JP2003161578A - Substrate dryer and substrate drying method using the same - Google Patents

Substrate dryer and substrate drying method using the same

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JP2003161578A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an energy-efficient substrate dryer that dries a substrate efficiently by reducing air consumption, and also to provide a drying method using the device. <P>SOLUTION: A prismatic air knife nozzle 4 for blowing air over a surface 2a of a substrate 2 is arranged with a longitudinal direction slantingly crossing a substrate feed direction. The air knife nozzle 4 is divided into a first and a second air jet chamber 4c and 4d, and flow controllers 6a and 6b are disposed to control air quantities jetted by the first and second air jet chambers 4c and 4d. When the second air jet chamber 4d faces a trailing corner 2c of the substrate 2, the flow controllers 6a and 6b increase the air quantity for a blow jetted by the second air jet chamber 4d and stop an air jet by the first air jet chamber 4c. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄等のウエット
処理後の基板をエアナイフを用いて乾燥する基板乾燥装
置及びそれを用いた乾燥方法に係り、特に、エア消費量
を効果的に抑えて効率良く基板乾燥が可能となされた基
板乾燥装置及びそれを用いた乾燥方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate drying apparatus for drying a substrate after a wet treatment such as cleaning using an air knife and a drying method using the same, and particularly, to effectively suppress air consumption. The present invention relates to a substrate drying device capable of efficiently drying a substrate and a drying method using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、液晶デバイス等の製造ライン
では、フォトリソ工程等で、洗浄などのウェット処理が
複数回行われ、そのウエット処理を行う度に基板の水切
りや乾燥が繰り返し行われている。水切りや乾燥方法に
は様々な方法があるが、基板をライン上で搬送する間に
ウエット処理及び乾燥工程を連続的に行う方法として
は、次のようなエアナイフを用いた基板乾燥方法があ
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a manufacturing line for liquid crystal devices and the like, a wet process such as cleaning is performed a plurality of times in a photolithography process or the like, and water draining or drying of a substrate is repeated every time the wet process is performed. . There are various methods for draining and drying, and as a method for continuously performing the wet treatment and the drying step while the substrate is conveyed on the line, there is a substrate drying method using the following air knife.

【0003】図15に、従来の基板乾燥装置の平面図を
示す。また、図16に、図15中の線15−15に沿っ
て切断した断面図を示す。
FIG. 15 shows a plan view of a conventional substrate drying apparatus. 16 is a sectional view taken along line 15-15 in FIG.

【0004】従来のエアナイフを用いた基板乾燥方法で
は、図15及び図16に示すような基板乾燥装置50が
利用される。この基板乾燥装置50には、チャンバ50
a内に、基板51の両端側を支持しつつ搬送するための
搬送ローラ52が並設されており、これら搬送ローラ5
2がチャンバ50aの外部に設けたモータ53により駆
動されて、ウエット処理後の基板51をチャンバ50a
内へ搬送させる。
In a conventional substrate drying method using an air knife, a substrate drying device 50 as shown in FIGS. 15 and 16 is used. The substrate drying apparatus 50 includes a chamber 50
In the inside of a, the carrying rollers 52 for carrying while carrying both end sides of the substrate 51 are arranged in parallel.
2 is driven by a motor 53 provided outside the chamber 50a to move the substrate 51 after the wet processing to the chamber 50a.
Transport it inside.

【0005】また、基板乾燥装置50のチャンバ内50
aには、図16に示すように、基板表面51aから所定
高さ離間した状態で基板51の各表面51aにそれぞれ
対向配置されたエアナイフノズル54が設けられてい
る。このエアナイフノズル54は、角柱状をなし、図1
5に示すように、その長手方向(図中E方向)が、基板
51の搬送方向(図中x方向)に対し所定角y傾斜して
交差する斜め方向、即ち図中z方向に沿うように配され
ている。エアナイフノズル54には、その先端に長手方
向に沿ってスリット54aが形成され、このスリット5
4aが基板表面51aに対向している。
In addition, the chamber 50 of the substrate drying apparatus 50
As shown in FIG. 16, air knife nozzles 54 are provided on the surface a of the substrate 51 so as to face each surface 51a of the substrate 51 while being separated from the substrate surface 51a by a predetermined height. The air knife nozzle 54 has a prismatic shape, and
As shown in FIG. 5, the longitudinal direction (E direction in the drawing) is along an oblique direction intersecting the conveyance direction of the substrate 51 (x direction in the drawing) at a predetermined angle y, that is, the z direction in the drawing. It is distributed. The air knife nozzle 54 has a slit 54a formed at its tip along the longitudinal direction.
4a faces the substrate surface 51a.

【0006】このように構成された従来の基板乾燥装置
50では、エアナイフノズル54のスリット54aから
噴射されたエア56が、ウエット処理後の液体55が残
る基板表面51aに噴き付けられることにより、液体5
5が飛散して基板51の表面51aが乾燥される。
In the conventional substrate drying apparatus 50 having such a structure, the air 56 jetted from the slit 54a of the air knife nozzle 54 is jetted to the substrate surface 51a where the liquid 55 after the wet treatment remains, thereby the liquid 5
5 is scattered and the surface 51a of the substrate 51 is dried.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来の基板乾燥装置50では、図15に示すように、基板
51上の液体55の液切れをより良くするために、エア
ナイフノズル54が基板51の搬送方向xに対して斜め
方向zに配置される。すなわち、エアナイフノズル54
を斜め方向zに配置することにより、エアナイフノズル
54の両端部近傍に対面する液体55の移動距離が短く
なるので効果的に基板51の乾燥が行える。このとき、
基板表面51a上の液体55は、エアナイフノズル54
からのエア56により、基板51の搬送方向ではなく、
エアナイフノズル54を配した斜め方向zと直交する方
向に沿って移動し、最後は、基板51の表面外へ飛散さ
れなかった液体55が基板51の乾燥最後尾となる角部
51bに集中する。
By the way, in the conventional substrate drying apparatus 50 described above, as shown in FIG. 15, the air knife nozzle 54 is provided with the substrate 51 in order to make the liquid 55 on the substrate 51 run out better. Are arranged in a diagonal direction z with respect to the conveyance direction x. That is, the air knife nozzle 54
By arranging in the diagonal direction z, the moving distance of the liquid 55 facing the vicinity of both ends of the air knife nozzle 54 becomes short, so that the substrate 51 can be effectively dried. At this time,
The liquid 55 on the substrate surface 51a is transferred to the air knife nozzle 54
Because of the air 56 from the
The liquid 55 which moves along the direction orthogonal to the oblique direction z in which the air knife nozzle 54 is arranged and which is not scattered to the outside of the surface of the substrate 51 is finally concentrated on the corner portion 51b which is the last end of drying of the substrate 51.

【0008】そのため、実際にこの基板乾燥装置50を
使用する際には、角部51bに残った液体55を飛散さ
せて基板51を確実に乾燥すべく、角部51b上の液体
55と基板表面51a間に作用する力よりも大きなエア
噴射力を噴射する必要があるため、基板51の表面51
a内では流量割合A[l/min]、例えば200[l
/min](スリットサイズ538x0.1mmの場
合)のエアで乾燥可能であるにもかかわらず、この流量
割合A[l/min]よりも、はるかに多量な流量割合
B[l/min](A∠B)、例えば400[l/mi
n]のエアを、基板51の全表面51aに噴き付けてい
た。
Therefore, when the substrate drying apparatus 50 is actually used, the liquid 55 remaining on the corners 51b is scattered to surely dry the substrate 51, and the liquid 55 on the corners 51b and the substrate surface are surely dried. Since it is necessary to eject an air ejection force larger than the force acting between the 51a, the surface 51 of the substrate 51
In a, the flow rate A [l / min], for example, 200 [l
/ Min] (when the slit size is 538 x 0.1 mm), the flow rate B [l / min] (A ∠B), for example 400 [l / mi
n] of air was sprayed onto the entire surface 51a of the substrate 51.

【0009】このように、従来のエアナイフを用いた基
板乾燥装置50では、基板51の角部51bの液体55
残りを飛散させて基板51表面を完全に乾燥させるため
に、基板51の表面51a内を乾燥させるのに要するエ
ア量よりも、はるかに多量なエアを、基板51の全表面
51aに向けて噴き付けており、不要なエアを消費して
いた。
As described above, in the conventional substrate drying apparatus 50 using the air knife, the liquid 55 at the corner 51b of the substrate 51 is used.
To scatter the remainder and completely dry the surface of the substrate 51, a much larger amount of air is blown toward the entire surface 51a of the substrate 51 than the amount of air required to dry the inside of the surface 51a of the substrate 51. It was attached and was consuming unnecessary air.

【0010】そこで、本発明は、このような従来の実情
を鑑みて提案されたものであり、エア消費量を抑えて効
率良く基板乾燥が可能となされた、エネルギー効率に優
れた基板乾燥装置及びそれを用いた乾燥方法を提供する
ことを目的とする。
Therefore, the present invention has been proposed in view of such a conventional situation, and a substrate drying apparatus excellent in energy efficiency, which is capable of efficiently drying a substrate while suppressing air consumption, and It is intended to provide a drying method using the same.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ために完成された本発明に係る基板乾燥装置は、表面に
液体が付着した基板を搬送する基板搬送手段と、この基
板搬送手段により搬送される基板に対向配置され基板の
表面にエアを噴射して基板を乾燥するエアナイフノズル
と、エアナイフノズルからのエア噴射量を制御するエア
量制御手段とを備えるものであり、エアナイフノズル
が、それぞれ基板表面と対向する複数のエア噴射室に分
割され、このエア量制御手段が、各エア噴射室から噴射
されるエア量を、エアナイフノズルの搬送される基板に
対する相対位置に応じて、それぞれ調整することを特徴
とするものである。このような構成とすることにより、
複数のエア噴射室からのエア量を個別に調整して、エア
ナイフノズルの基板に対する相対位置に応じて最適な量
のエアを基板表面に噴き付け可能となり、エア消費量が
抑えられて効率良く基板が乾燥可能となる。
A substrate drying apparatus according to the present invention completed in order to achieve the above-mentioned object, is a substrate carrying means for carrying a substrate having a liquid adhered to its surface, and a substrate carrying means for carrying the substrate. An air knife nozzle that is arranged to face the substrate and sprays air onto the surface of the substrate to dry the substrate; and an air amount control means that controls the amount of air jetted from the air knife nozzle. It is divided into a plurality of air ejection chambers facing the substrate surface, and the air amount control means adjusts the amount of air ejected from each air ejection chamber in accordance with the relative position of the air knife nozzle to the conveyed substrate. It is characterized by that. With this configuration,
The amount of air from multiple air injection chambers can be adjusted individually, and the optimal amount of air can be jetted onto the substrate surface according to the relative position of the air knife nozzle with respect to the substrate. Can be dried.

【0012】具体的には、エアナイフノズルが柱状の形
状であり、その長手方向が基板搬送方向に傾斜して交差
するように配置され、複数のエア噴射室には、基板の表
面と対向して各々エア噴射口が設けられ、これら複数の
エア噴射口が、エアナイフノズルの長手方向に並んで位
置しており、この状態で、搬送される基板の乾燥最後尾
となる角部が複数のエア噴射室のうちの何れかのエア噴
射口と対面した際に、エア量制御手段が、角部と対面す
るエア噴射室から噴射するエアのみを、該角部に残る液
体を飛散させるように増量することが好ましい。このよ
うな構成とすることにより、噴き付けるエア流量をより
多く必要とする基板の後方角部のみにエア流量を増量さ
せたエアを噴き付け、噴き付けるエア流量を多く必要と
しない基板の面内に対しては適量なエアを噴き付けるこ
とになり、基板に噴き付けるエア量を局所的に調整可能
となるので、エア消費量を効果的に抑えることができ
る。
Specifically, the air knife nozzle has a columnar shape and is arranged so that its longitudinal direction intersects with the substrate transport direction at an angle, and the plurality of air injection chambers face the surface of the substrate. Each of them is provided with an air ejection port, and the plurality of air ejection ports are arranged side by side in the longitudinal direction of the air knife nozzle. When facing any of the air injection ports of the chamber, the air amount control means increases only the air injected from the air injection chamber facing the corner so that the liquid remaining in the corner is scattered. It is preferable. With this configuration, the increased air flow rate is applied only to the rear corners of the substrate that require a higher air flow rate, and the in-plane surface of the substrate that does not require a high air flow rate is injected. However, since an appropriate amount of air is sprayed, and the amount of air sprayed onto the substrate can be locally adjusted, the air consumption can be effectively suppressed.

【0013】このとき、基板の上記角部と対面しないエ
ア噴射室からはエア量制御手段によりエアの噴射が停止
されていることがより好ましい。このような構成とする
ことにより、基板の後方角部に対面するエア噴射室から
のみエアを噴射させることになるので、不要なエア噴射
をより効果的に抑えることができる。
At this time, it is more preferable that air injection is stopped by the air amount control means from the air injection chamber that does not face the above-mentioned corner portion of the substrate. With this configuration, air is ejected only from the air ejection chamber facing the rear corner of the substrate, so that unnecessary air ejection can be suppressed more effectively.

【0014】また、基板を搬送する間に基板表面と対面
する位置から外れたエア噴射室からは、エア量制御手段
により、エアの噴射が停止されていることが好ましい。
これにより、基板の後方角部に限らず、基板の乾燥開始
から終了に至る過程で基板表面と対面しないエア噴射室
からはエアの噴射を行わないので、エアを有効に利用可
能となり、エア消費量を極めて効果的に抑えられ、エネ
ルギー効率の向上が図れられる。
Further, it is preferable that the air injection control is stopped by the air amount control means from the air injection chamber separated from the position facing the substrate surface while the substrate is being conveyed.
As a result, not only the rear corners of the substrate, but also the air is not ejected from the air ejection chamber that does not face the substrate surface during the process from the start to the end of the substrate drying, so that the air can be used effectively and the air consumption can be reduced. The amount can be suppressed very effectively and energy efficiency can be improved.

【0015】ここで、エア量制御手段が、複数のエア噴
射室の各々に接続される複数のエア供給弁を有している
と良い。これにより、各エア噴射室のエア噴射の切り替
えが容易となる。
Here, it is preferable that the air amount control means has a plurality of air supply valves connected to each of the plurality of air injection chambers. This facilitates switching of air injection in each air injection chamber.

【0016】また、複数のエア噴射室は、エアナイフノ
ズルの長手方向に沿って、エアナイフノズルの内部に配
された仕切り板で分割されることにより形成され、この
仕切り板が移動可能になされ、搬送される基板と対面す
る領域に応じて移動して、基板と対面するエア噴射室の
容積を調整可能とし、基板と対面するエア噴射室から噴
射されるエア量が、エア量制御手段により基板と対面す
る領域に応じて可変するようになされていても好まし
い。このような構成とすることにより、基板と対面する
エア噴射室の大きさを、仕切り板により基板と対面する
領域に応じて変化させつつ、このエア噴射室から基板と
の対面領域に応じた最適な流量のエアが噴射可能となる
ので、より精密に最適なエア量を調整して噴射可能とな
り、エアをより有効活用できて、エア消費量を最小限に
抑えることが可能となる。
Further, the plurality of air injection chambers are formed by being divided by partition plates arranged inside the air knife nozzle along the longitudinal direction of the air knife nozzle, and the partition plates are made movable and conveyed. The volume of the air ejecting chamber facing the substrate can be adjusted by moving in accordance with the area facing the substrate, and the amount of air ejected from the air ejecting chamber facing the substrate is controlled by the air amount control means. It is also preferable that the area is variable according to the facing area. With such a configuration, the size of the air ejection chamber facing the substrate is changed according to the region facing the substrate by the partition plate, and the optimum size according to the region facing the substrate from the air ejection chamber. Since it is possible to inject a large amount of air, it is possible to more accurately adjust and inject the optimal amount of air, and it is possible to make more effective use of air and to minimize air consumption.

【0017】なお、エアナイフノズルに対して所定の位
置に、エアナイフノズルの基板に対する相対位置を検知
するためのセンサが設けられていることが好ましい。こ
れにより、センサにより検知したエアナイフノズルと基
板との相関的な位置関係に関する情報を基に、エア量制
御手段が各エア噴射室からのエア量を調整することが可
能となる。
A sensor for detecting the relative position of the air knife nozzle with respect to the substrate is preferably provided at a predetermined position with respect to the air knife nozzle. This allows the air amount control means to adjust the amount of air from each air injection chamber based on the information on the relative positional relationship between the air knife nozzle and the substrate detected by the sensor.

【0018】また、上述した目的を達成するために完成
された本発明に係る基板乾燥方法では、上記の基板乾燥
装置を用いる基板乾燥方法であり、複数のエア噴射室の
各基板対向面に設けた複数のエア噴射口が、基板の搬送
方向に傾斜して交差する方向に並ぶように、エアナイフ
ノズルを基板に対向配置させ、この基板を前記基板搬送
手段により搬送させ、この状態にて、基板の搬送中に基
板の表面内に複数のエア噴射室の各々が対面する際に
は、複数のエア噴射室の各々から基板表面上の液体を飛
散するのに必要な量のエアを噴射する。次いで、基板の
搬送中に基板の乾燥最後尾となる後方角部に複数のエア
噴射室のうちの何れかが対面し、残りのエア噴射室が基
板表面と対面する位置から外れた際には、エア量制御手
段により、後方角部と対面するエア噴射室から噴射する
エアを、該後方角部に残る液体を飛散させるように増量
するとともに、残りのエア噴射室からのエア噴射を停止
することを特徴とするものである。このような基板乾燥
方法とすることにより、多量のエア流量を必要としない
基板の面内に対しては適量な流量割合のエアを噴き付
け、次いで、複数のエア噴射室の何れかが基板の後方角
部に対面する際には、より多くのエア流量を必要とする
基板の後方角部に対してのみエア流量を増量させたエア
を噴き付けるとともに、基板に対面しないエア噴射室か
らはエアを噴射しないので、効果的にエア消費量を抑え
ることができる。
Further, a substrate drying method according to the present invention completed to achieve the above-mentioned object is a substrate drying method using the above-mentioned substrate drying apparatus, and is provided on each substrate facing surface of a plurality of air jet chambers. The air knife nozzles are arranged so as to face the substrate so that the plurality of air ejection ports are arranged in a direction intersecting with the substrate transport direction while being inclined, and the substrate is transported by the substrate transport means. When the plurality of air ejection chambers face each other on the surface of the substrate during the transportation of, the air is ejected from each of the plurality of air ejection chambers in an amount necessary to splash the liquid on the substrate surface. Next, when one of the plurality of air ejection chambers faces the rear corner that is the rearmost end of the substrate during transport of the substrate and the remaining air ejection chambers deviate from the positions facing the substrate surface, The air amount control means increases the amount of air injected from the air injection chamber facing the rear corner portion so as to scatter the liquid remaining in the rear corner portion, and stops the air injection from the remaining air injection chambers. It is characterized by that. By adopting such a substrate drying method, an appropriate amount of air is blown to the surface of the substrate that does not require a large amount of air flow, and then one of the plurality of air injection chambers is used When facing the rear corner, the air with the increased air flow is sprayed only to the rear corner of the substrate that requires a higher air flow rate, and the air is ejected from the air injection chamber that does not face the substrate. Since air is not injected, the air consumption can be effectively suppressed.

【0019】また、これと同時に、基板の搬送開始時
で、基板の乾燥最前部となる前方角部に複数のエア噴射
室のうちの何れかが対面し、残りのエア噴射室が前記基
板表面と対面する位置から外れている際に、前方角部に
対面するエア噴射室から前方角部上の液体を飛散させる
のに必要な量のエアを噴射し、残りのエア噴射室からの
エア噴射を停止することがより好ましい。このような乾
燥方法とすることにより、基板の後方角部に限らず、基
板の乾燥開始から終了に至る過程で基板表面と対面しな
いエア噴射室からはエアの噴射を行わないので、エアを
より有効に利用可能となり、より効果的にエア消費量を
抑えて基板が効率良く乾燥可能となる。
At the same time, when the substrate is started to be conveyed, one of the plurality of air ejection chambers faces the front corner of the substrate, which is the frontmost portion of the substrate, and the remaining air ejection chambers face the substrate surface. When ejected from the position facing the front corner, the air injection chamber facing the front corner injects the amount of air required to disperse the liquid on the front corner, and the air is ejected from the remaining air injection chambers. Is more preferably stopped. By adopting such a drying method, air is not ejected not only from the rear corner portion of the substrate but also from the air ejection chamber that does not face the substrate surface during the process from the start to the end of drying of the substrate. The substrate can be effectively used, the air consumption can be suppressed more effectively, and the substrate can be efficiently dried.

【0020】一方、上述した目的を達成するために完成
された他の本発明に係る基板乾燥方法は、上記の基板乾
燥装置を用いて基板を乾燥する基板乾燥方法であり、仕
切り板を移動可能に設け、基板搬送手段により基板を搬
送し、基板の搬送中に、この搬送される基板と対面する
領域に応じて仕切り板を移動させて、基板と対面するエ
ア噴射室の容積を調整させつつ、エア量制御手段により
該エア噴射室から噴射させるエア量を基板と対面する領
域に合わせて変化させ、該エア噴射室からエアを噴射さ
せることを特徴とするものである。このような基板乾燥
方法とすることにより、基板と対面するエア噴射室の大
きさを仕切り板により基板と対面する領域に応じて変化
させつつ、このエア噴射室から基板との対面領域に応じ
た最適な流量のエアを噴射するので、基板に対して最適
量なエアをより精密に調整して噴射可能となり、エア消
費量を最小限に抑えることが可能となる。
On the other hand, another substrate drying method according to the present invention completed to achieve the above-mentioned object is a substrate drying method for drying a substrate by using the above-mentioned substrate drying apparatus, and a partition plate can be moved. The substrate is transported by the substrate transporting means, and the partition plate is moved according to the region facing the transported substrate while the substrate is being transported to adjust the volume of the air jet chamber facing the substrate. The air amount control means changes the amount of air ejected from the air ejection chamber according to the area facing the substrate, and ejects air from the air ejection chamber. By adopting such a substrate drying method, the size of the air jet chamber facing the substrate is changed according to the region facing the substrate by the partition plate, and the size of the air jet chamber is adjusted according to the face facing region from the air jet chamber. Since the optimal amount of air is ejected, the optimal amount of air can be more precisely adjusted and ejected onto the substrate, and the amount of air consumption can be minimized.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の基板乾燥装置の第
1の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説
明する。図1は、本発明の第1の実施形態に係る基板乾
燥装置を示す平面図である。図2は、本実施形態に係る
基板乾燥装置を図1中の矢印C方向から見た、エアナイ
フノズルを示す斜視図である。図3は、図1中の線3−
3に沿って切断された断面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A first embodiment of a substrate drying apparatus of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing a substrate drying apparatus according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a perspective view showing the air knife nozzle when the substrate drying apparatus according to the present embodiment is viewed from the direction of arrow C in FIG. FIG. 3 shows line 3-- in FIG.
3 is a sectional view taken along line 3. FIG.

【0022】本発明の基板乾燥装置は、例えば、フォト
リソ工程等の一連の製造ラインにおいて洗浄ステージの
後段に設けられ、この洗浄ステージ内で洗浄等のウエッ
ト処理が行われた後の基板を、装置内のライン上で搬送
しながら連続的に乾燥するものである。
The substrate drying apparatus of the present invention is provided, for example, in a subsequent stage of a cleaning stage in a series of production lines such as a photolithography process, and the substrate after the wet processing such as cleaning is performed in the cleaning stage is an apparatus. It is one which is continuously dried while being conveyed on the inner line.

【0023】本発明の第1の実施形態に係る基板乾燥装
置1は、図1に示すように、チャンバ1a内に、洗浄ス
テージから搬送された基板2の両端側を支持しつつ搬送
する複数の搬送ローラ部3が並設されている。これら搬
送ローラ部3は、チャンバ1aの外部側面に設けられた
モータ1bにより駆動されて、ウエット処理後の基板2
をチャンバ1a内へ搬送する。
In the substrate drying apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. 1, a plurality of substrates 2 transported from the cleaning stage are supported while being transported into the chamber 1a. The transport roller units 3 are arranged side by side. These transport roller portions 3 are driven by a motor 1b provided on the outer side surface of the chamber 1a, and the substrate 2 after the wet processing is driven.
Are carried into the chamber 1a.

【0024】また、基板乾燥装置1のチャンバ1a内に
は、図1乃至図3に示すように、基板表面2aから所定
高さ離間した状態で基板表面2aに対向配置されたエア
ナイフノズル4が設けられている。このエアナイフノズ
ル4は、角柱状をなし、その長手方向(図中F方向)
が、基板2の搬送方向(図中X方向)に対し所定角Y傾
斜して交差する斜め方向、即ち図中Z方向に沿うように
配されている。なお、一般には、基板2の両面側にエア
ナイフノズル4が配されるが、以下では上面側のみで説
明する。
Further, in the chamber 1a of the substrate drying apparatus 1, as shown in FIGS. 1 to 3, there is provided an air knife nozzle 4 opposed to the substrate surface 2a while being separated from the substrate surface 2a by a predetermined height. Has been. The air knife nozzle 4 has a prismatic shape and its longitudinal direction (F direction in the drawing).
Are arranged so as to extend along a diagonal direction that intersects the conveyance direction of the substrate 2 (X direction in the drawing) at a predetermined angle Y, that is, the Z direction in the drawing. Although the air knife nozzles 4 are generally arranged on both sides of the substrate 2, only the upper surface side will be described below.

【0025】特に、本実施形態におけるエアナイフノズ
ル4は、内部中央に側面4aと平行に配された仕切り板
4bが一体形成されており、この仕切り板4bにより略
均等に2分割され第1のエア噴射室4c及び第2のエア
噴射室4dが形成されている。なお、仕切り板4bはエ
アナイフノズル4の中央に位置していなくても良いし、
またエアナイフノズル4に一体形成されずに別体でも良
い。更には、仕切り板4bが複数配されてエア噴射室が
3個以上形成されていても良い。
In particular, the air knife nozzle 4 in this embodiment is integrally formed with a partition plate 4b which is arranged in parallel with the side surface 4a in the center of the inside, and is divided into two substantially evenly by the partition plate 4b. An injection chamber 4c and a second air injection chamber 4d are formed. The partition plate 4b need not be located at the center of the air knife nozzle 4,
Further, the air knife nozzle 4 may not be integrally formed but may be a separate body. Further, a plurality of partition plates 4b may be arranged to form three or more air injection chambers.

【0026】エアナイフノズル4の先端には、長手方向
Fに沿って形成されたスリット状のエア噴射口4eが設
けられており、このエア噴射口4eは搬送される基板2
の斜め方向Zに沿って基板2に対面配置される。特に、
本実施形態におけるエア噴射口4eは、仕切り板4bに
より第1のエア噴射口4e1及び第2のエア噴射口4e
2に2分割され、これら第1及び第2のエア噴射口4e
1,4e2の各々が第1及び第2のエア噴射室4c,4
dのそれぞれに割り当てられている。なお、本実施形態
ではエア噴射口4eがスリット状であるが、本発明はこ
れに限らず、長手方向Fに沿って複数の小孔が並行して
形成されてなるものでも良い。このときも、仕切り板4
bにより複数の小孔が2グループに分割され、各エア噴
射室4c,4dに割り当てられていれば良い。
At the tip of the air knife nozzle 4, there is provided a slit-shaped air ejection port 4e formed along the longitudinal direction F, and this air ejection port 4e is conveyed to the substrate 2 to be conveyed.
Are arranged face-to-face with the substrate 2 in the diagonal direction Z. In particular,
The air injection port 4e in the present embodiment includes the first air injection port 4e1 and the second air injection port 4e by the partition plate 4b.
It is divided into two, and these first and second air injection ports 4e
1, 4e2 are respectively the first and second air injection chambers 4c, 4
assigned to each of the d. Although the air injection port 4e is slit-shaped in the present embodiment, the present invention is not limited to this, and a plurality of small holes may be formed in parallel along the longitudinal direction F. Also at this time, the partition plate 4
It suffices that the plurality of small holes be divided into two groups by b and be assigned to the air injection chambers 4c and 4d.

【0027】第1のエア噴射室4cの一側面には、図示
しないコンプレッサから加圧した状態で供給されるエア
を第1のエア噴射室4c内へ供給するためのエア供給管
5aが接続されている。そして、第1のエア噴射室4c
と図示しないコンプレッサ間には、エア供給管5aを介
して第1のエア噴射室4c内へ供給するエアの流量を制
御する流量コントローラ6aが配されている。ここで、
流量コントローラ6aとしては、通常用いられるエア供
給弁を有するものであると好ましく、より好ましくは、
自動的に開閉自在となされたエア供給弁が良い。そし
て、このエア供給弁を有することにより、エア噴射の切
り替えが容易となる。このような第1のエア噴射室4c
は、流量コントローラ6aにより、噴射するエア量が調
整されて、適量のエアが第1のエア噴射口4e1から噴
射するようになされている。
An air supply pipe 5a is connected to one side surface of the first air injection chamber 4c for supplying air supplied from a compressor (not shown) in a pressurized state into the first air injection chamber 4c. ing. Then, the first air injection chamber 4c
A flow rate controller 6a for controlling the flow rate of the air supplied into the first air injection chamber 4c via the air supply pipe 5a is arranged between the compressors (not shown). here,
The flow rate controller 6a preferably has a normally used air supply valve, and more preferably,
An air supply valve that can be automatically opened and closed is good. And by having this air supply valve, switching of air injection becomes easy. Such a first air injection chamber 4c
The amount of air to be injected is adjusted by the flow rate controller 6a so that an appropriate amount of air is injected from the first air injection port 4e1.

【0028】同様に、第2のエア噴射室4dの一側面に
は、図示しないコンプレッサから加圧した状態で供給さ
れるエアを第2のエア噴射室4d内へ供給するためのエ
ア供給管5bが接続されている。そして、第2のエア噴
射室4dと図示しないコンプレッサ間には、エア供給管
5bを介して第2のエア噴射室4d内へ供給するエアの
流量を制御する流量コントローラ6bが配されている。
この流量コントローラ6bについても、流量コントロー
ラ6aと同様に、通常用いられるエア供給弁を有するも
のであれば良い。このような第2のエア噴射室4dは、
流量コントローラ6bにより、噴射するエア量が調整さ
れて、適量のエアが第2のエア噴射口4e2から噴射す
るようになされている。
Similarly, on one side surface of the second air injection chamber 4d, an air supply pipe 5b for supplying the air supplied from the compressor (not shown) in a pressurized state into the second air injection chamber 4d. Are connected. A flow rate controller 6b that controls the flow rate of the air supplied into the second air injection chamber 4d via the air supply pipe 5b is arranged between the second air injection chamber 4d and the compressor (not shown).
The flow rate controller 6b may also have a normally used air supply valve, as in the case of the flow rate controller 6a. Such a second air injection chamber 4d is
The flow rate controller 6b adjusts the amount of air to be jetted so that a proper amount of air is jetted from the second air jet port 4e2.

【0029】更に、基板乾燥装置1のチャンバ1a内に
は、第1のエア噴射室4cの基板搬送方向後方側の側面
4fの外縁部4f1に対向させて、搬送された基板2の
エアナイフノズル4に対する相対的位置を検知するため
の第1のセンサ7が配される。また、第1のエア噴射室
4cの側面4fとは反対側の側面4gに対向させて、基
板2のエアナイフノズル4に対する相対的位置を検知す
るための第2のセンサ8が配される。同様に、第2のエ
ア噴射室4dの基板搬送方向前方側の側面4hに対向さ
せて、搬送された基板2のエアナイフノズル4に対する
相対的位置を検知するための第3のセンサ9が配され
る。
Further, in the chamber 1a of the substrate drying apparatus 1, the air knife nozzle 4 of the transported substrate 2 is made to face the outer edge portion 4f1 of the side surface 4f of the first air injection chamber 4c on the rear side in the substrate transport direction. A first sensor 7 for detecting the relative position with respect to is arranged. Further, a second sensor 8 for detecting the relative position of the substrate 2 with respect to the air knife nozzle 4 is arranged facing the side surface 4g of the first air injection chamber 4c opposite to the side surface 4f. Similarly, a third sensor 9 for detecting the relative position of the transported substrate 2 to the air knife nozzle 4 is disposed so as to face the side surface 4h of the second air injection chamber 4d on the front side in the substrate transport direction. It

【0030】第1、第2及び第3のセンサ7,8,9
は、何れもレーザ等の光学式や、超音波式の検出器が適
用可能である。なお、これらセンサ7,8,9は、チャ
ンバ1a内の上記所定位置に配されていれば良い。
First, second and third sensors 7, 8, 9
In each case, an optical type detector such as a laser or an ultrasonic type detector can be applied. It should be noted that these sensors 7, 8 and 9 may be arranged at the above predetermined positions in the chamber 1a.

【0031】そして、これらセンサ7,8,9により、
搬送される基板2に対するエアナイフノズル4の位置が
検出され、この検出されたデータに基づいて流量コント
ローラ6a,6bが作動し、それぞれに対応する第1及
び第2のエア噴射室4c,4dからの噴射エア量が制御
される。
Then, by these sensors 7, 8 and 9,
The position of the air knife nozzle 4 with respect to the substrate 2 being conveyed is detected, the flow rate controllers 6a and 6b are operated based on the detected data, and the first and second air ejection chambers 4c and 4d respectively corresponding thereto are operated. The injection air amount is controlled.

【0032】以上のように構成された本実施形態の基板
乾燥装置1は、次のようにしてウエット処理後の基板2
を乾燥するものである。図4乃至図7は、本発明の第1
の実施形態に係る基板乾燥装置1を用いて基板2を乾燥
する方法を説明するための模式図である。
The substrate drying apparatus 1 of this embodiment having the above-described structure is used for the substrate 2 after the wet processing as follows.
Is to be dried. 4 to 7 show the first embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a schematic diagram for explaining a method of drying the substrate 2 using the substrate drying apparatus 1 according to the embodiment of FIG.

【0033】まず、図4に示すように、ウエット処理後
の基板2が、搬送ローラ部3により搬送方向、即ち図中
X方向に沿ってチャンバ1a内へ搬入される。そして、
第1のセンサ7が基板2を感知すると、この検出データ
に基づいて、流量コントローラ6aが、図示しないコン
プレッサから流量コントローラ6a内へ供給された加圧
エアの最適流量を調整し、この流量調整されたエアがエ
ア供給管5aを介して第1のエア噴射室4cの第1のエ
ア噴射口4e1から基板表面2aに噴き付けられる。こ
のとき、第1のエア噴射口4e1から噴射されるエアの
流量割合は、基板2の前方角部2b上の液体(液滴)を
飛散するのに必要な流量割合A/2[l/min]、例
えば100[l/min]となされている。ここで、基
板2と対面する位置から外れた第2のエア噴射室4dか
らはエア噴射が行われないので、不要なエア噴射が抑え
られる。なお、上記の具体的流量割合の数値100[l
/min]は、第1及び第2のエア噴射口4e1,4e
2を合わせたエア噴射口4eのスリットサイズが538
×0.1mmの場合である。以下、具体的流量割合の数
値を挙げたものについては、このスリットサイズのエア
ナイフノズルを用いたものとする。
First, as shown in FIG. 4, the substrate 2 after the wet processing is carried into the chamber 1a by the carrying roller unit 3 along the carrying direction, that is, the X direction in the drawing. And
When the first sensor 7 senses the substrate 2, the flow rate controller 6a adjusts the optimum flow rate of the pressurized air supplied from the compressor (not shown) into the flow rate controller 6a based on the detection data, and the flow rate is adjusted. The air is jetted from the first air jet port 4e1 of the first air jet chamber 4c to the substrate surface 2a via the air supply pipe 5a. At this time, the flow rate ratio of the air ejected from the first air ejection port 4e1 is the flow rate ratio A / 2 [l / min] necessary for scattering the liquid (droplet) on the front corner portion 2b of the substrate 2. ], For example, 100 [l / min]. Here, since the air is not ejected from the second air ejection chamber 4d which is out of the position facing the substrate 2, unnecessary air ejection is suppressed. In addition, the numerical value of the above specific flow rate is 100 [l
/ Min] is the first and second air ejection ports 4e1, 4e
The slit size of the air injection port 4e that combined 2 is 538
This is the case of × 0.1 mm. Hereinafter, regarding the numerical values of specific flow rate ratios, the air knife nozzle of this slit size is used.

【0034】次に、図5に示すように、第2のセンサ8
が基板2を感知すると、この検出されたデータに基づい
て、流量コントローラ6bが、同様にコンプレッサから
送出された加圧エアの最適流量を調整し、この流量調整
されたエアがエア供給管5bを介して第2のエア噴射室
4dの第2のエア噴射口4e2から基板表面2aに噴き
付けられる。このとき、第2のエア噴射口4e2から噴
射されるエアの流量割合は、基板全表面2aの半分の領
域に亘る液体を飛散するのに必要なA/2[l/mi
n]、例えば100[l/min]となされている。こ
こで、第1及び第2の噴射室4c,4dの第1及び第2
のエア噴射口4e1,4e2の各々からA/2[l/m
in]、例えば100[l/min]の流量割合のエア
が噴射されているため、結果的に、これらエア噴射量を
合わせると、基板全表面2a内の液体を飛散させるのに
最低限必要な流量割合A[l/min]、例えば200
[l/min]のエアが基板表面2aに噴き付けられて
いることになる。
Next, as shown in FIG. 5, the second sensor 8
When the board 2 is sensed, the flow rate controller 6b similarly adjusts the optimum flow rate of the pressurized air sent from the compressor based on the detected data, and the flow rate-adjusted air moves the air supply pipe 5b. It is jetted from the second air jetting port 4e2 of the second air jetting chamber 4d to the substrate surface 2a. At this time, the flow rate ratio of the air jetted from the second air jet port 4e2 is A / 2 [l / mi which is necessary for splashing the liquid over the half area of the entire surface 2a of the substrate.
n], for example, 100 [l / min]. Here, the 1st and 2nd of the 1st and 2nd injection chamber 4c, 4d
From each of the air injection ports 4e1 and 4e2 of A / 2 [l / m
in], for example, air at a flow rate of 100 [l / min] is ejected, and as a result, when these air ejection amounts are combined, the minimum amount is required to disperse the liquid in the entire substrate surface 2a. Flow rate A [l / min], for example 200
This means that [l / min] of air is sprayed on the substrate surface 2a.

【0035】なお、従来の基板乾燥装置50では基板5
1の乾燥最後尾となる角部51bに残る液体(液滴)5
5を飛散させるために、基板51の全面にエア量Aより
も、はるかに多量な流量割合B[l/min]、例えば
400[l/min]のエアを噴き付けていた。一方、
本実施形態では、基板搬送速度が従来の基板乾燥装置5
0と同一と仮定した場合に、基板表面2aの液体飛散に
最低限必要な流量割合A、例えば200[l/min]
を表面2a全体に噴きつけることになる。よって、本実
施形態によれば、エア消費量を効果的に抑えることがで
きる。
In the conventional substrate drying device 50, the substrate 5 is
Liquid (droplet) 5 remaining on the corner 51b, which is the last end of drying of No. 1
In order to scatter 5, the air having a flow rate B [l / min], which is much larger than the air amount A, for example, 400 [l / min] was sprayed on the entire surface of the substrate 51. on the other hand,
In this embodiment, the substrate transport speed is the same as that of the conventional substrate drying apparatus 5.
If it is assumed that the flow rate is the same as 0, the minimum flow rate ratio A required for liquid scattering on the substrate surface 2a, for example, 200 [l / min]
Will be sprayed on the entire surface 2a. Therefore, according to the present embodiment, the air consumption amount can be effectively suppressed.

【0036】次に、図6に示すように、第2のエア噴射
室4dが基板2の後方角部2cに対面して、第2のセン
サ8の感知が終了すると、この検出されたデータに基づ
いて、流量コントローラ6aが作動し第1のエア噴射室
4cからのエア噴射が停止されるとともに、流量コント
ローラ6bが作動して第2のエア噴射室4dからのエア
流量が増量され、第2のエア噴射口4e2から基板2の
後方角部2c上の液体(液滴)を飛散させるのに必要な
流量割合B/2[l/min]、例えば200[l/m
in]のエアを噴出させる。
Next, as shown in FIG. 6, when the second air injection chamber 4d faces the rear corner portion 2c of the substrate 2 and the detection of the second sensor 8 is completed, the detected data is recorded. Based on this, the flow rate controller 6a operates to stop the air injection from the first air injection chamber 4c, and the flow rate controller 6b operates to increase the air flow rate from the second air injection chamber 4d. Flow rate ratio B / 2 [l / min] required to disperse the liquid (droplet) on the rear corner 2c of the substrate 2 from the air ejection port 4e2 of, for example, 200 [l / m
in] is ejected.

【0037】なお、従来のエアナイフノズル54では、
ノズルが分割されていなかったので基板51の後方角部
51bの液体(液滴)を飛散させるのにノズル全長に対
して流量割合B[l/min]、例えば400[l/m
in]が必要であった。一方、本実施形態では、基板搬
送速度が従来の基板乾燥装置50と同一と仮定した場合
に、ノズル長が半分の第2のエア噴射室4dからエアを
噴射させるので、後方角部2c上の液体(液滴)を飛散
すべく、単位長さあたりの噴射力を同等な強力なものと
するには、上述したように必要な流量割合はB/2[l
/min]、例えば200[l/min]で良い。よっ
て、本実施形態によれば、後方角部2cに噴き付けるエ
ア量も必要最小限で済む。
In the conventional air knife nozzle 54,
Since the nozzles were not divided, the flow rate ratio B [l / min], for example, 400 [l / m] with respect to the total nozzle length, was used to scatter the liquid (droplet) in the rear corner portion 51b of the substrate 51.
in] was required. On the other hand, in the present embodiment, assuming that the substrate transport speed is the same as that of the conventional substrate drying apparatus 50, air is ejected from the second air ejection chamber 4d having a half nozzle length, so that the air is ejected from the rear corner 2c. In order to make the ejection force per unit length to be as strong as possible in order to scatter liquid (droplets), the required flow rate ratio is B / 2 [l as described above.
/ Min], for example, 200 [l / min]. Therefore, according to this embodiment, the amount of air blown to the rear corner portion 2c can be minimized.

【0038】このように、本実施形態によれば、基板2
に噴き付けるエア量を局所的に調整することができるた
め、エア消費量を効果的に抑えることができる。また、
本実施形態では、後方角部2cのみ噴き付けるエアを増
量するために補助エア噴出用ノズルを別に設ける必要も
なく、簡単な構成でエア量の調整が可能である。しか
も、本実施形態によれば、後方角部2cに対面しない第
1のエア噴射室4cからはエア噴射が停止されるので、
不要なエア噴射をより効果的に抑えることができる。
As described above, according to this embodiment, the substrate 2
Since it is possible to locally adjust the amount of air sprayed onto the air, the amount of air consumption can be effectively suppressed. Also,
In this embodiment, it is not necessary to separately provide a nozzle for jetting auxiliary air in order to increase the amount of air jetted only at the rear corner portion 2c, and the amount of air can be adjusted with a simple configuration. Moreover, according to the present embodiment, since the air injection is stopped from the first air injection chamber 4c that does not face the rear corner portion 2c,
Unnecessary air injection can be suppressed more effectively.

【0039】最後に、図7に示すように、第3のセンサ
9の感知が終了すると、この検出されたデータに基づい
て、流量コントローラ6bが作動して第2のエア噴射室
4dからのエア噴射が停止される。このようにして、本
実施形態では、ウエット処理後の基板2をエアナイフノ
ズル4を用いて乾燥させる。
Finally, as shown in FIG. 7, when the sensing of the third sensor 9 is completed, the flow rate controller 6b operates based on the detected data and the air from the second air injection chamber 4d is discharged. Injection is stopped. Thus, in this embodiment, the substrate 2 after the wet treatment is dried using the air knife nozzle 4.

【0040】以上述べたように、本発明の第1の実施形
態に係る基板乾燥装置1を用いて基板を乾燥させる基板
乾燥方法によれば、第1及び第2のエア噴射室4c,4
dからのエア量を、流量コントローラ6a,6bにより
個別に調整し、エアナイフノズル4の基板2に対する相
対位置に応じて最適な量のエアを基板表面2aに噴き付
け可能となり、エア消費量を極力抑えて効率良く基板が
乾燥可能となる。
As described above, according to the substrate drying method for drying the substrate using the substrate drying apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention, the first and second air jet chambers 4c, 4 are provided.
The amount of air from d can be individually adjusted by the flow rate controllers 6a and 6b, and an optimal amount of air can be sprayed onto the substrate surface 2a according to the relative position of the air knife nozzle 4 with respect to the substrate 2 to minimize the air consumption. The substrate can be dried efficiently by suppressing it.

【0041】詳しくは、本実施形態によれば、図5及び
図6に示すように、多量のエア流量を必要としない基板
2の全表面2aに対しては適量なエアを噴き付け、次い
で、第2のエア噴射室4dが基板2の後方角部2cに対
面する際には、第2のエア噴射室4dから噴射するエア
の流量を増量して強力な噴射力のエアをこの後方角部2
cに対してのみ噴き付けるとともに、基板後方角部2c
に対面しない第1のエア噴射室4cからはエアを噴射し
ないので、無駄なくエアを利用して効果的にエア消費量
を抑え、効率良く基板を乾燥可能となる。
More specifically, according to this embodiment, as shown in FIGS. 5 and 6, an appropriate amount of air is blown to the entire surface 2a of the substrate 2 which does not require a large amount of air flow, and then, When the second air ejection chamber 4d faces the rear corner 2c of the substrate 2, the flow rate of the air ejected from the second air ejection chamber 4d is increased to generate a strong ejection air. Two
and the rear corner portion 2c of the substrate
Since the air is not ejected from the first air ejection chamber 4c that does not face the above, it is possible to effectively use the air to suppress the air consumption amount and efficiently dry the substrate.

【0042】これと同時に、本実施形態では、図4に示
すように、基板2の搬送開始時に、基板2の前方角部2
bに第1のエア噴射室4cから前方角部2b上の液体
(液滴)を飛散させるのに必要最低限の割合のエアを噴
射し、第2のエア噴射室4dからのエア噴射を停止して
いるので、基板2の乾燥開始から終了に至る全過程で基
板表面2aと対面しないエア噴射室からエアの噴射を行
わないことになり、極めて効果的にエア消費量を抑える
ことができる。
At the same time, in this embodiment, as shown in FIG. 4, the front corner portion 2 of the substrate 2 is started when the substrate 2 starts to be conveyed.
b to jet air from the first air jet chamber 4c to the liquid in the front corner 2b at a minimum ratio necessary to scatter the liquid (droplets), and stop the air jet from the second air jet chamber 4d. Therefore, air is not ejected from the air ejection chamber that does not face the substrate surface 2a during the entire process from the start to the end of drying of the substrate 2, and the air consumption amount can be suppressed extremely effectively.

【0043】次に、本発明の基板乾燥装置の第2の実施
の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
図8は、本発明の第2の実施形態に係る基板乾燥装置を
示す平面図である。図9は、本実施形態に係る基板乾燥
装置を図8中の矢印C方向から見た、エアナイフノズル
を示す斜視図である。
Next, a second embodiment of the substrate drying apparatus of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 8 is a plan view showing a substrate drying apparatus according to the second embodiment of the present invention. FIG. 9 is a perspective view showing the air knife nozzle when the substrate drying apparatus according to the present embodiment is viewed in the direction of arrow C in FIG.

【0044】以下、本発明の第2の実施形態に係る基板
乾燥装置10では、基板2を搬送する搬送手段としての
搬送ローラ部3が第1の実施形態と同様な構成であり、
その説明を省略する。
Hereinafter, in the substrate drying apparatus 10 according to the second embodiment of the present invention, the transport roller unit 3 as a transport means for transporting the substrate 2 has the same structure as that of the first embodiment.
The description is omitted.

【0045】基板乾燥装置10のチャンバ10a内に
は、角柱状のエアナイフノズル11が、その長手方向を
図9中斜め方向Zに沿うように基板2に対向配置され
る。特に、本実施形態におけるエアナイフノズル11
は、その内部に、側面11aと平行に配された第1の仕
切り板12a及び第2の仕切り板12bが、長手方向に
沿って移動可能に設けられている。
Inside the chamber 10a of the substrate drying apparatus 10, a prismatic air knife nozzle 11 is arranged so as to face the substrate 2 with its longitudinal direction along the diagonal direction Z in FIG. In particular, the air knife nozzle 11 in this embodiment
The first partition plate 12a and the second partition plate 12b, which are arranged parallel to the side surface 11a, are provided inside thereof so as to be movable along the longitudinal direction.

【0046】そして、エアナイフノズル11の両端側か
ら第1及び第2の仕切り板12a,12bの各々に、ピ
ストンからなるシリンダ機構13a,13bが取付けら
れている。このシリンダ機構13a,13bは、エアナ
イブノズル11の長手方向と平行に、即ち図中I方向に
移動し、第1及び第2の仕切り板12a,12bがシリ
ンダ機構13a,13bの移動に追従する。このとき、
エアナイフノズル11内では、第1及び第2の仕切り板
12a,12bによりエア噴射室11bが仕切られて形
成される。
Cylinder mechanisms 13a and 13b made of pistons are attached to the first and second partition plates 12a and 12b from both ends of the air knife nozzle 11, respectively. The cylinder mechanisms 13a and 13b move in parallel to the longitudinal direction of the air knit nozzle 11, that is, in the direction I in the figure, and the first and second partition plates 12a and 12b follow the movement of the cylinder mechanisms 13a and 13b. At this time,
In the air knife nozzle 11, the air injection chamber 11b is formed by being partitioned by the first and second partition plates 12a and 12b.

【0047】シリンダ機構13a,13bは、後述のセ
ンサが基板2と対面した時点を検知してから、基板2の
搬送速度に対して、搬送される基板2の表面2aと対面
する領域に対応して所定速度で移動するよう、図示しな
い駆動制御部により制御されている。それにより、第1
及び第2の仕切り板12a,12bにより仕切られるエ
ア噴射室11bは、基板表面2aと対面する領域に応じ
て容積調整されることになる。
The cylinder mechanisms 13a and 13b correspond to the area facing the front surface 2a of the substrate 2 to be transported, with respect to the transportation speed of the substrate 2, after the time when a sensor described later faces the substrate 2 is detected. Is controlled by a drive control unit (not shown) so as to move at a predetermined speed. Thereby, the first
The volume of the air injection chamber 11b partitioned by the second partition plates 12a and 12b is adjusted according to the area facing the substrate surface 2a.

【0048】また、エアナイフノズル11の先端には、
長手方向に沿って形成されたエア噴射用スリット11c
が形成されており、このエア噴射用スリット11cも第
1の仕切り板12a及び第2の仕切り板12bにより仕
切られて、エア噴射口11dが形成される。そして、こ
のエア噴射口11dは、エア噴射室11bに割り当てら
れる。エア噴射口11dは、容積変化するエア噴射室1
1bに伴って開口サイズが第1の仕切り板12a及び第
2の仕切り板12bにより仕切られて変化され、所定量
のエアが噴射するようになされる。
At the tip of the air knife nozzle 11,
Air injection slit 11c formed along the longitudinal direction
The air injection slit 11c is also partitioned by the first partition plate 12a and the second partition plate 12b to form the air injection port 11d. The air injection port 11d is assigned to the air injection chamber 11b. The air injection port 11d has a volume changeable air injection chamber 1
With 1b, the opening size is partitioned and changed by the first partition plate 12a and the second partition plate 12b, and a predetermined amount of air is jetted.

【0049】エアナイフノズル11の一側面には、図9
に示すように、図示しないコンプレッサから供給される
加圧エアをノズル内へ供給するための第1のエア供給管
14a、第2のエア供給管14b及び第3のエア供給管
14cが、長手方向に沿って並行して接続されている。
On one side of the air knife nozzle 11, FIG.
As shown in FIG. 3, the first air supply pipe 14a, the second air supply pipe 14b, and the third air supply pipe 14c for supplying the pressurized air supplied from the compressor (not shown) into the nozzle are arranged in the longitudinal direction. Are connected in parallel along.

【0050】そして、エアナイフノズル11と図示しな
いコンプレッサ間には、これら第1、第2及び第3のエ
ア供給管14a,14b,14cを介してエア噴射室1
1b内へ供給するエアの流量を制御する流量コントロー
ラ15が配されている。ここで、流量コントローラ15
としては、通常用いられるエア供給弁を有するものであ
ると好ましく、より好ましくは、自動的に開閉自在とな
されたエア供給弁が良い。そして、このエア供給弁を有
することにより、エア噴射の切り替えが容易となる。
The air injection chamber 1 is provided between the air knife nozzle 11 and the compressor (not shown) via the first, second and third air supply pipes 14a, 14b and 14c.
A flow rate controller 15 that controls the flow rate of air supplied to the inside of 1b is arranged. Here, the flow controller 15
It is preferable that the air supply valve has a normally used air supply valve, and more preferably an air supply valve that can be automatically opened and closed. And by having this air supply valve, switching of air injection becomes easy.

【0051】この流量コントローラ15は、エア噴射室
11b内へ噴射するエア量を調整し、且つ、内蔵された
図示しないエア供給弁の切替により、第1、第2及び第
3のエア供給管14a,14b,14cのうちの最適な
エア供給管を選択して、エア噴射室11bへエアを送り
込む。
The flow rate controller 15 adjusts the amount of air injected into the air injection chamber 11b, and switches the built-in air supply valve (not shown) so as to control the first, second and third air supply pipes 14a. , 14b, 14c, the optimum air supply pipe is selected, and air is sent into the air injection chamber 11b.

【0052】基板乾燥装置10のチャンバ10a内に
は、エアナイフノズル11の基板搬送方向後方側となる
側面11aの外縁部11a1に対向させて、搬送された
基板2のエアナイフノズル11に対する相対的位置を検
知するための第1のセンサ16が配される。また、エア
ナイフノズル11の側面11aとは反対側の側面11e
に対向させて、基板2のエアナイフノズル11に対する
相対的位置を検知するための第2のセンサ17が配され
る。なお、第1及び第2のセンサ16,17は、第1の
実施形態のセンサ7,8,9と同様な構成のもので良
い。
In the chamber 10a of the substrate drying apparatus 10, the relative position of the conveyed substrate 2 to the air knife nozzle 11 is set so as to face the outer edge portion 11a1 of the side surface 11a of the air knife nozzle 11 which is the rear side in the substrate conveying direction. A first sensor 16 for sensing is arranged. Also, a side surface 11e of the air knife nozzle 11 opposite to the side surface 11a.
A second sensor 17 for detecting the relative position of the substrate 2 with respect to the air knife nozzle 11 is arranged facing the. The first and second sensors 16 and 17 may have the same configuration as the sensors 7, 8 and 9 of the first embodiment.

【0053】そして、これらセンサ16,17により、
搬送される基板2に対するエアナイフノズル11の位置
が検出され、この検出されたデータに基づいて、流量コ
ントローラ15が第1、第2及び第3のエア供給管14
a,14b,14cから最適なエア供給管を選択し、そ
のエア供給管を通してエア噴射室11bから噴射するエ
ア量を調整する。
Then, by these sensors 16 and 17,
The position of the air knife nozzle 11 with respect to the transported substrate 2 is detected, and based on the detected data, the flow rate controller 15 causes the first, second and third air supply pipes 14 to operate.
An optimum air supply pipe is selected from a, 14b, and 14c, and the amount of air injected from the air injection chamber 11b is adjusted through the air supply pipe.

【0054】以上のように構成された本実施形態の基板
乾燥装置10は、次のようにしてウエット処理後の基板
を乾燥するものである。図10乃至図14は、本発明の
第2の実施形態に係る基板乾燥装置10において基板2
が乾燥される方法を説明するための模式図である。
The substrate drying apparatus 10 of the present embodiment configured as described above is for drying the substrate after the wet treatment as follows. 10 to 14 show the substrate 2 in the substrate drying device 10 according to the second embodiment of the present invention.
It is a schematic diagram for demonstrating the method by which is dried.

【0055】まず、ウエット処理後の基板2が搬送ロー
ラ部3により搬送方向Xに沿ってチャンバ10a内へ搬
入される。そして、図10に示すように、第1のセンサ
16が基板2を感知すると、この検出されたデータに基
づいて、シリンダ機構13a,13bが図中I方向へそ
れぞれ移動を開始し、基板表面2aと対面する領域に合
わせた所定の大きさのエア噴射室11bが仕切り板12
a,12bにより形成される。これと同時に、流量コン
トローラ15が第1のエア供給管14aを選択し、この
エア供給管14aを介して基板表面2aの前方角部2b
の領域に合う最適な流量割合のエアを噴射する。
First, the substrate 2 after the wet treatment is carried into the chamber 10a along the carrying direction X by the carrying roller unit 3. Then, as shown in FIG. 10, when the first sensor 16 senses the substrate 2, the cylinder mechanisms 13a and 13b respectively start moving in the direction I in the figure based on the detected data, and the substrate surface 2a. The partition plate 12 is provided with an air injection chamber 11b having a predetermined size that is matched with the area facing the
a, 12b. At the same time, the flow rate controller 15 selects the first air supply pipe 14a, and the front corner 2b of the substrate surface 2a is connected via this air supply pipe 14a.
The air is injected at an optimum flow rate that fits the area of.

【0056】そして、基板2の搬送が続行する中で、シ
リンダ機構13a,13bも基板搬送速度に対し所定速
度で図中I方向に仕切り板12a、12bを追従させて
移動し、基板表面2a内の対面する領域に応じてエア噴
射室11bの容積を可変させていく。またこれと同時
に、図11に示すように、第2のセンサ17の基板感知
に基づいて、流量コントローラ15が、対面する基板表
面2aの領域に最適な流量割合のエアを調整し、この調
整したエアを最適なエア供給管を介してエア噴射室11
bから噴き付けていく。このとき、流量コントローラ1
5は、エア供給管14a,14b,14cのうちからエ
ア噴射室11bに接続される最適なエア供給管を選択す
るものであり、例えば、図11の場合には第2のエア供
給管14bが選択される。
While the substrate 2 continues to be conveyed, the cylinder mechanisms 13a and 13b also move along the partition plates 12a and 12b in the direction I in the drawing at a predetermined speed relative to the substrate conveying speed to move inside the substrate surface 2a. The volume of the air injection chamber 11b is changed according to the area facing each other. At the same time, as shown in FIG. 11, based on the substrate detection by the second sensor 17, the flow rate controller 15 adjusts the air of the optimum flow rate to the area of the facing substrate surface 2a, and this adjustment is performed. Air is injected through the optimum air supply pipe to the air injection chamber 11
Spray from b. At this time, the flow controller 1
5 is for selecting the optimum air supply pipe connected to the air injection chamber 11b from the air supply pipes 14a, 14b, 14c. For example, in the case of FIG. 11, the second air supply pipe 14b is To be selected.

【0057】このようにして、図12に示すように、基
板2が搬送される間に、基板表面2aと対面する領域に
応じて、仕切り板12a,12bの移動により、エア噴
射室11bの容積が変化されつつ、基板2と対面する領
域に応じた流量割合のエアがエア噴射室11bから噴射
される。ここで、各仕切り板12a,12bがエアナイ
フノズル11内の最外部まで移動し、エア噴射室11b
の全体が基板表面2aに対向する際に、エア噴射室11
bから噴射される流量割合が例えばA[l/min]、
例えば200[l/min]となされる。
In this way, as shown in FIG. 12, while the substrate 2 is being transported, the volume of the air injection chamber 11b is changed by the movement of the partition plates 12a and 12b in accordance with the area facing the substrate surface 2a. The air is ejected from the air ejection chamber 11b at a flow rate proportionate to the area facing the substrate 2 while the temperature is changed. Here, each partition plate 12a, 12b moves to the outermost part in the air knife nozzle 11, and the air injection chamber 11b
Of the air injection chamber 11 when the entire surface of the substrate faces the substrate surface 2a.
The flow rate ratio injected from b is, for example, A [l / min],
For example, it is set to 200 [l / min].

【0058】なお、流量コントローラ15のエア供給管
の選択は、容積変化されるエア噴射室11bに接続する
エア供給管を選択するようになされていれば良く、上記
のように複数のエア供給管から1つのエア供給管を選択
するものに限らず、複数のエア供給管からエア噴射室1
1bに接続する複数のエア供給管を選択するものであっ
ても勿論構わない。
The air supply pipe of the flow rate controller 15 may be selected as long as the air supply pipe connected to the air injection chamber 11b whose volume is changed is selected. As described above, the plurality of air supply pipes are selected. It is not limited to selecting one air supply pipe from the plurality of air supply pipes.
Of course, a plurality of air supply pipes connected to 1b may be selected.

【0059】次いで、図13に示すように、第2のセン
サ17の感知が終了すると、流量コントローラ15が作
動してエア噴射室11bから噴射されるエアが、基板2
の後方角部2c上の液体(液滴)を飛散させるのに必要
な流量割合まで増量されて、第3のエア供給管14cを
介して噴き付けられる。
Then, as shown in FIG. 13, when the sensing of the second sensor 17 is completed, the flow rate controller 15 is activated and the air jetted from the air jet chamber 11b is discharged to the substrate 2
The amount of liquid (droplet) on the rear corner 2c is increased to a flow rate required to be scattered, and the liquid is sprayed through the third air supply pipe 14c.

【0060】このとき、後方角部2c上の液体(液滴)
を飛散させるため、エア噴射室11bから噴射されるエ
ア流量割合は、次のような量に調整される。すなわち、
従来の基板乾燥装置では、基板角部の液体(液滴)を飛
散させるのに、エアナイフノズルの全長Lに対して流量
割合B[l/min]、例えば400[l/min]の
エアをエアナイフノズルから噴射させねばならなかっ
た。一方、本実施形態の基板乾燥装置10では、これと
同じ単位長さ当たりの噴射力をもって角部の液体(液
滴)を飛散させるには、基板搬送速度を従来の基板乾燥
装置50の基板搬送速度と同じと仮定した場合、エアナ
イフノズルの長手方向の全長をL、エア噴射室11bの
長手方向の長さをmとすると、B×m/L[l/mi
n](m∠L)、例えば400×m/L[l/min]
(m∠L)の流量割合で済み、従来と比してエア消費量
が抑えられる。
At this time, the liquid (droplet) on the rear corner 2c
In order to scatter, the flow rate ratio of the air injected from the air injection chamber 11b is adjusted to the following amount. That is,
In the conventional substrate drying apparatus, in order to scatter the liquid (droplets) at the corners of the substrate, air having a flow rate ratio B [l / min], for example 400 [l / min], is used with respect to the total length L of the air knife nozzle. I had to fire it from a nozzle. On the other hand, in the substrate drying apparatus 10 of the present embodiment, in order to scatter the liquid (droplets) at the corners with the same ejection force per unit length as this, the substrate transportation speed is set to the substrate transportation speed of the conventional substrate drying apparatus 50. Assuming that the velocity is the same as the velocity, if the total length of the air knife nozzle in the longitudinal direction is L and the length of the air injection chamber 11b in the longitudinal direction is m, then B × m / L [l / mi
n] (m∠L), for example, 400 × m / L [l / min]
A flow rate of (m∠L) is sufficient, and air consumption is suppressed compared to the conventional case.

【0061】最後に、図14に示すように、エアナイフ
ノズル11が基板2と対面する位置から外れた際に、流
量コントローラ15が調整終了モードに移り、エア噴射
室11bからのエア噴射が停止される。詳しくは、流量
コントローラ15は、所定の基板搬送速度で搬送される
基板2が、第1のセンサ16の検知後に所定時間過ぎる
とエアナイフノズル11と対面しない位置にくる旨のプ
ログラムが格納された図示しない駆動制御部により制御
されている。そのため、所定時間が過ぎると、流量コン
トローラ15が終了モードとなる。このようにして、本
実施形態では、ウエット処理後の基板2をエアナイフノ
ズル11を用いて乾燥させる。
Finally, as shown in FIG. 14, when the air knife nozzle 11 moves out of the position facing the substrate 2, the flow rate controller 15 shifts to the adjustment end mode, and the air injection from the air injection chamber 11b is stopped. It More specifically, the flow rate controller 15 stores a program that the substrate 2 conveyed at a predetermined substrate conveyance speed comes to a position where it does not face the air knife nozzle 11 after a predetermined time elapses after detection by the first sensor 16. Not controlled by the drive control unit. Therefore, when the predetermined time has passed, the flow rate controller 15 enters the termination mode. Thus, in this embodiment, the substrate 2 after the wet treatment is dried by using the air knife nozzle 11.

【0062】以上述べたように、本発明の第2の実施形
態に係る基板乾燥装置10を用いて基板を乾燥させる基
板乾燥方法によれば、基板2と対面するエア噴射室11
bの大きさを第1及び第2の仕切り板12a,12bに
より基板2と対面する領域に応じて変化させつつ、この
エア噴射室11bから基板2との対面領域に応じた最適
なエア量を噴射するので、基板2に対して最適なエア量
をより精密に調整して噴射可能となり、エア消費量を最
小限に抑えることが可能となる。
As described above, according to the substrate drying method of drying the substrate using the substrate drying device 10 according to the second embodiment of the present invention, the air injection chamber 11 facing the substrate 2 is provided.
While changing the size of b according to the region facing the substrate 2 by the first and second partition plates 12a and 12b, the optimum air amount corresponding to the facing region from the air injection chamber 11b to the substrate 2 is obtained. Since the air is ejected, it is possible to more accurately adjust the optimal air amount for the substrate 2 and eject the air, and it is possible to minimize the air consumption amount.

【0063】[0063]

【発明の効果】以上詳細に述べたように、本発明によれ
ば、複数のエア噴射室からのエア量を個別に調整して、
エアナイフノズルの基板に対する相対位置に応じて最適
な量のエアを基板表面に噴き付け可能となり、エア消費
量を効果的に抑えられて効率良く基板が乾燥可能とな
り、エネルギ効率に優れた基板乾燥装置及びそれを用い
た乾燥方法を提供することができる。
As described in detail above, according to the present invention, the amount of air from a plurality of air injection chambers is individually adjusted,
An optimal amount of air can be sprayed on the substrate surface according to the relative position of the air knife nozzle to the substrate, the amount of air consumption can be effectively suppressed, and the substrate can be dried efficiently, and a substrate drying device with excellent energy efficiency And a drying method using the same.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係る基板乾燥装置を
示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a substrate drying apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施形態に係る基板乾燥装置のエアナ
イフノズルを示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing an air knife nozzle of the substrate drying apparatus according to the embodiment of the present invention.

【図3】図3は、図1中の線3−3に沿って切断された
断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line 3-3 in FIG.

【図4】本発明の第1の実施形態に係る基板乾燥装置を
用いた基板乾燥方法において、その乾燥方法の一工程を
説明するための模式図である。
FIG. 4 is a schematic diagram for explaining a step of the drying method in the substrate drying method using the substrate drying apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1の実施形態に係る基板乾燥装置を
用いた基板乾燥方法において、その乾燥方法の一工程を
説明するための模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram for explaining one step of the drying method in the substrate drying method using the substrate drying apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第1の実施形態に係る基板乾燥装置を
用いた基板乾燥方法において、その乾燥方法の一工程を
説明するための模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram for explaining one step of the drying method in the substrate drying method using the substrate drying apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第1の実施形態に係る基板乾燥装置を
用いた基板乾燥方法において、その乾燥方法の一工程を
説明するための模式図である。
FIG. 7 is a schematic diagram for explaining one step of the drying method in the substrate drying method using the substrate drying apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第2の実施形態に係る基板乾燥装置を
示す平面図である。
FIG. 8 is a plan view showing a substrate drying apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第2の実施形態に係る基板乾燥装置の
エアナイフノズルを示す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view showing an air knife nozzle of a substrate drying apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第2の実施形態に係る基板乾燥装置
を用いた基板乾燥方法において、その乾燥方法の一工程
を説明するための模式図である。
FIG. 10 is a schematic diagram for explaining one step of the drying method in the substrate drying method using the substrate drying apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第2の実施形態に係る基板乾燥装置
を用いた基板乾燥方法において、その乾燥方法の一工程
を説明するための模式図である。
FIG. 11 is a schematic diagram for explaining one step of the drying method in the substrate drying method using the substrate drying apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【図12】本発明の第2の実施形態に係る基板乾燥装置
を用いた基板乾燥方法において、その乾燥方法の一工程
を説明するための模式図である。
FIG. 12 is a schematic diagram for explaining one step of the drying method in the substrate drying method using the substrate drying apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【図13】本発明の第2の実施形態に係る基板乾燥装置
を用いた基板乾燥方法において、その乾燥方法の一工程
を説明するための模式図である。
FIG. 13 is a schematic diagram for explaining one step of the drying method in the substrate drying method using the substrate drying apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【図14】本発明の第2の実施形態に係る基板乾燥装置
を用いた基板乾燥方法において、その乾燥方法の一工程
を説明するための模式図である。
FIG. 14 is a schematic diagram for explaining one step of the drying method in the substrate drying method using the substrate drying apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【図15】従来の基板乾燥装置を示す平面図である。FIG. 15 is a plan view showing a conventional substrate drying apparatus.

【図16】図15中の線15−15に沿って切断した断
面図を示す。
16 shows a cross-sectional view taken along the line 15-15 in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,10 基板乾燥装置 2 基板 2c 後方角部 3 搬送ローラ部 4,11 エアナイフノズル 4b,12a,12b 仕切り板 4c 第1のエア噴射室 4d 第2のエア噴射室 4e,11d エア噴射口 5a,5b,14a,14b,14c エア供給管 6a,6b,15 流量コントローラ 7,8,9,16,17 センサ 50 基板乾燥装置 51 基板 51b 角部 54 エアナイフノズル 1,10 Substrate drying device 2 substrates 2c rear corner 3 Transport roller section 4,11 Air knife nozzle 4b, 12a, 12b Partition plate 4c First air injection chamber 4d Second air injection chamber 4e, 11d Air injection port 5a, 5b, 14a, 14b, 14c Air supply pipe 6a, 6b, 15 Flow controller 7,8,9,16,17 sensor 50 Substrate drying device 51 substrate 51b corner 54 Air knife nozzle

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1333 500 G02F 1/1333 500 // H01L 21/304 651 H01L 21/304 651G 651L ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02F 1/1333 500 G02F 1/1333 500 // H01L 21/304 651 H01L 21/304 651G 651L

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面に液体が付着した基板を搬送する基
板搬送手段と、 前記基板搬送手段により搬送される基板に対向配置さ
れ、前記基板の表面にエアを噴射して該基板を乾燥する
エアナイフノズルと、 前記エアナイフノズルからのエア噴射量を制御するエア
量制御手段とを備え、 前記エアナイフノズルは、それぞれが前記基板の表面と
対向してなる複数のエア噴射室に分割され、 前記エア量制御手段が、各前記エア噴射室から噴射され
るエア量を、前記エアナイフノズルの前記搬送される基
板に対する相対位置に応じて、それぞれ調整することを
特徴とする基板乾燥装置。
1. A substrate transfer means for transferring a substrate having a liquid adhered to the surface thereof, and an air knife arranged to face the substrate transferred by the substrate transfer means and for injecting air onto the surface of the substrate to dry the substrate. A nozzle, and an air amount control means for controlling an air injection amount from the air knife nozzle, wherein the air knife nozzle is divided into a plurality of air injection chambers each facing the surface of the substrate, and the air amount A substrate drying apparatus, wherein the control unit adjusts the amount of air ejected from each of the air ejection chambers, according to the relative position of the air knife nozzle with respect to the conveyed substrate.
【請求項2】 前記エアナイフノズルは、柱状の形状で
あり、その長手方向が前記基板の搬送方向に傾斜して交
差するように配置され、 前記複数のエア噴射室には、前記基板の表面と対向して
各々エア噴射口が設けられ、これら複数のエア噴射口
が、前記エアナイフノズルの前記長手方向に並んで位置
し、 前記搬送される基板の乾燥最後尾となる角部が前記複数
のエア噴射室のうちの何れかの前記エア噴射口と対面し
た際に、前記エア量制御手段が、前記角部と対面する前
記エア噴射室から噴射されるエアのみを、該角部に残る
液体を飛散させるように増量することを特徴とする請求
項1記載の基板乾燥装置。
2. The air knife nozzle has a columnar shape, and is arranged so that its longitudinal direction intersects with the substrate transport direction at an angle, and the plurality of air ejection chambers have a surface of the substrate. Air jet ports are provided to face each other, and the plurality of air jet ports are located side by side in the longitudinal direction of the air knife nozzle, and the corner portion which is the last end of drying of the transported substrate is the plurality of air jet ports. When facing any one of the air ejection ports of the ejection chamber, the air amount control means only ejects the air ejected from the air ejection chamber facing the corner portion to remove the liquid remaining in the corner portion. The substrate drying apparatus according to claim 1, wherein the amount is increased so as to be scattered.
【請求項3】 前記基板の前記角部と対面しないエア噴
射室からは、前記エア量制御手段により、エアの噴射が
停止されることを特徴とする請求項2記載の基板乾燥装
置。
3. The substrate drying apparatus according to claim 2, wherein the air injection control unit stops the air injection from the air injection chamber that does not face the corner of the substrate.
【請求項4】 前記基板表面と対面する位置から外れた
エア噴射室からは、前記エア量制御手段により、エアの
噴射が停止されることを特徴とする請求項1、又は2記
載の基板乾燥装置。
4. The substrate drying method according to claim 1, wherein the air injection control is stopped by the air amount control means from the air injection chamber that is out of a position facing the substrate surface. apparatus.
【請求項5】 前記エア量制御手段は、前記複数のエア
噴射室の各々に接続される複数のエア供給弁を有するこ
とを特徴とする請求項1乃至4のうちの何れか記載の基
板乾燥装置。
5. The substrate drying apparatus according to claim 1, wherein the air amount control means has a plurality of air supply valves connected to each of the plurality of air injection chambers. apparatus.
【請求項6】 前記複数のエア噴射室は、前記エアナイ
フノズルの前記長手方向に沿って前記エアナイフノズル
の内部に配された仕切り板で分割されることにより形成
され、 前記仕切り板は、移動可能になされ、前記搬送される基
板と対面する領域に応じて移動して、前記基板と対面す
るエア噴射室の容積を調整可能とし、 該基板と対面するエア噴射室から噴射されるエア量が、
前記エア量制御手段により、前記基板と対面する領域に
応じて可変されることを特徴とする請求項1記載の基板
乾燥装置。
6. The plurality of air injection chambers are formed by being divided by partition plates arranged inside the air knife nozzle along the longitudinal direction of the air knife nozzle, and the partition plates are movable. The volume of the air ejection chamber facing the substrate can be adjusted by moving according to a region facing the substrate to be conveyed, and the amount of air ejected from the air ejection chamber facing the substrate is
2. The substrate drying apparatus according to claim 1, wherein the air amount control means is variable according to a region facing the substrate.
【請求項7】 前記エアナイフノズルに対して所定の位
置に、前記エアナイフノズルの前記基板に対する相対位
置を検知するためのセンサが設けられていることを特徴
とする請求項1乃至6のうちの何れか記載の基板乾燥装
置。
7. A sensor for detecting the relative position of the air knife nozzle with respect to the substrate is provided at a predetermined position with respect to the air knife nozzle. Or a substrate drying apparatus as described above.
【請求項8】 請求項1記載の基板乾燥装置を用いた基
板乾燥方法であって、 前記複数のエア噴射室の各前記基板対向面に設けた複数
のエア噴射口が、前記基板の搬送方向に傾斜して交差す
る方向に並ぶように、前記エアナイフノズルを前記基板
に対向配置し、 前記基板を前記基板搬送手段により搬送し、 前記基板の搬送中に前記基板の表面内に前記複数のエア
噴射室の各々が対面する際には、前記複数のエア噴射室
の各々から前記基板表面上の液体を飛散するのに必要な
量のエアを噴射し、 次いで、前記基板の搬送中に前記基板の乾燥最後尾とな
る後方角部に前記複数のエア噴射室のうちの何れかが対
面し、残りのエア噴射室が前記基板表面と対面する位置
から外れた際には、前記エア量制御手段により、前記後
方角部と対面する前記エア噴射室から噴射するエアを、
該後方角部に残る液体を飛散させるように増量するとと
もに、前記残りのエア噴射室からのエア噴射を停止する
ことを特徴とする基板乾燥方法。
8. A substrate drying method using the substrate drying apparatus according to claim 1, wherein a plurality of air ejection ports provided in each of the plurality of air ejection chambers facing the substrate are arranged in a substrate transfer direction. The air knife nozzles are arranged so as to face the substrate so as to be aligned in a direction intersecting with each other at an angle, and the substrate is transported by the substrate transporting means. When each of the ejection chambers faces each other, an amount of air required to disperse the liquid on the substrate surface is ejected from each of the plurality of air ejection chambers, and then the substrate is conveyed during the transfer of the substrate. When any one of the plurality of air injection chambers faces the rearward corner which is the last end of drying, and the remaining air injection chambers are out of the position where they face the substrate surface, the air amount control means By means of the The air to be injected from the injection chamber,
A method of drying a substrate, characterized in that the amount of liquid remaining in the rear corner portion is increased so as to be scattered, and the air injection from the remaining air injection chamber is stopped.
【請求項9】 前記基板の搬送開始時で、前記基板の乾
燥最前部となる前方角部に前記複数のエア噴射室のうち
の何れかが対面し、残りのエア噴射室が前記基板表面と
対面する位置から外れている際に、前記前方角部に対面
する前記エア噴射室から前記前方角部上の液体を飛散さ
せるのに必要な量のエアを噴射し、前記残りのエア噴射
室からのエア噴射を停止することを特徴とする請求項8
記載の基板乾燥方法。
9. At the start of transporting the substrate, any one of the plurality of air ejection chambers faces a front corner portion of the substrate, which is the frontmost portion of the substrate, and the remaining air ejection chambers face the substrate surface. When it is out of the facing position, it injects an amount of air necessary to disperse the liquid on the front corner from the air injection chamber facing the front corner, and from the remaining air injection chamber. 9. The air injection of is stopped.
The substrate drying method described.
【請求項10】 請求項1、又は6記載の基板乾燥装置
を用いた基板乾燥方法であって、前記仕切り板を移動可
能に設け、 前記基板搬送手段により前記基板を搬送し、 前記基板の搬送中に、この搬送される基板と対面する領
域に応じて前記仕切り板を移動させ、前記基板と対面す
る前記エア噴射室の容積を調整させつつ、前記エア量制
御手段により、該エア噴射室から噴射させるエア量を前
記基板と対面する領域に合わせて変化させ、該エア噴射
室からエアを噴射させることを特徴とする基板乾燥方
法。
10. A substrate drying method using the substrate drying apparatus according to claim 1 or 6, wherein the partition plate is movably provided, and the substrate is conveyed by the substrate conveying means, and the substrate is conveyed. While moving the partition plate in accordance with the region facing the substrate to be transported, while adjusting the volume of the air injection chamber facing the substrate, by the air amount control means, from the air injection chamber A method for drying a substrate, characterized in that the amount of air to be jetted is changed in accordance with a region facing the substrate, and air is jetted from the air jet chamber.
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