JP2003146690A - ガラス基板成形用金型、その製造方法およびガラス基板成形方法 - Google Patents

ガラス基板成形用金型、その製造方法およびガラス基板成形方法

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JP2003146690A
JP2003146690A JP2001341859A JP2001341859A JP2003146690A JP 2003146690 A JP2003146690 A JP 2003146690A JP 2001341859 A JP2001341859 A JP 2001341859A JP 2001341859 A JP2001341859 A JP 2001341859A JP 2003146690 A JP2003146690 A JP 2003146690A
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molding
carbide
release film
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Hidenao Kataoka
秀直 片岡
Tatsutoshi Suenaga
辰敏 末永
Akihiko Okabe
明彦 岡部
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Fuji Electric Co Ltd
Panasonic Holdings Corp
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Fuji Electric Co Ltd
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高精度な軸一体型のディスク用ガラス基板
を、プレス成形により安価にかつ大量に生産できるガラ
ス基板成形用金型およびその製造方法、また、その金型
を使用したガラス基板成形方法を提供する。 【解決手段】ディスク用ガラス基板の軸部に対応するプ
レス面６の凹部には、離型膜５を形成した後、この離型
膜５を精密加工することにより、凹部４を含むプレス面
が高精度で、離型性に優れたガラス基板成形用金型を得
るようにしている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスクや光
ディスクなどのディスク用ガラス基板を、プレス成形す
るのに好適な基板成形用金型、その製造方法および前記
ディスク用ガラス基板の成形方法に関し、更に詳しく
は、突出した軸部を有する軸一体型のディスク用ガラス
基板のプレス成形に好適な基板成形用金型、その製造方
法およびガラス基板の成形方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】情報記録ディスクにおいては、磁気ディ
スク、光ディスク、その他のディスクがある。このよう
なディスクの基板材料として、これまでのアルミニウム
合金に代わり、強度が大きく、耐熱性も良好で、表面硬
度が高く、高精度な精密研磨によって、高精度な平滑性
の要求に充分応えることができるガラス基板が注目さ
れ、既に実用化されている。
【０００３】このようなディスク用ガラス基板の製造法
としては、金型によってガラス材料を加熱加圧してディ
スク状にプレス成形するプレス成形法がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ディスク用
ガラス基板は、中央部に開口を有する中空円盤（ドーナ
ツ盤）状にプレス成形されていたが、かかる中空円盤状
では、ディスクの回転軸となる軸部を高精度に別途組み
付ける必要があるために、手間がかかるといった難点が
ある。
【０００５】そこで、開口を無くすとともに、中央部に
回転軸となる突出した軸部を一体にした軸一体型のディ
スク用ガラス基板をプレス成形することが望まれる。
【０００６】本発明は、上述の点に鑑みて為されたもの
であって、軸部を有するディスク用ガラス基板を、高い
精度で安定してプレス成形によって生産できるようにす
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明では、上述の目的
を達成するために、次のように構成している。
【０００８】すなわち、本発明のガラス基板成形用金型
は、突出した軸部を有する軸一体型のディスク用ガラス
基板をプレス成形するガラス基板成形用金型であって、
前記軸部に対応して窪んだ凹部を有する金型母材のプレ
ス面には、少なくとも前記凹部に、高精度に加工された
離型膜を有するものである。
【０００９】ここで、高精度に加工とは、軸部を有する
ディスク用ガラス基板が要求される高い精度で得られる
ような精度で加工されることをいい、例えば、円柱状の
軸部を要求される高い形状精度で得るために、前記凹部
の離型膜が、その表面粗さ、真円度、円筒度、直角度な
どの各項目の内の所要の項目について、所要の数値を満
たすような精度に加工されることをいう。
【００１０】本発明によれば、ディスク用ガラス基板の
軸部に対応して窪んだ凹部には、高精度に加工された離
型膜を有するので、このガラス基板成形用金型を用いて
プレス成形することにより、高精度な軸部を有する軸一
体型のディスク用ガラス基板を安定して得ることができ
る。
【００１１】また、本発明のガラス基板成形用金型の製
造方法は、突出した軸部を有する軸一体型のディスク用
ガラス基板をプレス成形するガラス基板成形用金型の製
造方法であって、金型母材のプレス面を粗加工して前記
軸部に対応して窪んだ凹部を形成する第１工程と、前記
プレス面の少なくとも前記凹部に、離型膜を形成する第
２工程と、前記離型膜を精密加工する第３工程とを含む
ものである。
【００１２】ここで、精密加工とは、上述の高精度に加
工と同様に、軸部を有するディスク用ガラス基板が要求
される高い精度で得られるような精度で加工されること
をいう。
【００１３】本発明によれば、粗加工によって凹部を形
成し、この凹部に離型膜を形成した後に精密加工するの
で、ディスク用ガラス基板をプレス成形するためのガラ
ス基板成形用金型を効率的に製造できる。
【００１４】また、前記金型母材が、タングステンカー
バイト（ＷＣ）を主成分とする超硬合金、チタンナイト
ライド（ＴｉＮ）、チタンカーバイド（ＴｉＣ）、クロ
ムカーバイド（Ｃｒ3Ｃ2）およびアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）
のうちから選ばれた少なくともいずれか１種を主成分と
するサーメット、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、シリコンカー
バイド（ＳｉＣ）、クロムカーバイド（Ｃｒ3Ｃ2）、窒
化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）および窒化硼素（ＢＮ）のうちから
選ばれた少なくともいずれか１種を主成分とするセラミ
ックスからなるのが好ましい。これらは、耐熱性、耐食
性に優れ、耐高温強度を有するものであり、また、この
ような超硬合金あるいはサーメットやセラミックスなど
の焼結材を金型母材とすることにより、良好な熱伝導性
を確保できるとともに、プレス面の面荒れによる表面性
の低下を防止できる。
【００１５】さらに、前記離型膜が、シリコン（Ｓ
ｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔ
ｉ）、ニオブ（Ｎｂ）、バナジウム（Ｖ）、モリブデン
（Ｍｏ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジ
ウム（Ｉｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、オスミウム（Ｏ
ｓ）、ルテニウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）、タング
ステン（Ｗ）およびタンタル（Ｔａ）のうちから選ばれ
た少なくともいずれか１種、あるいは、それらのいずれ
かを主成分とする合金、あるいは、アルミナ（Ａｌ
2Ｏ3）、シリコンカーバイド（ＳｉＣ）、クロムカーバ
イド（Ｃｒ3Ｃ2）、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）および窒化硼
素（ＢＮ）のうちから選ばれた少なくともいずれか１種
からなるのが好ましく、このような離型膜は、ガラスと
の高温下で濡れ性が悪く化学的に反応せず、離型が容易
になる。
【００１６】また、本発明のガラス基板成形方法は、一
対の金型間にガラス材料を配置してプレス成形して一方
の面に突出した軸部を有する軸一体型のディスク用ガラ
ス基板を得る方法であって、前記一対の金型の一方を、
本発明に係る凹部を有するガラス基板成形用金型とする
とともに、他方を、前記凹部を有しない金型としてい
る。
【００１７】本発明によれば、高精度な軸部を有する軸
一体型のディスク用ガラス基板を安定して得ることがで
きる。
【００１８】
【発明実施の形態】以下、図面によって本発明の実施の
形態について詳細に説明する。
【００１９】（実施の形態１）図１は、本発明の一つの
実施の形態に係るガラス基板成形用金型を示すものであ
り、同図（ａ）は断面図を、同図（ｂ）は平面図をそれ
ぞれ示している。
【００２０】この実施の形態のガラス基板成形用金型１
は、後述する図３（ｃ）に示されるディスク用ガラス基
板２を、プレス成形して製造するための一方の金型（下
金型）とされるものである。ディスク用ガラス基板２
は、図３（ｃ）に示されるように、円盤状の一方の面の
中央部に、回転軸となる円柱状の軸部２ａが一体にプレ
ス成形されてなる。
【００２１】かかるディスク用ガラス基板２をプレス成
形するためのガラス基板成形用金型１は、図１に示され
るように、金型母材３のプレス面６の全面には、高精度
に加工された離型膜５を有しており、その中央部には、
ディスク用ガラス基板２の軸部２ａに対応して窪んだ凹
部４を有している。
【００２２】この実施の形態では、金型母材３は、タン
グステンカーバイト（ＷＣ）を主成分とし、焼結バイン
ダーとしてコバルト（Ｃｏ）を用いた超硬合金からな
り、離型膜５は、白金（Ｐｔ）からなる。
【００２３】この実施の形態のガラス基板成形用金型１
のプレス面６の外径Ｄは、５０．０ｍｍである。また、
離型膜５の膜厚Ｔは、２０μｍであり、この離型膜５が
形成された凹部４の外径ｄは、１０．０ｍｍであり、そ
の深さＬは、８ｍｍである。
【００２４】この実施の形態では、軸部２ａを有するデ
ィスク用ガラス基板２を、高い精度で安定してプレス成
形して生産できるようにするために、ガラス基板成形用
金型１の離型膜５は、高精度に加工されている。すなわ
ち、この実施の形態の離型膜５の表面粗さは、０．２ｓ
であり、円柱状の軸部２ａに対応する凹部４の真円度
は、０．５μｍであり、その円筒度および直角度は、い
ずれも１μｍである。
【００２５】このように、凹部４における離型膜５が高
精度に加工されて、その表面粗さが０．２ｓ、真円度が
０．５μｍ、円筒度および直角度が１μｍとされている
ので、このガラス基板成形用金型１を用いて得られるデ
ィスク用ガラス基板２の軸部２ａも高精度のものとな
る。
【００２６】高精度な軸部２ａを有するディスク用ガラ
ス基板２を得るためには、ガラス基板成形用金型１の凹
部４の表面粗さは、例えば、０．５ｓ程度以下であるの
が好ましく、真円度、円筒度および直角度は、それぞれ
例えば、２〜３ミクロン程度以下の高精度に加工される
のが好ましいが、ディスク用ガラス基板２に要求される
精度に応じて、より緩やかな加工精度としてもよい。
【００２７】次、このガラス基板成形用金型１の製造方
法を、図２に基づいて説明する。
【００２８】まず、同図（ａ）に示される金型母材３の
プレス面６の中心部に、放電加工及び研削加工により、
凹部７を粗加工した。粗加工後の凹部７の形状精度は、
表面粗さ１２ｓ、真円度６μｍ、直径９．９８ｍｍ、深
さ７．９８ｍｍであった。
【００２９】次に、同図（ｂ）に示されるように凹部７
以外の部分を、ダイヤモンド砥石を使用した研磨加工に
よりプレス面６を鏡面化した。鏡面化後のプレス面６の
表面粗さは、０．２ｓであった。そして、凹部７を含む
プレス面６の全面に、例えば、スパッタ法によって、離
型膜５を４０μｍ形成した。その後、同図（ｃ）に示さ
れるように、この凹部７をホーニングにより鏡面加工
（精密加工）した。鏡面加工後の凹部４の形状精度は、
上述のように表面粗さ０．２ｓ、真円度０．５μｍ、円
筒度および直角度が１μｍ、凹部４の直径１０．０ｍ
ｍ、深さ８ｍｍであり、上述の図１のガラス基板成形用
金型１が得られた。
【００３０】次に、このガラス基板成形用金型１を使用
したディスク用ガラス基板の成形方法を図３に示す。
【００３１】この実施の形態のガラス基板成形方法で
は、上述したガラス基板成形用金型１と凹部４を有して
いない金型８と用いてディスク用ガラス基板２を成形す
るものである。上金型となる金型８は、凹部４を有して
いない以外は、下金型である本発明のガラス基板成形用
金型１と基本的に同様の構成であり、平面状のプレス面
６’を有する金型母材３’上に、離型膜５’が形成され
て構成されている。
【００３２】同図（ａ）に示されるように、これら両金
型１，８の間に、ガラス材料（アルミノシリケートガラ
ス）９を配置し、両金型１，８およびガラス材料９を６
８０℃に加熱後、同図（ｂ）に示されるように、４５０
ｋｇｆ／ｃｍ2にてプレス成形することで同図（ｃ）に
示されるように、軸部２ａを一体に有するディスク用ガ
ラス基板２を得た。
【００３３】かかるガラス基板成形方法によれば、離型
の際に軸部２ａにクラック等を発生することもなく、高
精度な軸部２ａを有するディスク用ガラス基板２を安定
して得ることができた。
【００３４】なお、比較例として、上述の図２（ｂ）と
同様に、金型母材のプレス面の中心部に凹部を粗加工し
た後、離型膜を形成したままの表面を有する金型を用い
て、同じガラス材料を、同じ条件で成形（加熱温度６８
０℃、プレス圧力４５０ｋｇｆ／ｃｍ2）したところ、
軸部の離型性が悪く、ディスク用ガラス基板の軸部にク
ラックが多発するとともに、得られた軸部の形状精度が
悪かった。
【００３５】さらに、別の比較例として、上述の図２
（ｂ）と同様に、金型母材のプレス面の中心部に凹部を
粗加工した後、離型膜を形成する前に、本発明と同様
に、凹部を高精度にホーニング加工し、プレス面全面を
鏡面加工した後、離型膜を２０μｍ形成した。この金型
の場合、成膜前の凹部の加工精度は、本発明のガラス基
板成形用金型１の完成後のものとほぼ同一であったが、
離型膜の成膜により、膜分布のばらつきが生じて精度が
が劣化し、表面粗さ３．２ｓ、真円度１．８μｍとなっ
た。そして、この金型を使用してディスク用ガラス基板
を上述の実施の形態と同様の条件でプレス成形したとこ
ろ、ガラス基板の軸部の形状精度が悪かった。
【００３６】（その他の実施の形態）上述の実施の形態
では、軸部の形状として円柱状としたが、角柱状やその
その他の形状であってもよい。
【００３７】また、上述の実施の形態では、金型母材と
して、タングステンカーバイト（ＷＣ）を主成分とする
超硬合金を、離型膜として、白金（Ｐｔ）を、ガラス材
料として、アルミノシリケートをそれぞれ使用したが、
本発明の他の実施の形態として、金型母材として、その
他のタングステンカーバイト（ＷＣ）を主成分とする超
硬合金、チタンナイトライド（ＴｉＮ）、チタンカーバ
イド（ＴｉＣ）、クロムカーバイド（Ｃｒ３Ｃ２）、ア
ルミナ（Ａｌ2Ｏ3）を主成分とするサーメット、アルミ
ナ（Ａｌ2Ｏ3）、シリコンカーバイド（ＳｉＣ）、クロ
ムカーバイド（Ｃｒ3Ｃ2）、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）、窒
化硼素（ＢＮ）のセラミックス等、耐熱性、耐食性に優
れ、耐高温強度を有するものを、また、離型膜としてそ
の他のシリコン（Ｓｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、クロム
（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、ニオブ（Ｎｂ）、バナジウ
ム（Ｖ）、モリブデン（Ｍｏ）、白金（Ｐｔ）、パラジ
ウム（Ｐｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、ロジウム（Ｒ
ｈ）、オスミウム（Ｏｓ）、ルテニウム（Ｒｕ）、レニ
ウム（Ｒｅ）、タングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）
のいずれか、あるいは、それらのいずれかを主成分とす
る合金、あるいは、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、シリコンカ
ーバイド（ＳｉＣ）、クロムカーバイド（Ｃｒ3Ｃ2）、
窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）、窒化硼素（ＢＮ）よりなるもの
を、ガラス材料としてその他のガラスをそれぞれ使用し
てもよい。
【００３８】また、金型の製造方法として、凹部の粗加
工方法として、放電加工及び研削加工以外の方法であっ
てもよい。また、プレス面の鏡面化も、研磨加工、ホー
ニング加工以外のものであってもよい。
【００３９】また、金型の少なくともプレス面には、離
型膜が形成されていることが好ましい。
【００４０】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ガラス材
料を加熱軟化してプレス成形することにより、軸部を有
するディスク用ガラス基板を得る際に使用するガラス基
板成形用金型において、そのプレス面の前記軸部に対応
して窪んだ凹部には、高精度に加工された離型膜を有し
ており、これによって、高精度で、離型性に優れた軸一
体型のディスク用ガラス基板を安定して得ることができ
る。
【００４１】また、離型膜を形成した後に凹部を精密加
工することにより、精密加工後に離型膜を形成する場合
と比較して、離型膜の成膜による凹部の形状精度劣化も
なく、凹部を高精度に加工することができ、これによっ
て、得られるディスク用ガラス基板の軸部の形状精度も
高まることになる。
【００４２】また、このガラス基板成形用金型を使用し
てガラス基板をプレス成形することにより、高精度な軸
部を有するディスク用ガラス基板を安価に、高精度に、
大量に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係るガラス基板成形用金
型を示す図である。
【図２】図１のガラス基板成形用金型の製造手順を示す
図である。
【図３】図１のガラス基板成形用金型を用いたガラス基
板の成形方法を示す図である。
【符号の説明】
１ ガラス基板成形用金型 ２ ディスク用ガラス基板 ２ａ 軸部 ３，３’ 金型母材 ４ 凹部 ５，５’ 離型膜 ９ ガラス材料
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 末永 辰敏 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 岡部 明彦 神奈川県川崎市川崎区田辺新田１番１号 富士電機株式会社内 Ｆターム(参考） 4G015 HA01

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 突出した軸部を有する軸一体型のディス
    ク用ガラス基板をプレス成形するガラス基板成形用金型
    であって、 前記軸部に対応して窪んだ凹部を有する金型母材のプレ
    ス面には、少なくとも前記凹部に、高精度に加工された
    離型膜を有することを特徴とするガラス基板成形用金
    型。
  2. 【請求項２】 前記金型母材が、タングステンカーバイ
    ト（ＷＣ）を主成分とする超硬合金からなる請求項１記
    載のガラス基板成形用金型。
  3. 【請求項３】 前記金型母材が、チタンナイトライド
    （ＴｉＮ）、チタンカーバイド（ＴｉＣ）、クロムカー
    バイド（Ｃｒ3Ｃ2）およびアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）のうち
    から選ばれた少なくともいずれか１種を主成分とするサ
    ーメットからなる請求項１記載のガラス基板成形用金
    型。
  4. 【請求項４】 前記金型母材が、アルミナ（Ａｌ
    2Ｏ3）、シリコンカーバイド（ＳｉＣ）、クロムカーバ
    イド（Ｃｒ3Ｃ2）、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）および窒化硼
    素（ＢＮ）のうちから選ばれた少なくともいずれか１種
    を主成分とするセラミックスからなる請求項１記載のガ
    ラス基板成形用金型。
  5. 【請求項５】 前記離型膜が、シリコン（Ｓｉ）、ニッ
    ケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、ニオ
    ブ（Ｎｂ）、バナジウム（Ｖ）、モリブデン（Ｍｏ）、
    白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジウム（Ｉ
    ｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、オスミウム（Ｏｓ）、ルテニ
    ウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）、タングステン（Ｗ）
    およびタンタル（Ｔａ）のうちから選ばれた少なくとも
    いずれか１種からなる請求項１〜４のいずれかに記載の
    ガラス基板成形用金型。
  6. 【請求項６】 前記離型膜が、シリコン（Ｓｉ）、ニッ
    ケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、ニオ
    ブ（Ｎｂ）、バナジウム（Ｖ）、モリブデン（Ｍｏ）、
    白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジウム（Ｉ
    ｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、オスミウム（Ｏｓ）、ルテニ
    ウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）、タングステン（Ｗ）
    およびタンタル（Ｔａ）のうちから選ばれた少なくとも
    いずれか１種を主成分とする合金からなる請求項１〜４
    のいずれかに記載のガラス基板成形用金型。
  7. 【請求項７】 前記離型膜が、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、
    シリコンカーバイド（ＳｉＣ）、クロムカーバイド（Ｃ
    ｒ3Ｃ2）、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）および窒化硼素（Ｂ
    Ｎ）のうちから選ばれた少なくともいずれか１種からな
    る請求項１〜４のいずれかに記載のガラス基板成形用金
    型。
  8. 【請求項８】 突出した軸部を有する軸一体型のディス
    ク用ガラス基板をプレス成形するガラス基板成形用金型
    の製造方法であって、 金型母材のプレス面を粗加工して前記軸部に対応して窪
    んだ凹部を形成する第１工程と、 前記プレス面の少なくとも前記凹部に、離型膜を形成す
    る第２工程と、 前記離型膜を精密加工する第３工程と、 を含むことを特徴とするガラス基板成形用金型の製造方
    法。
  9. 【請求項９】 前記第１工程と前記第２工程との間に、
    前記凹部以外のプレス面を鏡面加工する工程を含む請求
    項８記載のガラス基板成形用金型の製造方法。
  10. 【請求項１０】 前記金型母材が、タングステンカーバ
    イト（ＷＣ）を主成分とする超硬合金からなる請求項８
    または９記載のガラス基板成形用金型の製造方法。
  11. 【請求項１１】 前記金型母材が、チタンナイトライド
    （ＴｉＮ）、チタンカーバイド（ＴｉＣ）、クロムカー
    バイド（Ｃｒ3Ｃ2）およびアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）のうち
    から選ばれた少なくともいずれか１種を主成分とするサ
    ーメットからなる請求項８または９記載のガラス基板成
    形用金型の製造方法。
  12. 【請求項１２】 前記金型母材が、アルミナ（Ａｌ
    2Ｏ3）、シリコンカーバイド（ＳｉＣ）、クロムカーバ
    イド（Ｃｒ3Ｃ2）、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）および窒化硼
    素（ＢＮ）のうちから選ばれた少なくともいずれか１種
    を主成分とするセラミックスからなる請求項８または９
    記載のガラス基板成形用金型の製造方法。
  13. 【請求項１３】 前記離型膜が、シリコン（Ｓｉ）、ニ
    ッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、ニ
    オブ（Ｎｂ）、バナジウム（Ｖ）、モリブデン（Ｍ
    ｏ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジウム
    （Ｉｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、オスミウム（Ｏｓ）、ル
    テニウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）、タングステン
    （Ｗ）およびタンタル（Ｔａ）のうちから選ばれた少な
    くともいずれか１種からなる請求項８〜１２のいずれか
    に記載のガラス基板成形用金型の製造方法。
  14. 【請求項１４】 前記離型膜が、シリコン（Ｓｉ）、ニ
    ッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、ニ
    オブ（Ｎｂ）、バナジウム（Ｖ）、モリブデン（Ｍ
    ｏ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、イリジウム
    （Ｉｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、オスミウム（Ｏｓ）、ル
    テニウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）、タングステン
    （Ｗ）およびタンタル（Ｔａ）のうちから選ばれた少な
    くともいずれか１種を主成分とする合金からなる請求項
    ８〜１２のいずれかに記載のガラス基板成形用金型の製
    造方法。
  15. 【請求項１５】 前記離型膜が、アルミナ（Ａｌ
    2Ｏ3）、シリコンカーバイド（ＳｉＣ）、クロムカーバ
    イド（Ｃｒ3Ｃ2）、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）および窒化硼
    素（ＢＮ）のうちから選ばれた少なくともいずれか１種
    からなる請求項８〜１２のいずれかに記載のガラス基板
    成形用金型の製造方法。
  16. 【請求項１６】 一対の金型間にガラス材料を配置して
    プレス成形して一方の面に突出した軸部を有する軸一体
    型のディスク用ガラス基板を得る方法であって、 前記一対の金型の一方を、前記請求項１〜７のいずれか
    に記載の前記凹部を有するガラス基板成形用金型とする
    とともに、他方を、前記凹部を有しない金型とすること
    を特徴とするガラス基板成形方法。
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