JP2010091524A - 半導体装置とテスト方法 - Google Patents

半導体装置とテスト方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2010091524A
JP2010091524A JP2008264140A JP2008264140A JP2010091524A JP 2010091524 A JP2010091524 A JP 2010091524A JP 2008264140 A JP2008264140 A JP 2008264140A JP 2008264140 A JP2008264140 A JP 2008264140A JP 2010091524 A JP2010091524 A JP 2010091524A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
output
power supply
internal power
signal
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008264140A
Other languages
English (en)
Inventor
Chiaki Dono
千晶 堂野
Atsushi Fujikawa
敦史 藤川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Micron Memory Japan Ltd
Original Assignee
Elpida Memory Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Elpida Memory Inc filed Critical Elpida Memory Inc
Priority to JP2008264140A priority Critical patent/JP2010091524A/ja
Priority to US12/292,432 priority patent/US7898884B2/en
Publication of JP2010091524A publication Critical patent/JP2010091524A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/317Testing of digital circuits
    • G01R31/31723Hardware for routing the test signal within the device under test to the circuits to be tested, e.g. multiplexer for multiple core testing, accessing internal nodes
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/02Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/02Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters
    • G11C29/021Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters in voltage or current generators
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/1201Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details comprising I/O circuitry
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/48Arrangements in static stores specially adapted for testing by means external to the store, e.g. using direct memory access [DMA] or using auxiliary access paths

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

【課題】内部電源モニタ専用端子を設けることを不要とし、並列テスト可能なデバイスの個数の増加を可能とする半導体装置及びそのテスト方法の提供。
【解決手段】内部電源(VPP、VKK、VARY、VPERI)をそれぞれ生成する内部電源生成回路と、データ信号の出力(O)又は入出力(IO)が行われるデータ端子(DQ0、DQ1、DQ2、DQ3)を備え、内部電源モニタ用端子をデータ端子と共用し、テスト制御信号によってデータ端子(DQ0、DQ1、DQ2、DQ3)に内部電源生成回路からの出力電圧を出力するかしないかを選択する選択回路(100、101、102、103)を備えている。
【選択図】図2

Description

本発明は半導体装置に関し、特に、パラレルテストに好適な半導体装置とテスト方法に関する。
プローバとテスト装置(メモリテスタ又はLSIテスタ等)を用い、被試験デバイスをウェハ状態でテストするウェハテストにおいて、テスト時間を短縮し、テストコストの低減を図るため、複数個の被試験デバイスを同時測定する並列テストが用いられている。メモリデバイス又はメモリを内部に含むデバイスの並列テストにおいて、アドレス、コマンドは同時測定対象の複数の被試験デバイスに共通に与えられるが、被試験デバイスから出力されるデータについては、デバイス毎に個別にプローバを介してテスタ側に供給され、該テスタにてそれぞれの出力データを期待値データと比較し、個々のデバイスのパス・フェイルの判定が行われる。デバイス内部で生成される内部電源についても、同様にして、デバイス毎に個別に、測定が行われる。すなわち、デバイスのアドレスPAD(パッド)は、同時測定対象の複数の被試験デバイス間で共通のプローブに接続され、コマンドPADは同時測定対象の複数の被試験デバイス間で共通のプローブに接続され、データ信号の入出力PAD(DQ PAD)及び電源モニタ用のPADは、同時測定対象の複数の被試験デバイス毎に、別々のプローブに接続される。
図8は、並列テストにおけるプローバと各デバイスの接続関係の一例を示す図である。図8を参照すると、1つのプローバ20あたり、並列テスト対象(同時測定対象)の被試験デバイスとして、ウェハ上のN個のデバイス#1〜#Nが接続される。デバイスのアドレス(ADD)、コマンド(COM)PADは、デバイス1〜#N間で共通のプローブに接続され、プローブ数を節約している。内部電源のモニタ用PADは、デバイス毎に設けられている。図8に示す例では、内部電源モニタ用の専用のPADとして、1デバイス当り、4つの専用PADが設けられており、各PADが、デバイス毎に、個別に、プローブ30に接続されている。より詳細には、ワード線駆動等に用いられる昇圧電位VPP、ワード線非選択時の電位として用いられる負電位VKK、センスアンプ電源等に用いられるメモリアレイ電源電位VARY、周辺回路用の電源電位VPERIをそれぞれ生成する電源生成回路の出力にそれぞれ接続される計4つのPADが、デバイス毎に、個別に、プローブ30に接続されている。DQ PAD、電源モニタ用PADは、デバイス毎のパス/フェイル判定、デバイス毎の電圧測定が必要であることから、デバイス間で共通化はできない。なお、図8において、ARYはメモリセルアレイ、ROW COL controlは、ロウデコーダ、カラムデコーダ、センスアンプ等、ロウアドレス、カラムアドレス制御回路である。DQ PADに接続された入出力バッファ(I/O Buffer)は、データ信号の入出力回路(入力バッファ+出力バッファ)である。ADD COM controlは、アドレスレジスタ、コマンドデコーダ、モードレジスタ等を含む制御回路である。
図8に示すように、デバイス内部では、各種内部電源電圧を使用しており、テストにおいて、内部電源を測定するための内部電源モニタ用PADの個数の低減は困難である。
なお、特許文献1には、外部ピン端子数を増やすことなく必要最小限のピン端子数で内部電圧の外部モニタ、及び外部からの強制設定を可能とした半導体集積回路が開示されている。また特許文献2には、内部電源回路の出力電圧状態を外部端子からモニタ可能とし内部電圧のトリミングを容易とする半導体集積回路が開示されている。
特開2002−074996号公報 特開2006−179175号公報
以下に本発明による分析を与える。上記したように、半導体デバイスにおいて、内部電源モニタ用のPADを専用に設け、並列のウェハテストでは、内部電源モニタ用の専用PADから、デバイス毎、及び内部電源毎に、並列にプローブすることで、内部電源電圧を測定し、内部電源電圧の調整(トリミング等)を行っており、内部電源モニタ用のPAD数を減らすことは困難である。プローバのプローブ数には上限がある。このため、デバイスの内部電源モニタ用のPADの数を減らすことが困難であることは、並列テスト可能なデバイス数の増大が困難であることを意味する。
本願で開示される発明は、概略以下の構成とされる。
本発明の1つの側面によれば、内部電源モニタ用の端子を信号端子(出力(O)端子又は入出力(IO)端子)と共用し、テスト制御信号に応じて、前記信号端子に、前記内部電源生成回路からの電圧を出力するかしないかを選択する選択回路を備えた半導体装置が提供される。前記信号端子から前記内部電源電圧を出力する場合、前記信号端子に信号を出力する出力バッファは非活性状態とされる。
本発明によれば、内部電源モニタ用の端子を、信号の出力又は入出力が行われる信号端子と共用し、テスト制御信号に応じて、前記信号端子に、内部電源電圧を出力するかしないかを選択する半導体装置のテストにあたり、
前記半導体装置の前記テスト制御信号を、前記信号端子から前記内部電源電圧を出力するモードに設定し、
前記半導体装置の前記信号端子から出力される前記内部電源電圧の出力電圧を測定するテスト方法が提供される。
本発明によれば、デバイス内の内部電源をモニタするための端子と、デバイスの信号端子とを共用することで、内部電源モニタ専用端子を設けることを不要とし、並列テスト可能なデバイスの個数の増加を可能としている。
本発明の実施の形態を以下に説明する。ウェハテストにおける並列テストでは、複数の被試験デバイスに対して共通に印加される信号の本数は多いが、データ端子(DQ PAD)は、該端子からの出力データ信号のパス/フェイル判定を行うため、各デバイス毎に独立とされる(デバイス毎別々に、並列に複数のデータ端子の信号が取り出される)。本発明においては、内部電源モニタ用の端子(PAD)を、データ端子(DQ PAD)と共用し、データ端子(DQ PAD)から内部電源電圧を出力するか、データ信号を出力するかを選択するための選択回路(100、101、102、103)を備え、テストモードを制御するテスト制御信号によって、該選択回路の選択を制御する。
本発明においては、内部電源モニタ用の端子とデータ端子(DQ PAD)とを共用することで、並列テストにおいて、内部電源を同時測定するための専用の端子(PAD)を設けることを不要とし、1デバイス当り必要なプローブ数を縮減し、同時測定数(並列テスト可能なデバイスの個数)を増加させる。すなわち、本発明によれば、デバイスの端子(PAD)数を増加させることなく、並列テストにおいて、複数のデバイスの内部電源の同時測定を可能としている。この結果、本発明によれば、ウェハテストにおける同時測定数を増加可能とし、ウェハテストの時短およびテストコストの削減が可能である。以下実施例に即して説明する。
図1は、本発明の一実施例のDRAMデバイスの全体構成を示す図である。特に制限されないが、図1のDRAMデバイスは、8バンク構成のDDR(Double Data Rate:クロックの立ち上がりと立ち下がりの両エッジに同期してデータをやり取りする)SDRAM(Synchronous DRAM)である。図1において、ロウデコーダ1−4は、ロウアドレスをデコードし選択されたワード線(不図示)を駆動する。センスアンプ1−2は、メモリセルアレイ1−1のビット線(不図示)に読み出されたデータを増幅し、リフレッシュ動作時にはリフレッシュアドレスで選択されたワード線のセルに接続するビット線に読み出されたセルデータを増幅して該セルへ書き戻す。カラムデコーダ1−3は、カラムアドレスをデコードし、選択されたYスイッチ(不図示)をオンとしてビット線を選択し、IO線(不図示)に接続する。コマンドデコーダ1−9は、所定のアドレス信号と、制御信号として、チップセレクト信号/CS、ロウアドレスストローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CAS、ライトイネーブル信号/WEを入力し、コマンドをデコードする(なお、信号名の/はLowでアクティブであることを示す)。カラムアドレスバッファ及びバーストカウンタ1−7は、コマンドデコーダ1−9からの制御信号を受けるコントロールロジック1−10の制御のもと、入力されたカラムアドレスから、バースト長分のアドレスを生成し、カラムデコーダ1−3に供給する。
モードレジスタ1−5は、SDRAMの動作モードを制御する情報を格納するレジスタである。モードレジスタ1−5は、/CS、/RAS、/CAS、/WE、BA0、BA1、BA2をLowとし、アドレスA0−A13の各ビットを予め定められた所定値に設定することで(MRS(Mode Register Set)コマンド)、例えば/CASレイテンシ、バースト長、バーストタイプ、テストモード等が設定される。モードレジスタ1−5への書き込みの前にCKEはHighとされ、PALL(Precharge ALL)コマンドによって全バンクはプリチャージされている必要がある。モードレジスタ1−5は、パワーアップシーケンスでMRSコマンドにより設定されるが、モードレジスタ1−5の内容は、ノーマルモードにおいて、全バンクがプリチャージされている限り、MRSコマンドにより、書き換え可能である。モードレジスタ1−5はコントロールロジック1−10に制御信号を出力する。本発明に制限を課すものではないが、モードレジスタ1−5には、EMRS(Extended Mode Register Set)によってそれぞれ設定されるEMR(Extended Mode Register)、EMR(2)あるいはEMR(3)を備えている。EMRS、EMRS(2)、(3)は、/CS、/RAS、/CAS、/WEをLowとし、EMRSはBA0をHigh、BA1、BA2をLow、EMRS(2)はBA1をHigh、BA0、BA2をLow、EMRS(3)はBA2をHigh、BA0、BA1をLowとし、アドレスA0−A13の各ビットを予め定められた所定値に設定することで設定される。
EMRSコマンドにおいて、例えばアドレスA12ビットを1とすることで、EMRには、出力バッファ・ディスエーブル情報が書き込まれ、アドレスA12ビットを0のとき、出力バッファはイネーブル状態とされる。出力バッファ・ディスエーブルのとき、出力バッファはオフとされ、出力はハイインピーダンス状態とされる。EMRも、全バンクがプリチャージされている限り、EMRSコマンドにより、書き換え可能である。
ロウアドレスバッファ及びリフレッシュカウンタ1−6のロウアドレスバッファは、入力されたロウアドレスを受けて、ロウデコーダ1−4に出力し、リフレッシュカウンタは、リフレッシュコマンドを入力してカウントアップ動作し、カウント出力を、リフレッシュアドレスとして出力する。ロウアドレスバッファからのロウアドレスとリフレッシュカウンタからのリフレッシュアドレスはマルチプレクサ(不図示)に入力され、リフレッシュ時には、リフレッシュアドレスが選択され、それ以外は、ロウアドレスバッファからのロウアドレスを選択し、ロウデコーダ1−4に供給される。
クロックジェネレータ1−14は、DRAMデバイスに供給される相補の外部クロックCK、/CKを受け、クロックイネーブル信号CKEがHighのとき、内部クロックを出力し、クロックイネーブル信号CKEがLowとなると、以降、クロックの供給を停止する。
データコントロール回路1−8は、書き込みデータと読み出しデータの入出力を行う。ラッチ回路1−11は書き込みデータと読出しデータをラッチする。DLL1−12は、外部クロックCK、/CKに遅延同期した信号を生成し、入出力バッファ1−13に供給する。メモリセルアレイ1−1からの読み出しデータはラッチ回路1−11から入出力バッファ1−13に供給され、入出力バッファ1−13は、DLL1−12で外部クロックCKに同期したクロック信号の立ち上がりと立ち下がりのエッジを用いて、データ端子DQから読み出しデータをダブルデータレートで出力する。入出力バッファ1−13は、データ端子DQ(データの出力と入力が行われるIO端子)からのデータの入出力を行う。本実施例において、データ端子DQの複数個は、内部電源モニタ用の端子としても用いられる。
DMは書き込みデータのデータマスク信号であり、ライト時、Highのときデータは書き込まれる。DQS、/DQSは、データのライト、リードのタイミングを規定する差動のデータストローブ信号であり、ライト動作時に入力信号、リード動作時に出力信号のIO信号である。RDQS、/RDQSは、リード動作専用の差動データストローブ信号である。ODT(On Die Termination)はDQ、DQS、/DQS、RDQS、/RDQSの終端抵抗をオン・オフさせる制御信号である。なお、図1は、DRAMデバイスの一典型例を模式的に示したものであり、本発明はかかる構成に限定されるものでないことは勿論である。
図2は、本発明の一実施例を説明する図である。図2には、前述した図8と同様、ウェハテスト時のプローバと、並列テスト対象(同時測定対象)の複数のデバイスの接続関係が示されている。図2において、プローバ20を、図8のプローバ20と同一とした場合、M個のデバイス#1〜#Mが、並列テスト対象の被試験デバイスとして接続されている(同時にM個のデバイスが測定可能)。図2のMは、図8のNより大きい。
本実施例において、図2のデバイス#1〜#Mは、図1のSDRAMとする。アドレス(ADD)、コマンド(COM)は、デバイス毎に共通のプローブに接続される。なお、図2では、図1のアドレス(図1のアドレス信号A0〜A13、BA0、BA1、BA2)は、簡単のため、1つのPAD、1本のプローブで図示されている。また制御信号(/CS、/RAS、/CAS、/WE)等で与えられるコマンドも簡単のため、1つのPAD、1本のプローブ30で図示されている。
図2において、DQ PAD(DQ0、DQ1、DQ2、DQ3)は、図1のSDRAMにおいて、例えば32ビット幅(4バイト)のデータの場合、32個(DQ0〜DQ31)が配設されるが、そのうちの4個が示されていることに対応し、残りのDQ PAD(不図示のDQ4〜DQ31)は、データ信号の入出力専用とされる。16ビット幅(2バイト)、8ビット幅のデータの場合、16個(DQ0〜DQ15)、7個(DQ0〜DQ7)のうちの4個が示されていることに対応し、残りのDQ PAD(不図示のDQ4〜DQ15、あるいは、DQ4〜DQ7)は、データ信号の入出力専用とされる。4ビット幅のデータの場合、DQ0〜DQ4の全てが内部電源モニタ用の端子となる。
図2に示すように、本実施例において、VPP電源生成回路(VPP gen)、VKK電源生成回路(VKK gen)、VARY電源生成回路(VARY gen)、VPER電源生成回路(VPER gen)は、それぞれ、選択回路100、101、102、103を介して、DQ PAD(DQ0、DQ1、DQ2、DQ3)に接続されている。選択回路100〜103は、電源生成回路で生成される内部電源電圧のレベルに対応して適宜レベル変換してCMOSレベル(CMOS振幅)に変換し、DQ PADから出力する。特に制限されないが、DQ PADの振幅はVSS(0V)〜VDD(1.8V)とする。
I/Oバッファは、それぞれDQ PAD(DQ0、DQ1、DQ2、DQ3)に接続される。なお、I/Oバッファは、図1の入出力バッファ1−13に対応し、複数のDQPADに対する、複数のI/Oバッファが1つのブロックにて図示されている。
本実施例においては、図2に示すように、図8において設けられていた内部電源モニタ専用のPADは存在しない。このため、プローバのプローブ本数が同一という条件において、図8と比較して、プローブ数を削減でき、同時測定数を増加することができる(M>N)。なお、図2では、4つの内部電源生成回路の構成が示されているが、本発明において、並列テストにおいてモニタ対象の内部電源生成回路は4個に制限されるものでないことは勿論である。
DQ PADは、デバイス毎に、個別に、プローブ30にそれぞれ接続され、テスタにおいて個別に測定されるため、内部電源電の並列測定において、問題は生じない。すなわち、本実施例において、各デバイスのDQ PAD(DQ0〜DQ3)に並列に出力される電源電圧は、プローブ30、プローバ20を介して、不図示のテスタの電圧測定回路にそれぞれ入力され、並列に測定される。すなわち、図2に示す例では、不図示のテスタは、少なくとも4×M個の電圧測定回路にて電圧の同時測定が可能な構成を前提としている。
本実施例において、選択回路100、101、102、103は、後に詳細に説明されるように、回路オーバーヘッドも小さい。
本実施例において、各電源生成回路の電源電圧をモニタする場合、DQ PADが使用されていない期間、すなわち、リード、ライトアクセス時の以外の電源電圧については、不図示のテスト制御信号により、選択回路100〜103を制御することによって、DQ PAD(DQ0〜DQ3)からそれぞれ電源電圧を測定することができる。テスト制御信号は、図1のモードレジスタ1−5に設定された値に基づき、コントロールロジック1−10から出力され、選択回路100〜103に共通に入力される。
図3は、図2のVPERI電源生成回路(VPERI gen)の出力電圧を受ける選択回路103の構成の一例を説明する図である。特に制限されないが、VPERI=1.35Vとしている。VARY電源生成回路(VARY gen)の出力電圧を受ける選択回路102の構成も同様とされる(VARY=1.2V)。
図3を参照すると、選択回路103は、VPERI電源生成回路(VPERI gen)の出力に接続された入力端子にドレインが接続され、ゲートにTEST MODE信号(内部電源出力Enable)を受け、ソースが選択回路103の出力端子(DQ PAD DQ3に接続される)に接続されたNMOSトランジスタNM1を備え、選択回路103の出力端子と電源VSS間には、ゲートとソースが共通に電源VSSに接続され、入力保護回路として機能するNMOSトランジスタNM2が接続されている。NMOSトランジスタNM2はDQ PAD側からの入力電圧に対して内部電源生成回路(VPERI gen)を保護する。なお、入力端子と選択回路103の出力端子間に、TEST MODE信号(内部電源出力Enable)をゲートに共通に受けるNMOSトランジスタを複数個並列に接続することで、電流駆動能力を増す構成としてもよいことは勿論である。
特に制限されないが、本実施例において、TEST MODE信号(内部電源出力Enable)は、図1のコントロールロジック1−10から出力されるテスト制御信号(振幅VSS−VDD)に対して、High側の電位を昇圧電圧VPPとした信号であり、振幅はVSSとVPP(昇圧電位)の範囲とされる。
図3において、TEST MODE信号が昇圧電圧VPPのとき(内部電源出力イネーブル状態)、NMOSトランジスタNM1がオンし、DQ PAD DQ3には、VPERI電源生成回路(VPERI gen)の出力電圧が出力される。一方、TEST MODE信号(内部電源出力Enable)が電圧VSSのとき、NMOSトランジスタNM1はオフ状態とされ、VPERI電源生成回路(VPERI gen)の出力電圧は出力されない。入力バッファ(INPUT BUFFER)と出力バッファ(OUTPUT BUFFER)は、図2のI/Oバッファ(I/O Buffer)の1つを構成している。
ウェハテストにおいて、DQ PAD DQ3から、VPERI電源生成回路(VPERI gen)の出力電圧を出力するとき、I/Oバッファ(I/O Buffer)のうち、出力バッファ(Output Buffer)はディスエーブル状態とされる。これは、図1のモードレジスタ1−5へのEMRSコマンドによるEMRの設定によって行われる(EMRSコマンドにおいてアドレスA12を1とする)。このため、DQ PAD DQ3へVPERI電源生成回路(VPERI gen)の出力電圧が出力されるとき、リードアクセスによる出力バッファ(OUTPUT Buffer)からの出力データが衝突することはない。DQ PAD DQ3に出力されたVPERIは、プローブ30、プローバ20を介して、不図示のテスタの電圧測定回路に供給されて電圧が測定される。
DQ PAD DQ3へVPERI電源生成回路(VPERI gen)の出力電圧が出力されるとき、ライトアクセスを行ってもよい。DQ PAD DQ3へのCMOSレベルの電圧が選択回路103から出力されるため、入力バッファ(INPUT BUFFER)には、VPERI電位が印加され、このVPERI電位(=1.35V)が書き込みデータ(Highデータ)として取り込まれる。
図4は、図2のVPP電源生成回路(VPP gen)から出力される昇圧電圧VPPを受ける選択回路100の構成を説明する図である。特に制限されないが、本実施例では、昇圧電圧VPP=2.7Vとしている。
図4を参照すると、選択回路100は、ソースが昇圧電源電圧VPP(VPP電源生成回路の出力端子)にソースが接続されたPMOSトランジスタPM6と、ソースが電源VSS(0V)に接続され、ドレインがPMOSトランジスタPM6のドレインに接続されたNMOSトランジスタNM4を備え、NMOSトランジスタNM4とPMOSトランジスタPM6のゲートには、共通にTEST MODE信号(内部電源出力MODE)が供給される。NMOSトランジスタNM4とPMOSトランジスタPM6の共通ドレインは、ソースが昇圧電源VPPに接続されたPMOSトランジスタPM5(スイッチトランジスタ)のゲートに接続されている。PMOSトランジスタPM5のドレインと電源VSS間には、4段縦積みされたPMOSトランジスタPM1、PM2、PM3、PM4が設けられている。PMOSトランジスタPM1、PM2のゲートは共通接続され、PMOSトランジスタPM2のドレインに接続されている。PMOSトランジスタPM1のドレインはPMOSトランジスタPM2のドレインと共通接続されている。PMOSトランジスタPM3、PM4のゲートは共通接続され、PMOSトランジスタPM4のドレインに接続されている。PMOSトランジスタPM3のドレインはPMOSトランジスタPM4のドレインに共通接続され、電源VSSに接続されている。
なお、特に制限されないが、本実施例では、PMOSトランジスタPM1〜PM4は同一ディメンジョンとされ、オン抵抗は同一とされる。PMOSトランジスタPM5のゲート電位が電源電圧VSSとされ、PMOSトランジスタPM5オンのとき、PMOSトランジスタPM2とPM3のドレインの共通接続点は、中点電位VSS+(VPP−VSS)/2=VPP/2とされる。
選択回路100は、さらに、PMOSトランジスタPM2とPM3のドレインの共通接続点にドレインが接続され、ソースが、選択回路100の出力端子(DQ PAD DQ0に接続される)に接続され、ゲートにTEST MODE信号(内部電源出力MODE)を受けるNMOSトランジスタNM1、NM3を備えている。選択回路100の出力端子と電源VSS間には、ゲートとソースが接続され、入力保護回路として機能するNMOSトランジスタNM2が接続されている。なお、NMOSトランジスタNM1、NM3は一つとしてもよいことは勿論である。
図4のTEST MODE信号(内部電源出力Enable)は、図3のTEST MODE信号(内部電源出力Enable)と同一の信号である。TEST MODE信号(内部電源出力Enable)が昇圧電圧VPPのとき、NMOSトランジスタNM4がオンし、PMOSトランジスタPM5のゲート電位はVSSとなってPMOSトランジスタPM5がオンし、縦積みされたPM1〜PM4のPMトランジスタに電流が流れ、PM2、PM3のドレインの共通接続点の電位は、VPP/2となる。NMOSトランジスタNM1、NM3はオン状態とされ、DQ PAD DQ0には、選択回路100の出力端子から、VPP電源生成回路(VPP gen)の出力電圧VPP/2が出力される。
TEST MODE信号(内部電源出力Enable)が電源電圧VSS(0V)のとき、NMOSトランジスタNM4はオフし、PMOSトランジスタPM6がオンし、PMOSトランジスタPM5のゲート電位が昇圧電圧VPPとなるため、PMOSトランジスタPM5はオフし、PMOSトランジスタPM5、PM1〜PM4の電源パス(VPPからVSS側)の電流は流れない。また、NMOSトランジスタNM1、NM3はオフし、選択回路100の出力端子からVPP電源生成回路(VPP gen)からの出力電圧は出力されない。
図4においても、図3と同様、入力バッファ(INPUT BUFFER)と出力バッファ(OUTPUT BUFFER)は、図2のI/Oバッファ(I/O Buffer)の1つを構成している。
TEST MODE信号が昇圧電圧VPPとされ(内部電源出力イネーブル状態)、DQ PAD DQ0から、VPP電源生成回路(VPP gen)の出力電圧VPPの1/2を出力するとき、I/Oバッファ(I/O Buffer)のうち、出力バッファ(Output Buffer)はディスエーブル状態とされる。これは、図1のモードレジスタ1−5へのEMRSコマンドの設定によって行われる。このため、DQ PAD DQ0へ電圧VPP/2が出力されるとき、リードアクセスによる出力バッファ(OUTPUT Buffer)からの出力データが衝突することはない。DQ PAD DQ0に出力された電圧VPP/2は、プローブ30、プローバ20を介して不図示のテスタの電圧測定回路に入力され、電圧測定される。
本実施例において、DQ PAD DQ0へ電圧VPP/2が出力されるとき、ライトアクセスを行ってもよい。DQ PAD DQ0へはVPP/2(=1.35V)の電圧が選択回路100から出力されるため、入力バッファ(INPUT BUFFER)には、VPP/2が印加され、書き込みデータ(Highデータ)として取り込まれる。
図5は、VKK電源生成回路(VKK gen)から出力される負電圧VKKを受ける選択回路101の構成を説明する図である。特に制限されないが、負電圧VKK=−0.4Vとしている。なお、図5の選択回路は、VBB(バックバイアス電圧)の電源モニタにも適用可能である。なお、この場合、VBB(バックバイアス電圧)の電源モニタ用のPADとして、図2には不図示のDQ PAD DQ4が用いられる。
図5を参照すると、選択回路101は、TEST MODE信号(内部電源出力MODE)(VPP振幅)をゲートに入力するインバータINV(駆動電源は電源電圧VDDとVSS)と、VKK電源生成回路(VKK gen)の出力電圧(VKK)を入力する端子にソースが共通接続され、ゲートとドレインが交差接続されたNMOSトランジスタNM4、NM5と、NMOSトランジスタNM4、NM5のドレインと電源VDD間に接続されたPMOSトランジスタPM5、PM6と、を備え、PMOSトランジスタPM5のゲートはTEST MODE信号(内部電源出力MODE)に接続され、PMOSトランジスタPM6のゲートはインバータINVの出力に接続されている。さらに、VKK電源生成回路(VKK gen)の出力電圧(VKK)を入力する端子にソースが接続され、ゲートがPMOSトランジスタPM6のドレインに接続されたNMOSトランジスタNM4を備え、電源VDDとNMOSトランジスタNM4のドレインと間には、PMOSトランジスタPM1、PM2、PM3、PN4が縦積みされている。PMOSトランジスタPM1、PM2のゲートは共通接続され、PMOSトランジスタPM2のドレインに接続され、PMOSトランジスタPM1のドレインはPMOSトランジスタPM2のドレインに接続されている。PMOSトランジスタPM3、PM4のゲートは共通接続され、PMOSトランジスタPM4のドレインに接続され、PMOSトランジスタPM3のドレインはPMOSトランジスタPM4のドレインに接続され、NMOSトランジスタNM4のドレインに接続されている。
さらに、選択回路101は、PMOSトランジスタPM2とPM3のドレインの共通接続点にドレインが接続され、ソースが選択回路101の出力端子(DQPAD DQ1に接続される)に接続され、ゲートにVDD振幅のTEST MODE信号(内部電源出力MODE)を受けるNMOSトランジスタNM1とNMOSトランジスタNM3と、を備えている。選択回路101の出力端子と電源VSS間には、ゲートとソースが接続され、入力保護回路として機能するNMOSトランジスタNM2が接続されている。TEST MODE信号(内部電源出力Enable)は、図3、図4と同様、振幅がVSS−VPPの信号である。
TEST MODE信号(内部電源出力Enable)が電圧VPPのとき、NMOSトランジスタNM1、NM3がオンする。また、このとき、インバータINVの出力はLowレベル(電源電圧VSS)となり、PMOSトランジスタPM6がオンし、PMOSトランジスタPM5はオフする。オン状態のPMOSトランジスタPM6により、NMOSトランジスタNM6のゲート電圧は電源電圧VDDとなり、NMOSトランジスタNM6はオンし、NMOSトランジスタNM5のゲート電位はVSSとなってオフし、またNMOSトランジスタNM4のゲート電圧は電源電圧VDDとされる。このため、NMOSトランジスタNM4がオンし、PMOSトランジスタPM1〜PM4にVDD側から電流が流れる。特に制限されないが、本実施例において、縦積みされたPMOSトランジスタPM1〜PM4は、同一ディメンジョンとされ、オン抵抗を同一とする。PMOSトランジスタPM2とPM3のドレインの共通接続点からは、
VKK+(VDD−VKK)/2=(VDD+VKK)/2の相当の電圧が出力される。VDD=1.8V、VKK=−0.4とすると、(VDD+VKK)/2=0.7Vとなる。
DQ PAD DQ1に出力された電圧(VDD+VKK)/2は、プローブ30、プローバ20を介して不図示のテスタの電圧測定回路に入力され、電圧測定される。本実施例において、DQ PAD DQ1へ電圧(VDD+VKK)/2が出力されるとき、ライトアクセスを行ってもよい。DQ PAD DQ1へ(VDD+VKK)/2(=0.7V)の電圧が選択回路101から出力されるため、入力バッファ(INPUT BUFFER)には、電圧(VDD+VKK)/2が印加され、書き込みデータ(Lowデータ)として取り込まれる。
一方、TEST MODE信号(内部電源出力Enable)が電圧VSSのとき、PMOSトランジスタPM5はオンし、インバータINVの出力は電源電圧VDDとなり、この電圧VDDをゲートに受けるPMOSトランジスタPM6はオフする。またゲート電位が電源電圧VDDのNMOSトランジスタNM5がオンし、NMOSトランジスタNM4のゲート電位はそのソース電位と同じく負電位VKKとなり、このため、NMOSトランジスタNM4はオフする。また、NMOSトランジスタNM1、NM3はオフする。
なお、図5に示す例では、VPP振幅のTEST MODE信号でオン・オフ制御されるNMOSトランジスタNM1、NM3が並置されているが、NMOSトランジスタNM3は省略してもよい。あるいは、NMOSトランジスタNM3のゲートには、VPP振幅のTEST MODE信号の代わりに、VDD振幅のTEST MODE信号を入力する構成としてもよい。また、レベル変換後の電圧として、(VDD+VKK)/2の代わりに、(VDD+VKK)を出力する構成としてもよい。
上記した選択回路100〜103の回路構成は一例を説明したものであって、本発明において、選択回路におけるスイッチ、レベル変換回路の構成は、上記した構成に制限されるものでないことは勿論である。
上記した本実施例においては、データのリード動作時、及びライト動作時においても、電源電圧の測定が可能である。前述したように、EMRコマンドによるEMRの設定により、I/Oバッファの出力バッファ(OUTPUT BUFFER)は、事前に、ディスエーブル状態とされており、選択メモリセルから読み出されたにデータは、出力バッファ(OUTPUT BUFFER)の入力までは到達するが、DQ PADには出力されない。このとき、DQ PADは、それぞれ、選択回路100〜103により、内部電源電圧が出力され、データは出力されない。DQ PADには、読み出しデータは出力されないが、デバイス内部では、リード動作が行われるため、リード動作時の内部電源電圧がDQ PADから出力される。
また、ライト動作時、DQ PADには、選択回路100〜103により内部電源電圧が、電源電圧VDD−VSSの範囲内の電圧として出力される。この出力電圧が、書き込みデータとして、I/Oバッファの入力バッファに印加される。このとき、DQ PADは、内部電源電圧出力に切り替えられており、プローバからの書き込みデータは入力できないが、デバイス内部では、DQ PADの電圧を書き込みデータとして、ライト動作が行われる。このため、ライト動作状態での内部電源電圧がDQ PADから出力される。
図6は、デバイスの通常(ノーマル)動作におけるリード時の動作波形を示す図である。コマンド(COM)としてACT(バンクアクティブ)が入力されるとともに、ロウアドレスが入力され、READコマンドでカラムアドレスが入力され、バースト長4で読み出しデータdata0、data1、data2、data3が出力される。ノーマル動作時、図2の選択回路100〜103はオフ状態に設定されている。また、読み出しデータを出力する出力バッファ(OUTPUT BUFFER)の出力端子は対応するDQ PADに直接接続されており(スイッチ等が挿入されていない)、DQ PADに出力されるデータ信号の信号特性等に劣化を招くことはない。
図7は、TEST MODE信号(内部電源出力Enable)が活性化時の動作波形である。MRS(Mode Register Set)コマンドが入力され、アドレス端子A0−A13に、テストコード(TEST CODE)が入力される。この場合、TEST MODE信号は内部電源出力Enable(イネーブル)となる。選択回路100〜103は、内部電源電圧をDQ PADに出力する。ACT(バンクアクティブ)コマンド、READコマンドにより、デバイス内部では、選択メモリセルからの読み出しデータが出力バッファ(OUTPUT BUFFER)まで到達するが、出力バッファ(OUTPUT BUFFER)はディスエーブル状態とされており、DQ PADには、読み出しデータは出力されず、DQ PAD(DQ0〜DQ3)には、内部電源電圧が出力される。前述したように、出力バッファ(OUTPUT BUFFER)のディスエーブル状態は、EMRSコマンド(EMRSコマンドにおいてアドレスA12を1とする)によるEMR(Extended Mode Register)の書き込みにより設定される。特に制限されないが、図7の例では、EMRSコマンドは、MRSコマンドの前に実行される。本実施例においては、テスト時に、デバイスのリード動作時に、データ端子DQ(DQ0〜DQ3)から内部電源電圧が出力され、複数の内部電源電圧に同時測定が可能とされる。
上記実施例では、並列テストにおいて、各デバイスの複数の内部電源電圧を同時に並列測定することで、テスト時間を短縮するものであるが、デバイス内の内部電源電圧の個数によっては、複数の内部電源生成回路から出力される複数の電源電圧のうちから選択回路で1つを選択し1つのデータ端子から出力(時分割出力)する構成とすることも可能である。例えばモニタ対象の内部電源電圧が6個でDQ PADが4個の場合、第1、第2の内部電源生成回路の出力電圧の一方をDQ PAD DQ0、第3、第4の内部電源生成回路の出力電圧の一方をDQ PAD DQ1、第5、第6の内部電源生成回路の出力電圧をDQ PAD DQ2、DQ3から出力する構成としてもよい。
以上、本発明をウェハ製造工程でのテスト(デバイス特性検査)に適用した例を説明したが、組み立て工程後の検査工程での並列テストにおける内部電源電圧の測定にも適用可能であることは勿論である。また、内部電源モニタ用端子を、IO(入出力)端子であるDQパッドと共用する構成を例に説明したが、内部電源モニタ用端子を信号の出力端子と共用する構成としてもよいことは勿論である。
なお、上記の特許文献の各開示を、本書に引用をもって繰り込むものとする。本発明の全開示(請求の範囲を含む)の枠内において、さらにその基本的技術思想に基づいて、実施形態ないし実施例の変更・調整が可能である。また、本発明の請求の範囲の枠内において種々の開示要素の多様な組み合わせないし選択が可能である。すなわち、本発明は、請求の範囲を含む全開示、技術的思想にしたがって当業者であればなし得るであろう各種変形、修正を含むことは勿論である。
本発明の一実施例の構成を説明する図である。 本発明が適用されるメモリデバイス全体の構成を説明する図である。 本発明の一実施例の構成の選択回路の構成を説明する図である。 本発明の一実施例の構成の選択回路の構成を説明する図である。 本発明の一実施例の構成の選択回路の構成を説明する図である。 本発明の一実施例の動作を説明するタイミング図である。 本発明の一実施例の動作を説明するタイミング図である。 従来の並列テストを説明する図である。
符号の説明
1−1 メモリセルアレイ
1−2 センスアンプ
1−3 カラムデコーダ
1−4 ロウデコーダ
1−5 モードレジスタ
1−6 ロウアドレスバッファ及びリフレッシュカウンタ
1−7 カラムアドレスバッファ及びバーストカウンタ
1−8 データコントロール回路
1−9 コマンドデコーダ
1−10 コントロールロジック
1−11 ラッチ回路
1−12 DLL
1−13 入出力バッファ
1−14 クロックジェネレータ
10 デバイス
20 プローバ
30 プローブ
100、101、102、103 選択回路

Claims (11)

  1. 内部電源を生成する内部電源生成回路と、
    信号の出力又は入出力が行われる信号端子と、
    を備え、
    前記内部電源モニタ用の端子を、前記信号端子と共用し、
    テスト制御信号に応じて、前記信号端子に、前記内部電源生成回路からの電圧を出力するかしないかを選択する選択回路を備えている、ことを特徴とする半導体装置。
  2. 前記内部電源生成回路と、前記内部電源生成回路に対応する前記信号端子との組を複数組備え、
    複数の前記内部電源生成回路と複数の前記信号端子との間に、複数の前記選択回路をそれぞれ備えている、ことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 前記信号端子から出力される信号の振幅の上限を越えるか下限を下回る内部電源電圧を生成する前記内部電源生成回路に対応する前記選択回路は、前記内部電源生成回路から出力される内部電源電圧をレベル変換した上で、前記信号端子に出力する、ことを特徴とする請求項1又は2記載の半導体装置。
  4. 前記信号端子から出力される信号の振幅範囲内に収まる内部電源電圧を生成する前記内部電源生成回路に対応する前記選択回路は、前記内部電源生成回路から出力される内部電源電圧をそのまま前記信号端子に出力する、ことを特徴とする請求項1又は2記載の半導体装置。
  5. 前記信号端子から前記内部電源電圧を出力する場合、前記信号端子に信号を出力する出力バッファは非活性状態に設定される、ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体装置。
  6. 前記信号端子は、データの出力又は入出力が行われるデータ端子である、ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の半導体装置。
  7. 内部電源モニタ用の端子を、信号の出力又は入出力が行われる信号端子と共用し、テスト制御信号に応じて、前記信号端子に、内部電源電圧を出力するかしないかを選択する半導体装置のテストにあたり、
    前記半導体装置の前記テスト制御信号を、前記信号端子から前記内部電源電圧を出力するモードに設定し、
    前記半導体装置の前記信号端子から出力される前記内部電源電圧の出力電圧を測定する、
    ことを特徴とする半導体装置のテスト方法。
  8. 前記半導体装置がメモリを含み、
    並列テストされる複数の前記半導体装置には、共通のアドレス、共通のコマンドを与え、
    並列テストされる複数の前記半導体装置の出力信号は、前記半導体装置毎、個別に取得し、
    前記テスト制御信号により内部電源電圧を測定するモードのときには、並列テストされる複数の前記半導体装置の内部電源電圧が、複数の前記信号端子からそれぞれ並列に出力される、ことを特徴とする請求項7記載の半導体装置のテスト方法。
  9. 前記内部電源電圧が、前記信号端子から出力される信号の振幅の上限を越えるか、下限を下回る場合、前記半導体装置側で前記内部電源電圧をレベル変換した上で、前記信号端子に出力する、ことを特徴とする請求項7又は8記載の半導体装置のテスト方法。
  10. 前記内部電源電圧が、前記信号端子から出力される信号の振幅範囲に収まる場合、前記半導体装置は、前記内部電源電圧をそのまま前記信号端子に出力する、ことを特徴とする請求項7又は8記載の半導体装置のテスト方法。
  11. 前記信号端子から内部電源電圧を出力する場合、前記信号端子に信号を出力する出力バッファを非活性化させる、ことを特徴とする請求項7乃至10のいずれか1項に記載の半導体装置のテスト方法。
JP2008264140A 2008-10-10 2008-10-10 半導体装置とテスト方法 Pending JP2010091524A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008264140A JP2010091524A (ja) 2008-10-10 2008-10-10 半導体装置とテスト方法
US12/292,432 US7898884B2 (en) 2008-10-10 2008-11-19 Semiconductor device and test method therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008264140A JP2010091524A (ja) 2008-10-10 2008-10-10 半導体装置とテスト方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010091524A true JP2010091524A (ja) 2010-04-22

Family

ID=42098276

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008264140A Pending JP2010091524A (ja) 2008-10-10 2008-10-10 半導体装置とテスト方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7898884B2 (ja)
JP (1) JP2010091524A (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010003388A (ja) * 2008-06-23 2010-01-07 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置およびそのテスト方法
KR101039859B1 (ko) * 2009-07-03 2011-06-09 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치
US9488674B2 (en) * 2014-07-09 2016-11-08 Infineon Technologies Ag Testing device and a circuit arrangement
US9640282B1 (en) * 2015-12-28 2017-05-02 Invensas Corporation Flexible I/O partition of multi-die memory solution
KR20180106492A (ko) * 2017-03-20 2018-10-01 에스케이하이닉스 주식회사 반도체장치
US10475488B1 (en) 2018-05-09 2019-11-12 Micron Technology, Inc. Memory device with an input signal management mechanism

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07130200A (ja) * 1993-09-13 1995-05-19 Advantest Corp 半導体メモリ試験装置
JP2002040114A (ja) * 2000-07-26 2002-02-06 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP2002074996A (ja) * 2000-08-25 2002-03-15 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路
JP2004186435A (ja) * 2002-12-03 2004-07-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体集積回路装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4537964B2 (ja) 1999-12-10 2010-09-08 株式会社東芝 半導体集積回路
JP3829054B2 (ja) 1999-12-10 2006-10-04 株式会社東芝 半導体集積回路
US7116590B2 (en) * 2004-08-23 2006-10-03 Micron Technology, Inc. Memory address repair without enable fuses
US7660183B2 (en) * 2005-08-01 2010-02-09 Rambus Inc. Low power memory device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07130200A (ja) * 1993-09-13 1995-05-19 Advantest Corp 半導体メモリ試験装置
JP2002040114A (ja) * 2000-07-26 2002-02-06 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP2002074996A (ja) * 2000-08-25 2002-03-15 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路
JP2004186435A (ja) * 2002-12-03 2004-07-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体集積回路装置

Also Published As

Publication number Publication date
US7898884B2 (en) 2011-03-01
US20100090675A1 (en) 2010-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6489819B1 (en) Clock synchronous semiconductor memory device allowing testing by low speed tester
US6816422B2 (en) Semiconductor memory device having multi-bit testing function
JP4632114B2 (ja) 半導体集積回路装置
US7355901B2 (en) Synchronous output buffer, synchronous memory device and method of testing access time
US8873325B2 (en) Semiconductor device performing refresh operation
JP4870325B2 (ja) テストモードのために選択的にイネーブルされる出力回路を有するメモリ装置及びそのテスト方法
JP4822572B2 (ja) 半導体記憶装置
KR101046668B1 (ko) 반도체 기억 장치, 반도체 기억 장치의 동작 방법 및 메모리 시스템
US6823485B1 (en) Semiconductor storage device and test system
US20140233334A1 (en) Semiconductor device and method of controlling the same
JP4125492B2 (ja) 半導体集積回路装置とテスト方法及び半導体集積回路装置の製造方法
JP2010091524A (ja) 半導体装置とテスト方法
CN111986718A (zh) 用于电子装置的温度补偿操作的系统、方法及设备
KR20160056756A (ko) 반도체 장치의 빌트 인 테스트 회로
US6496403B2 (en) Semiconductor memory device
KR100829787B1 (ko) 온 다이 터미네이션 테스트에 적합한 반도체 메모리 장치,이를 구비한 메모리 테스트 시스템, 및 온 다이 터미네이션테스트 방법
US8565032B2 (en) Semiconductor device
JP2002231000A (ja) 半導体記憶装置
JP2010244615A (ja) 半導体装置及び半導体装置の書き込み制御方法
KR20100024588A (ko) 돈 캐어 기능을 갖는 테스트 수행회로를 가지는 반도체 메모리 장치
US8576647B2 (en) Semiconductor device
US7075854B2 (en) Semiconductor memory device, write control circuit and write control method for the same
JP2004071119A (ja) 半導体記憶装置
JP2010003388A (ja) 半導体記憶装置およびそのテスト方法
KR102221417B1 (ko) 반도체 장치의 빌트 인 테스트 회로

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110803

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20130730

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131008

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20140106

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20140109

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140328

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140924

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20141219

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20141225

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20150327

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20150330

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20150630