JP2003166700A - 減圧機能付き容器弁 - Google Patents
減圧機能付き容器弁Info
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- Y02E60/32—Hydrogen storage
Abstract
(57)【要約】
【課題】 容器内圧力が高圧であっても容器弁を開くこ
とによって消費圧力に減圧した状態のガスを安全に供給
できるとともに、容器内へのガスの充填も容易に行うこ
とができ、小型化も図れるだけでなく、高純度ガス供給
のためのパージ操作も確実に行うことが可能な減圧機能
付き容器弁を提供する。 【解決手段】 ガス容器10に装着される弁ブロック1
2内に、充填弁13を備えたガス充填流路14と、導出
弁15を備えたガス導出用流路16とを設けるととも
に、該ガス導出用流路16における前記導出弁15の一
次側に減圧弁17を設ける。
とによって消費圧力に減圧した状態のガスを安全に供給
できるとともに、容器内へのガスの充填も容易に行うこ
とができ、小型化も図れるだけでなく、高純度ガス供給
のためのパージ操作も確実に行うことが可能な減圧機能
付き容器弁を提供する。 【解決手段】 ガス容器10に装着される弁ブロック1
2内に、充填弁13を備えたガス充填流路14と、導出
弁15を備えたガス導出用流路16とを設けるととも
に、該ガス導出用流路16における前記導出弁15の一
次側に減圧弁17を設ける。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、減圧機能付き容器
弁に関し、詳しくは、可燃性、自燃性、毒性、腐食性、
支燃性を有する各種ガスを充填するガス容器の容器弁と
して特に適した構造を有する減圧機能付きの容器弁に関
する。
弁に関し、詳しくは、可燃性、自燃性、毒性、腐食性、
支燃性を有する各種ガスを充填するガス容器の容器弁と
して特に適した構造を有する減圧機能付きの容器弁に関
する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】工業用
ガスの中には、可燃性、自燃性、毒性、腐食性、支燃性
といった危険性を有する高圧ガスがあり、これらが大量
に輸送されて消費設備で消費されており、保安維持のた
めに多くの労力が払われている。特に、半導体産業で
は、ウェハの大口径化に伴って危険性を有する特殊材料
ガスが大量に消費され始め、保安の確保に更に厳重な管
理が行われるようになってきている。
ガスの中には、可燃性、自燃性、毒性、腐食性、支燃性
といった危険性を有する高圧ガスがあり、これらが大量
に輸送されて消費設備で消費されており、保安維持のた
めに多くの労力が払われている。特に、半導体産業で
は、ウェハの大口径化に伴って危険性を有する特殊材料
ガスが大量に消費され始め、保安の確保に更に厳重な管
理が行われるようになってきている。
【0003】工業用ガスを供給する方法として、一般的
には、高圧ガス容器内にガスを高圧状態で充填し、消費
設備のガス供給ラインに設置した減圧弁で所定の消費圧
力(通常1MPa以下)に減圧して供給する方法が一般
的である。特に、高圧保安法で規定されている特殊高圧
ガス、例えば、シラン、ジシラン、アルシン、ホスフィ
ン、ジボラン、セレン化水素、ゲルマンは、消費のため
の技術的な必要要件が細かく規定されており、小量の消
費であっても、都道府県知事への届け出が義務付けられ
ている。特に、技術要件であるシリンダーキャビネット
内の容器口金部から減圧弁までの高圧部は、高圧ガス保
安協会の認定品を使用する必要があり、高圧部の存在に
よって漏洩時等の危険性が高いという点と、認定品を使
うためにコスト高になるという点との両方の欠点を有し
ている。
には、高圧ガス容器内にガスを高圧状態で充填し、消費
設備のガス供給ラインに設置した減圧弁で所定の消費圧
力(通常1MPa以下)に減圧して供給する方法が一般
的である。特に、高圧保安法で規定されている特殊高圧
ガス、例えば、シラン、ジシラン、アルシン、ホスフィ
ン、ジボラン、セレン化水素、ゲルマンは、消費のため
の技術的な必要要件が細かく規定されており、小量の消
費であっても、都道府県知事への届け出が義務付けられ
ている。特に、技術要件であるシリンダーキャビネット
内の容器口金部から減圧弁までの高圧部は、高圧ガス保
安協会の認定品を使用する必要があり、高圧部の存在に
よって漏洩時等の危険性が高いという点と、認定品を使
うためにコスト高になるという点との両方の欠点を有し
ている。
【0004】また、容器内にゼオライトや活性炭等の吸
着材を充填し、この吸着材に大気圧以下の低圧力でホス
フィン、アルシン、ジボラン、ゲルマン等の液化ガスを
吸着させ、この状態でガスを供給する技術が実用化され
ている。吸着材無しで同じ容量の容器に高圧ガスを充填
したものに比較すると7倍から40倍の充填量となり、
この技術は充填量では大きなメリットを有するが、消費
装置の圧力が10Torr以下でなければ供給できない
という問題点を有しており、半導体産業のイオン注入装
置や高密度プラズマCVD等の限定された用途にしか応
用できないという欠点を有している。また、吸着材を使
用しているため、吸着材に本来吸着している大気成分の
除去が困難であったり、吸着材そのものがパーティクル
発生源となるため、高純度のガスを供給できないという
欠点もあった。
着材を充填し、この吸着材に大気圧以下の低圧力でホス
フィン、アルシン、ジボラン、ゲルマン等の液化ガスを
吸着させ、この状態でガスを供給する技術が実用化され
ている。吸着材無しで同じ容量の容器に高圧ガスを充填
したものに比較すると7倍から40倍の充填量となり、
この技術は充填量では大きなメリットを有するが、消費
装置の圧力が10Torr以下でなければ供給できない
という問題点を有しており、半導体産業のイオン注入装
置や高密度プラズマCVD等の限定された用途にしか応
用できないという欠点を有している。また、吸着材を使
用しているため、吸着材に本来吸着している大気成分の
除去が困難であったり、吸着材そのものがパーティクル
発生源となるため、高純度のガスを供給できないという
欠点もあった。
【0005】さらに、減圧弁と容器弁とを一体化した高
集積化部品を容器に付属させ、低圧供給可能とした提案
もなされているが(特表2001−510546号参
照)、ガスの充填を効率的に行える機能がないため、充
填前の真空引きが難かったり、充填スピードが遅いとい
う欠点を有しており、結果として、充填されたガスの純
度が低くなるという欠点を有している。また、容器内の
圧力での残量管理ができないといった問題点も有してい
る。
集積化部品を容器に付属させ、低圧供給可能とした提案
もなされているが(特表2001−510546号参
照)、ガスの充填を効率的に行える機能がないため、充
填前の真空引きが難かったり、充填スピードが遅いとい
う欠点を有しており、結果として、充填されたガスの純
度が低くなるという欠点を有している。また、容器内の
圧力での残量管理ができないといった問題点も有してい
る。
【0006】そこで本発明は、容器内圧力が高圧であっ
ても容器弁を開くことによって消費圧力に減圧した状態
のガスを安全に供給できるとともに、容器内へのガスの
充填も容易に行うことができ、小型化も図れるだけでな
く、高純度ガス供給のためのパージ操作も確実に行うこ
とが可能な減圧機能付き容器弁を提供することを目的と
している。
ても容器弁を開くことによって消費圧力に減圧した状態
のガスを安全に供給できるとともに、容器内へのガスの
充填も容易に行うことができ、小型化も図れるだけでな
く、高純度ガス供給のためのパージ操作も確実に行うこ
とが可能な減圧機能付き容器弁を提供することを目的と
している。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の減圧機能付き容器弁は、ガス容器に付属す
る容器弁であって、ガス容器に装着される弁ブロック内
に、充填弁を備えたガス充填流路と、導出弁を備えたガ
ス導出用流路とを設けるとともに、該ガス導出用流路に
おける前記導出弁の一次側に減圧弁を設けたことを特徴
とするものであって、さらに、前記ガス充填流路におけ
る充填弁の二次側に接続して、安全弁及び圧力センサー
の少なくともいずれか一方が設けられていること、前記
ガス導出用流路における減圧弁の一次側及び二次側の少
なくともいずれか一方にフィルターが設けられているこ
と、前記ガス導出用流路における減圧弁の一次側にガス
精製器が設けられており、また、このガス精製器の一次
側に逆止弁が設けられていることを特徴としている。
め、本発明の減圧機能付き容器弁は、ガス容器に付属す
る容器弁であって、ガス容器に装着される弁ブロック内
に、充填弁を備えたガス充填流路と、導出弁を備えたガ
ス導出用流路とを設けるとともに、該ガス導出用流路に
おける前記導出弁の一次側に減圧弁を設けたことを特徴
とするものであって、さらに、前記ガス充填流路におけ
る充填弁の二次側に接続して、安全弁及び圧力センサー
の少なくともいずれか一方が設けられていること、前記
ガス導出用流路における減圧弁の一次側及び二次側の少
なくともいずれか一方にフィルターが設けられているこ
と、前記ガス導出用流路における減圧弁の一次側にガス
精製器が設けられており、また、このガス精製器の一次
側に逆止弁が設けられていることを特徴としている。
【0008】本発明の減圧機能付き容器弁が付属したガ
ス容器中に充填されるガスとしては、H2、CH4、C
2H2、C2H4、C2H6、C3H8、n−C4H
10、i−C4H10、CH3OH、C2H5OH等の
工業用ガスや、SiH4,AsH3,PH3,Ge
H4,B2H6、Si2H6,SF6,NF3,C
F4,C 2F6,C4F8,C3F8,C5F8,C4
F6,Cl2,HF,HCl,HBr,ClF3,NH
3,N2O,NO,He,Ar,H2,O2,CO2,
CO等の半導体材料ガスを挙げることができる。
ス容器中に充填されるガスとしては、H2、CH4、C
2H2、C2H4、C2H6、C3H8、n−C4H
10、i−C4H10、CH3OH、C2H5OH等の
工業用ガスや、SiH4,AsH3,PH3,Ge
H4,B2H6、Si2H6,SF6,NF3,C
F4,C 2F6,C4F8,C3F8,C5F8,C4
F6,Cl2,HF,HCl,HBr,ClF3,NH
3,N2O,NO,He,Ar,H2,O2,CO2,
CO等の半導体材料ガスを挙げることができる。
【0009】これらのガスは、一般的に、ステンレス
鋼、CrMo鋼、炭素鋼、Mn鋼、Al合金、Alライ
ニング強化プラスチック等からなるガス容器に充填され
ている。ガス容器としては、外径が50mm以上120
0mm以下、長さが350mm以上12m以下の筒状の
ものが好適に使用される。ガス容器の両端は、鏡板状か
平面状に熱間加工され、容器弁装着部が少なくとも1箇
所形成され、容器弁を取付けるためのネジ加工が施され
ている。
鋼、CrMo鋼、炭素鋼、Mn鋼、Al合金、Alライ
ニング強化プラスチック等からなるガス容器に充填され
ている。ガス容器としては、外径が50mm以上120
0mm以下、長さが350mm以上12m以下の筒状の
ものが好適に使用される。ガス容器の両端は、鏡板状か
平面状に熱間加工され、容器弁装着部が少なくとも1箇
所形成され、容器弁を取付けるためのネジ加工が施され
ている。
【0010】
【発明の実施の形態】まず、図1は本発明の減圧機能付
き容器弁の第1形態例を示す系統図である。ガス容器1
0に付属する減圧機能付き容器弁11は、ガス容器10
に装着される弁ブロック12内に、遮断弁(充填弁)1
3を備えたガス充填流路14と、遮断弁(導出弁)15
を備えたガス導出用流路16とを設けるとともに、該ガ
ス導出用流路16における前記導出弁15の一次側(上
流側、前段)に減圧弁17を設けたものである。ガス充
填流路14は充填ガス出口14aで容器内ガス相10a
に連通しており、充填ガス入口14bと容器内ガス相1
0aとが充填弁13によって仕切られる。また、ガス導
出用流路16は、導出ガス入口16aで容器内ガス相1
0aに連通しており、導出ガス出口16bと容器内ガス
相10aとが導出弁15によって仕切られる。
き容器弁の第1形態例を示す系統図である。ガス容器1
0に付属する減圧機能付き容器弁11は、ガス容器10
に装着される弁ブロック12内に、遮断弁(充填弁)1
3を備えたガス充填流路14と、遮断弁(導出弁)15
を備えたガス導出用流路16とを設けるとともに、該ガ
ス導出用流路16における前記導出弁15の一次側(上
流側、前段)に減圧弁17を設けたものである。ガス充
填流路14は充填ガス出口14aで容器内ガス相10a
に連通しており、充填ガス入口14bと容器内ガス相1
0aとが充填弁13によって仕切られる。また、ガス導
出用流路16は、導出ガス入口16aで容器内ガス相1
0aに連通しており、導出ガス出口16bと容器内ガス
相10aとが導出弁15によって仕切られる。
【0011】導出弁15を開くと、ガス容器10内に充
填された高圧ガスは、導出ガス入口16aからガス導出
用流路16に流入し、減圧弁17によってあらかじめ設
定された圧力に減圧された後、導出弁15を経て導出ガ
ス出口16bから消費先に供給される。したがって、導
出弁15を開いた状態では、所定圧力に減圧されたガス
が減圧機能付き容器弁11から導出されることになり、
不用意に導出弁15を開いても従来のように高圧のガス
が勢いよく噴出することがなくなるので、安全性をより
高めることができる。また、これらを一体化したブロッ
クとすることにより、容器弁の小型化が図れる。
填された高圧ガスは、導出ガス入口16aからガス導出
用流路16に流入し、減圧弁17によってあらかじめ設
定された圧力に減圧された後、導出弁15を経て導出ガ
ス出口16bから消費先に供給される。したがって、導
出弁15を開いた状態では、所定圧力に減圧されたガス
が減圧機能付き容器弁11から導出されることになり、
不用意に導出弁15を開いても従来のように高圧のガス
が勢いよく噴出することがなくなるので、安全性をより
高めることができる。また、これらを一体化したブロッ
クとすることにより、容器弁の小型化が図れる。
【0012】なお、本形態例に示す減圧機能付き容器弁
11は、通常、容器弁装着部を2箇所備えたガス容器に
おける一方の容器弁装着部に取り付けられるものであっ
て、他方の容器弁装着部には安全弁あるいは安全弁を備
えた容器弁を取り付けておく。
11は、通常、容器弁装着部を2箇所備えたガス容器に
おける一方の容器弁装着部に取り付けられるものであっ
て、他方の容器弁装着部には安全弁あるいは安全弁を備
えた容器弁を取り付けておく。
【0013】図2は本発明の減圧機能付き容器弁の第2
形態例を示す系統図である。なお、以下の説明におい
て、各形態例に記載した減圧機能付き容器弁における同
一の構成要素には同一符号を付して詳細な説明は省略す
る。
形態例を示す系統図である。なお、以下の説明におい
て、各形態例に記載した減圧機能付き容器弁における同
一の構成要素には同一符号を付して詳細な説明は省略す
る。
【0014】本形態例に示す減圧機能付き容器弁21
は、前記ガス充填流路14における充填弁13の二次側
(下流側、後段)で、充填ガス出口14aとの間に安全
弁22を接続したものである。このような安全弁22を
一体に組み込んだ減圧機能付き容器弁21は、容器弁装
着部が1箇所のみのガス容器にも取り付けることができ
る。
は、前記ガス充填流路14における充填弁13の二次側
(下流側、後段)で、充填ガス出口14aとの間に安全
弁22を接続したものである。このような安全弁22を
一体に組み込んだ減圧機能付き容器弁21は、容器弁装
着部が1箇所のみのガス容器にも取り付けることができ
る。
【0015】また、本形態例に示す減圧機能付き容器弁
21には、前記ガス充填流路14における充填弁13の
二次側に圧力センサー23も接続させている。この圧力
センサー23は、充填ガス出口14aを介して容器内ガ
ス相10aと連通した状態になっており、容器内ガス相
10aの圧力を常時検出することができる。このような
圧力センサー23を一体に組み込むことにより、容器内
ガスの残圧を管理できるため、容器交換時期を的確に知
ることができる。
21には、前記ガス充填流路14における充填弁13の
二次側に圧力センサー23も接続させている。この圧力
センサー23は、充填ガス出口14aを介して容器内ガ
ス相10aと連通した状態になっており、容器内ガス相
10aの圧力を常時検出することができる。このような
圧力センサー23を一体に組み込むことにより、容器内
ガスの残圧を管理できるため、容器交換時期を的確に知
ることができる。
【0016】なお、前記第1形態例と同様に、他方の容
器弁装着部に安全弁あるいは安全弁を備えた容器弁を装
着したガス容器の場合は安全弁22を省略して圧力セン
サー23のみを設けるようにしてもよく、容器内ガスの
残圧を管理する必要がないとき、あるいは他方の容器弁
装着部に圧力センサーを設けた場合には、圧力センサー
23を省略してもよい。
器弁装着部に安全弁あるいは安全弁を備えた容器弁を装
着したガス容器の場合は安全弁22を省略して圧力セン
サー23のみを設けるようにしてもよく、容器内ガスの
残圧を管理する必要がないとき、あるいは他方の容器弁
装着部に圧力センサーを設けた場合には、圧力センサー
23を省略してもよい。
【0017】さらに、本形態例に示す減圧機能付き容器
弁21には、前記ガス導出用流路16における減圧弁1
7の一次側、導出ガス入口16aとの間にフィルター2
4を組み込んでいる。このように、減圧弁17の一次側
にフィルター24を設けることにより、ガス中のパーテ
ィクルによって減圧弁17の弁シートでガス漏洩(シー
トリーク)が発生することを防止できる。
弁21には、前記ガス導出用流路16における減圧弁1
7の一次側、導出ガス入口16aとの間にフィルター2
4を組み込んでいる。このように、減圧弁17の一次側
にフィルター24を設けることにより、ガス中のパーテ
ィクルによって減圧弁17の弁シートでガス漏洩(シー
トリーク)が発生することを防止できる。
【0018】図3は本発明の減圧機能付き容器弁の第3
形態例を示す系統図である。本形態例に示す減圧機能付
き容器弁31は、前記ガス導出用流路16における減圧
弁17の二次側で、導出弁15の一次側に、フィルター
25を組み込んだものである。この位置にフィルター2
5を設けることにより、ガス導出用流路16から消費先
に供給するガス中のパーティクルを十分に除去すること
ができる。
形態例を示す系統図である。本形態例に示す減圧機能付
き容器弁31は、前記ガス導出用流路16における減圧
弁17の二次側で、導出弁15の一次側に、フィルター
25を組み込んだものである。この位置にフィルター2
5を設けることにより、ガス導出用流路16から消費先
に供給するガス中のパーティクルを十分に除去すること
ができる。
【0019】図4は本発明の減圧機能付き容器弁の第4
形態例を示す系統図である。本形態例に示す減圧機能付
き容器弁41は、前記ガス導出用流路16における減圧
弁17の一次側及び二次側にフィルター24,25をそ
れぞれ組み込んだものである。このように2箇所にフィ
ルター24,25を設けることにより、減圧弁17のシ
ートリークを防止できるとともに、パーティクルを除去
した高純度ガスを消費先に供給することができる。
形態例を示す系統図である。本形態例に示す減圧機能付
き容器弁41は、前記ガス導出用流路16における減圧
弁17の一次側及び二次側にフィルター24,25をそ
れぞれ組み込んだものである。このように2箇所にフィ
ルター24,25を設けることにより、減圧弁17のシ
ートリークを防止できるとともに、パーティクルを除去
した高純度ガスを消費先に供給することができる。
【0020】図5は本発明の減圧機能付き容器弁の第5
形態例を示す系統図である。本形態例に示す減圧機能付
き容器弁51は、前記ガス導出用流路16における減圧
弁17の一次側にガス精製器31を設けるとともに、該
ガス精製器31の一次側に逆止弁32を設けたものであ
る。このようにガス精製器31を組み込むことにより、
ガス中に不純物として存在する酸素、一酸化炭素、二酸
化炭素、水分等を除去することができ、特に半導体産業
向けガスの高純度化に寄与することができる。
形態例を示す系統図である。本形態例に示す減圧機能付
き容器弁51は、前記ガス導出用流路16における減圧
弁17の一次側にガス精製器31を設けるとともに、該
ガス精製器31の一次側に逆止弁32を設けたものであ
る。このようにガス精製器31を組み込むことにより、
ガス中に不純物として存在する酸素、一酸化炭素、二酸
化炭素、水分等を除去することができ、特に半導体産業
向けガスの高純度化に寄与することができる。
【0021】なお、ガス精製器31は、減圧弁17の二
次側に設けることも可能であるが、通常のガス精製器
は、ガス圧力が高いほど精製能力も高くなるので、減圧
弁17の一次側に設けることが好ましい。さらに、この
ガス精製器31と前記フィルターとを組み合わせること
も可能である。また、前記逆止弁32は、ガス精製器3
1から容器内に不純物が逆流することを防止するもので
あって、省略することも可能である。
次側に設けることも可能であるが、通常のガス精製器
は、ガス圧力が高いほど精製能力も高くなるので、減圧
弁17の一次側に設けることが好ましい。さらに、この
ガス精製器31と前記フィルターとを組み合わせること
も可能である。また、前記逆止弁32は、ガス精製器3
1から容器内に不純物が逆流することを防止するもので
あって、省略することも可能である。
【0022】図6は本発明の減圧機能付き容器弁の第6
形態例を示す系統図である。本形態例に示す減圧機能付
き容器弁61は、前記導出弁15の口金部15aにパー
ジガス入口孔41と供給ガス出口孔42とを弁シート部
で連通可能に設けたものである。このようにパージガス
入口孔41を設けることにより、導出ガス出口16bに
消費設備のガス供給ラインを接続した際に、パージガス
導入経路43からパージガスを導入してパージガス入口
孔41から口金部15aを経て導出ガス出口16bに流
すことにより、導出弁15の口金部15aや導出ガス出
口16bを効果的にパージすることができる。
形態例を示す系統図である。本形態例に示す減圧機能付
き容器弁61は、前記導出弁15の口金部15aにパー
ジガス入口孔41と供給ガス出口孔42とを弁シート部
で連通可能に設けたものである。このようにパージガス
入口孔41を設けることにより、導出ガス出口16bに
消費設備のガス供給ラインを接続した際に、パージガス
導入経路43からパージガスを導入してパージガス入口
孔41から口金部15aを経て導出ガス出口16bに流
すことにより、導出弁15の口金部15aや導出ガス出
口16bを効果的にパージすることができる。
【0023】各形態例に示した減圧機能付き容器弁は、
充填弁13、導出弁15、減圧弁17、安全弁22、圧
力センサー23、フィルター24,25、ガス精製器3
1、逆止弁32等を、必要に応じて弁ブロック12内に
組み込んでいるので、容器弁全体の小型化を図ることが
できる。なお、これらの各部材は、弁ブロック12内に
一体に形成することが望ましいが、別個に製造したもの
を溶接構造や継手構造を採用して一体化することもでき
る。なお、継手構造の場合は、リークタイトな金属ガス
ケットを使用した金属面シール、例えばVCRシール、
Wシール、Cシール等を使用することが好ましい。
充填弁13、導出弁15、減圧弁17、安全弁22、圧
力センサー23、フィルター24,25、ガス精製器3
1、逆止弁32等を、必要に応じて弁ブロック12内に
組み込んでいるので、容器弁全体の小型化を図ることが
できる。なお、これらの各部材は、弁ブロック12内に
一体に形成することが望ましいが、別個に製造したもの
を溶接構造や継手構造を採用して一体化することもでき
る。なお、継手構造の場合は、リークタイトな金属ガス
ケットを使用した金属面シール、例えばVCRシール、
Wシール、Cシール等を使用することが好ましい。
【0024】また、各形態例では、弁ブロック12にお
いて、減圧弁17やフィルター24,25等をガス容器
10内に挿入するような形状にすることによって容器外
部における減圧機能付き容器弁の更なる小型化を図って
いるが、充填弁13や圧力センサー23もガス容器内に
挿入するような構造にすることも可能であり、導出弁1
5までをガス容器内に収めて充填ガス入口14b部分、
導出ガス出口16b部分、パージガス導入経路43部分
のみを容器外部に突出させた状態にすることも可能であ
る。また、減圧弁17を容器外部に出るように設置し、
減圧弁17の二次圧力を調節可能な状態にすることもで
きる。
いて、減圧弁17やフィルター24,25等をガス容器
10内に挿入するような形状にすることによって容器外
部における減圧機能付き容器弁の更なる小型化を図って
いるが、充填弁13や圧力センサー23もガス容器内に
挿入するような構造にすることも可能であり、導出弁1
5までをガス容器内に収めて充填ガス入口14b部分、
導出ガス出口16b部分、パージガス導入経路43部分
のみを容器外部に突出させた状態にすることも可能であ
る。また、減圧弁17を容器外部に出るように設置し、
減圧弁17の二次圧力を調節可能な状態にすることもで
きる。
【0025】減圧機能付き容器弁における弁ブロック1
2は、真鍮、ステンレス鋼、ニッケル合金等を機械加工
することによって製作することができ、遮断弁(充填弁
13、導出弁15)は、キープレート式又はダイヤフラ
ム式が一般的であるが、ダイヤフラム式の方が弁内部の
デッドスペースを効率よくパージできる点で最適であ
る。また、各遮断弁のケレップシートは、ポリクロロト
リフルオロエチレン(PCTFE)、テトラフルオロエ
チレン−ペンフルオロビニルエーテル共重合体(PF
A)、ポリイミド等で形成することが好ましい。
2は、真鍮、ステンレス鋼、ニッケル合金等を機械加工
することによって製作することができ、遮断弁(充填弁
13、導出弁15)は、キープレート式又はダイヤフラ
ム式が一般的であるが、ダイヤフラム式の方が弁内部の
デッドスペースを効率よくパージできる点で最適であ
る。また、各遮断弁のケレップシートは、ポリクロロト
リフルオロエチレン(PCTFE)、テトラフルオロエ
チレン−ペンフルオロビニルエーテル共重合体(PF
A)、ポリイミド等で形成することが好ましい。
【0026】各遮断弁の開閉駆動は、手動によるマニュ
アル弁であってもよく、エアー駆動や電磁駆動により開
閉させて緊急遮断弁を兼ねるようにしてもよい。特に、
導出弁15は、ガス供給時の緊急事態に対応するために
エアー駆動弁や電磁駆動弁が好ましく、可燃性や支燃性
を有するガスの場合はエア駆動弁が望ましい。
アル弁であってもよく、エアー駆動や電磁駆動により開
閉させて緊急遮断弁を兼ねるようにしてもよい。特に、
導出弁15は、ガス供給時の緊急事態に対応するために
エアー駆動弁や電磁駆動弁が好ましく、可燃性や支燃性
を有するガスの場合はエア駆動弁が望ましい。
【0027】また、前記減圧弁17は、スプリング式減
圧弁が一般的であるが、デッドスペースが少なく、パー
ティクルの発生が少ないダイヤフラム式減圧弁を使用す
ることが好ましい。この減圧弁17の二次側圧力は、一
般的に100Torr〜1MPaの範囲で設定可能であ
るが、0.1MPa以下に減圧する場合は、圧力制御精
度を向上させるために減圧弁を直列に2段設置すること
が好ましく、減圧機能が2段となっている1台の減圧弁
を使用することもできる。
圧弁が一般的であるが、デッドスペースが少なく、パー
ティクルの発生が少ないダイヤフラム式減圧弁を使用す
ることが好ましい。この減圧弁17の二次側圧力は、一
般的に100Torr〜1MPaの範囲で設定可能であ
るが、0.1MPa以下に減圧する場合は、圧力制御精
度を向上させるために減圧弁を直列に2段設置すること
が好ましく、減圧機能が2段となっている1台の減圧弁
を使用することもできる。
【0028】前記安全弁22には、破裂板式、スプリン
グ式又は可溶栓式を採用でき、複数の方式を併用するこ
ともできる。圧力センサー23は、充填ガス圧に合わせ
たレンジのものを選択すればよく、ブルドン管式や歪み
ゲージ式、半導体センサー式を採用でき、特に、半導体
センサー式でタイヤフラムタイプの圧力センサーが望ま
しい。
グ式又は可溶栓式を採用でき、複数の方式を併用するこ
ともできる。圧力センサー23は、充填ガス圧に合わせ
たレンジのものを選択すればよく、ブルドン管式や歪み
ゲージ式、半導体センサー式を採用でき、特に、半導体
センサー式でタイヤフラムタイプの圧力センサーが望ま
しい。
【0029】フィルター24,25は、ポリテトラフル
オロエチレン製、セラミック製、ステンレス製等のフィ
ルターメディア(ろ材)が使用できるが、高純度ガスの
場合は、水分の放出が少ないステンレス製フィルターメ
ディアが好ましい。このフィルターにおけるパーティク
ルの除去性能は、0.01〜20μm以上までのものを
使用することが可能であるが、減圧弁17のパーティク
ルによるシートリークを防ぐためのフィルター24は5
μm程度で十分であり、一方、減圧弁17の後段に設け
るフィルター25は、パーティクルを十分に低減した高
純度ガスを供給するために、0.01〜1μmのものを
使用することが好ましい。
オロエチレン製、セラミック製、ステンレス製等のフィ
ルターメディア(ろ材)が使用できるが、高純度ガスの
場合は、水分の放出が少ないステンレス製フィルターメ
ディアが好ましい。このフィルターにおけるパーティク
ルの除去性能は、0.01〜20μm以上までのものを
使用することが可能であるが、減圧弁17のパーティク
ルによるシートリークを防ぐためのフィルター24は5
μm程度で十分であり、一方、減圧弁17の後段に設け
るフィルター25は、パーティクルを十分に低減した高
純度ガスを供給するために、0.01〜1μmのものを
使用することが好ましい。
【0030】ガス精製器31は、ゼオライト、活性アル
ミナ、金属触媒、金属酸化物触媒等の精製剤でガス中の
不純物を除去するものであって、ガス容器内のガスの純
度や用途によってこれらを適宜選択して使用すればよ
く、水分等の除去にはゼオライト系の精製剤が好適であ
る。
ミナ、金属触媒、金属酸化物触媒等の精製剤でガス中の
不純物を除去するものであって、ガス容器内のガスの純
度や用途によってこれらを適宜選択して使用すればよ
く、水分等の除去にはゼオライト系の精製剤が好適であ
る。
【0031】各構成部材の全ての接ガス面は、機械研
磨、砥粒研磨、電解研磨、複合電解研磨、化学研磨、複
合化学研磨等を施しておくことが好ましく、ニッケルを
電解又は無電界でメッキしてもよく、さらに、フッ化に
よってニッケルフッ化物を表面に形成してよい。弁ブロ
ック(ボディー)がステンレス鋼製の場合は、研磨後、
熱処理によって鉄やクロム、アルミニウムの酸化膜で不
動態膜を形成することもできる。これらの内表面粗度
は、高純度ガスの場合はRmaxで1μm以下が好適で
あり、特に0.3μm以下が最適である。
磨、砥粒研磨、電解研磨、複合電解研磨、化学研磨、複
合化学研磨等を施しておくことが好ましく、ニッケルを
電解又は無電界でメッキしてもよく、さらに、フッ化に
よってニッケルフッ化物を表面に形成してよい。弁ブロ
ック(ボディー)がステンレス鋼製の場合は、研磨後、
熱処理によって鉄やクロム、アルミニウムの酸化膜で不
動態膜を形成することもできる。これらの内表面粗度
は、高純度ガスの場合はRmaxで1μm以下が好適で
あり、特に0.3μm以下が最適である。
【0032】このように形成した減圧機能付容器弁にお
いて、ガス容器10内へのガスの充填操作を第2形態例
に示した減圧機能付き容器弁21を例に挙げて説明す
る、まず最初に、ガス容器10内の真空引きが行われ
る。この真空引きは、充填ガス入口14bと導出ガス出
口16bとをそれぞれ真空ラインに接続し、充填弁13
及び導出弁15を開いた状態でガス容器内の真空引きを
行い、ガス容器内のガス、大気成分を1Torr以下、
半導体材料ガスの場合は0.01Torr以下まで排出
除去する。このとき、ガス容器10は、室温としておい
てもよいが、250℃以下の温度範囲に加熱した状態に
しておくことが好ましい。この真空引きに要する時間
は、ガス容器の容積によって異なるが、30分〜20時
間程度の真空引きを行った後、導出弁15を閉じて充填
ガス入口14bから充填弁13、ガス充填流路14、充
填ガス出口14aを通してガス容器10内にガスを所定
圧力まで充填する。この充填操作は、液化ガスを充填す
るときも同様にして行うことができる。ガス充填が終了
したガス容器10は、漏洩の有無が確認された後、ガス
消費場所に移動させて導出ガス出口16bがガス消費設
備のガス供給ラインに接続される。
いて、ガス容器10内へのガスの充填操作を第2形態例
に示した減圧機能付き容器弁21を例に挙げて説明す
る、まず最初に、ガス容器10内の真空引きが行われ
る。この真空引きは、充填ガス入口14bと導出ガス出
口16bとをそれぞれ真空ラインに接続し、充填弁13
及び導出弁15を開いた状態でガス容器内の真空引きを
行い、ガス容器内のガス、大気成分を1Torr以下、
半導体材料ガスの場合は0.01Torr以下まで排出
除去する。このとき、ガス容器10は、室温としておい
てもよいが、250℃以下の温度範囲に加熱した状態に
しておくことが好ましい。この真空引きに要する時間
は、ガス容器の容積によって異なるが、30分〜20時
間程度の真空引きを行った後、導出弁15を閉じて充填
ガス入口14bから充填弁13、ガス充填流路14、充
填ガス出口14aを通してガス容器10内にガスを所定
圧力まで充填する。この充填操作は、液化ガスを充填す
るときも同様にして行うことができる。ガス充填が終了
したガス容器10は、漏洩の有無が確認された後、ガス
消費場所に移動させて導出ガス出口16bがガス消費設
備のガス供給ラインに接続される。
【0033】ガス容器10内のガスを消費設備に供給す
る際には、まず、導出ガス出口16bをガス供給ライン
に接続した後、ガス供給ラインに使用圧力以上のパージ
ガスを供給してガス漏洩の有無を確認する。このとき、
真空引き、あるいは、真空引きとパージガスの加圧供給
との繰り返し、あるいは、パージガスの加圧供給と放出
との繰返しを行うことにより、ライン接続時に混入した
大気成分を完全に除去する。また、半導体材料ガスのよ
うに高純度ガスが要求される場合は、第6形態例に示し
たように形成しておくことにより、導出弁15の口金部
15aに窒素、アルゴン、ヘリウム、水素等のパージガ
スを供給し、パージガス入口孔41から口金部15aを
経て導出ガス出口16bに流すことにより、導出弁15
のデッドスペースに残留する大気成分も完全に除去する
ことができる。
る際には、まず、導出ガス出口16bをガス供給ライン
に接続した後、ガス供給ラインに使用圧力以上のパージ
ガスを供給してガス漏洩の有無を確認する。このとき、
真空引き、あるいは、真空引きとパージガスの加圧供給
との繰り返し、あるいは、パージガスの加圧供給と放出
との繰返しを行うことにより、ライン接続時に混入した
大気成分を完全に除去する。また、半導体材料ガスのよ
うに高純度ガスが要求される場合は、第6形態例に示し
たように形成しておくことにより、導出弁15の口金部
15aに窒素、アルゴン、ヘリウム、水素等のパージガ
スを供給し、パージガス入口孔41から口金部15aを
経て導出ガス出口16bに流すことにより、導出弁15
のデッドスペースに残留する大気成分も完全に除去する
ことができる。
【0034】さらに、半導体材料ガスの場合は、大気成
分除去後に、ガス供給ラインの真空引きとガス容器内の
半導体材料ガスの加圧供給とを繰返し、パージガスを排
除してガス供給ライン内のガスをガス容器内のガスに置
換する操作を行う。その後、導出弁15を開放すること
により、ガス容器内のガスを消費設備へ所定圧力に減圧
した状態で連続的に供給することが可能となる。
分除去後に、ガス供給ラインの真空引きとガス容器内の
半導体材料ガスの加圧供給とを繰返し、パージガスを排
除してガス供給ライン内のガスをガス容器内のガスに置
換する操作を行う。その後、導出弁15を開放すること
により、ガス容器内のガスを消費設備へ所定圧力に減圧
した状態で連続的に供給することが可能となる。
【0035】圧力センサー23の指示値が低くなった場
合は、導出弁15を閉じた後、充填ガス入口14bにガ
ス充填源を接続して充填弁13を開くことにより、消費
場所でもガスを容器内に充填することができる。消費場
所でガスを充填しない場合は、導出ガス出口16bの真
空引きとパージガスの加圧供給とを繰り返して導出ガス
出口16bをパージガスに置換した後、ガス供給ライン
を切離してガス容器をガス充填工場に移動し、ここで新
たなガスをガス容器内に充填する。
合は、導出弁15を閉じた後、充填ガス入口14bにガ
ス充填源を接続して充填弁13を開くことにより、消費
場所でもガスを容器内に充填することができる。消費場
所でガスを充填しない場合は、導出ガス出口16bの真
空引きとパージガスの加圧供給とを繰り返して導出ガス
出口16bをパージガスに置換した後、ガス供給ライン
を切離してガス容器をガス充填工場に移動し、ここで新
たなガスをガス容器内に充填する。
【0036】図7乃至図9は、前記第6形態例で示した
減圧機能付き容器弁の具体的構造例を示すものであっ
て、図7は縦断面図、図8は横断面図、図9は導出弁部
分の要部断面図である。
減圧機能付き容器弁の具体的構造例を示すものであっ
て、図7は縦断面図、図8は横断面図、図9は導出弁部
分の要部断面図である。
【0037】この減圧機能付き容器弁は、充填弁13、
ガス充填流路14、導出弁15、ガス導出用流路16、
安全弁22、圧力センサー23、パージガス入口孔4
1、供給ガス出口孔42を設けた弁ボディ51に、減圧
弁17とフィルター24とを溶接により接続して一体化
したものである。これらの接ガス面は、電解複合研磨や
化学研磨等により、例えば、Rmaxで1μmまで研磨
されている。
ガス充填流路14、導出弁15、ガス導出用流路16、
安全弁22、圧力センサー23、パージガス入口孔4
1、供給ガス出口孔42を設けた弁ボディ51に、減圧
弁17とフィルター24とを溶接により接続して一体化
したものである。これらの接ガス面は、電解複合研磨や
化学研磨等により、例えば、Rmaxで1μmまで研磨
されている。
【0038】ガス容器10は、例えばCrMo鋼製容器
であり、容器内面はRmaxで1μmまで化学研磨され
ている。弁ボディ51はSUS316L製であり、容器
弁装着部10bの雌ねじに螺着するための雄ねじ(JI
S−B8244ネジ)52が設けられている。充填弁1
3は、SUS316L製のダイヤフラム式マニュアル弁
であり、ハンドル13aは、脱着可能に形成してガス充
填工場から出荷する時に取り外せるようにしている。ガ
ス充填流路14は、充填弁13のダイヤフラムが接する
ケレップシートの外周部分に充填ガス入口14b側が、
シート中央部に充填ガス出口14a側が、それぞれ位置
するように形成されている。
であり、容器内面はRmaxで1μmまで化学研磨され
ている。弁ボディ51はSUS316L製であり、容器
弁装着部10bの雌ねじに螺着するための雄ねじ(JI
S−B8244ネジ)52が設けられている。充填弁1
3は、SUS316L製のダイヤフラム式マニュアル弁
であり、ハンドル13aは、脱着可能に形成してガス充
填工場から出荷する時に取り外せるようにしている。ガ
ス充填流路14は、充填弁13のダイヤフラムが接する
ケレップシートの外周部分に充填ガス入口14b側が、
シート中央部に充填ガス出口14a側が、それぞれ位置
するように形成されている。
【0039】導出弁15は、SUS316L製のダイヤ
フラム式エアー駆動弁であり、緊急遮断弁の機能を併せ
持たせている。また、導出弁15には、パージガス導入
経路に接続するパージガス入口孔41と、導出ガス出口
16bに接続する供給ガス出口孔42とが、ダイヤフラ
ムが接するケレップシート53の外周部分で、ケレップ
シート53を挟んで対向する位置に開口しており、ケレ
ップシート53の中央部には導出ガス入口16a側のガ
ス導出用流路16が開口している。なお、ケレップシー
ト53にはPCTFE製のものを使用している。
フラム式エアー駆動弁であり、緊急遮断弁の機能を併せ
持たせている。また、導出弁15には、パージガス導入
経路に接続するパージガス入口孔41と、導出ガス出口
16bに接続する供給ガス出口孔42とが、ダイヤフラ
ムが接するケレップシート53の外周部分で、ケレップ
シート53を挟んで対向する位置に開口しており、ケレ
ップシート53の中央部には導出ガス入口16a側のガ
ス導出用流路16が開口している。なお、ケレップシー
ト53にはPCTFE製のものを使用している。
【0040】減圧弁17は、ダイヤフラムタイプのSU
S316L製のものであり、二次側圧力は、例えば0.
15MPaにあらかじめ設定している。また、フィルタ
ー24は、SUS316L製の金属フィルターであっ
て、パーティクル除去性能は、5μm以上のものとし
た。
S316L製のものであり、二次側圧力は、例えば0.
15MPaにあらかじめ設定している。また、フィルタ
ー24は、SUS316L製の金属フィルターであっ
て、パーティクル除去性能は、5μm以上のものとし
た。
【0041】安全弁22は、可溶栓と破裂板とを併用し
ており、例えば155℃以上の温度又は25MPa以上
の圧力になったときに作動するように設定している。こ
の安全弁22は、ガス充填流路14から側方に分岐する
ように設けられた流路22aに接続するようにして弁ボ
ディ51に取り付けられている。圧力センサー23は、
半導体センサー式ダイヤフラムタイプのものを使用し、
VCR継手により弁ボディ51に接続している。圧力セ
ンサー23の圧力測定範囲は0〜30MPaとしてい
る。この圧力センサー23は、ガス充填流路14から側
方に分岐するように設けられた流路23aに接続するよ
うにして弁ボディ51に取り付けられている。
ており、例えば155℃以上の温度又は25MPa以上
の圧力になったときに作動するように設定している。こ
の安全弁22は、ガス充填流路14から側方に分岐する
ように設けられた流路22aに接続するようにして弁ボ
ディ51に取り付けられている。圧力センサー23は、
半導体センサー式ダイヤフラムタイプのものを使用し、
VCR継手により弁ボディ51に接続している。圧力セ
ンサー23の圧力測定範囲は0〜30MPaとしてい
る。この圧力センサー23は、ガス充填流路14から側
方に分岐するように設けられた流路23aに接続するよ
うにして弁ボディ51に取り付けられている。
【0042】なお、接ガス面の状態、減圧弁17の二次
側圧力、安全弁22における可溶栓の設定温度及び破裂
板の設定圧力、圧力センサー23の圧力測定範囲、フィ
ルター24のパーティクル除去性能は、ガス容器10内
に充填するガスの種類や使用用途、ガス供給時の環境に
応じて適当に設定されるものであり、例えば、半導体産
業向け高純度ガスの場合は、接ガス面をRmaxで0.
1μmまで研磨することがあり、フィルター24にも、
よりパーティクル除去性能が優れたものを使用すること
がある。
側圧力、安全弁22における可溶栓の設定温度及び破裂
板の設定圧力、圧力センサー23の圧力測定範囲、フィ
ルター24のパーティクル除去性能は、ガス容器10内
に充填するガスの種類や使用用途、ガス供給時の環境に
応じて適当に設定されるものであり、例えば、半導体産
業向け高純度ガスの場合は、接ガス面をRmaxで0.
1μmまで研磨することがあり、フィルター24にも、
よりパーティクル除去性能が優れたものを使用すること
がある。
【0043】図10及び図11は、減圧弁17を外部か
ら操作できるようにした具体的構造例を示すものであっ
て、図10は断面正面図、図11は断面側面図である。
なお、本例では、減圧弁17の取付位置以外は、前記図
7乃至図9に示した減圧機能付き容器弁と系統的に同じ
構造としている。
ら操作できるようにした具体的構造例を示すものであっ
て、図10は断面正面図、図11は断面側面図である。
なお、本例では、減圧弁17の取付位置以外は、前記図
7乃至図9に示した減圧機能付き容器弁と系統的に同じ
構造としている。
【0044】すなわち、弁ボディ51の先端にはフィル
ター24のみを溶接により接続して一体化するととも
に、ガス導出用流路16の中間部分を切り離して弁ボデ
ィ51の容器外部側にそれぞれ屈曲させ、この屈曲した
流路17a、17bに減圧弁17の一次側及び二次側を
それぞれ接続したものである。このようにして減圧弁1
7を容器外部に設置することにより、ガス供給時に必要
に応じて減圧弁二次側の圧力を調節することが可能とな
る。
ター24のみを溶接により接続して一体化するととも
に、ガス導出用流路16の中間部分を切り離して弁ボデ
ィ51の容器外部側にそれぞれ屈曲させ、この屈曲した
流路17a、17bに減圧弁17の一次側及び二次側を
それぞれ接続したものである。このようにして減圧弁1
7を容器外部に設置することにより、ガス供給時に必要
に応じて減圧弁二次側の圧力を調節することが可能とな
る。
【0045】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の減圧機能
付き容器弁によれば、可燃性、自燃性、毒性、腐食性、
支燃性を有する各種ガスをより安全に供給することが可
能となり、さらに、フィルターやガス精製器を組み込む
ことによって高品位の高純度ガスを供給することができ
る。また、減圧弁等を一体的に組み付けることによって
容器弁の小型化が図れ、一部の部品をガス容器内に挿入
した状態にすることによって、容器外の部分をより小型
化することができる。
付き容器弁によれば、可燃性、自燃性、毒性、腐食性、
支燃性を有する各種ガスをより安全に供給することが可
能となり、さらに、フィルターやガス精製器を組み込む
ことによって高品位の高純度ガスを供給することができ
る。また、減圧弁等を一体的に組み付けることによって
容器弁の小型化が図れ、一部の部品をガス容器内に挿入
した状態にすることによって、容器外の部分をより小型
化することができる。
【図1】 本発明の減圧機能付き容器弁の第1形態例を
示す系統図である。
示す系統図である。
【図2】 本発明の減圧機能付き容器弁の第2形態例を
示す系統図である。
示す系統図である。
【図3】 本発明の減圧機能付き容器弁の第3形態例を
示す系統図である。
示す系統図である。
【図4】 本発明の減圧機能付き容器弁の第4形態例を
示す系統図である。
示す系統図である。
【図5】 本発明の減圧機能付き容器弁の第5形態例を
示す系統図である。
示す系統図である。
【図6】 本発明の減圧機能付き容器弁の第6形態例を
示す系統図である。
示す系統図である。
【図7】 第6形態例で示した減圧機能付き容器弁の具
体的構造例を示す縦断面図である。
体的構造例を示す縦断面図である。
【図8】 同じく横断面図である。
【図9】 同じく導出弁部分の要部断面図である。
【図10】 減圧弁を外部から操作できるようにした具
体的構造例を示す断面正面図である。
体的構造例を示す断面正面図である。
【図11】 同じく断面側面図である。
10…ガス容器、11…減圧機能付き容器弁、12…弁
ブロック、13…充填弁、14…ガス充填流路、15…
導出弁、16…ガス導出用流路、17…減圧弁、22…
安全弁、23…圧力センサー、24,25…フィルタ
ー、31…ガス精製器、32…逆止弁、41…パージガ
ス入口孔、42…供給ガス出口孔、43…パージガス導
入経路、51…弁ボディ、52…雄ねじ、53…ケレッ
プシート
ブロック、13…充填弁、14…ガス充填流路、15…
導出弁、16…ガス導出用流路、17…減圧弁、22…
安全弁、23…圧力センサー、24,25…フィルタ
ー、31…ガス精製器、32…逆止弁、41…パージガ
ス入口孔、42…供給ガス出口孔、43…パージガス導
入経路、51…弁ボディ、52…雄ねじ、53…ケレッ
プシート
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 羽坂 智
東京都港区西新橋1−16−7 日本酸素株
式会社内
(72)発明者 堀内 豊
埼玉県入間郡三芳町大字竹間沢11番地 株
式会社田中製作所内
(72)発明者 小泉 正男
東京都府中市西原町1−3 株式会社ハマ
イ内
Fターム(参考) 3E072 AA01 DA05 DB03 GA30
Claims (5)
- 【請求項1】 ガス容器に付属する容器弁であって、ガ
ス容器に装着される弁ブロック内に、充填弁を備えたガ
ス充填流路と、導出弁を備えたガス導出用流路とを設け
るとともに、該ガス導出用流路における前記導出弁の一
次側に減圧弁を設けたことを特徴とする減圧機能付き容
器弁。 - 【請求項2】 前記ガス充填流路における充填弁の二次
側に接続して、安全弁及び圧力センサーの少なくともい
ずれか一方が設けられていることを特徴とする請求項1
記載の減圧機能付き容器弁。 - 【請求項3】 前記ガス導出用流路における減圧弁の一
次側及び二次側の少なくともいずれか一方にフィルター
が設けられていることを特徴とする請求項1記載の減圧
機能付き容器弁。 - 【請求項4】 前記ガス導出用流路における減圧弁の一
次側にガス精製器が設けられていることを特徴とする請
求項1記載の減圧機能付き容器弁。 - 【請求項5】 前記ガス精製器の一次側に逆止弁が設け
られていることを特徴とする請求項4記載の減圧機能付
き容器弁。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001367045A JP2003166700A (ja) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | 減圧機能付き容器弁 |
KR1020020061007A KR20030044778A (ko) | 2001-11-30 | 2002-10-07 | 감압 기능 부착 용기 밸브 |
TW091132994A TWI237678B (en) | 2001-11-30 | 2002-11-11 | Container valve |
CN02149142A CN1421637A (zh) | 2001-11-30 | 2002-11-21 | 具减压功能的容器阀 |
US10/304,812 US6910602B2 (en) | 2001-11-30 | 2002-11-26 | Container valve |
EP02026266A EP1316755A1 (en) | 2001-11-30 | 2002-11-26 | Container valve |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001367045A JP2003166700A (ja) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | 減圧機能付き容器弁 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003166700A true JP2003166700A (ja) | 2003-06-13 |
Family
ID=19176853
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001367045A Pending JP2003166700A (ja) | 2001-11-30 | 2001-11-30 | 減圧機能付き容器弁 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6910602B2 (ja) |
EP (1) | EP1316755A1 (ja) |
JP (1) | JP2003166700A (ja) |
KR (1) | KR20030044778A (ja) |
CN (1) | CN1421637A (ja) |
TW (1) | TWI237678B (ja) |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004245414A (ja) * | 2003-02-10 | 2004-09-02 | Tescom Corp | ガス制御組立体 |
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