JP7082924B2 - フッ素化合物除去装置、酸素除去装置 - Google Patents
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(i)不純物除去装置を保管または輸送する際に、不純物除去装置内の不純物処理剤(薬剤)が大気に暴露されると、不純物処理剤が大気を吸着する。この不純物除去装置がエキシマレーザー発振装置に接続され、運転されるとき、不純物除去装置内に残留する大気が不純物として希ガスに混入されてしまう。
(ii)不純物処理剤自体が不純物除去装置から流出する。
(iii)フッ素化合物除去装置は、エキシマレーザー発振装置の外部に設置される。しかしながら、有害ガスであるフッ素ガスやフッ素化合物ガスをエキシマレーザー発振装置からフッ素化合物除去装置に移送する間に、極めて反応性が高い有毒ガスが漏洩するおそれがある。
(iv)酸素除去装置を設置する際に、大気が酸素除去装置に侵入する。
(v)フッ素化合物除去装置のアルカリ剤と合成ゼオライトが混合して処理性能が低下する。
一態様では、前記槽側フランジ、前記蓋側フランジ、および前記フランジクランプの直径は、前記フッ素化合物反応槽の直径と同じか、または前記フッ素化合物反応槽の直径よりも小さい。
一態様では、前記フランジクランプは、一部が切り欠いた環状のクランプリングと、前記クランプリングの一端に連結されたボルトと、前記クランプリングの他端に接触し、かつ前記ボルトに螺合された二重ナットを備えている。
一態様では、前記二重ナットは、前記クランプリングの他端に接触するくさび形状の接触面を有する第1ナットと、前記第1ナットに接触する第2ナットを備えている。
一態様では、前記不純物除去装置は、希ガスに混入した酸素を除去する酸素除去装置であり、前記不純物処理剤は予め還元処理された還元銅であり、前記酸素除去装置内に前記還元銅を充填する工程は、銅の酸化物を前記酸素除去装置内に充填した後、前記銅の酸化物を加熱しながら還元ガスによって銅に還元する工程を含む。
一態様では、前記不純物除去装置は、希ガスに混入した酸素を除去する酸素除去装置であり、前記不純物処理剤は予め還元処理された還元ニッケルであり、前記酸素除去装置内に前記還元ニッケルを充填する工程は、ニッケルの酸化物を前記酸素除去装置内に充填した後、前記ニッケルの酸化物を加熱しながら還元ガスによってニッケルに還元する工程を含む。
一態様では、前記不純物除去装置から前記パージガスを排出する工程は、前記不純物除去装置内の圧力を100Pa以下にする工程である。
最初に不純物除去装置内に不純物処理剤を充填する(ステップ1)。フッ素化合物除去装置20においては、不純物処理剤としてのアルカリ剤122がフッ素化合物反応槽125内の上流側に配置され、不純物処理剤としての合成ゼオライト123がフッ素化合物反応槽125内の下流側に配置される。本実施形態では、合成ゼオライト123とアルカリ剤122との体積比は1:2である。
5 レーザーチャンバ
6 希ガス排出管
8 フッ素供給ボンベ
15 希ガス回収装置
20 フッ素化合物除去装置
23 酸素除去装置
50 流入側開閉弁
51 流出側開閉弁
60 リリーフ弁
81 ベント配管
83 第1循環配管
85 第2循環配管
95 フッ素供給配管
121 フッ素化合物処理剤
122 アルカリ剤
123 合成ゼオライト
125 フッ素化合物反応槽
127 槽側フランジ
129 シール部材
130 蓋
131 流入管
132 排出管
137 蓋側フランジ
140 入口バルブ
141 出口バルブ
148 流入口
149 排出口
151 入口多孔板
152 上流側第1多孔板
153 中間多孔板
155 下流側第1多孔板
156 出口多孔板
161 上流側第2多孔板
162 下流側第2多孔板
170 フランジクランプ
171 クランプリング
173 ボルト
175 第2ナット
177 第1ナット
181 酸素処理剤
185 酸素反応槽
187 フランジ
190 蓋
191 流入管
192 排出管
193 ボルト
195 ナット
197 シール部材
200 入口バルブ
201 出口バルブ
248 流入口
249 排出口
251 入口多孔板
252 上流側第1多孔板
255 下流側第1多孔板
256 出口多孔板
261 上流側第2多孔板
262 下流側第2多孔板
272 真空ポンプ
273 真空弁
285 真空配管
290 圧力計
292 真空計
295 真空計バルブ
301 パージガス供給源
302 パージガス導入弁
305 パージガス導入配管
401 希ガス供給源
402 希ガス導入弁
405 希ガス導入配管
Claims (6)
- エキシマレーザー発振装置で使用された希ガスに混入したフッ素およびフッ素化合物を除去するフッ素化合物除去装置であって、
前記フッ素および前記フッ素化合物を除去するためのフッ素化合物処理剤と、
前記フッ素化合物処理剤を保持するフッ素化合物反応槽と、
前記フッ素化合物処理剤を挟むように配置された上流側第1多孔板および下流側第1多孔板と、
前記上流側第1多孔板および前記下流側第1多孔板を挟むように配置された上流側第2多孔板および下流側第2多孔板と、
前記フッ素化合物反応槽の内部に連通する流入管および排出管と、
前記流入管および前記排出管にそれぞれ取り付けられた入口バルブおよび出口バルブと、
入口多孔板、出口多孔板、中間多孔板を備え、
前記フッ素化合物処理剤は、アルカリ剤と合成ゼオライトの組み合せであり、前記アルカリ剤は、前記希ガスの流れ方向に関して前記合成ゼオライトの上流側に配置され、
前記流入管の出口端部は、前記入口多孔板で覆われており、
前記排出管の入口端部は、前記出口多孔板で覆われており、
前記中間多孔板は前記アルカリ剤と前記合成ゼオライトを仕切るように配置されており、
前記上流側第1多孔板、前記下流側第1多孔板、前記入口多孔板、前記出口多孔板、および前記中間多孔板の目開きは、前記上流側第2多孔板および前記下流側第2多孔板の目開きよりも細かい、フッ素化合物除去装置。 - 前記フッ素化合物除去装置は、前記フッ素化合物反応槽の開口部を閉じる蓋と、前記蓋を前記フッ素化合物反応槽の開口部に固定する環状のフランジクランプをさらに備えており、
前記フッ素化合物反応槽は、前記開口部に、外側に突出した環状の槽側フランジを有し、
前記蓋は、その縁部に、外側に突出した環状の蓋側フランジを有し、
前記槽側フランジおよび前記蓋側フランジは、前記フランジクランプによって互いに締め付けられている、請求項1に記載のフッ素化合物除去装置。 - 前記槽側フランジ、前記蓋側フランジ、および前記フランジクランプの直径は、前記フッ素化合物反応槽の直径と同じか、または前記フッ素化合物反応槽の直径よりも小さい、請求項2に記載のフッ素化合物除去装置。
- 前記フランジクランプは、
一部が切り欠いた環状のクランプリングと、
前記クランプリングの一端に連結されたボルトと、
前記クランプリングの他端に接触し、かつ前記ボルトに螺合された二重ナットを備えている、請求項2または3に記載のフッ素化合物除去装置。 - 前記二重ナットは、前記クランプリングの他端に接触するくさび形状の接触面を有する第1ナットと、前記第1ナットに接触する第2ナットを備えている、請求項4に記載のフッ素化合物除去装置。
- エキシマレーザー発振装置で使用された希ガスに混入した酸素を除去する酸素除去装置であって、
前記酸素を除去するための酸素処理剤と、
前記酸素処理剤を保持する酸素反応槽と、
前記酸素処理剤を挟むように配置された上流側第1多孔板および下流側第1多孔板と、
前記上流側第1多孔板および前記下流側第1多孔板を挟むように配置された上流側第2多孔板および下流側第2多孔板と、
前記酸素反応槽の内部に連通する流入管および排出管と、
前記流入管および前記排出管にそれぞれ取り付けられた入口バルブおよび出口バルブと、
入口多孔板、出口多孔板を備え、
前記流入管の出口端部は、前記入口多孔板で覆われており、
前記排出管の入口端部は、前記出口多孔板で覆われており、
前記上流側第1多孔板、前記下流側第1多孔板、前記入口多孔板、および前記出口多孔板の目開きは、前記上流側第2多孔板および前記下流側第2多孔板の目開きよりも細かい、酸素除去装置。
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Citations (3)
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---|---|---|---|---|
JP2010092920A (ja) | 2008-10-03 | 2010-04-22 | Ebara Corp | 不純物を除去する不純物除去装置およびその運転方法 |
JP3166600U (ja) | 2010-12-28 | 2011-03-10 | 栄光通商株式会社 | 脱臭装置 |
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Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5128492Y2 (ja) * | 1972-09-08 | 1976-07-19 | ||
JPS5610318A (en) * | 1979-07-06 | 1981-02-02 | Nippon Soken Inc | Canister |
GB2128098A (en) * | 1982-10-01 | 1984-04-26 | Sick Kg Otto | Multilayer filter bed regeneration |
JPS6220159U (ja) * | 1985-07-22 | 1987-02-06 | ||
JPS63246462A (ja) * | 1987-04-01 | 1988-10-13 | Aisan Ind Co Ltd | 蒸発燃料排出防止用キヤニスタ |
JP3434315B2 (ja) * | 1993-03-24 | 2003-08-04 | 株式会社小松製作所 | フッ素系エキシマレーザ装置における不純物除去装置の再生方法 |
JP4276354B2 (ja) * | 2000-02-28 | 2009-06-10 | 日本エア・リキード株式会社 | ネオン回収方法及び装置 |
JP2010076972A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 不純希ガスの処理方法 |
US8795411B2 (en) * | 2011-02-07 | 2014-08-05 | Air Products And Chemicals, Inc. | Method for recovering high-value components from waste gas streams |
-
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010092920A (ja) | 2008-10-03 | 2010-04-22 | Ebara Corp | 不純物を除去する不純物除去装置およびその運転方法 |
JP3166600U (ja) | 2010-12-28 | 2011-03-10 | 栄光通商株式会社 | 脱臭装置 |
WO2017081819A1 (ja) | 2015-11-13 | 2017-05-18 | ギガフォトン株式会社 | レーザガス精製システム及びレーザシステム |
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