JP2003145405A - 吸引リングを有する軌道研磨機 - Google Patents

吸引リングを有する軌道研磨機

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JP2003145405A JP2002328944A JP2002328944A JP2003145405A JP 2003145405 A JP2003145405 A JP 2003145405A JP 2002328944 A JP2002328944 A JP 2002328944A JP 2002328944 A JP2002328944 A JP 2002328944A JP 2003145405 A JP2003145405 A JP 2003145405A
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  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】半径方向偏芯部のある回転軸を有するモータを
含む回転軌道研磨機を提供する。 【解決手段】真空源と接続可能な吸引容器２２がモータ
軸の周りでモータ１６に装着される。複数の貫通穴を有
する補強パッド４８と、第１および第２の円周縁を含む
円周側壁３６を有する環状フレーム３４とを含む研磨パ
ッド組合せ２６が軸の半径方向偏芯部に装着される。円
形の後壁４２が一方の円周縁４０から延びて、吸引容器
とシール可能な開口４４を有する。他方の円周縁３８は
補強パッドに取付けられる。研磨パッド組合せは高回転
速度でもフラッピングを発生しない。研磨パッドと見合
う寸法と形状を有し、研磨パッドの穴５０に整合する複
数の穴５４を有する研磨ディスク５２が研磨パッドに装
着可能である。真空源は位置合わせされた穴を通して研
磨屑を吸引して吸引容器から取り出す。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は回転軌道研磨機、特
に真空源と共に使用することに適した回転軌道研磨機に
関する。
【０００２】
【従来の技術】本願発明者の米国特許出願第０９／７３
８３０５に二重作動の軌道研磨機が開示され、研磨パッ
ドには環状溝に位置合わせされた研磨ディスクの穴を通
して研磨屑を吸引する半径方向に延びる複数の吸引溝が
含まれている。この装置は浮遊粒子を吸引容器に収集し
て運搬するには非常に有効であるが、研磨ディスクの穴
を通して与えられる真空圧力の供給に改善がなされた。
【０００３】同先行出願にも、回転軸に装着されたパッ
ド補強板および補強パッドを独特にバランスさせ、１０
０００ｒｐｍを超えるパッドの高回転操作速度において
もパッド補強板と補強されたパッドのフラッピング（fl
apping）を最小にする独特のバランスシステムが含まれ
ている。
【０００４】真空状態の伝達を改善している間に、ディ
スク状の大径パッド補強板の高速回転に関連してフラッ
ピングを除去するさらなる改善がなされた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】真空圧力が支障なく伝
わるよう改善され、比較的大径のディスク状パッド補強
板および補強パッドが高速回転においてフラッピングを
発生しない軌道研磨機の吸引リングと回転軌道研磨機を
提供する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は補強パッドと研
磨ディスクの穴を介して真空圧力が支障なく伝わるよう
に改善された軌道研磨機の吸引リングおよび／または回
転軌道研磨機を提供する。この方法によると、研磨ディ
スクに達する供給真空圧力は吸引リングにより強化され
る。
【０００７】また本発明は、パッド補強板と補強された
パッドとを一体として作用させるよう補強パッドに取付
けたブリッジ状構造を設けることによって、比較的大径
のディスク状パッド補強板および補強パッドの高速回転
に関連するフラッピングを除去することで改善された吸
引リングを提供する。
【０００８】吸引リングは、半径方向偏芯部のある回転
軸を有するモータと、モータ軸の周りでモータに装着さ
れて真空圧力を供給する真空源に接続可能な吸引容器
と、複数の穴を有する研磨パッド組合せとを含む軌道研
磨機に使用される。
【０００９】吸引リングには第１および第２の円周縁を
含む円周側壁を有する環状フレームが含まれる。吸引リ
ングは吸引容器と研磨パッド組合せの間に配置される。
一方の縁は開口を規定し、研磨パッド組合せに装着され
るよう構成される。開口を有する円形後壁は吸引容器か
ら軌道パッド組合せに真空圧力を伝える。後壁は円周側
壁の他方の円周縁に連続する。研磨屑は研磨パッド通路
と吸引リングを通って吸引容器に移動する。
【００１０】１実施例によると、半径方向に配置された
複数のリブが、一般に円周側壁から円形後壁の開口の周
りに配置された複数の脚状部材まで延びて、パッド補強
板と補強されたパッドを含む研磨パッド組合せに取り付
けられたブリッジ状構造を形成する。吸引リング自体は
剛であるので、しばしば１００００ｒｐｍ付近の高回転
速度で発生しうる変形に対して組合せは補強される。
【００１１】リングは一般に金属または耐高衝撃性プラ
スチックで作られるが、アルミニウムが好ましい材料で
ある。本発明の回転軌道研磨機には半径方向偏芯部のあ
る回転軸を有するモータが含まれる。吸引容器はモータ
軸の周りでモータに装着され、真空源に接続可能であ
る。研磨パッド組合せは軸の半径方向偏芯部に装着され
る。
【００１２】研磨パッド組合せにはさらに複数の穴を有
する補強パッドと、第１および第２の円周縁を含み、前
記吸引容器と研磨パッド組合せの間に配置された円周側
壁を有する環状フレームとが含まれる。円形後壁は一方
の円周縁から延びて、吸引容器とシール可能な開口を有
する。他方の円周縁は補強パッドに取付けられる。
【００１３】研磨屑を取り出すため真空源に接続可能な
吸引容器を有する回転軌道研磨機に使用される研磨パッ
ド組合せには、周囲を有する補強パッドと、前記補強パ
ッドを貫通する複数の穴と、前記補強パッドに取付けら
れた円周側壁を有し、前記吸引容器から真空圧力流を伝
える開口を有する後壁の一部を規定する円周縁が含まれ
る環状フレームとが含まれる。
【００１４】研磨パッド組合せには補強パッドの穴に同
様に配置された複数の穴を有する研磨ディスクがさらに
含まれ、そのため複数のディスクの穴は研磨パッド組合
せの穴の位置に合う。
【００１５】これらおよびその他の発明の特徴および利
点は付帯する図面とともに以下の発明の詳細な説明から
完全に理解される。
【００１６】
【発明の実施の形態】詳細については図面を参照すると
して、回転軌道研磨機は一般に符号１０で示され、本発
明による研磨屑を移送する装置１２が含まれる。研磨機
１０には駆動モータ１６に装着されたハンドル１４が含
まれる。モータ１６にはハンドル１４に一般に垂直に延
びる半径方向偏芯部２０を有する回転軸１８が備わる。
吸引容器２２はモータ１６に装着され、容器は回転軸１
８を受けて回転軸１８を取り囲む。吸引容器２２は真空
源、例えば工場の真空源に接続するようになっており、
図２に示すような接続のための接続具２４が含まれる。
【００１７】研磨パッド組合せ２６は回転のために回転
軸１８に装着される。研磨パッド組合せ２６には、真空
圧力を伝える複数の穴３０が含まれる円板形状のパッド
補強板２８が含まれる。パッド補強板２８を回転させる
ため吸引リング３２がパッド補強板２８の後側に取付け
られる。
【００１８】吸引リング３２は第１および第２の円周縁
３８，４０を含む円周側壁３６を有する環状フレーム３
４で構成される。縁３８の１つは開口を規定し、パッド
補強板２８に装着および／または取付けられる。開口４
４のある円形の後壁４２は吸引容器２２からパッド補強
板２８の穴まで真空圧力を伝える。後壁４２は円周縁４
０と連続し、また開口４４は吸引容器２２と間隔が接近
する。
【００１９】シールリング４６は図１に示すように、吸
引リング開口４４に隣接する吸引容器２２の周囲に取付
けられ吸引リング３２に軽く触れ、外気が浮遊粒子また
は研磨屑を吸引する真空圧力流に間違って入り込むこと
を防止する。
【００２０】パッド補強板２８の表側には、パッド補強
板２８の穴３０に類似して配置された複数の穴５０が含
まれる弾力のある研磨パッド４８が装着される。研磨パ
ッド４８には研磨特性があり、穴３０，５０の形状と類
似の穴５４を有する研磨ディスク５２が取外し自在に装
着される。研磨処理中に粒子が剥がれるので、これら粒
子は真空源によって、位置合せされた穴３０，５０，５
４を直接通って吸引リング３２に入り吸引容器２２に出
ていく。
【００２１】１実施例では図３および図４に見られるよ
うに、吸引リング３２には半径方向に配置された複数の
リブ５６が含まれ、このリブ５６は円周側壁３６から、
円形後壁４２の開口４４の周りに配置された複数の脚状
部材５８まで延びてブリッジ状構造を形成する。図示す
る実施例ではリブ５６が８つ、脚状部材５８が８つあ
る。リブ５６はパッド補強板２８に垂直に延びて、一体
として作用するよう研磨パッド組合せ２６と共に吸引リ
ング３２に装着される断面を有する。組合せは高回転速
度において可能な変形に対して剛性が大きい。
【００２２】吸引リング３２はパッド補強板２８と同じ
ようにアルミニウムで作るのが好ましい。高衝撃プラス
チック構造も使用できるが、商用適用では耐久性が劣
る。発明は特別の実施例を参照して記載されているが、
記載された発明の概念の精神と範囲内で多数の変更がな
されうることを理解されたい。したがって、発明は記載
された実施例に限定されるものではなく、特許請求の範
囲の記載によって規定される範囲すべてを有することを
意図する。
【００２３】
【発明の効果】本発明による吸引リングを有する軌道研
磨機によると、ディスク状の大径のパッド補強板を含む
研磨パッド組合せが高速回転においてもフラッピングを
発生することはない。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明による構造の回転軌道研磨機の断面図
である。
【図２】 真空源に接続された接続具を示す吸引容器の
断面図である。
【図３】 本発明の研磨パッドを示す部分的断面の概略
平面図である。
【図４】 半径方向に配置された複数のリブおよびブリ
ッジ状構造をした複数の脚部材を示す本発明の吸引リン
グの断面平面図である。
【図５】 内部とパッド補強板の穴形状を示す研磨パッ
ドの平面図である。
【符号の説明】
１０ 研磨機 １２ 移動装置 １４ ハンドル １６ モータ １８ 回転軸 ２０ 偏芯部 ２２ 吸引容器 ２４ 接続具 ２６ 研磨パッド組合せ ２８ パッド補強板 ３０ 穴 ３２ 吸引リング ３４ 環状フレーム ３６ 円周側壁 ３８ 円周縁 ４０ 円周縁 ４２ 後壁 ４４ 開口 ４６ シールリング ４８ 研磨パッド、補強パッド ５０ 穴 ５２ 研磨ディスク ５４ 穴 ５６ リブ ５８ 脚状部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ミクサ マートン カナダ国、エヌ９ジー２ジェー７ オンタ リオ、ウインドソー、2495サント Ｆターム(参考） 3C058 AA01 AC05

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】半径方向偏芯部のある回転軸を有するモー
    タ（１６）と、モータ軸の周りでモータに装着されて真
    空圧力を供給する真空源に接続可能な吸引容器（２２）
    と、複数の穴を有する研磨パッド組合せ（２６）とを含
    む軌道研磨機（１０）用の吸引リング（３２）であっ
    て、前記吸引リングは、 第１および第２の円周縁を含み、一方の前記円周縁は開
    口を規定して研磨パッド組合せに装着され、前記吸引容
    器と前記研磨パッド組合せの間に配置された円周側壁を
    有する環状フレーム（３４）と、 前記吸引容器から前記軌道研磨パッド組合せに前記真空
    圧力を伝えるために開口を有し、前記円周側壁の他方の
    前記円周縁に連続する円形後壁（４２）とから構成さ
    れ、 前記研磨パッド組合せ（２６）は前記吸引リング（３
    ２）によって、フラッピングが発生しないように支持さ
    れ、研磨屑は前記研磨パッド（４８）の通路と吸引リン
    グ（３２）を介して前記吸引容器（２２）に移動できる
    ことを特徴とする軌道研磨機の吸引リング。
  2. 【請求項２】一般に前記円周側壁（３６）から前記円形
    後壁の前記開口の周りに配置された複数の脚状部材（５
    ８）まで延びて、前記吸引リングと研磨パッド組合せの
    剛性を保つ、半径方向に配置された複数のリブ（５６）
    が設けられたことを特徴とする請求項１に記載の吸引リ
    ング。
  3. 【請求項３】前記吸引リング（３２）は一般にアルミニ
    ウム材料で作られたことを特徴とする請求項１に記載の
    吸引リング。
  4. 【請求項４】半径方向偏芯部のある回転軸を有するモー
    タ（１６）と、 前記モータの軸の周りでモータに装着されて真空源に接
    続可能な吸引容器（２２）と、 前記軸の半径方向偏芯部に装着され、さらに複数の穴
    （５０）を有する補強パッド（４８）と、第１および第
    ２の円周縁を含む円周側壁（３６）を有し、前記吸引容
    器と前記研磨パッド組合せの間に配置された環状フレー
    ム（３４）とが含まれる研磨パッド組合せ（２６）と、 一方の前記円周縁（４０）から延びて、前記吸引容器に
    シール可能な開口（４）を有する円形後壁（４２）と、
    から構成され、他方の前記円周縁（３８）は前記補強パ
    ッド（４８）に取付けられる回転軌道研磨機。
  5. 【請求項５】一般に前記円周側壁（３６）から前記円形
    後壁の前記開口（４４）の周りに配置された複数の脚状
    部材（５８）まで延びて、前記研磨パッド組合せと補強
    パッドの剛性を保つ、半径方向に配置された複数のリブ
    （５６）が設けられたことを特徴とする請求項４に記載
    の回転軌道研磨機。
  6. 【請求項６】前記研磨パッド組合せ（２６）には、前記
    研磨パッド（４８）に見合う寸法と形状を有する研磨デ
    ィスク（５２）と、前記補強パッドの前記穴（５０）に
    位置合せされた複数の穴（５４）とが含まれることを特
    徴とする請求項４に記載の回転軌道研磨機。
  7. 【請求項７】研磨屑を取り出すため真空源に接続可能な
    吸引容器を有する回転軌道研磨機に使用される研磨パッ
    ド組合せ（２６）であって、 周囲を有する補強パッド（４８）と、 前記補強パッドを貫通する複数の穴（５０）と、 前記補強パッドに取付けられた円周側壁（３８）を有
    し、前記吸引容器から真空圧力を伝える開口（４４）を
    有する後壁（４２）の一部を規定する円周縁（４０）が
    含まれる環状フレーム（３４）と、から構成された研磨
    パッド組合せ。
  8. 【請求項８】さらに研磨ディスク（５２）が含まれ、前
    記研磨ディスク（５２）はディスクの複数の穴（５４）
    が研磨パッド組合せの穴（５０）に合うように、前記補
    強パッドの前記穴（５０）と同様に配置された複数の穴
    （５４）を有する、請求項７に記載の研磨パッド組合
    せ。
JP2002328944A 2001-11-13 2002-11-13 吸引リングを有する軌道研磨機 Pending JP2003145405A (ja)

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