JPH11317098A - 半導体記憶装置及びその試験方法 - Google Patents

半導体記憶装置及びその試験方法

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JPH11317098A
JPH11317098A JP10120573A JP12057398A JPH11317098A JP H11317098 A JPH11317098 A JP H11317098A JP 10120573 A JP10120573 A JP 10120573A JP 12057398 A JP12057398 A JP 12057398A JP H11317098 A JPH11317098 A JP H11317098A
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JP
Japan
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signal
sense amplifier
semiconductor memory
cas
memory device
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Yasuhiro Fujii
康宏 藤井
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Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 欠陥が容易に発見できて信頼性を向上指せら
れるデバイスの実現及びそのための試験方法の実現。 【解決手段】 センスアンプSAと、センスアンプを活性
化する活性化信号SAE と、センスアンプをデータバスに
接続するコラム選択信号CLとを発生する制御回路とを備
える半導体記憶装置において、制御回路は、活性化信号
SAE とコラム選択信号CLのタイミング差が、所定の設定
範囲内である第1のモードと、活性化信号SAE とコラム
選択信号CLのタイミング差が、所定の設定範囲を越えて
設定できる第2のモードとを備え、第1と第2のモード
が選択可能である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、センスアンプを有
し、ロウアドレスとコラムアドレスによりメモリセルを
アクセスする半導体記憶装置及びその試験方法に関し、
特にタイミングに関する試験条件を変更可能にして、許
容範囲の測定や厳しい条件での試験を可能にして信頼性
を向上させた半導体記憶装置及びその試験方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体記憶装置(デバイス)は、
その記憶容量の増加、動作速度の高速化と共に、多様な
使用目的における動作の高い信頼性が要求されている。
例えば、銀行のオンライン端末や車両用エンジンの電子
制御などに用いられる場合、その信頼性は非常に高いこ
とが要求される。一方、微細化と記憶容量の増加は欠陥
を有するメモリセルの増加を招き、デバイスの動作の信
頼性は低下する危険性がある。
【0003】信頼性を向上するため、従来のデバイスに
おいては、動作試験を行うことにより欠陥を有するワー
ド線、センスアンプ、メモリセルを見つけ、試験をパス
できないデバイスは不良品とすることで信頼性を向上し
ている。また、製造の歩留りを向上させるため、冗長の
ワード線、センスアンプ、メモリセルを本来のワード
線、センスアンプ、メモリセルと別に設け、動作試験で
欠陥と判定されたワード線、センスアンプ、メモリセル
を冗長用のものに置き換えることが行われている。
【0004】ところが、デバイスを構成する素子の欠陥
には、幅広い欠陥の程度がある。上記の動作試験は、い
わばあるレベル以上の欠陥を発見する試験であり、その
レベルより若干よい程度の欠陥であれば、試験をパス
し、冗長素子との切り換えが行われない場合がある。こ
れらの欠陥を内包した素子はある特定の条件、例えば、
温度、電源電圧、入力タイミングでのみ動作不良とな
り、長期間使用しているうちに欠陥の程度が悪化して不
良を生じることになる。
【0005】このような欠陥を、読み出し動作における
DRAMのCAS系活性化信号を例として説明する。図
1は、DRAMのCAS系活性化信号発生回路の構成を
示す図であり、図2はそこにおける動作波形を示す図で
ある。外部から入力されるアドレスストローブ信号/R
ASと/CASは、それぞれ第1及び第2クロックジェ
ネレータ11、12に入力される。図2に示すように、
/RASは/CASより先に変化し、そのタイミング差
は通常tRCDで表される。第1クロックジェネレータ
11は/RASに応じてワード線出力信号WDDとセン
スアンプ活性化信号SAEを出力し、第2クロックジェ
ネレータ12は/CASに応じて信号を出力し、その信
号はインバータ13で反転されて信号CASZとなる。
図2に示すように、CASZはすぐに立ち上がるが、S
AEは/RASの後所定の時間の経過後発生される。こ
れは、上記のワード線出力信号WDDに応じてアクセス
する行のワード線が活性化され、アクセスする行のメモ
リセルがビット線に接続され、記憶されたデータに応じ
てビット線の電位がある程度変化した時点でセンスアン
プを活性化して、ビット線の電位を増幅するためであ
る。
【0006】NANDゲート14はSAEとCASZを
受けてCAS系活性化信号CAEを発生し、第3クロッ
クジェネレータ15に出力する。第3クロックジェネレ
ータ15は、CAEを受けてコラム選択信号CLを発生
させる。センスアンプによって電位が増幅されたビット
線は、コラム選択信号CLに応じて導通するコラムゲー
トを介してデータ入出力線に接続され、読み出したデー
タが出力される。
【0007】ここで、読み出したメモリセルに欠陥があ
って、ビット線に生じる差電圧が小さかったり、センス
アンプに欠陥があって増幅がうまく行えない場合、増幅
されるべきビット線の差電圧の増幅時間は正常なメモリ
セルやセンスアンプを有するビット線よりも遅くなる。
もし欠陥が重大であれば、この読み出し自体が失敗する
か、あるいはこれに続くコラムゲートを介しての読み出
しに失敗して不良と認識される。
【0008】しかしながら、センスアンプが活性化され
てからビット線がコラムゲートを介してデータ出力線に
接続されまである程度の時間があるため、軽度の欠陥で
ある場合には、データの読み出しにかろうじて成功して
良品とみなされる場合が生じる。この欠陥を含んだメモ
リセル、センスアンプは動作環境、例えば、電源電圧や
動作環境の温度、動作タイミングがある条件になった時
に不良となる危険性がある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】もちろん試験時には電
源電圧を高くしたり低くしたり、動作環境の温度を高く
したりするなど試験条件をより厳しくした試験を行うこ
とにより、上記のような欠陥を発見できるようにしてい
る。しかし、試験対象のデバイスは製品であり、試験で
あまり過酷な条件を課すことはできない。また、動作環
境の温度を高くする試験は設備も必要で長時間を要する
ため、試験に要するコストが高くなるという問題があ
る。このような問題はデバイスの信頼性を保つ上での大
きな障害になっており、上記のような欠陥が容易に発見
できるようにすること及びそのような試験方法が望まれ
ていた。
【0010】本発明は、このような問題を解決するため
のもので、欠陥が容易に発見できて信頼性を向上指せら
れるデバイスの実現及びそのための試験方法の実現を目
的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を実現するた
め、本発明の半導体記憶装置には、通常の動作では与え
ることにできない厳しい動作タイミングで動作できるよ
うな機構を設ける。具体的には、試験時にはセンスアン
プ活性化信号を任意のタイミングで発生できるようにす
る。これを利用して厳しい動作タイミングで試験できる
ようにして、欠陥の程度を評価できるようにし、欠陥の
程度に応じた対策をとれるようにすることで、デバイス
の信頼性を向上させる。
【0012】すなわち、本発明の半導体記憶装置は、セ
ンスアンプと、センスアンプを活性化するセンスアンプ
活性化信号と、センスアンプをデータバスに接続するコ
ラム選択信号とを発生する制御回路とを備える半導体記
憶装置において、制御回路は、センスアンプ活性化信号
とコラム選択信号のタイミング差が、所定の設定範囲内
である第1のモードと、センスアンプ活性化信号とコラ
ム選択信号のタイミング差が、前記所定の設定範囲を越
えて設定できる第2のモードとを備え、第1と第2のモ
ードが選択可能であることを特徴とする。
【0013】第2のモードにおけるセンスアンプ活性化
信号とコラム選択信号のタイミング差は、外部からの設
定入力信号により設定可能であることが望ましい。ま
た、第2のモードにおいては、設定入力信号のタイミン
グ変化に応じて、センスアンプ活性化信号とコラム選択
信号のタイミング差が変化するようにする。対象となる
半導体記憶装置がDRAMである場合には、外部入力信
号はCAS信号又は/CAS信号を利用する。
【0014】対象となる半導体記憶装置がSDRAMで
ある場合には、外部入力信号はCAS信号又は/CAS
信号を取り込む時のクロック信号を利用する。第1のモ
ードを通常モードとし、第2のモードをテストモードと
して試験を行う。対象となる半導体記憶装置がDRAM
である場合の試験方法は、第2のモードを選択し、CA
S信号又は/CAS信号のタイミングを早くして、セン
スアンプによる増幅が終了しないタイミングでコラム選
択信号を出力して、センスアンプをデータバスに接続し
た時の読み出しデータの確認を行う。
【0015】
【発明の実施の形態】図3は、本発明の実施例のCAS
系の活性化信号発生回路の構成を示す図であり、図4は
図3の回路における動作波形を示す図である。図1と比
較して明らかなように、本発明の実施例のCAS系の活
性化信号発生回路は、センスアンプ活性化信号SAEと
制御信号TEを受けるNORゲート21とその出力を反
転するインバータ22が設けられ、その出力SAE’が
NANDゲート14に入力される点が、図1に示した従
来例と異なり、他は従来例と同じである。
【0016】制御信号TEが「低(L)」の場合、セン
スアンプ活性化信号SAEは、NORゲート21とイン
バータ22で2回反転されてSAE’になる。従って、
NANDゲート14に入力される信号はSAE’は、従
来例においてNANDゲート14に入力される信号SA
Eより若干遅れている以外は同じ信号である。従って、
図4に示すように、制御信号TEが「低(L)」の場合
従来例とほぼ同じ動作でコラム選択信号CLが発生され
る。
【0017】これに対して、制御信号TEが「高
(H)」の場合、SAE’はSAEにかかわらず「H」
になるから、NANDゲート14の出力であるCAS系
活性化信号CAEはCASZが変化すると直ちに変化
し、これに応じて第3クロックジェネレータ15はコラ
ム選択信号CLを発生させる。従って、制御信号TEが
「H」の場合、CAS系活性化信号CAEはセンスアン
プ活性化信号SAEに律則されず、アドレスストローブ
信号/CASのタイミングに応じて決定されることにな
る。
【0018】すなわち、本実施例のCAS系の活性化信
号発生回路では、制御信号TEが「L」の場合、従来と
同様に/RASと/CASの遅延時間tRCDをいくら
小さくしてもデバイスではセンスアンプが活性化されて
から一定時間たたないとCAS系回路の活性化は行わな
い。これに対して、TEが「H」の場合には、tRCD
の設定により、CAS系活性化のタイミングをアナログ
的にどのタイミングにすることもできる。従って、通常
動作時にはTEを「H」とし、試験時にはTEを「L」
としてtRCDを変化させることにより、CAS系活性
化のタイミング条件を厳しくしても動作するかを試験で
きる。
【0019】図5は、DRAMのメモリセル/センスア
ンプの構成例を示す図である。この図を参照して、本実
施例のCAS系の活性化信号発生回路により発生した信
号を利用して行う試験について説明する。図5におい
て、WL1〜WLnはワード線であり、BL1と/BL
1はビット線対であり、図示していないがこのようなビ
ット線対が多数設けられている。ワード線WL1〜WL
nとビット線対BL1、/BL1の交点に対応してメモ
リセルを構成するトランジスタと容量C1、C2…が設
けられている。参照番号31で示す3個のトランジスタ
で構成される部分は、読み出し動作及び書込み動作の前
に、ビット線リセット信号BRSに応じてビット線対B
L1、/BL1の電位をプリチャージ電位にするリセッ
ト動作部で、VPRはプリチャージ用の電源線である。
参照符号SAで示す部分はセンスアンプであり、センス
アンプドライバを構成するNチャンネルトランジスタN
SAとPチャンネルトランジスタPSAがセンスアンプ
活性化信号SAEに応じて導通すると、電源線に接続さ
れて活性化し、ビット線対BL1、/BL1の電位差を
増幅する。参照番号32で示される2個のトランジスタ
で構成される部分は、コラム選択ゲートであり、コラム
選択信号CLに応じてビット線対BL1、/BL1をデ
ータ入出力線DB、/DBに接続する。センスバッファ
・ライトアンプ34は、読み出し動作時にはコラム選択
ゲートが導通してデータ入出力線DB、/DBに現れた
ビット線対BL1、/BL1の電位差を増幅して読み出
しデータとして出力し、書込み動作時にはデータ入出力
線DB、/DBを書込みデータに応じた状態にする。こ
のデータ入出力線DB、/DBの状態は、コラム選択ゲ
ートが導通するとビット線対BL1、/BL1に印加さ
れる。第4クロックジェネレータ35は、CAS系活性
化信号CAEを受けて、センスバッファ・ライトアンプ
34の動作を制御する信号を出力する。
【0020】図6は、図5の回路の読み出し時の動作波
形を示す図である。まず、通常動作について説明する。
アクセス動作の開始前、BRSは「H」であり、ビット
線対BL1、/BL1の電位はプリチャージレベルにな
っている。ここで/RASに続いて/CASが入力され
る。このタイミングの差がtRCDである。/RASと
/CASの入力に応じて、BRSが「L」になり、リセ
ット動作部は動作を停止する。図3の第1クロックジェ
ネレータ11は/RASを受けるとワード線出力信号W
DDを出力するので、これに応じてワード線選択信号W
L1が出力され、メモリセルのトランジスタTr1が導
通して容量C1に記憶されたデータに応じてビット線B
L1の電位が変化を開始する。第1クロックジェネレー
タ11は、ビット線BL1と/BL1の間の電位差があ
る程度大きくなった時点でセンスアンプ活性化信号SA
Eを出力するので、センスアンプSAが動作を開始す
る。センスアンプSAは、ビット線BL1と/BL1の
間の電位差を更に増幅する。ここで、図6で実線で示す
BL1、/BL1は欠陥のない場合のBL1、/BL1
の電位の変化を示す。
【0021】前述のように、通常動作の時には、センス
アンプ活性化信号SAEが出力された後、3段分のゲー
トでの遅延の後、CAS系活性化信号CAEが立ち上が
る。そして、第3クロックジェネレータ15は、CAE
の後所定時間後にコラム選択信号CLを出力し、これに
応じてビット線対BL1、/BL1がデータ入出力線D
B、/DBに接続される。欠陥がなければ、BL1、/
BL1の電位差は所定値まで増幅されている。このよう
に、通常動作時には、センスアンプSAによりビット線
BL1と/BL1の間の電位差が十分に増幅された後、
コラム選択ゲートが導通するように、センスアンプ活性
化信号SAEの出力後、ある程度の時間が経過してから
コラム選択信号が立ち上がるようになっている。
【0022】前述のように、メモリセルに欠陥があっ
て、ビット線に生じる差電圧が小さかったり、センスア
ンプに欠陥があって増幅がうまく行えない場合、増幅さ
れるべきビット線の差電圧の増幅時間は正常なメモリセ
ルやセンスアンプを有するビット線よりも遅くなる。も
し欠陥が重大であれば、この増幅自体が行えなかった
り、逆の電位差に増幅するといった欠陥になる。しか
し、軽度の欠陥である場合には、図6で破線で示すよう
に、単に増幅が遅くなるだけであり、センスアンプが活
性化されてからビット線がコラムゲートが導通するまで
ある程度の時間があるため、コラムゲートが導通した時
点ではある程度の電位差に増幅され、データの読み出し
にかろうじて成功して良品とみなされる場合が生じる。
【0023】本実施例では、図3及び図4で説明したよ
うに、制御信号TEを「H」にすれば、センスアンプ活
性化信号SAEとCAS系活性化信号CAEの間の時間
を外部からの制御により短縮することができる。コラム
選択信号CLは、CAS系活性化信号CAEの後所定時
間後に立ち上がるので、センスアンプ活性化信号SAE
とコラム選択信号CLの間の時間を短縮することができ
る。図6において、コラム選択信号CLの立ち上がりタ
イミングをセンスアンプ活性化信号SAEの方に近づけ
ると、ビット線対BL1、/BL1の電位差が十分に増
幅されない時点でコラムゲートが導通し、これまで良品
とみなされていた軽度の欠陥を有するものは正常な動作
が行えなくなり、欠陥があることが分かる。
【0024】このようにして、現在は軽度であっても動
作の不安定性や将来の動作不良を招きかねない欠陥を有
するメモリセル、センスアンプを検出できることにな
り、これらを冗長用の素子と置き換えて救済するか、あ
るいは不良品として排除することができる。従って、デ
バイスの信頼性が向上する。次に、実施例における制御
信号TEの発生回路について説明する。図7は、TE信
号発生回路の構成例を示す図である。図7の(1)は、
デバイスに設けたパッド41と、インバータ43、44
と抵抗41で構成され、プロービングテスト時にパッド
41に電圧を印加することによりTEを発生する回路で
ある。パッド41に電圧を印加しない時には、インバー
タ43の入力は抵抗41を介して接地されるのでTEは
「L」になり、パッド41に電圧を印加した時には、イ
ンバータ43の入力は「H」になるので、TEは「H」
になる。
【0025】図7の(2)は、デバイスに設けたパッド
51と、トランジスタ52〜56と、インバータ57、
58で構成され、TEは、パッド51に電源電圧より高
い電圧を印加すると「H」になり、パッド51に電圧を
印加しないと「L」になる。また、DRAMなどでは、
/RASと/CASの入力タイミングとその時の他の入
出力ピンの状態により各種のモードを指定できるように
なっているが、これを利用してTEを発生させることも
可能である。例えば、/RASの前に/CASを入力
し、/WE端子を「H」にするWBCR(CAS before RA
S cycle で/WE端子を「H」する。)のような特殊タイ
ミング入力時に、あるアドレスピン等の特定入力ピンに
電圧を印加することにより、制御信号TEが「L」から
「H」に変化する回路を設ける。この場合の入力信号の
波形を図8に示す。図示のように、/WEを「H」に、
あるアドレスピンを「H」にした状態で、/RASの前
に/CASを入力すると、TEが「H」になる。後の動
作は同じであり、/RASと/CASのタイミング差を
適当に設定して試験を行う。
【0026】他にも近年の半導体記憶装置に用いられる
モード・レジスタ・セット方式、パケット方式等を利用
してTE信号発生回路を実現することができる。上記の
実施例は汎用のDRAMにおける例であるが、近年動作
速度を高速化するために、外部から供給されるクロック
信号に同期して動作するシンクロナスDRAM(SDR
AM)と呼ばれる半導体記憶装置が実用に供されてい
る。SDRAMの場合、内部/RASや内部/CAS及
びセンスアンプ活性化信号SAEなどの発生はクロック
に同期して行われるので、図3のような回路を使用して
/RASと/CASの入力タイミングをずらしても、セ
ンスアンプ活性化信号SAEとコラム選択信号CLの間
の時間を変化させることはできない。そこで、SDRA
Mの場合には、テスタなどが備えるクロック信号のタイ
ミングを途中でずらす機能を使用する。
【0027】図9は、上記のようなテスタの機能を利用
してSDRAMにおける内部/CASの発生をずらす方
法を示すタイムチャートである。図示のように、/RA
Sが入力されると内部/RASが発生され、その後3番
目のクロックCLKの時に/CASが入力され、それに
応じて内部/CASが発生される。通常動作時には、一
定のサイクルのクロックが入力されるが、試験のために
内部/CASの発生タイミングをずらす時には、図示の
ように内部/RASを発生させたクロックCLKから3
番目以降のクロックは、速くなる方向にずらす。これに
より、内部/CASは、ずれた3番目のクロックの立ち
上がりエッジに同期して発生されるので、通常時に比べ
て、内部/RASが発生されてから内部/CASが発生
されるまでの時間、すなわち、センスアンプ活性化信号
SAEとコラム選択信号CLの間の時間を変化させるこ
とができる。クロックをずらす量を変化させながら試験
を行う。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
本発明によれば、出荷後使用中に不良になる危険性をも
った軽度の欠陥を有する素子を検出して救済あるいは排
除することができるようになり、デバイスの動作信頼性
を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のCAS系活性化信号発生回路の構成を示
す図である。
【図2】従来のCAS系活性化信号発生回路の動作を示
す図である。
【図3】本発明の実施例のCAS系活性化信号発生回路
の構成を示す図である。
【図4】本発明の実施例のCAS系活性化信号発生回路
の動作を示す図である。
【図5】DRAMのメモリセル/センスアンプの構成例
を示す図である。
【図6】本発明を適用したDRAMの動作波形を説明す
る図である。
【図7】制御信号TEを発生させる回路例を示す図であ
る。
【図8】既存の機能を利用してTEを発生させる回路を
設けた場合の入力波形を示す図である。
【図9】SDRAMにおける内部/CAS信号の発生タ
イミングをずらす方法を示す図である。
【符号の説明】
11…第1クロックジェネレータ 12…第2クロックジェネレータ 15…第3クロックジェネレータ 31…ビット線リセット回路 32…コラム選択ゲート 35…第4クロックジェネレータ WL1〜WLn…ワード線 BL1、/BL1…ビット線 SA…センスアンプ

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 センスアンプと、 該センスアンプを活性化するセンスアンプ活性化信号
    と、前記センスアンプをデータバスに接続するコラム選
    択信号とを発生する制御回路とを備える半導体記憶装置
    において、 前記制御回路は、 前記センスアンプ活性化信号と前記コラム選択信号のタ
    イミング差が、第1の時間である第1のモードと、 前記センスアンプ活性化信号と前記コラム選択信号のタ
    イミング差が、前記第1の時間より短かい第2の時間に
    設定できる第2のモードとを備え、 前記第1と第2のモードが選択可能であることを特徴と
    する半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の半導体記憶装置であっ
    て、 前記第2のモードにおける前記センスアンプ活性化信号
    と前記コラム選択信号のタイミング差は、外部からの設
    定入力信号により設定可能である半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の半導体記憶装置であっ
    て、 前記第2のモードにおいて、前記設定入力信号のタイミ
    ング変化に応じて、前記センスアンプ活性化信号と前記
    コラム選択信号のタイミング差が変化する半導体記憶装
    置。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載の半導体記憶装置であっ
    て、 当該半導体記憶装置はDRAMで、前記外部入力信号は
    CAS信号又は/CAS信号である半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 請求項3に記載の半導体記憶装置であっ
    て、 当該半導体記憶装置はSDRAMで、前記外部入力信号
    はCAS信号又は/CAS信号を取り込む時のクロック
    信号である半導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 請求項1に記載の半導体記憶装置であっ
    て、 前記第1のモードは通常モードであり、前記第2のモー
    ドはテストモードである半導体記憶装置。
  7. 【請求項7】 請求項4に記載の半導体記憶装置の試験
    方法であって、 前記第2のモードを選択し、前記CAS信号又は/CA
    S信号のタイミングを早くして、前記センスアンプによ
    る増幅が終了しないタイミングで前記コラム選択信号を
    出力して、前記センスアンプを前記データバスに接続し
    た時の読み出しデータの確認を行うことを特徴とする半
    導体記憶装置の試験方法。
  8. 【請求項8】 センスアンプと、 該センスアンプを活性化するセンスアンプ活性化信号
    と、前記センスアンプをデータバスに接続するコラム選
    択信号とを発生する制御回路とを備える半導体記憶装置
    において、 前記制御回路は、 テストモード時、前記センスアンプ活性化信号と前記コ
    ラム選択信号のタイミング差を、外部信号に応答して制
    御可能なように構成されていることを特徴とする半導体
    記憶装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7006395B2 (en) 2001-11-20 2006-02-28 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor integrated circuit
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