JP2003156667A - レーザマーキング方法 - Google Patents
レーザマーキング方法Info
- Publication number
- JP2003156667A JP2003156667A JP2001356187A JP2001356187A JP2003156667A JP 2003156667 A JP2003156667 A JP 2003156667A JP 2001356187 A JP2001356187 A JP 2001356187A JP 2001356187 A JP2001356187 A JP 2001356187A JP 2003156667 A JP2003156667 A JP 2003156667A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- mark
- laser
- marking method
- laser marking
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 47
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 37
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 28
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 37
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 24
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 23
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 13
- -1 isocyanate compound Chemical class 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000275 quality assurance Methods 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 4
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- KGBWWTXUSOPASH-UHFFFAOYSA-N (4-hexoxy-2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 KGBWWTXUSOPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKGZXHMACFZOBP-UHFFFAOYSA-N 1-diethoxyphosphoryl-4-methylsulfanylbenzene Chemical compound CCOP(=O)(OCC)C1=CC=C(SC)C=C1 LKGZXHMACFZOBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITLDHFORLZTRJI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-5-octoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 ITLDHFORLZTRJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 5-Chloro-2-(3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- OZESGBAINLCZEZ-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCC1(CC=C(C=C1)C2=C3C(=CC=C2)N(NN3)C4=CCC(C=C4)(CCCCCCCC)C(=O)C5=CC=CC=C5)C(=O)C6=CC=CC=C6 Chemical compound CCCCCCCCC1(CC=C(C=C1)C2=C3C(=CC=C2)N(NN3)C4=CCC(C=C4)(CCCCCCCC)C(=O)C5=CC=CC=C5)C(=O)C6=CC=CC=C6 OZESGBAINLCZEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCC=C JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 229960000969 phenyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten(VI) oxide Inorganic materials O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Eyeglasses (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001356187A JP2003156667A (ja) | 2001-11-21 | 2001-11-21 | レーザマーキング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001356187A JP2003156667A (ja) | 2001-11-21 | 2001-11-21 | レーザマーキング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003156667A true JP2003156667A (ja) | 2003-05-30 |
| JP2003156667A5 JP2003156667A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2005-06-30 |
Family
ID=19167757
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001356187A Withdrawn JP2003156667A (ja) | 2001-11-21 | 2001-11-21 | レーザマーキング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003156667A (enrdf_load_stackoverflow) |
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005091425A (ja) * | 2003-09-12 | 2005-04-07 | Seiko Epson Corp | 眼鏡レンズの製造システム、眼鏡レンズの製造方法、プログラム及び記録媒体 |
| JP2006053227A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Hoya Corp | 眼鏡レンズヘのマーキング方法および眼鏡レンズ |
| JP2006142356A (ja) * | 2004-11-22 | 2006-06-08 | Hoya Corp | マーキング装置及びマーキング方法 |
| JP2007041569A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-02-15 | Hoya Corp | プラスチック眼鏡レンズ及びその製造方法並びにマーキング方法及びマーキング装置 |
| US7267436B2 (en) | 2003-06-27 | 2007-09-11 | Seiko Epson Corporation | Manufacturing method of spectacle lens, marking apparatus, marking system and spectacle lens |
| JP2008523431A (ja) * | 2004-12-10 | 2008-07-03 | エシロール アンテルナシオナル （コンパニー ジェネラレ ドプテイク） | レンズ上にデータを書き込む方法及び書き込まれたデータを含むレンズ |
| EP2184127A1 (de) | 2008-10-29 | 2010-05-12 | 3D-Micromac AG | Lasermarkierverfahren, Verwendung einer Lasermarkiervorrichtung und Optikelement |
| DE102010010337A1 (de) * | 2010-03-04 | 2011-09-08 | Schneider Gmbh & Co. Kg | Markierlaser für Brillenlinsen aus Kunststoff |
| WO2012084798A1 (de) | 2010-12-22 | 2012-06-28 | Schneider Gmbh & Co. Kg | Verfahren zum markieren von brillengläsern |
| WO2012118086A1 (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-07 | Hoya株式会社 | 光学レンズ |
| JP2016007612A (ja) * | 2014-06-23 | 2016-01-18 | 株式会社エツミ光学 | 多層蒸着体のマーキング法及び多層蒸着体 |
| US20160207249A1 (en) * | 2013-09-20 | 2016-07-21 | Essilor International (Compagnie Générale d'Optique) | Device and process for marking an ophthalmic lens with a pulsed laser of wavelength and energy selected per pulse |
| JPWO2014119541A1 (ja) * | 2013-01-29 | 2017-01-26 | 大学共同利用機関法人自然科学研究機構 | 姿勢調整装置 |
| JP2020078924A (ja) * | 2019-07-19 | 2020-05-28 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 紫外線レーザーマーキング組成物、それを用いた印刷物および積層体 |
| JP2021050292A (ja) * | 2019-09-26 | 2021-04-01 | 株式会社タムラ製作所 | 伸縮性と紫外線レーザ加工性を備えた硬化物の得られる組成物、及び組成物の熱硬化シート |
| CN113848655A (zh) * | 2020-06-25 | 2021-12-28 | 豪雅镜片泰国有限公司 | 光学部件的制造方法及光学部件 |
| WO2023120117A1 (ja) * | 2021-12-22 | 2023-06-29 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡レンズの製造方法、眼鏡レンズ、及び眼鏡 |
| JP2024016860A (ja) * | 2017-06-28 | 2024-02-07 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡レンズの製造方法、眼鏡レンズの製造システム、眼鏡レンズ |
| JP7684532B1 (ja) * | 2023-12-28 | 2025-05-27 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡レンズ、眼鏡、眼鏡レンズの製造方法、及び光学部材 |
| WO2025142796A1 (ja) * | 2023-12-28 | 2025-07-03 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡レンズ、眼鏡、眼鏡レンズの製造方法、及び光学部材 |
-
2001
- 2001-11-21 JP JP2001356187A patent/JP2003156667A/ja not_active Withdrawn
Cited By (43)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7267436B2 (en) | 2003-06-27 | 2007-09-11 | Seiko Epson Corporation | Manufacturing method of spectacle lens, marking apparatus, marking system and spectacle lens |
| JP2005091425A (ja) * | 2003-09-12 | 2005-04-07 | Seiko Epson Corp | 眼鏡レンズの製造システム、眼鏡レンズの製造方法、プログラム及び記録媒体 |
| JP2006053227A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Hoya Corp | 眼鏡レンズヘのマーキング方法および眼鏡レンズ |
| JP2006142356A (ja) * | 2004-11-22 | 2006-06-08 | Hoya Corp | マーキング装置及びマーキング方法 |
| JP2008523431A (ja) * | 2004-12-10 | 2008-07-03 | エシロール アンテルナシオナル （コンパニー ジェネラレ ドプテイク） | レンズ上にデータを書き込む方法及び書き込まれたデータを含むレンズ |
| JP2007041569A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-02-15 | Hoya Corp | プラスチック眼鏡レンズ及びその製造方法並びにマーキング方法及びマーキング装置 |
| US8115792B2 (en) | 2008-10-29 | 2012-02-14 | 3D-Micromac Ag | Laser marking method, laser marking apparatus and optical element |
| EP2184127A1 (de) | 2008-10-29 | 2010-05-12 | 3D-Micromac AG | Lasermarkierverfahren, Verwendung einer Lasermarkiervorrichtung und Optikelement |
| DE102008056136A1 (de) | 2008-10-29 | 2010-05-20 | 3D-Micromac Ag | Lasermarkierverfahren, Lasermarkiervorrichtung und Optikelement |
| DE102010010337A1 (de) * | 2010-03-04 | 2011-09-08 | Schneider Gmbh & Co. Kg | Markierlaser für Brillenlinsen aus Kunststoff |
| WO2012084798A1 (de) | 2010-12-22 | 2012-06-28 | Schneider Gmbh & Co. Kg | Verfahren zum markieren von brillengläsern |
| WO2012118086A1 (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-07 | Hoya株式会社 | 光学レンズ |
| JP2012194546A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-10-11 | Hoya Corp | 光学レンズ |
| KR20130124396A (ko) * | 2011-02-28 | 2013-11-13 | 호야 가부시키가이샤 | 광학렌즈 |
| CN103502878A (zh) * | 2011-02-28 | 2014-01-08 | Hoya株式会社 | 光学透镜 |
| AU2012224045B2 (en) * | 2011-02-28 | 2015-04-30 | Hoya Corporation | Optical lens |
| US9651801B2 (en) | 2011-02-28 | 2017-05-16 | Hoya Corporation | Optical lens |
| KR101647181B1 (ko) * | 2011-02-28 | 2016-08-09 | 호야 가부시키가이샤 | 광학렌즈 |
| JPWO2014119541A1 (ja) * | 2013-01-29 | 2017-01-26 | 大学共同利用機関法人自然科学研究機構 | 姿勢調整装置 |
| JP2016536148A (ja) * | 2013-09-20 | 2016-11-24 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティックＥｓｓｉｌｏｒ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｍｐａｇｎｉｅ Ｇｅｎｅｒａｌｅ Ｄ’ Ｏｐｔｉｑｕｅ | 波長及び１パルス当たりの選択されるエネルギーのパルスレーザを用いて眼科用レンズをマーキングする装置及び方法 |
| US20160207249A1 (en) * | 2013-09-20 | 2016-07-21 | Essilor International (Compagnie Générale d'Optique) | Device and process for marking an ophthalmic lens with a pulsed laser of wavelength and energy selected per pulse |
| US10112340B2 (en) * | 2013-09-20 | 2018-10-30 | Essilor International | Device and process for marking an ophthalmic lens with a pulsed laser of wavelength and energy selected per pulse |
| EP3046719B1 (fr) | 2013-09-20 | 2018-11-28 | Essilor International | Dispositif et procede de marquage d'une lentille ophtalmique avec un laser pulse de longueur d'onde et energie par impulsion selectionnees |
| JP2019206033A (ja) * | 2013-09-20 | 2019-12-05 | エシロール アテルナジオナール | 波長及び１パルス当たりの選択されるエネルギーのパルスレーザを用いて眼科用レンズをマーキングする装置及び方法 |
| US11072109B2 (en) | 2013-09-20 | 2021-07-27 | Essilor International | Device and process for marking an ophthalmic lens with a pulsed laser of wavelength and energy selected per pulse |
| JP7023893B2 (ja) | 2013-09-20 | 2022-02-22 | エシロール アテルナジオナール | 波長及び１パルス当たりの選択されるエネルギーのパルスレーザを用いて眼科用レンズをマーキングする装置及び方法 |
| JP2016007612A (ja) * | 2014-06-23 | 2016-01-18 | 株式会社エツミ光学 | 多層蒸着体のマーキング法及び多層蒸着体 |
| JP7609955B2 (ja) | 2017-06-28 | 2025-01-07 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡レンズの製造方法 |
| JP7609962B2 (ja) | 2017-06-28 | 2025-01-07 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | セミフィニッシュドレンズブランクスの製造方法、眼鏡レンズの製造方法 |
| JP2024022676A (ja) * | 2017-06-28 | 2024-02-16 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | セミフィニッシュドレンズブランクスの製造方法、眼鏡レンズの製造方法、セミフィニッシュドレンズブランクス |
| JP2024016860A (ja) * | 2017-06-28 | 2024-02-07 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡レンズの製造方法、眼鏡レンズの製造システム、眼鏡レンズ |
| JP7172895B2 (ja) | 2019-07-19 | 2022-11-16 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 紫外線レーザーマーキング組成物、それを用いた印刷物および積層体 |
| JP2020078924A (ja) * | 2019-07-19 | 2020-05-28 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 紫外線レーザーマーキング組成物、それを用いた印刷物および積層体 |
| JP2021050292A (ja) * | 2019-09-26 | 2021-04-01 | 株式会社タムラ製作所 | 伸縮性と紫外線レーザ加工性を備えた硬化物の得られる組成物、及び組成物の熱硬化シート |
| JP2022007102A (ja) * | 2020-06-25 | 2022-01-13 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 光学部材の製造方法および光学部材 |
| CN113848655A (zh) * | 2020-06-25 | 2021-12-28 | 豪雅镜片泰国有限公司 | 光学部件的制造方法及光学部件 |
| US11940595B2 (en) | 2020-06-25 | 2024-03-26 | Hoya Lens Thailand Ltd. | Method for producing optical member and optical member |
| JP7540904B2 (ja) | 2020-06-25 | 2024-08-27 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 光学部材の製造方法 |
| JP2024160355A (ja) * | 2020-06-25 | 2024-11-13 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 光学部材 |
| WO2023120117A1 (ja) * | 2021-12-22 | 2023-06-29 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡レンズの製造方法、眼鏡レンズ、及び眼鏡 |
| JPWO2023120117A1 (enrdf_load_stackoverflow) * | 2021-12-22 | 2023-06-29 | ||
| JP7684532B1 (ja) * | 2023-12-28 | 2025-05-27 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡レンズ、眼鏡、眼鏡レンズの製造方法、及び光学部材 |
| WO2025142796A1 (ja) * | 2023-12-28 | 2025-07-03 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡レンズ、眼鏡、眼鏡レンズの製造方法、及び光学部材 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2003156667A (ja) | レーザマーキング方法 | |
| JP2810151B2 (ja) | レーザマーキング方法 | |
| US6857744B2 (en) | Method of marking ophhalmic lens by using laser radiation of femtosecond pulse width | |
| JP4436755B2 (ja) | 光学素子を製造する方法 | |
| Malinauskas et al. | Three-dimensional micro-/nano-structuring via direct write polymerization with picosecond laser pulses | |
| JP7540904B2 (ja) | 光学部材の製造方法 | |
| WO2020138134A1 (ja) | 光学部材の製造方法および光学部材 | |
| EP4455768A1 (en) | Method for manufacturing optical member, optical member, and eyeglasses | |
| EP4455770A1 (en) | Method for manufacturing spectacle lens, spectacle lens, and spectacles | |
| CN108747039B (zh) | 液晶面板标记方法 | |
| JP4827393B2 (ja) | 眼鏡レンズの製造方法及び眼鏡レンズ | |
| CN118981113A (zh) | 一种激光光束整形方法和面区域激光增材制造设备 | |
| JP4089286B2 (ja) | 液晶パネルの製造方法 | |
| JPWO2007074694A1 (ja) | カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示装置 | |
| JP4573596B2 (ja) | 眼鏡レンズの製造方法 | |
| WO2024192695A1 (en) | Method for applying a marking structure to a casting mold for manufacturing a spectacle lens blank | |
| KR20080030687A (ko) | 액정표시소자용 감광성 수지조성물, 그를 이용한컬러필터와 그 제조방법 및 액정표시소자 | |
| CN220829717U (zh) | 一种设有隐藏式二维码的ar眼镜 | |
| Bader et al. | F2-laser-machined submicrometer gratings in thin dielectric films for resonant grating waveguide applications | |
| KR102083368B1 (ko) | 투명 기판 내부에 이미지를 형성하기 위한 장치 및 방법 그리고 이를 이용하여 제조된 투명 기판 | |
| Srisanit et al. | Low-loss channel waveguide on high-energy-beam sensitive glass | |
| Gu | Seminars & Invited Presentations | |
| WO2025186685A1 (en) | Method to enhance transmissivity of transparent solids and glasses and devices with transparent solids and glasses | |
| KR20230162771A (ko) | 안경 렌즈의 제조 방법 및 안경 렌즈 | |
| JP2011197695A (ja) | 眼鏡レンズの製造方法及び眼鏡レンズ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041019 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041019 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20060208 |