JP2003157699A - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Abstract
セス速度で試験を行うことができる半導体記憶装置を提
供する。 【解決手段】 試験装置から10MHzのクロック信号
CLKで試験を行うと、FF4でパルス幅100nsの
イネーブル信号ENが生成され、時間調整回路10に与
えられる。電極11に“H”のテスト信号TSTが印加
されていると、イネーブル信号ENは遅延部12の遅延
時間(例えば、10ns)に相当するパルス幅に短縮さ
れてイネーブル信号ENXが生成され、カラムデコーダ
5に対する動作許可信号として出力される。従って、メ
モリセルアレイ7に対するアクセス時間は実使用時と同
等の10ns(100MHz)となる。実使用時は電極
11を“L”に固定することにより、イネーブル信号E
Nがそのまま、カラムデコーダ5に対する動作許可信号
として出力される。
Description
試験機能に関するものである。
憶装置の概略を示す図であり、同図(a)は回路構成
図、及び同図(b)は信号波形図である。この半導体記
憶装置は、図2(a)に示すように、外部から与えられ
る制御信号に基づいて内部で必要な各種の信号を生成す
る内部信号生成回路1と、アドレス信号ADRを解読す
るYアドレス・プリデコーダ2及びロウデコーダ3を有
している。
LK、チップ選択信号/CS(但し、「/」は反転を表
す)、ロウアドレス・ストローブ信号/RAS、カラム
アドレス・ストローブ信号/CAS、書込制御信号/W
E等が与えられ、内部の動作タイミングにあわせた遅延
クロック信号DCLKや、制御信号BST等の内部信号
が生成されるようになっている。遅延クロック信号DC
LKは、クロック信号CLKを所定時間だけ遅延させた
ものであり、制御信号BSTは、カラム線を立ち上げる
時にクロック信号CLKに同期して活性化される信号で
ある。
下、「FF」という)4のデータ端子Dに与えられ、遅
延クロック信号DCLKは、このFF4のクロック端子
Cに与えられるようになっている。FF4は、クロック
端子Cに与えられる遅延クロック信号DCLKの立ち上
がりのタイミングで、データ端子Dに与えられている制
御信号BSTを保持して、イネーブル信号ENとして出
力端子Qから出力するものである。FF4の出力端子Q
から出力されるイネーブル信号ENは、カラムデコーダ
5に対しする動作許可信号として与えられるようになっ
ている。
コーダ2から出力されるプリデコード信号PY(PY0
〜PYm)を解読し、対応するカラム線CLi(i=0
〜n)を選択して活性化させるものである。このカラム
デコーダ5は、FF4から与えられるイネーブル信号E
Nが活性化されているときに、選択したカラム線CLi
を活性化するようになっている。
ンプ/列選択回路6を介して、メモリセルアレイ7が接
続されている。
た複数のワード線と、このワード線に交差して列方向に
配置された複数のビット線対と、これらのワード線とビ
ット線対の各交差箇所に配置されたメモリセルで構成さ
れたものである。そして、このメモリセルアレイ7のビ
ット線対が、センスアンプ/列選択回路6に接続され、
ワード線がロウデコーダ3に接続されている。
ーダ3で選択されたワード線に接続されるメモリセルの
データを検知して増幅するセンスアンプと、カラムデコ
ーダ5で選択されたカラム線CLiに対応する列のビッ
ト線対を、サブデータバスSDBに選択的に接続する列
選択回路とで構成されている。
信号と書込データに基づいてサブデータバスSDBを駆
動する書込ドライバ8と、読出制御信号に基づいてこの
サブデータバスSDBに読み出されたデータを、外部に
出力するための出力回路9が設けられている。
ム線CLを中心に説明する。外部からのクロック信号C
LK等の制御信号が与えられると、図2(b)に示すよ
うに、内部信号生成回路1によって、遅延クロック信号
DCLKや制御信号BSTが生成される。
書きの要求が行われ、時刻t1におけるクロック信号C
LKの立ち上がりに応じて、制御信号BSTがレベル
“L”からレベル“H”に変化すると共に、遅延クロッ
ク信号DCLKが立ち上がる。これにより、FF4に
“H”の制御信号BSTが保持され、このFF4から出
力されるイネーブル信号ENは“H”となる。また、Y
アドレス・プリデコーダ2から出力されるプリデコード
信号PYに基づいて、該当するカラム線CLが駆動され
て“H”となる。
立ち下がると、制御信号BST及び遅延クロック信号D
CLKが順次立ち下がるが、FF4から出力されるイネ
ーブル信号ENは“H”のままである。
立ち上がると、これに応じて遅延クロック信号DCLK
が立ち上がる。そして、FF4に“L”の制御信号BS
Tが保持され、このFF4から出力されるイネーブル信
号ENは“L”となる。これにより、プリデコード信号
PYに対応するカラム線CLは“L”となる。
1クロックの周期に一致し、クロック信号DCLKに同
期して1クロックの間、出力される。これにより、カラ
ムデコーダ5によって選択されたカラム線CLは、1ク
ロックの間、活性化される。そして、この期間内に、メ
モリセルアレイ7の中の選択されたメモリセルに対する
読み出しまたは書き込みが行われる。
半導体記憶装置では、次のような課題があった。半導体
記憶装置の製造工程において、回路が形成された半導体
ウエハ上のパッドにプローブを接触させて動作をチェッ
クするプロービングと呼ばれる試験が行われる。そし
て、このプロービングで合格したチップが、半導体ウエ
ハから切り出されてパッケージに組み立てられる。
は、その構造上の理由等により高速動作が困難で、試験
可能なクロック信号CLKの周波数としては30MHz
程度以下のものがほとんどである。一方、半導体記憶装
置の性能は向上し、実使用時のクロック信号CLKは、
150MHzを越えている。このため、プロービングで
合格しても、実使用時のクロック周波数では、正常に動
作せず不良になるという問題が発生していた。
を解決し、プロービングにおいて実使用時と同等のアク
セス速度で試験を行うことができる半導体記憶装置を提
供するものである。
に、本発明の内の第1の発明は、半導体記憶装置におい
て、外部から与えられる制御信号に基づいて読み書き動
作制御信号を生成する内部信号生成回路と、モード信号
によってテストモードが設定された時には、前記動作制
御信号のパルス幅を所定のパルス幅に短縮させた動作許
可信号を出力し、該モード信号によって通常動作モード
が設定された時には、前記動作制御信号を動作許可信号
として出力する時間調整回路と、メモリセルアレイの列
方向のメモリセルをアドレス信号に基づいて選択し、前
記動作許可信号が与えられている間、該選択したメモリ
セルに対応するカラム線を活性化させるカラムデコーダ
とを備えている。
記憶装置を構成したので、次のような作用が行われる。
テストモード時には、内部信号生成回路において外部か
ら与えられる制御信号に基づいて動作制御信号が生成さ
れ、この動作制御信号が時間調整回路において所定のパ
ルス幅に短縮されて動作許可信号が出力される。動作許
可信号はカラムデコーダに与えられ、この動作許可信号
が与えられている間のみ、アドレス信号に基づいて選択
されたカラム線が活性化される。
成回路で生成された動作制御信号は、時間調整回路から
そのままのパルス幅の動作許可信号としてカラムデコー
ダに出力される。
第1の発明と同様の内部信号生成回路と、テスト時に
は、外部から与えられるタイミング信号に従って前記動
作制御信号のパルス幅を短縮させた動作許可信号を出力
し、通常動作時には、前記動作制御信号を動作許可信号
として出力する時間調整回路と、第1の発明と同様のカ
ラムデコーダとを備えている。
われる。テストモード時には、内部信号生成回路におい
て外部から与えられる制御信号に基づいて動作制御信号
が生成され、この動作制御信号が時間調整回路において
外部から与えられるタイミング信号に従ってパルス幅が
短縮されて動作許可信号が出力される。動作許可信号は
カラムデコーダに与えられ、この動作許可信号が与えら
れている間のみ、アドレス信号に基づいて選択されたカ
ラム線が活性化される。
成回路で生成された動作制御信号は、時間調整回路から
そのままのパルス幅の動作許可信号としてカラムデコー
ダに出力される。
外部から与えられるレジスタ設定コマンドに基づいて、
特定のアドレス信号をテストモードまたは通常動作モー
ドを指定する信号として保持するモードレジスタと、第
1の発明と同様の内部信号生成回路と、前記モードレジ
スタに通常動作モードが設定されているときには、特定
の動作制御用の入力端子に入力される信号を対応する制
御回路にそのまま出力すると共に、前記内部信号生成回
路で生成された動作制御信号をそのまま動作許可信号と
して出力し、該モードレジスタにテストモードが設定さ
れているときには、該制御回路を不活性化させると共
に、前記入力端子に入力されるタイミング信号に従って
前記動作制御信号のパルス幅を短縮させた動作許可信号
を出力する時間調整回路と、第1の発明と同様のカラム
デコーダとを備えている。
われる。レジスタ設定コマンドに基づいて、テストまた
は通常動作を指定するモード信号が、モードレジスタに
設定される。そして、通常動作モード時には、時間調整
回路によって、特定の動作制御用の入力端子に入力され
る信号が対応する制御回路にそのまま出力されると共
に、内部信号生成回路で生成された動作制御信号がその
まま動作許可信号としてカラムデコーダに出力される。
によって、制御回路が不活性化させられると共に、入力
端子に入力されるタイミング信号に従って動作制御信号
のパルス幅が短縮され、動作許可信号としてカラムデコ
ーダに出力される。
ヒューズが切断されていない状態でテストモードが設定
され、該ヒューズを切断することによって通常動作モー
ドが設定されるモード設定回路と、第1の発明と同様の
内部信号生成回路と、前記モード設定回路に通常動作モ
ードが設定されているときには、特定の動作制御用の入
力端子に入力される信号を対応する制御回路にそのまま
出力すると共に、前記内部信号生成回路で生成された動
作制御信号をそのまま動作許可信号として出力し、該モ
ード設定回路にテストモードが設定されているときに
は、該制御回路を不活性化させると共に、前記入力端子
に入力されるタイミング信号に従って前記動作制御信号
のパルス幅を短縮させた動作許可信号を出力する時間調
整回路と、第1の発明と同様のカラムデコーダとを備え
ている。
われる。モード設定回路のヒューズが切断されていない
ときは、テストモードが設定され、このヒューズを切断
することによって通常動作モードが設定される。各モー
ドにおける時間調整回路の動作は、第3の発明と同様で
ある。
ける特定の動作制御用の入力端子として、入出力バッフ
ァ制御に用いる端子を用いている。
外部から与えられる制御信号に基づいて第1のパルス幅
を有する読み書き動作制御信号を生成する内部信号生成
回路と、モード信号によってテストモードが設定された
時には、前記第1のパルス幅よりも短い第2のパルス幅
を有する動作制御信号を出力し、該モード信号によって
通常動作モードが設定された時には、前記第1のパルス
幅を有する前記動作許可信号を出力する時間調整回路
と、メモリセルアレイの列方向に配置されたメモリセル
を指定するアドレス信号及び前記動作許可信号が与えら
れ、該動作許可信号が与えられている間、該アドレス信
号によって指定されたメモリセルに対応するカラム線を
活性化させるカラムデコーダとを備えている。
外部から与えられる制御信号に基づいて第1のパルス幅
を有する読み書き動作制御信号を生成する内部信号生成
回路と、テスト時には、前記第1のパルス幅よりも短い
第2のパルス幅を有する動作制御信号を出力し、通常動
作時には、前記第1のパルス幅を有する前記動作許可信
号を出力する時間調整回路と、メモリセルアレイの列方
向に配置されたメモリセルを指定するアドレス信号及び
前記動作許可信号が与えられ、該動作許可信号が与えら
れている間、該アドレス信号によって指定されたメモリ
セルに対応するカラム線を活性化させるカラムデコーダ
とを備えている。
作用が行われる。通常動作時には、時間調整回路から第
1のパルス幅の動作許可信号が出力されてメモリセルア
レイに与えられ、アドレス信号で指定されたメモリセル
に対応するカラム線が活性化される。一方、テスト時に
は、第1のパルス幅よりも短い第2のパルス幅の動作許
可信号が時間調整回路から出力され、メモリセルアレイ
に与えられてアドレス信号で指定されたメモリセルに対
応するカラム線が活性化される。
第1の制御信号に基づいて第1のパルス幅を有する読み
書き動作制御信号を生成する内部信号生成回路と、特定
のアドレス信号に応答して、テストモードを指定する信
号及び通常動作モードを指定する信号を出力するモード
レジスタと、制御端子と、第1及び第2の出力端子を有
し、前記テストモードを指定する信号に応答して、前記
制御端子に与えられた前記第1のパルス幅よりも短い第
2のパルス幅を有するタイミング信号を該第1の出力端
子から出力し、前記通常動作モード信号を指定する信号
に応答して、該制御端子に与えられた第2の制御信号を
該第2の出力端子から出力するセレクタと、前記モード
レジスタが通常モードを指定する信号を出力していると
きには前記第1のパルス幅を有する読み書き動作制御信
号を動作許可信号として出力し、該モードレジスタが前
記テストモードを指定する信号を出力しているときには
前記タイミング信号に基づいて該読み書き動作制御信号
のパルス幅を前記第2のパルス幅に変換し前記第2のパ
ルス幅を有する動作許可信号として出力する論理回路
と、メモリセルアレイの列方向に配置されたメモリセル
を指定するアドレス信号及び前記動作許可信号が与えら
れ、該動作許可信号が与えられている間、該アドレス信
号によって指定されたメモリセルに対応するカラム線を
活性化させるカラムデコーダとを備えている。
明の第1の実施形態を示す半導体記憶装置の概略の構成
図であり、図2(a)中の要素と共通の要素には共通の
符号が付されている。この半導体記憶装置は、外部から
与えられる制御信号に基づいて内部で必要な各種の信号
を生成する内部信号生成回路1と、アドレス信号ADR
を解読するYアドレス・プリデコーダ2及びロウデコー
ダ3を有している。
LK、チップ選択信号/CS、ロウアドレス・ストロー
ブ信号/RAS、カラムアドレス・ストローブ信号/C
AS、書込制御信号/WE等が与えられ、内部の動作タ
イミングにあわせた遅延クロック信号DCLKや、制御
信号BST等の内部信号が生成されるようになってい
る。遅延クロック信号DCLKは、クロック信号CLK
を所定時間だけ遅延させたものであり、制御信号BST
は、カラム線を立ち上げる時にクロック信号CLKに同
期して活性化される信号である。
に与えられ、遅延クロック信号DCLKは、このFF4
のクロック端子Cに与えられるようになっている。FF
4は、クロック端子Cに与えられる遅延クロック信号D
CLKの立ち上がりのタイミングで、データ端子Dに与
えられている制御信号BSTを保持して、イネーブル信
号ENとして出力端子Qから出力するものである。イネ
ーブル信号ENは、時間調整回路10に与えられるよう
になっている。
応じてイネーブル信号ENのパルス幅を調整するもの
で、電極11、遅延部(DLY)12、2入力の否定的
論理積ゲート(以下、「NAND」という)13、及び
2入力の論理積ゲート(以下、「AND」という)14
で構成されている。電極11は、プロービング時に試験
装置からプローブを介して、“H”のテスト信号TST
を印加するために半導体ウエハ上に設けられたパッドで
あり、NAND13の第1の入力側に接続されている。
ブル信号ENが遅延回路12で所定の遅延時間dt(例
えば、10ns)だけ遅延され、遅延イネーブル信号D
ENとして与えられるようになっている。また、NAN
D13の出力側は、AND14の第1の入力側に接続さ
れ、このAND14の第2の入力側には、イネーブル信
号ENが与えられるようになっている。そして、AND
14の出力側から調整されたイネーブル信号ENXが出
力され、カラムデコーダ5に対する動作許可信号として
与えられるようになっている。
D51,52,…,5nで構成され、Yアドレス・プリ
デコーダ2から出力されるプリデコード信号PY(PY
0〜PYm)を解読し、対応するカラム線CLi(i=
0〜n)を選択して活性化させるものである。各AND
51〜5nの入力側には、時間調整回路10から出力さ
れるイネーブル信号ENXが与えられるようになってい
る。そして、イネーブル信号ENXが活性化されている
ときに、プリデコード信号PYに対応したAND5iに
よって、選択したカラム線CLiを活性化するようにな
っている。
6を介して、メモリセルアレイ7が接続されている。メ
モリセルアレイ7は、行方向に配置された複数のワード
線WLと、このワード線WLに交差して列方向に配置さ
れた複数のビット線BLi,/BLiと、これらのワー
ド線WLとビット線BLi,/BLiの各交差箇所に、
図示しないメモリセルをマトリクス状に配置したもので
ある。そして、メモリセルアレイ7のビット線BLi,
/BLiが、選択回路6に接続され、ワード線WLがロ
ウデコーダ3に接続されている。
たワード線に接続されるメモリセルのデータを検知して
増幅する図示しないセンスアンプと、カラムデコーダ5
で選択されたカラム線CLに対応する列のビット線BL
i,/BLiを、サブデータバスSDB,/SDBに選
択的に接続するスイッチ用のNチャネルMOSトランジ
スタ(以下、「NMOS」という)6ai,6biとで
構成されている。
信号と書込データに基づいてサブデータバスSDB,/
SDBを駆動する書込ドライバ8と、読出制御信号に基
づいてこのサブデータバスSDB,/SDBに読み出さ
れたデータを、外部に出力するための出力回路9が設け
られている。
る。以下、この図3を参照しつつ、図1の動作を、
(1)プロービング時と、(2)実使用時に分けて説明
する。 (1) プロービング時 半導体記憶装置の製造工程で、回路が形成された半導体
ウエハは試験装置に搭載され、回路上の各パッドにプロ
ーブが接触される。この時、電極11には、プローブを
介して、試験装置から“H”のテスト信号TSTが与え
られる。その他のパッドには、例えば10MHzのクロ
ック信号CLKとこのクロック信号CLKに同期して半
導体記憶装置の読み書きの試験を行うための各種の制御
信号、アドレス信号及びデータ信号が与えられる。
信号が与えられると、図3に示すように、内部信号生成
回路1によって、遅延クロック信号DCLKや制御信号
BSTが生成される。
立ち上がると、これに応じて制御信号BSTが“L”か
ら“H”に変化すると共に、遅延クロック信号DCLK
が立ち上がる。これにより、FF4に“H”の制御信号
BSTが保持され、このFF4から出力されるイネーブ
ル信号ENは“H”となる。この時点では、遅延回路1
2から出力される遅延イネーブル信号DENは“L”で
あり、テスト信号TSTは“H”に設定されているの
で、NAND13から出力されるタイミング信号SP
は、“H”である。従って、AND14から出力される
イネーブル信号ENXは、“H”となる。
力されるプリデコード信号PYによって、カラムデコー
ダ5内の1つのAND5iが選択され、このAND5i
に接続されたカラム線CLiが、“H”に駆動される。
これにより、選択回路6において、駆動されたカラム線
CLiに接続されるNMOS6ai,6biがオン状態
となり、選択されたビット線BLi,/BLiがサブデ
ータバスSDB,/SDBに接続される。
した時刻T2において、遅延イネーブル信号DENが
“H”になる。これにより、NAND13から出力され
るタイミング信号SPが“L”となり、AND14から
出力されるイネーブル信号ENXは“L”となる。この
ため、カラムデコーダ5内の選択されたAND5iの出
力信号が“L”となり、このAND5iに接続されたカ
ラム線CLiが、“L”となる。これにより、選択回路
6において、駆動されたカラム線CLiに接続されるN
MOS6ai,6biがオフ状態となり、選択されたビ
ット線BLi,/BLiがサブデータバスSDB,/S
DBから切り離される。
立ち下がると、これに応じて制御信号BSTが“H”か
ら“L”に変化すると共に、遅延クロック信号DCLK
が立ち下がる。
立ち上がると、これに応じて制御信号BSTが“L”か
ら“H”に変化すると共に、遅延クロック信号DCLK
が立ち上がる。これにより、FF4に“L”の制御信号
BSTが保持され、このFF4から出力されるイネーブ
ル信号ENは“L”となる。この時点では、遅延回路1
2から出力される遅延イネーブル信号DENは“H”で
あり、テスト信号TSTは“H”に設定されているの
で、NAND13から出力されるタイミング信号SP
は、“L”である。従って、AND14から出力される
イネーブル信号ENXは、“L”のままである。一方、
Yアドレスプリデコーダ2から出力されるプリデコード
信号PYは、停止される。
延回路12における遅延時間dtが経過した時刻T5に
おいて、遅延イネーブル信号DENが“L”になる。こ
れにより、NAND13から出力されるタイミング信号
SPが“H”となるが、AND14から出力されるイネ
ーブル信号ENXは“L”のままである。
れるイネーブル信号ENXは、クロック信号CLKの周
期に関係なく、遅延回路12における遅延時間dtに対
応したパルス幅となる。従って、遅延時間dtをこの半
導体記憶装置の定格のアクセス速度に相当するパルス幅
に設定しておけば、定格速度でアクセスしたものと同等
の機能を試験することができる。
り出されてパッケージに組み立てられる。この時、チッ
プ上の電極11は、常に“L”となるように電源電位V
SSに固定する。これにより、時間調整回路10のタイ
ミング信号SPは“H”に固定されるので、イネーブル
信号EN,ENXはほぼ一致し、図2(a)の従来の半
導体記憶装置とほぼ同様の構成となる。従って、実際に
外部から与えられるクロック信号CLKの速度に応じた
動作が行われる。
体記憶装置は、カラムデコーダ5に対するイネーブル信
号ENのパルス幅を短縮して、実使用時のパルス幅と同
程度のイネーブル信号ENXを生成してこのカラムデコ
ーダ5に与える時間調整回路10を有している。これに
より、低い周波数で試験を行うプロービングにおいて
も、実使用時と同等のアクセス速度で試験を行うことが
できるという利点がある。
の実施形態を示す半導体記憶装置の概略の構成図であ
り、図1中の要素と共通の要素には共通の符号が付され
ている。この半導体記憶装置では、図1の半導体記憶装
置における遅延回路12及びNAND13を省略し、電
極11をAND14の第1の入力側に直接接続してい
る。その他の構成は、図1と同様である。
ング時に、試験装置から電極11に図3に示すようなタ
イミングで、タイミング信号SPを与えるようにする。
その他の動作は、第1の実施形態で説明したとおりであ
る。
体記憶装置は、試験装置からタイミング信号SPを与え
るための電極11を有している。これにより、試験装置
側にタイミング信号SPを生成する機能がある場合に
は、任意のタイミングで試験をすることができるという
利点がある。
は、本発明の第3の実施形態を示す時間調整回路の図で
あり、同図(a)は回路構成図、及び同図(b)は信号
波形図を示している。この時間調整回路20は、図1中
の時間調整回路10または図4中のAND14に代えて
設けるものであり、実使用時に特定の動作制御用の入力
端子として使用する電極21を、プロービングにおいて
テスト信号TSTまたはタイミング信号SPを入力する
ための電極として共用するための回路である。この電極
21としては、例えば入出力バッファの制御に用いるD
QM端子が使用される。
うに、AND14のほか、4入力の否定的論理和ゲート
(以下、「NOR」という)22、FF23、モードレ
ジスタ(例えば、FF)24、及びセレクタ25を有し
ている。
CS、ロウアドレス・ストローブ信号/RAS、カラム
アドレス・ストローブ信号/CAS、及び書込制御信号
/WEが接続され、その出力側がFF23のデータ端子
Dに接続されている。FF23のクロック端子Cには、
クロック信号CLKが与えられるようになっており、そ
の出力端子QがFF24のクロック端子Cに接続されて
いる。FF24のデータ端子Dには、アドレス信号A7
が与えられ、このFF24の出力端子Q,/Qから、そ
れぞれ選択信号SE2,SE1が出力されるようになっ
ている。
とAND25bで構成され、これらのNAND25aと
AND25bの第1の入力側が電極21に接続されてい
る。また、NAND25aとAND25bの第2の入力
側には、それぞれ選択信号SE2,SE1が与えられる
ようになっている。そして、NAND25aとAND2
5bの出力側から、それぞれタイミング信号SPと制御
信号DQMが出力されるようになっている。タイミング
信号SPはAND14の第1の入力側に与えられ、制御
信号DQMは、対応する制御回路(例えば、図示しない
入出力バッファ制御回路)に与えられるようになってい
る。AND14の第2の入力側にはイネーブル信号EN
が与えられ、このAND14の出力側から、タイミング
信号SPによってパルス幅が制御されたイネーブル信号
ENXが出力されるようになっている。
3は、従来の半導体記憶装置においても、動作モードを
設定するためのモードレジスタ設定用の回路として備え
られているものである。
うに、時刻T11にモードレジスタ設定コマンド(チッ
プ選択信号/CS、ロウアドレス・ストローブ信号/R
AS、カラムアドレス・ストローブ信号/CAS、及び
書込制御信号/WEを、すべて“L”に設定することに
より、FF23をセットするためのコマンド)が入力さ
れると、NOR22から出力される信号MRSは“H”
となる。
立ち上がると、FF23に信号MRSが保持され、この
FF23から出力される信号MRSCLが“L”から
“H”に変化する。これにより、FF24にアドレス信
号A7の内容が保持される。
信号A7が“L”であれば、FF24には“L”のデー
タが保持され、このFF24から出力される選択信号S
E2,SE1は、それぞれ“L”,“H”となる。これ
により、セレクタ25のNAND25aから出力される
タイミング信号SPは“H”に固定される。また、AN
D25bからは、電極21に与えられる信号DQM/S
Pがそのまま出力される。
ロック信号CLKの立ち上がりから、次の時刻T14に
おけるクロック信号CLKの立ち上がりまでの間、イネ
ーブル信号ENが“H”になると、AND14からイネ
ーブル信号ENと同じパルス幅のイネーブル信号ENX
が出力される。
Lの立ち上がり時点でのアドレス信号A7が“H”であ
れば、FF24には“H”のデータが保持され、このF
F24から出力される選択信号SE2,SE1は、それ
ぞれ“H”,“L”となる。これにより、セレクタ25
のAND25bから出力される制御信号DQMは“L”
に固定される。また、NAND25aからは、電極21
に与えられる信号DQM/SPを反転したタイミング信
号SPが出力される。
ロック信号CLKの立ち上がりから、次の時刻T18に
おけるクロック信号CLKの立ち上がりまでの間、イネ
ーブル信号ENが“H”になると、AND14からは時
刻T17〜T18までの間にパルス幅が短縮されたイネ
ーブル信号ENXが出力される。
調整回路20は、試験装置からタイミング信号SPを与
えるための電極を、従来、実使用時のみに使用していた
電極と共用するように構成している。電極は、プローブ
を接触させたりワイヤによる配線を行うため、ゲート回
路等に比べて大きな面積を占めている。従って、試験用
の電極と実使用のための電極を共用することにより、集
積回路の面積の増加を抑えることができるという利点が
ある。
の実施形態を示す時間調整回路の図であり、図5(a)
中の要素と共通の要素には共通の符号が付されている。
この時間調整回路20Aは、図5(a)の時間調整回路
20と同様に、図1中の時間調整回路10または図4中
のAND14に代えて設けるものである。この時間調整
回路20Aは、ソースが電源電位VDDに接続され、ド
レインがノードN1に接続されたPチャネルMOSトラ
ンジスタ(以下、「PMOS」という)26,27を有
している。ノードN1は、ヒューズ28を介して接地電
位VSSに接続されている。PMOS26のゲートは、
抵抗29とダイオード30を介して電源電位VDDに接
続されると共に、キャパシタ31を介して接地電位VS
Sに接続されている。
が接続され、このインバータ32の出力側が、PMOS
27のゲートとインバータ33の入力側に接続されてい
る。そして、インバータ32,33から、それぞれ選択
信号SE2,SE1が出力され、セレクタ25に与えら
れるようになっている。
ーズ28が切断されていない状態でプロービングを行
う。ヒューズ28が切断されていないと、ノードN1は
強制的に“L”となり、選択信号SE2は“H”となっ
てPMOS27はオフ状態となる。また、キャパシタ3
1は抵抗29を介して電源電位VDDに充電され、PM
OS26もオフ状態となる。更に、選択信号SE2はイ
ンバータ33で反転され、このインバータ33から出力
される選択信号SE1は“L”となる。これにより、セ
レクタ25のAND25bから出力される制御信号DQ
Mは“L”に固定され、NAND25aからは、電極2
1に与えられる信号DQM/SPを反転したタイミング
信号SPが出力される。
エハ上のヒューズ28は切断され、個々のチップに切り
出されて、パッケージに組み立てられる。
パシタ31は抵抗29及びダイオード30によって放電
されているので、PMOS26のゲートは“L”となっ
ていて、このPMOS26はオン状態である。またヒュ
ーズ28は切断されているので、ノードN1は“H”と
なって選択信号SE2は“L”となる。従って、PMO
S27はオン状態となってノードN1は“H”となる。
その後、キャパシタ31が抵抗29を介して電源電位V
DDに充電され、PMOS26はオフ状態に変化する
が、PMOS27はインバータ32から出力される選択
信号SE2でオン状態に固定されているので、ノードN
1の電位は変化しない。これにより、セレクタ25のN
AND25aから出力されるタイミング信号SPは
“H”に固定され、AND25bからは、電極21に与
えられる信号DQM/SPがそのまま出力される。
ャパシタ31に充電されている電荷を速やかに放電し、
電源が再投入されたときの正しい動作を保証するための
ものである。
調整回路20Aは、ヒューズ28の接続/切断でセレク
タ25を切り替えるようにしている。これにより、第3
の実施形態の利点に加えて、更に回路構成を簡素化する
ことができるという利点がある。
ず、種々の変形が可能である。この変形例としては、例
えば、次のようなものがある。 (a) 時間調整回路10,20,20Aの構成は、図
示したものに限定されない。テストモード時に内部信号
生成回路1で生成されるイネーブル信号ENのパルス幅
を、実使用時のパルス幅と同等のパルス幅に短縮するこ
とができる回路であれば良い。
の構成は一例であり、図示したものに限定されない。
するもので、実使用時には“L”に固定するため、この
電極11に対応する外部端子は必要ないが、場合によっ
ては電極11に対応する外部端子を設けても良い。これ
により、パッケージに組み立てた後でも、低速の試験装
置を用いて実使用時の速度で読み書きの試験を行うこと
ができる。
によれば、テストモード時には動作制御信号のパルス幅
を所定のパルス幅に短縮させた動作許可信号を出力する
時間調整回路を有している。これにより、カラム線を活
性化する時間を短縮することができるので、低い周波数
で読み書きの試験を行うプロービングにおいても、実使
用時と同等のアクセス速度で試験を行うことができる。
外部から与えられるタイミング信号に従って、動作制御
信号のパルス幅を短縮させた動作許可信号を出力する時
間調整回路を有している。これにより、任意のタイミン
グでカラム線を活性化することができるので、低い周波
数で読み書きの試験を行うプロービングにおいても、実
使用時と同等のアクセス速度で試験を行うことができ
る。
定された動作モードに基づいて、特定の動作制御用の入
力端子をタイミング信号の入力用に切り替えて使用する
時間調整回路を有している。これにより、タイミング信
号やモード信号を入力するための端子を設ける必要がな
くなり、第1及び第2の発明の効果に加えて、回路面積
の増加を抑制することができる。
断によって動作モードを切り替えることができるモード
設定回路を有している。これにより、テスト終了後、ヒ
ューズを切断して通常動作モードに切り替えることが可
能になり、第3の発明に比べて更に回路構成を簡素化す
ることができる。
明において、特定の動作制御用の入力端子として、入出
力バッファ制御に用いる端子を使用している。これによ
り、その他の試験項目に影響を与えず、読み書きの動作
試験を行うことができる。
テストモードが指定された時に、内部信号生成回路で生
成される第1のパルス幅よりも短い第2のパルス幅の動
作許可信号を出力する時間調整回路を有している。これ
により、カラム線を活性化する時間を短縮することがで
きるので、低い周波数で読み書きの試験を行うプロービ
ングにおいても、実使用時と同等のアクセス速度で試験
を行うことができる。
信号生成回路で生成される第1のパルス幅よりも短い第
2のパルス幅の動作許可信号を出力する時間調整回路を
有している。これにより、カラム線を活性化する時間を
短縮することができるので、低い周波数で読み書きの試
験を行うプロービングにおいても、実使用時と同等のア
クセス速度で試験を行うことができる。
端子に与えられる第1のパルス幅よりも短い第2のパル
ス幅の動作許可信号を出力するセレクタを有している。
これにより、カラム線を活性化する時間を短縮すること
ができるので、低い周波数で読み書きの試験を行うプロ
ービングにおいても、実使用時と同等のアクセス速度で
試験を行うことができる。
の概略の構成図である。
の概略の構成図である。
図である。
図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 外部から与えられる制御信号に基づいて
読み書き動作制御信号を生成する内部信号生成回路と、 モード信号によってテストモードが設定された時には、
前記動作制御信号のパルス幅を所定のパルス幅に短縮さ
せた動作許可信号を出力し、該モード信号によって通常
動作モードが設定された時には、前記動作制御信号を動
作許可信号として出力する時間調整回路と、 メモリセルアレイの列方向のメモリセルをアドレス信号
に基づいて選択し、前記動作許可信号が与えられている
間、該選択したメモリセルに対応するカラム線を活性化
させるカラムデコーダとを、 備えたことを特徴とする半導体記憶装置。 - 【請求項2】 外部から与えられる制御信号に基づいて
読み書き動作制御信号を生成する内部信号生成回路と、 テスト時には、外部から与えられるタイミング信号に従
って前記動作制御信号のパルス幅を短縮させた動作許可
信号を出力し、通常動作時には、前記動作制御信号を動
作許可信号として出力する時間調整回路と、 メモリセルアレイの列方向のメモリセルをアドレス信号
に基づいて選択し、前記動作許可信号が与えられている
間、該選択したメモリセルに対応するカラム線を活性化
させるカラムデコーダとを、 備えたことを特徴とする半導体記憶装置。 - 【請求項3】 外部から与えられるレジスタ設定コマン
ドに基づいて、特定のアドレス信号をテストモードまた
は通常動作モードを指定する信号として保持するモード
レジスタと、 外部から与えられる制御信号に基づいて読み書きの動作
制御信号を生成する内部信号生成回路と、 前記モードレジスタに通常動作モードが設定されている
ときには、特定の動作制御用の入力端子に入力される信
号を対応する制御回路にそのまま出力すると共に、前記
内部信号生成回路で生成された動作制御信号をそのまま
動作許可信号として出力し、該モードレジスタにテスト
モードが設定されているときには、該制御回路を不活性
化させると共に、前記入力端子に入力されるタイミング
信号に従って前記動作制御信号のパルス幅を短縮させた
動作許可信号を出力する時間調整回路と、 メモリセルアレイの列方向のメモリセルをアドレス信号
に基づいて選択し、前記動作許可信号が与えられている
間、該選択したメモリセルに対応するカラム線を活性化
させるカラムデコーダとを、 備えたことを特徴とする半導体記憶装置。 - 【請求項4】 ヒューズが切断されていない状態でテス
トモードが設定され、該ヒューズを切断することによっ
て通常動作モードが設定されるモード設定回路と、 外部から与えられる制御信号に基づいて読み書きの動作
制御信号を生成する内部信号生成回路と、 前記モード設定回路に通常動作モードが設定されている
ときには、特定の動作制御用の入力端子に入力される信
号を対応する制御回路にそのまま出力すると共に、前記
内部信号生成回路で生成された動作制御信号をそのまま
動作許可信号として出力し、該モード設定回路にテスト
モードが設定されているときには、該制御回路を不活性
化させると共に、前記入力端子に入力されるタイミング
信号に従って前記動作制御信号のパルス幅を短縮させた
動作許可信号を出力する時間調整回路と、 メモリセルアレイの列方向のメモリセルをアドレス信号
に基づいて選択し、前記動作許可信号が与えられている
間、該選択したメモリセルに対応するカラム線を活性化
させるカラムデコーダとを、 備えたことを特徴とする半導体記憶装置。 - 【請求項5】 前記特定の動作制御用の入力端子は、入
出力バッファ制御に用いる端子であることを特徴とする
請求項3または4記載の半導体記憶装置。 - 【請求項6】 外部から与えられる制御信号に基づいて
第1のパルス幅を有する読み書き動作制御信号を生成す
る内部信号生成回路と、 モード信号によってテストモードが設定された時には、
前記第1のパルス幅よりも短い第2のパルス幅を有する
動作制御信号を出力し、該モード信号によって通常動作
モードが設定された時には、前記第1のパルス幅を有す
る前記動作許可信号を出力する時間調整回路と、 メモリセルアレイの列方向に配置されたメモリセルを指
定するアドレス信号及び前記動作許可信号が与えられ、
該動作許可信号が与えられている間、該アドレス信号に
よって指定されたメモリセルに対応するカラム線を活性
化させるカラムデコーダとを、 備えたことを特徴とする半導体記憶装置。 - 【請求項7】 外部から与えられる制御信号に基づいて
第1のパルス幅を有する読み書き動作制御信号を生成す
る内部信号生成回路と、 テスト時には、前記第1のパルス幅よりも短い第2のパ
ルス幅を有する動作制御信号を出力し、通常動作時に
は、前記第1のパルス幅を有する前記動作許可信号を出
力する時間調整回路と、 メモリセルアレイの列方向に配置されたメモリセルを指
定するアドレス信号及び前記動作許可信号が与えられ、
該動作許可信号が与えられている間、該アドレス信号に
よって指定されたメモリセルに対応するカラム線を活性
化させるカラムデコーダとを、 備えたことを特徴とする半導体記憶装置。 - 【請求項8】 第1の制御信号に基づいて第1のパルス
幅を有する読み書き動作制御信号を生成する内部信号生
成回路と、 特定のアドレス信号に応答して、テストモードを指定す
る信号及び通常動作モードを指定する信号を出力するモ
ードレジスタと、 制御端子と、 第1及び第2の出力端子を有し、前記テストモードを指
定する信号に応答して、前記制御端子に与えられた前記
第1のパルス幅よりも短い第2のパルス幅を有するタイ
ミング信号を該第1の出力端子から出力し、前記通常動
作モード信号を指定する信号に応答して、該制御端子に
与えられた第2の制御信号を該第2の出力端子から出力
するセレクタと、 前記モードレジスタが通常モードを指定する信号を出力
しているときには前記第1のパルス幅を有する読み書き
動作制御信号を動作許可信号として出力し、該モードレ
ジスタが前記テストモードを指定する信号を出力してい
るときには前記タイミング信号に基づいて該読み書き動
作制御信号のパルス幅を前記第2のパルス幅に変換し前
記第2のパルス幅を有する動作許可信号として出力する
論理回路と、 メモリセルアレイの列方向に配置されたメモリセルを指
定するアドレス信号及び前記動作許可信号が与えられ、
該動作許可信号が与えられている間、該アドレス信号に
よって指定されたメモリセルに対応するカラム線を活性
化させるカラムデコーダとを、 備えたことを特徴とする半導体記憶装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001354917A JP2003157699A (ja) | 2001-11-20 | 2001-11-20 | 半導体記憶装置 |
US10/136,280 US7006395B2 (en) | 2001-11-20 | 2002-05-02 | Semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001354917A JP2003157699A (ja) | 2001-11-20 | 2001-11-20 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003157699A true JP2003157699A (ja) | 2003-05-30 |
Family
ID=19166697
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001354917A Pending JP2003157699A (ja) | 2001-11-20 | 2001-11-20 | 半導体記憶装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7006395B2 (ja) |
JP (1) | JP2003157699A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005166245A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-06-23 | Samsung Electronics Co Ltd | 半導体メモリ装置、書き込み制御回路及びその書き込み制御方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4246977B2 (ja) * | 2002-08-29 | 2009-04-02 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | 半導体メモリ |
KR100557225B1 (ko) * | 2004-11-04 | 2006-03-07 | 삼성전자주식회사 | 반도체 메모리 장치의 데이터 입/출력 방법 및 이를 위한반도체 메모리 장치 |
DE602004032455D1 (de) * | 2004-12-15 | 2011-06-09 | St Microelectronics Srl | Ein nichtflüchtiger Speicher mit Unterstützung von hochparallelem Test auf Waferebene |
KR20220039954A (ko) * | 2020-09-22 | 2022-03-30 | 삼성전자주식회사 | 프로브 장치, 테스트 장치, 및 반도체 장치의 테스트 방법 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5652723A (en) * | 1991-04-18 | 1997-07-29 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor memory device |
JPH10241360A (ja) * | 1997-02-24 | 1998-09-11 | Kawasaki Steel Corp | 半導体記憶装置 |
JPH11317098A (ja) | 1998-04-30 | 1999-11-16 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置及びその試験方法 |
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US6748549B1 (en) * | 2000-06-26 | 2004-06-08 | Intel Corporation | Clocking an I/O buffer, having a selectable phase difference from the system clock, to and from a remote I/O buffer clocked in phase with the system clock |
-
2001
- 2001-11-20 JP JP2001354917A patent/JP2003157699A/ja active Pending
-
2002
- 2002-05-02 US US10/136,280 patent/US7006395B2/en not_active Expired - Lifetime
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JP2005166245A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-06-23 | Samsung Electronics Co Ltd | 半導体メモリ装置、書き込み制御回路及びその書き込み制御方法 |
JP4652782B2 (ja) * | 2003-12-01 | 2011-03-16 | 三星電子株式会社 | 半導体メモリ装置、書き込み制御回路及びその書き込み制御方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7006395B2 (en) | 2006-02-28 |
US20030097620A1 (en) | 2003-05-22 |
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