JP2003163135A - 積層チップ部品 - Google Patents

積層チップ部品

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JP2003163135A
JP2003163135A JP2001362581A JP2001362581A JP2003163135A JP 2003163135 A JP2003163135 A JP 2003163135A JP 2001362581 A JP2001362581 A JP 2001362581A JP 2001362581 A JP2001362581 A JP 2001362581A JP 2003163135 A JP2003163135 A JP 2003163135A
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plating
alloy
laminated chip
layer
wettability
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JP2001362581A
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Inventor
Hiroshi Ishikawa
洋 石川
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Tokin Corp
Original Assignee
NEC Tokin Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 良好なぬれ性を確保し、ウイスカの成長を抑
制しつつ、かつ接続信頼性も確保された端子めっきを有
し、接続信頼性の高い積層チップ部品を提供すること。 【解決手段】 ソルダリング実装のための外部電極端子
を有する積層チップ部品において、前記外部電極端子は
その最外表面がSn−In合金めっきであり、かつその
下地がSn系合金めっきである2層めっきを有する積層
チップ部品とする。また、前記Sn−n合金は共晶合金
とすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、主としてソルダリ
ング実装のための表面実装型部品に係り、特にソルダリ
ング実装に適した外部電極端子を備えた積層チップ部品
に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、プリント配線板での実装の高集積
化は、一平面状での高密度化(部品の小型化、狭ピッチ
化など)と三次元チップ、多層基板の採用などによる三
次元化による方法が進められている。
【0003】表面実装方法には、現在3種類(リード挿
入方式、表面実装方式、ベアチップ実装方式)存在し、
その中でも現在の主流は部品の小型化による高密度化を
実装する方式である表面実装方式である。
【0004】さて、一方、最近これら表面実装型部品を
実装するのに使用されるはんだのPbをなくする要求が
強まっている。つまり、はんだにPbを含有しない、い
わゆる鉛フリー化に向けて急速に進行しつつあり、その
要求は部品表面の外部電極に及んでいる。そして、その
外部電極はSnあるいはSn−Cu、Sn−Biなどの
Sn合金組成に決定しつつあり、その中でも表面実装部
品の鉛フリーめっきとしては下地がNiめっき、表面が
純Snめっきというのが一般的になりつつある。
【0005】しかしながら、2つの大きな問題が顕在化
している。ひとつは、ストレスマイグレーションである
ウイスカの成長による回路のショート不良への懸念であ
る。もうひとつは、Snがもともと酸化しやすい金属で
あるので、保存時の汚染・酸化によってぬれ性が著しく
劣化することである。
【0006】以上2つの問題点を同時に解決する手段は
純Snを合金化することである。また、Snとの合金化
の際の合金元素含有量が10%以上含まれることによっ
て、従来のSn−Pbと同等のウイスカ抑制の問題を全
て解決すると言われていた。そして、電子部品業界で
は、これまで鋭意研究し続け、一つの結論を導き出し
た。それがSn-(5%〜6%)Biめっきであった。
【0007】これは、ぬれ性がよく、ウイスカ抑制もあ
る程度(合金元素量も10%未満である)できることか
ら、一時脚光を浴びた。この合金はBi量が多い程ぬれ
性向上が顕著になる。しかし、そのぬれ性を向上させれ
ばさせるほど、はんだ付け境界部に脆い化合物層が発生
し、接続信頼性が著しく劣化することもわかってきた。
【0008】このような経過を辿って、ウイスカ抑制と
ぬれ性において大きな問題はあるもののSnめっきに落
ち着いてきているのが実状である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の技術
的課題は、以上のように表面実装部品の外表面の端子め
っきとしては、良好なぬれ性を確保し、ウイスカの成長
を抑制しつつ、かつ接続信頼性も確保された端子めっき
を有し、接続信頼性の高い積層チップ部品を提供するこ
とにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、最表面
をSn-In合金めっきとしたSn系合金の2層めっき
状態にすることによって接続信続性を確保しつつ、ウイ
スカの発生がなく、かつぬれ性(はんだ付け性)の優れ
た積層チップ部品が得られる。
【0011】詳しくは、本発明の積層チップ部品は、ソ
ルダリング実装のための外部電極端子を有する積層チッ
プ部品であって、前記外部電極端子はその最外表面がS
n-In合金めっきであり、かつ、その下地がSn系合
金めっきである2層めっきを有する積層チップ部品であ
る。
【0012】また、前記Sn-In合金は共晶合金とす
ることができる。
【0013】
【実施例】以下、本発明の実施例を具体的に説明する。
【0014】(実施例1)まず、絶縁性磁性粉末に対し
てバインダ樹脂(例えば、PVB樹脂)5wt%、有機
系溶剤(例えば、エチレングリコールエーテル系)60
wt%等を添加し、混合を行い、スラリー化する。この
スラリーをドクターブレード法を用いて膜厚200〜6
00μmの長尺な絶縁性磁性体のグリーンシートを作
り、所定の寸法に切断する。
【0015】以下、得られたグリーンシート上にAgぺ
ーストにてスクリーン印刷法により内部導体を所定のパ
ターンに印刷し、加熱により乾燥させ、前記絶縁性磁性
スラリーをスクリーン印刷法により磁性層を印刷し、加
熱により乾燥させる。
【0016】次に、前記内部導体の接続部分と接続する
ようにして、内部導体を所定のパターンに印刷し、加熱
により乾燥させる。同様にして、次々と積層印刷を所要
数、繰り返し、内部導体で螺旋状のコイルを形成し、ま
た形成されたコイルの両端は外部に露出するように形成
する。
【0017】このように積層印刷された積層体の上に上
部絶縁性磁性層としてのグリーンシートをホットプレス
により圧着し、未焼成積層体を形成する。これらの未焼
成のチップを大気雰囲気中で脱バインダーした後に、大
気中で一体焼成を行い、チップの面取りのため、バレル
研磨を行い、前記コイルの両端の外部に露出した内部導
体と接続するようにして、チップ側面にAgぺースト等
をディップにより塗布し、所定の温度と時間で乾燥させ
た後、約600℃の温度で大気雰囲気において焼き付け
し、外電極端子を形成する。
【0018】次に、電極端子に電解めっきによるニッケ
ルめっき層を施し、その後、一つは比較材として、電解
Snめっきを5μm施した3216サイズ(形状)の積
層チップインダクタを得、もう一方は直ちに乾燥、その
後、予め電解Snめっきを3.5μm処理したものに直
ちにSn-10wt%Inめっきを1.5μmだけ行った
3216サイズの積層チンプインダクタを得た。
【0019】このようにして得られた、3216サイズ
の積層チップインダクタについて、まず以下条件でウイ
スカ評価(N=10)を行った。
【0020】ウイスカ評価条件は、上記積層チップ部品
を恒温恒湿槽に50℃×85%RHの条件で5000H
r放置した。その結果、従来の電解Snめっき品はウイ
スカが150μm成長したが、Sn-Inの2層めっき
品については10μm程度のものしか観察されなかっ
た。
【0021】ぬれ性評価については、はんだぬれ性試験
機にて急加熱昇温法にて行った。試験条件は、はんだぺ
一ストとしては千住金属製Sn−3.0Ag−0.5Cu
組成のもので、温度240℃浸漬速度2mm/秒で10
秒間浸漬後、直ちに冷却した。その際のぬれ性(ゼロク
ロス時間)を比較評価した結果、本発明品のゼロクロス
時間が2.0秒、比較材のそれが3.1秒と本発明品がよ
り速くぬれることがわかった。
【0022】(実施例2)まず、実施例1と同じように
外電極端子を形成したものに、まず電極端子に電解めっ
きによるニッケルめっき層を施し、その後、2層めっき
を行った。条件は2層めっきトータルで10μmを固定
条件とし、外部端子の最外表面のSn−50wt%In
めっき(融点:127℃)を1,2,3,4,5μmだ
け行い、その下地をSnめっきした3216サイズの積
層チンプインダクタを得た。
【0023】このようにして得られた、3216サイズ
の積層チップインダクタについて、まず以下条件でウイ
スカ評価(N=10)を行った。
【0024】ウイスカ評価条件は、上記積層チップ部品
を恒温恒温槽に50℃×85%RHの条件で5000H
r 放置した。その結果、従来の電解Snめっき品はウイ
スカが150μm成長したが、Sn-Inの2層めっき
品については、いずれも10μm程度のものしか観察さ
れなかった。
【0025】次に、ぬれ性評価については、はんだぬれ
性試験機にて急加熱昇温法にて行った。試験条件は、は
んだぺ一ストとしては千住金属製Sn−3.0Ag−0.
5Cu組成のもので、温度240℃、浸漬速度2mm/
秒で10秒間浸漬後、直ちに冷却した。
【0026】その際のぬれ性(ゼロクロス時間)を評価
した結果、Sn−50wt%Inめっき厚を、0,0.
5,1.0,2.0,3.0,5.0μmとしたとき、Sn
-Inめっき厚の増加とともにゼロクロス時間が各々3.
1秒、2.0秒、1.9秒、2.0秒、1.8秒、1.7秒
となり、外表面を0.5μmでもSn−Inの2層構造
にすることによって速くぬれることがわかった。よっ
て、最外表面をSn−In共晶合金めっき層にすること
によって高い信頼性のはんだ付けが得られる。
【0027】
【発明の効果】上述したように、本発明によれば、ウイ
スカの成長のない、かつ、はんだぬれ性の良い高信頼性
の積層チップ部品を提供することができる。また、結果
として製品歩留まりが著しく上昇し、また簡単な工程で
あるので、低価格化を実現することができる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ソルダリング実装のための外部電極端子
    を有する積層チップ部品において、前記外部電極端子は
    その最外表面がSn−In合金めっきであり、かつその
    下地がSn系合金めっきである2層めっきを有すること
    を特徴とする積層チップ部品。
  2. 【請求項2】 前記Sn−In合金は共晶合金であるこ
    とを特徴とする請求項1に記載の積層チップ部品。
JP2001362581A 2001-11-28 2001-11-28 積層チップ部品 Pending JP2003163135A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005294618A (ja) * 2004-04-01 2005-10-20 Kyocera Corp 電子部品
JP2020158822A (ja) * 2019-03-26 2020-10-01 株式会社オートネットワーク技術研究所 金属材および接続端子

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