場合の化合物）２，２’−ビス
（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−
エチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、２，２’−テトラメチレンビス（３，１−ベンゾ
オキサジン−４−オン）、２，２’−デカメチレンビス
（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−
ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−
オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベン
ゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジ
フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、２，２’−（２，６−又は１，５−ナフチレン）
ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，
２’−（２−メチル−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−
ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−ニト
ロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン
−４−オン）、２，２’−（２−クロロ−ｐ−フェニレ
ン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、
２，２’−（１，４−シクロヘキシレン）ビス（３，１
−ベンゾオキサジン−４−オン）、Ｎ−ｐ−（３，１−
ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）フェニル、４
−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）
フタルイミド、Ｎ−ｐ−（３，１−ベンゾオキサジン−
４−オン−２−イル）ベンゾイル、４−（３，１−ベン
ゾオキサジン−４−オン−２−イル）アニリン。

【００５６】（ｎ＝３の場合の化合物）１，３，５−ト
リ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）
ベンゼン、１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジ
ン−４−オン−２−イル）ナフタレン、２，４，６−ト
リ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）
ナフタレン （上記式(II)の化合物）２，８−ジメチル−４Ｈ，６Ｈ
−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス（１，３）
−オキサジン−４，６−ジオン、２，７−ジメチル−４
Ｈ，９Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；４，５−ｄ’）ビス
（１，３）−オキサジン−４，９−ジオン、２，８−ジ
フェニル−４Ｈ，８Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−
ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、
２，７−ジフェニル−４Ｈ，９Ｈ−ベンゾ（１，２−
ｄ；４，５−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，
６−ジオン、６，６’−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，
１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ビス
（２−エチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−
オン）、６，６’−ビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１
−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−メチレン
ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−
４−オン）、６，６’−メチレンビス（２−フェニル−
４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，
６’−エチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベン
ゾオキサジン−４−オン）、６，６’−エチレンビス
（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４
−オン）、６，６’−ブチレンビス（２−メチル−４
Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’
−ブチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾ
オキサジン−４−オン）、６，６’−オキシビス（２−
メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、６，６’−オキシビス（２−フェニル−４Ｈ，
３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ス
ルホニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキ
サジン−４−オン）、６，６’−スルホニルビス（２−
フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、６，６’−カルボニルビス（２−メチル−４Ｈ，
３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−カ
ルボニルビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオ
キサジン−４−オン）、７，７’−メチレンビス（２−
メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、７，７’−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，
３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−ビ
ス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４
−オン）、７，７’−エチレンビス（２−メチル−４
Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’
−オキシビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキ
サジン−４−オン）、７，７’−スルホニルビス（２−
メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、７，７’−カルボニルビス（２−メチル−４Ｈ，
３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−ビ
ス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４
−オン）、６，７’−ビス（２−フェニル−４Ｈ，３，
１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−メチレ
ンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン
−４−オン）、６，７’−メチレンビス（２−フェニル
−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）。

【００５７】上記例示化合物のうち、上記式（Ｉ）の化
合物、より好ましくはｎ＝２の場合の上記式（Ｉ）の化
合物、特に好ましくは下記式（Ｉ）−１で表わされる化
合物が有利に用いられる。

【００５８】

【化１８】

【００５９】（式中、Ｒ¹¹は２価の芳香族炭化水素残基
である。） 式（Ｉ）−１の化合物としては、就中２，２’−ｐ−フ
ェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス
（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および２，
２’−（２，６−ナフチレン）ビス（３，１−ベンゾオ
キサジン−４−オン）が好ましい。

【００６０】これら環状イミノエステルの紫外線吸収特
性は、例えばその代表的化合物について特開昭５９−１
２９５２号公報に記載されているので、それを援用す
る。

【００６１】前記環状イミノエステルは、ポリエステル
に対して優れた相溶性を有するが、前記特開昭５９−１
２９５２号公報や米国特許第４２９１１５２号明細書に
記載されているように、ポリエステルの末端水酸基と反
応する能力を有する。そこで、環状イミノエステルが実
質的に未反応な状態で含有されるように、環状イミノエ
ステルとポリエステルとを注意深く混合させることが求
められる。ただし、ポリエステルとして、主たる割合の
末端基がカルボキシル基であるポリエステルや、末端水
酸基が該環状イミノエステルと反応性の無い末端封鎖剤
で封鎖されているポリエステルを用いる場合、環状イミ
ノエステルを未反応の状態で含有する組成物を製造する
のに特別の注意を払う必要は無い。末端基の主たる割合
が水酸基であるポリエステルを用いる場合には、溶融混
合の時間は、下記式（１）及び式（２）を満足するよう
に、短時間で完了するようにするのが望ましい。

【００６２】

【数１】 Ｌｏｇｔ≦−０．００８Ｔ＋４．８ ……（１）

【００６３】

【数２】Ｔｍ＜Ｔ＜３２０ ……（２） （式（１）及び（２）中、ｔは溶融混合時間（秒）、Ｔ
は溶融混合温度（℃）、Ｔｍはポリエステルの溶融温度
（℃）である。） この場合、環状イミノエステルとポリエステルとが少し
の割合で反応する可能性があるが、この反応によってポ
リエステルの分子量は大きくなるので、この割合によっ
ては可視光吸収剤によるポリエステルの劣化による分子
量低下を防ぐことが可能である。なお、環状イミノエス
テルがポリエステルと反応した場合、紫外線吸収波長領
域が、一般に、未反応の状態の紫外線吸収波長領域より
低波長側にずれる傾向を示し、それ故高波長側の紫外線
を透過する傾向をもつ。

【００６４】前記環状イミノエステルは、適量を添加す
る場合、昇華物が殆どないので、製膜でダイ周辺を汚す
ことが少なく、紫外線から３８０ｎｍ付近の光線を吸収
するのでフィルムの着色が無く、可視光線吸収剤やフィ
ルムの劣化を防止する特性に優れている。

【００６５】前記紫外線吸収剤の添加量は、ポリエステ
ルに対し、０．１〜５重量％が好ましく、さらには０．
２〜３重量％が好ましい。この量が０．１％未満では紫
外線劣化防止効果が小さく、一方５重量％を超えるとポ
リエステルの製膜特性が低下し、好ましくない。

【００６６】前記紫外線吸収剤のポリエステルへの添加
方法は特に限定されないが、ポリエステル重合工程、フ
ィルム製膜前の溶融工程でのポリマー中への練込み、二
軸延伸フィルムへの含浸、などを挙げることができ、特
にポリエステル重合度低下を防止する意味でもフィルム
製膜前の溶融工程でのポリマー中への練込みが好まし
い。その際、紫外線吸収剤の練込みは、化合物粉体の直
接添加法、マスターバッチ法などにより行うことができ
る。

【００６７】［フィルムのヘーズ］本発明における光学
用易接着性積層フィルムは、ヘーズが３％未満であるこ
とが好ましい。このヘーズが３％以上であると、各種デ
ィスプレイ用途において視認性を損なうなど光学用途と
して適さないことがある。

【００６８】［皮膜］本発明における光学用易接着性積
層フィルムは、ポリエステルフィルムの少なくとも片面
に、固形分としてガラス転移点が４０〜１００℃の範囲
であるポリエステル樹脂（Ａ）を５０〜９５重量％、架
橋剤（Ｂ）を１〜４０重量％および粒子径が０．０２〜
０．２μの範囲のフィラー（Ｃ）を０．１〜２０重量％
含む塗液を用いて形成される皮膜が塗設されたものであ
る。

【００６９】この皮膜を形成する成分として用いるポリ
エステル樹脂（Ａ）は、ガラス転移点が４０〜１００℃
の範囲であるポリエステル共重合体である。ポリエステ
ル樹脂（Ａ）のガラス転移点は６０〜９０℃の範囲がよ
り好ましい。ポリエステル樹脂（Ａ）のガラス転移点が
４０℃未満であるとフィルム同士のブロッキングが発生
する場合があり好ましくなく、１００℃を超えると塗布
層が脆くなりスクラッチ傷が入り易くなる場合があるた
め好ましくない。

【００７０】かかるガラス転移点が４０〜１００℃の範
囲であるポリエステル樹脂（Ａ）としては、以下のよう
な多塩基酸またはそのエステル形成誘導体から得られる
多塩基酸成分と、ポリオールまたはそのエステル形成誘
導体から得られるポリオール成分から成る。

【００７１】すなわち、多塩基酸成分としてはテレフタ
ル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、２、６
ーナフタレンジカルボン酸、１、４ーシクロヘキサンジ
カルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット
酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、５−ナトリウムスル
ホイソフタル酸等が挙げられる。これら酸成分を２種以
上用いて共重合ポリエステル樹脂を合成する。また、若
干量ながら不飽和多塩基酸成分のマレイン酸、イタコン
酸等及びｐ−ヒドロキシ安息香酸等の如きヒドロキシカ
ルボン酸を用いることができる。また、これらモノマー
が挙げられるがこれらに限定されるものではない。

【００７２】また、ポリオール成分としては、エチレン
グリコール、１、４ーブタンジオール、ジエチレングリ
コール、ジプロピレングリコール、１、６ーヘキサンジ
オール、１、４ーシクロヘキサンジメタノール、キシレ
ングリコール、ジメチロールプロパン、ポリ（エチレン
オキシド）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシ
ド）グリコール等が挙げられる。また、これらモノマー
が挙げられるがこれらに限定されるものではない。

【００７３】前記皮膜を形成する成分として用いる架橋
剤（Ｂ）としては、オキサゾリン基含有ポリマー、尿素
系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等を好ましく
挙げることができる。

【００７４】前記オキサゾリン基含有ポリマーとして
は、特公昭６３−４８８８４号公報、特開平２−６０９
４１号公報、特開平２−９９５３７号公報等に記載の重
合体、あるいはこれらに準じた重合体を挙げることがで
きる。具体的には、下記式（III）で表わされる付加重
合性オキサゾリン（ａ）、および必要に応じて他のモノ
マー（ｂ）を重合させて得られる重合体が挙げられる。

【００７５】

【化１９】

【００７６】（但し、式中のＲ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³およびＲ
¹⁴は、それぞれ、水素、ハロゲン、アルキル基、アラル
キル基、フェニル基および置換フェニル基から選ばれる
置換基を示し、Ｒ¹⁵は付加重合性不飽和結合基を有する
非環状有機基を示す。） 前記式（III）で表わされる付加重合性オキサゾリン
（ａ）の具体例としては、２−ビニル−２−オキサゾリ
ン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−
ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロ
ペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−
メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−
メチル−２−オキサゾリン等を挙げることができる。こ
れらは１種または２種以上の混合物として使用すること
ができる。これらの中、２−イソプロペニル−２−オキ
サゾリンが工業的に入手しやすく好適である。

【００７７】次に、付加重合性オキサゾリン以外のモノ
マー（ｂ）としては、付加重合性オキサゾリン（ａ）と
共重合可能なモノマーであれば特に制限はなく、例えば
アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸ブ
チル、メタクリル酸ブチルなどのアクリル酸エステル
類、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸などの不飽
和カルボン酸類、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ルなどの不飽和ニトリル類、アクリルアミド、メタクリ
ルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロ
ールメタクリルアミドなどの不飽和アミド類、酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類、メチ
ルビニルエーテル、エチルビニルエーテルなどのビニル
エーテル類、エチレン、プロピレンなどのα−オレフィ
ン類、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニルなど
の含ハロゲン−α，β−不飽和モノマー類、スチレン、
α−メチルスチレンなどのα，β−不飽和芳香族モノマ
ー類などを挙げることができる。これらは１種または２
種以上の混合物として使用することができる。

【００７８】前記付加重合性オキサゾリン（ａ）および
必要に応じて少なくとも１種以上の他のモノマー（ｂ）
を用いて重合体を得るためには、従来から知られている
重合法によって重合することができる。例えば、乳化重
合法（重合触媒、水、界面活性剤およびモノマーを一括
混合して重合する方法）、モノマー滴下法、多段重合
法、プレエマルジョン法など各種の方法を採用できる。

【００７９】重合触媒は、従来から知られているものを
使用することができる。例えば、過酸化水素、過硫酸カ
リウム、２，２’−アゾビス（２−アミノジプロパン）
２塩酸塩など、通常のラジカル重合開始剤を挙げること
ができる。

【００８０】また、界面活性剤としては、従来から知ら
れているアニオン系、ノニオン系、カチオン系および両
性界面活性剤や反応性界面活性剤を挙げることができ
る。

【００８１】重合温度は、通常０〜１００℃、好ましく
は５０〜８０℃である。また、重合時間は、通常１〜１
０時間である。

【００８２】付加重合性オキサゾリン（ａ）および少な
くとも１種以上の他のモノマー（ｂ）を用いて重合体を
得る場合、付加重合性オキサゾリン（ａ）の配合量は、
全モノマーに対して０．５重量％以上の範囲で適宜決め
ることが好ましい。付加重合性オキサゾリン（ａ）の配
合量が０．５重量％未満では、本発明の目的を達成する
ことが困難となることがある。

【００８３】前記架橋剤（Ｂ）として用いるエポキシ系
樹脂としては、具体的には、ポリエポキシ化合物、ジエ
ポキシ化合物、モノエポキシ化合物などが挙げられる。
このポリエポキシ化合物としては、例えばソルビトトー
ルポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリ
シジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジル
エーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、ト
リグリシジルトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシア
ネート、グリセロールポリグリシジルエーテル、トリメ
チロールプロパンポリグリシジルエーテル、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジルメタキシリレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’
−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テ
トラグリシジル−１，３−ビスアミノメチルシクロヘキ
サン等を挙げることができる。ジエポキシ化合物として
は、例えばネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、
レゾルシンジグリシジルエーテル、エチレングリコール
ジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリ
シジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエ
ーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテ
ル等を挙げることができる。また、モノエポキシ化合物
としては、例えばアリルグリシジルエーテル、２−エチ
ルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエ
ーテルなどが挙げられる。この中でも、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラグリシジルメタキシリレンジアミン、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミ
ノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリ
シジル−１，３−ビスアミノメチルシクロヘキサンが好
ましく例示できる。

【００８４】架橋剤（Ｂ）として用いる尿素系樹脂とし
ては、例えばジメチロール尿素、ジメチロールエチレン
尿素、ジメチロールプロピレン尿素、テトラメチロール
アセチレン尿素、４−メトキシ５−ジメチルプロピレン
尿素ジメチロールなどを好ましく挙げることができる。

【００８５】架橋剤（Ｂ）として用いるメラミン系樹脂
としては、メラミンとホルムアルデヒドを縮合して得ら
れるメチロールメラミン誘導体に低級アルコールとして
メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルア
ルコール等を反応させてエーテル化した化合物およびそ
れらの混合物を好ましく挙げることができる。

【００８６】また、架橋剤（Ｂ）として用いるメチロー
ルメラミン系誘導体としては、例えばモノメチロールメ
ラミン、ジメチロールメラミン、トリメチロールメラミ
ン、テトラメチロールメラミン、ペンタメチロールメラ
ミン、ヘキサメチロールメラミンなどを挙げることがで
きる。

【００８７】これらの架橋剤（Ｂ）のなかでも、オキサ
ゾリン基含有ポリマーが、特に優れた易接着性を示すた
め好ましい。これらの架橋剤は単独、場合によっては２
種以上併用してもよい。

【００８８】皮膜を形成するポリエステル樹脂（Ａ）は
塗布層中に５０〜９５重量％含有し、更に好ましくは６
０〜９０重量％である。塗布層を形成する架橋剤（Ｂ）
は塗布層中に１〜４０重量％含有し、更に好ましくは１
０〜３０重量％である。ポリエステル樹脂が９５重量％
を超えるか、もしくは架橋剤が１重量％未満になると塗
布層の凝集力が低下しスクラッチ傷耐性が不十分となる
場合がある。塗布層中のポリエステル樹脂が５０重量％
未満か、もしくは架橋剤が４０重量％超えると塗布層が
脆弱になりスクラッチ傷耐性が不十分となる場合があ
る。

【００８９】本発明における皮膜を形成する成分として
用いるフィラー（Ｃ）は、粒子径が０．０２〜０．２μ
ｍの範囲であり、含有量は０．１〜２０重量％である。
粒子径が０．０２μｍ未満であるか、塗布層中のフィラ
ーの含有量が０．１重量％より少ないとフィルムが滑ら
なくなり、スクラッチ傷耐性が不十分となる。フィラー
の粒子径が０．２μｍを超えるか、フィラー含有量が２
０重量％を超えると塗布量の透明性が無くなり、ディス
プレイ用途等に使用できなくなる。かかるフィラーは有
機又は無機の微粒子であり、炭酸カルシウム、酸化カル
シウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化
亜鉛、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒
子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子等を例
示することができる。

【００９０】本発明において、ポリエステルフィルム表
面に形成される皮膜を構成する組成物には、更に、ワッ
クスが含有されていることが好ましい。皮膜中にワック
スを含有させることでより優れた易滑性を得ることがで
きる。

【００９１】このワックスの具体例としては、カルナバ
ワックス、キャンデリラワックス、ライスワックス、木
ロウ、ホホバ油、パームワックス、ロジン変性ワック
ス、オウリキュリーワックス、サトウキビワックス、エ
スパルトワックス、バークワックス等の植物系ワック
ス、ミツロウ、ラノリン、鯨ロウ、イボタロウ、セラッ
クワックス等の動物系ワックス、モンタンワックス、オ
ゾケライト、セレシンワックスなどの鉱物系ワックス、
パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、
ペトロラクタム等の石油系ワックス、フィッシャートロ
プッシュワックス、ポリエチレンワックス、酸化ポリエ
チレンワックス、ポリプロピレンワックス、酸化ポリプ
ロピレンワックスなどの合成炭化水素系ワックス等であ
る。更に、ハードコートや粘着剤等に対する易接着性と
滑性が良好なことから、カルナバワックス、パラフィン
ワックス、ポリエチレンワックス等の脂肪族ワックスが
より好ましい。更には環境問題や取扱のし易さから水分
散体がより好ましい。

【００９２】ワックスは塗布層中に０．５〜２０重量％
の範囲で含有させることが好ましい。より好ましくは１
重量％〜１０重量％の範囲である。０．５重量％未満で
あるとフィルム表面の易滑性が得られないことがある。
一方、２０重量％を超えるとポリエステル基材への密着
やハードコートや粘着剤等に対する易接着性が不足する
場合がある。

【００９３】また、本発明における皮膜は、その表面エ
ネルギーが５０ｍＮ／ｍ未満であることが好ましい。こ
の表面エネルギーが５０ｍＮ／ｍ以上であると、ハード
コートや粘着剤等に対する易接着性が不足する場合があ
る。

【００９４】本発明においては皮膜を形成する成分とし
て、上記の成分以外に、帯電防止剤、着色剤、界面活性
剤、紫外線吸収剤等を使用することができる。

【００９５】［フィルムの製造］本発明においては、ポ
リエステルフィルムの少なくとも片面に前記成分を用い
た皮膜を塗設するが、例えば延伸可能なポリエステルフ
ィルムに皮膜を形成する成分を含む水性液を塗布した
後、乾燥、延伸し、必要に応じて熱処理することにより
塗設することができる。この水性液の固形分濃度は、通
常３０重量％以下であり、１０重量％以下がさらに好ま
しい。

【００９６】前記の延伸可能なポリエステルフィルムと
は、未延伸ポリエステルフィルム、一軸延伸ポリエステ
ルフィルム又は二軸延伸ポリエステルフィルムである。
このうちフィルムの押出し方向（縦方向）に一軸延伸し
た縦延伸ポリエステルフィルムが特に好ましい。

【００９７】水性塗液をフィルムに塗布する際には、塗
布性を向上させるための予備処理としてフィルム表面に
コロナ表面処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理
を施すか、あるいは組成物と共にこれと化学的に不活性
な界面活性剤を併用することが好ましい。

【００９８】かかる界面活性剤は、ポリエステルフィル
ムへの水性塗液の濡れを促進するものであり、例えば、
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオ
キシエチレン―脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エス
テル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸金属石鹸、ア
ルキル硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルスルホ
コハク酸塩等のアニオン型、ノニオン型界面活性剤を挙
げることができる。界面活性剤は、塗膜を形成する組成
物中に、１〜１０重量％含まれていることが好ましい。
この範囲であれば４０ｍＮ／ｍ以下にすることができ、
塗布層のハジキを防止可能である。

【００９９】ポリエステルフィルムへ水性液を塗布する
場合は、通常の塗工工程、即ち二軸延伸熱固定したポリ
エステルフィルムに該フィルムの製造工程と切り離した
工程で行うと、芥、塵埃等を巻込み易く、好ましくな
い。かかる観点より、クリーンな雰囲気での塗布、即ち
フィルム製造工程での塗布が好ましい。そして、この塗
布によれば、皮膜（塗膜）のポリエステルフィルムへの
密着性がさらに向上する。

【０１００】塗布方法としては、公知の任意の塗布法が
適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート
法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナ
イフコート法、含浸法及びカーテンコート法などを単独
または組合せて用いることができる。塗布量は走行して
いるフイルム１ｍ² 当り、０．５〜２０ｇ、さらには１
〜１０ｇが好ましい。水性液は水分散液又は乳化液とし
て用いるのが好ましい。なお、塗膜は、必要に応じ、フ
ィルムの片面のみに形成してもよいし、両面に形成して
もよい。

【０１０１】水性液を塗布した延伸可能なポリエステル
フィルムは、乾燥、延伸処理工程に導かれるが、かかる
処理は、従来から当業界に蓄積された条件で行うことが
できる。好ましい条件としては、例えば乾燥条件は９０
〜１３０℃×２〜１０秒であり、延伸温度は９０〜１３
０℃、延伸倍率は縦方向３〜５倍、横方向３〜５倍、必
要ならば再縦方向１〜３倍であり、熱固定する場合は１
８０〜２４０℃×２〜２０秒である。

【０１０２】かかる処理後の二軸配向ポリエステルフィ
ルムの厚さは５０〜２５０μｍであること、また塗膜の
厚さは０．０２〜１μｍであることが好ましい。

【０１０３】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に説明する。
なお、各特性値は以下の方法で測定した。

【０１０４】（１）ヘーズ値 日本電色工業社製のヘーズ測定器（ＮＤＨ―２０）を使
用してフィルムのヘーズ値を測定した。尚、フィルムの
ヘーズを下記の基準で評価した。 ◎： ヘーズ値≦１．５％ ……フィルムのヘ
ーズ極めて良好 ○：１．５％＜ヘーズ値≦３．０％ ……フィルムのヘ
ーズ良好 ×：３．０％＜ヘーズ値 ……フィルムのヘ
ーズ不良

【０１０５】（２）フィルム製造時のスクラッチ傷耐性 製造直後のフィルムにて、面積４ｍ²範囲で塗布層スク
ラッチ傷の有無を蛍光灯及びハロゲン光の反射光を用い
て目視で観察し、あった場合はその場所をマジックでマ
ーキングし、そのスクラッチ傷をキーエンス社製のレー
ザー光学顕微鏡（ＶＦ−７５０）で長さ、幅及び深さを
測定する。長さ１ｍｍ以上、幅０．５ｍｍ以上、深さ
０．５μｍ以上のスクラッチ傷個数を求める。 ◎：長さ１ｍｍ以上、幅０．５ｍｍ以上、深さ０．２μ
ｍ以上のスクラッチ傷皆無 ……極めて良好 ○：長さ１ｍｍ以上、幅０．５ｍｍ以上、深さ０．５μ
ｍ以上のスクラッチ傷皆無……良好 ×：長さ１ｍｍ以上、幅０．５ｍｍ以上、深さ０．５μ
ｍ以上のスクラッチ傷が１個以上存在 ……不良

【０１０６】（３）接着性 ・ハードコート 易接着性ポリエステルフィルムの塗膜形成面に厚さ１０
μｍのハードコート層を形成して碁盤目のクロスカット
（１ｍｍ² のマス目を１００個）を施し、その上に２４
ｍｍ幅のセロハンテープ（ニチバン社製）を貼り付け、
１８０°の剥離角度で急激に剥がした後、剥離面を観察
し、下記の基準で評価した。 ５：剥離面積が１０％未満 ……接着力極め
て良好 ４：剥離面積が１０％以上２０％未満 ……接着力良好 ３：剥離面積が２０％以上３０％未満 ……接着力やや
良好 ２：剥離面積が３０％以上４０％未満 ……接着力不良 １：剥離面積が４０％を超えるもの ……接着力極め
て不良 ・粘着剤（ＰＳＡ） 易接着性ポリエステルフィルムの塗膜形成面に厚さ２０
μｍの粘着剤（ＰＳＡ）層を形成してフロートガラスに
粘着剤層面を貼付、２３℃、６５％ＲＨの雰囲気下で１
日経時させ、９０°の剥離角度にて剥離し、ガラス表面
に粘着剤（ＰＳＡ）の残留状態を観察し、下記の基準で
評価した。 ５：粘着剤（ＰＳＡ）残留面積が１０％未満
……接着力極めて良好 ４：粘着剤（ＰＳＡ）残留面積が１０％以上２０％未満
……接着力良好 ３：粘着剤（ＰＳＡ）残留面積が２０％以上３０％未満
……接着力やや良好 ２：粘着剤（ＰＳＡ）残留面積が３０％以上４０％未満
……接着力不良 １：粘着剤（ＰＳＡ）残留面積が４０％を超えるもの
……接着力極めて不良

【０１０７】（４）耐ブロッキング性 ２枚のフィルムを、塗膜形成面と非形成面が接するよう
に重ね合せ、これに、６０℃、８０％ＲＨの雰囲気下で
１７時間にわたって０．６ｋｇ／ｃｍ² の圧力をかけ、
その後、剥離して、その剥離力により耐ブロッキング性
を下記の基準で評価した。 ◎： 剥離力＜９８ｍＮ／５ｃｍ ……耐ブロッ
キング性極めて良好 ○：９８ｍＮ／５ｃｍ≦剥離力＜１４７ｍＮ／５ｃｍ…
…耐ブロッキング性良好 △：１４７ｍＮ／５ｃｍ≦剥離力＜１９６ｍＮ／５ｃｍ
……耐ブロッキング性やや良好 ×：１９６ｍＮ／５ｃｍ≦剥離力 ……耐ブロッキング
性不良

【０１０８】（５）二次転移点（Ｔｇ） デュポン製 Thermal Analyst ２０００型 示差熱量計
にて、２０℃／分の昇温速度にて測定する。

【０１０９】（６）固有粘度 オルソクロロフェノール溶媒による溶液の粘度を３５℃
にて測定し求める。

【０１１０】（７）耐候性 易接着評価同様、易接着性ポリエステルフィルムの塗膜
形成面に厚さ１０μｍのハードコート層を形成する。こ
のサンプルを、サンシャインウェザーメーター（スガ試
験機（株）性、ＷＥＬ−ＳＵＮ−ＨＣＬ型）を使用し、
ＪＩＳ−Ｋ−６７８３ｂに準じて、１０００時間（屋外
曝露１年間に相当）照射することにより屋外曝露促進試
験を行う。処理後、日本電色工業社製のヘーズ測定器
（ＮＤＨ―２０）を使用してフィルムのヘーズ値を測定
した。尚、フィルムのヘーズを下記の基準で評価した。 ◎： ヘーズ値≦２．０％ ……フィルムのヘ
ーズ極めて良好 ○：２．０％＜ヘーズ値≦３．５％ ……フィルムのヘ
ーズ良好 ×：３．５％＜ヘーズ値 ……フィルムのヘ
ーズ不良

【０１１１】［実施例１〜４、比較例１〜６］下記式
（Ａ）に示す紫外線吸収剤を１重量％含有するポリエチ
レンテレフタレート（固有粘度：０．６２）を２０℃に
維持した回転冷却ドラム上に溶融押出しして未延伸フィ
ルムとした。

【０１１２】

【化２０】

【０１１３】次いで縦方向に３．４倍に延伸した後、そ
の両面に下記塗膜用組成物（表１）の濃度８％の水性塗
液をロールコーターで均一に塗布した。

【０１１４】

【表１】

【０１１５】ポリエステルＡ−１：酸成分が２，６―ナ
フタレンジカルボン酸６５モル％／イソフタル酸３０モ
ル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グ
リコール成分がエチレングリコール９０モル％／ジエチ
レングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝８
０℃）。

【０１１６】ポリエステルＡ−２：酸成分がテレフタル
酸８０モル％／イソフタル酸１５モル％／５−ナトリウ
ムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチ
レングリコール６０モル％／ジエチレングリコール４０
モル％で構成されている（Ｔｇ＝４３℃）。

【０１１７】ポリエステルＡ−３：酸成分がテレフタル
酸８０モル％／イソフタル酸１５モル％／５−ナトリウ
ムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチ
レングリコール５モル％／１，４−ブタンジオール９０
モル％で構成されている（Ｔｇ＝２５℃）。

【０１１８】ポリエステルＡ−４：酸成分が２，６―ナ
フタレンジカルボン酸８５モル％／イソフタル酸１０モ
ル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グ
リコール成分がエチレングリコール９０モル％／ジエチ
レングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝１
０５℃）。

【０１１９】架橋剤Ｂ−１：メチルメタクリレート３０
モル％／２−イソプロペニル−２−オキサゾリン３０モ
ル％／ポリエチレンオキシド（ｎ＝１０）メタクリレー
ト１０モル％／アクリルアミド３０モル％で構成されて
いるオキサゾリン基を有する重合体（Ｔｇ＝５０℃）。

【０１２０】架橋剤Ｂ−２：エポキシ系樹脂；Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジルメタキシリレンジアミン 架橋剤Ｂ−３：メラミン系樹脂；トリメトキシメチルメ
ラミン（トリメチロールメラミンをメタノールでエーテ
ル化したもの） 架橋剤Ｂ−４：ジメチロールエチレン尿素 フィラーＣ−１：架橋アクリルフィラー（１００ｎｍ） フィラーＣ−２：シリカフィラー（２０ｎｍ） フィラーＣ−３：架橋アクリルフィラー（１５ｎｍ） フィラーＣ−４：架橋アクリルフィラー（２５０ｎｍ） 添加剤：カルナバワックス 濡れ剤：ポリオキシエチレン（ｎ＝７）ラウリルエーテ
ル

【０１２１】次いで、この塗布フィルムを引き続いて９
５℃で乾燥し、横方向に１２０℃で３．７倍に延伸し、
２２０℃で幅方向に３％収縮させ熱固定し、厚さ１８８
μｍの積層フィルムを得た。なお、塗膜の厚さは０．１
５μｍであった。これらの評価結果を表２に示す。

【０１２２】［比較例７］水性液を塗布しない以外は、
実施例１と同様に行なった。得られた二軸配向ポリエス
テルフィルムの特性を表２に示す。

【０１２３】［実施例５，６および比較例８］ポリエス
テルに含有させる紫外線吸収剤とその配合割合を、実施
例５では下記構造式（Ｂ）の紫外線吸収剤を１重量％含
有、実施例６では下記構造式（Ｃ）の紫外線吸収剤を１
重量％含有に変更し、比較例８では紫外線吸収性剤を含
まないポリエステルを使用した以外は実施例１と同様に
して積層フィルムを得た。得られた積層フィルムの特性
を表２に示す。

【０１２４】

【化２１】

【０１２５】

【化２２】

【０１２６】

【表２】

【０１２７】表２に示す結果から明らかなように、本発
明の光学用易接着性積層フィルムは耐候性に優れ、かつ
接着性、透明性、スクラッチ傷耐性に優れ、光学用易接
着性基材フィルムとして有用である。

【０１２８】

【発明の効果】本発明の光学用易接着性積層フィルム
は、耐候性に優れ、しかも優れた接着性、透明性、スク
ラッチ傷耐性を有するので各種光学用用途の基材フィル
ムとして有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｋ 5/35 Ｃ０８Ｋ 5/35 ４Ｊ０４０ Ｃ０８Ｌ 67/00 Ｃ０８Ｌ 67/00 Ｃ０９Ｄ 167/00 Ｃ０９Ｄ 167/00 201/00 201/00 Ｃ０９Ｊ 7/02 Ｃ０９Ｊ 7/02 Ｚ 167/00 167/00 201/00 201/00 Ｇ０２Ｂ 1/04 Ｇ０２Ｂ 1/04 (72)発明者 矢野 真司 神奈川県相模原市小山３丁目37番19号 帝 人デュポンフィルム株式会社相模原研究セ ンター内 Ｆターム(参考） 4F006 AA35 AB35 BA01 CA05 4F100 AJ11H AK36H AK41A AK41B AK42 AK53H AL05B BA02 CA02B CA07A CA23B CC00B DE01B GB15 GB90 JA05B JK09 JL11 JN01 4J002 CF061 CF081 EU216 EU226 EU236 FD056 GJ01 4J004 AA11 AA12 AA13 AA15 CA06 CC02 FA04 FA10 4J038 CC032 CG142 DA142 DA162 DB002 DD001 DJ002 DL032 HA186 HA216 HA286 HA446 HA526 KA03 KA08 KA20 MA13 NA01 NA03 NA11 NA12 PB08 4J040 DB032 DF042 EB112 EB132 EC002 ED001 EH022 EK032 HA136 HA156 HA196 HA306 HA356 JA09 KA03 KA16 KA42 LA02 LA06 LA07 LA10 NA17

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 紫外線吸収剤を含有するポリエステルを
   主要構成成分とするポリエステルフィルムの少なくとも
   片面に皮膜を塗設した積層フィルムであって、該皮膜
   が、固形分としてガラス転移点が４０〜１００℃の範囲
   であるポリエステル樹脂（Ａ）を５０〜９５重量％、架
   橋剤（Ｂ）を１〜４０重量％および粒子径が０．０２〜
   ０．２μの範囲のフィラー（Ｃ）を０．１〜２０重量％
   含む塗液を用いて形成されることを特徴とする光学用易
   接着性積層フィルム。
2. 【請求項２】 架橋剤（Ｂ）が、オキサゾリン基含有ポ
   リマー、尿素系樹脂、メラミン系樹脂及びエポキシ系樹
   脂からなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項
   １に記載の光学用易接着性積層フィルム。
3. 【請求項３】 皮膜がワックスを０．５〜２０重量％更
   に含有する請求項１または２に記載の光学用易接着性積
   層フィルム。
4. 【請求項４】 紫外線吸収剤が、下記式（Ｉ）で表わさ
   れる環状イミノエステル及び下記式（II）で表わされる
   環状イミノエステルから選ばれる少なくとも１種の化合
   物である請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光学
   用易接着性積層フィルム。 【化１】 （式（Ｉ）で、Ｘ¹ は、上記式に表わされたＸ¹ からの
   ２本の結合手が1位、２位の位置関係にある、２価の芳
   香族残基であり；ｎは１、２又は３であり；Ｒ¹はｎ価
   の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原子を含有してい
   てもよい、又はＲ ¹ はｎ＝２のとき直接結合であること
   ができる。） 【化２】 （式（II）で、Ａは下記式（II）-ａで表わされる基で
   あるか又は下記式（II）-ｂで表わされる基であり；Ｒ
   ² およびＲ³ は同一もしくは異なり１価の炭化水素残基
   であり；Ｘ² は４価の芳香族残基で、これは更にヘテロ
   原子を含有していてもよい。） 【化３】 【化４】