JP2003140309A - 光走査装置、画像形成装置及び画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザ光源の温度依存性や、使用する光学部
品の温度安定性などの環境安定性の制限、使用する光学
部品の取り付け位置及び方向の精度の制限などを緩めて
コストダウンが可能で、走査されるレーザビームの照射
光量をより正しく測定できる光走査装置を提供する。ま
た、かかる光走査装置を用いた画像形成装置及び画像形
成方法を提供する。 【解決手段】 この光走査装置は、ビームを出射する光
源部１と、出射したビームのうち所定の割合のビームを
分岐するビーム分岐手段３と、ビーム分岐手段により分
岐されたビームを受光するフォトダイオード１１と、フ
ォトダイオードの出力を用いて光源部の出射光量を検出
する発光光量検出手段１２とを有し、出射したビームを
記録媒体上へ走査する。フォトダイオードのビーム受光
側にビームを拡散させる光拡散部材１４を設けた。ま
た、光走査装置からのビームはフィルムＦに対し下向き
に照射される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ビームを記録媒体
に走査する光走査装置、この光走査装置を用いた画像形
成装置及び画像形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の画像形成装置の一例として図８、
図９に示す構成のものがある。図８は従来の画像形成装
置の全体図であり、図９は従来の画像形成装置の光走査
部の概略図である。

【０００３】図８の画像形成装置は、熱現像感光フィル
ム（以下、「フィルム」という。）を給送部１１０から
取り出してから搬送方向変換部１４５で矢印（４）の水
平方向に搬送し、複数の搬送ローラ対１４２により矢印
（５）の上方垂直方向に搬送する。この上方への副走査
の間、光走査装置１２０はフィルムに走査レーザビーム
Ｌを照射し潜像を形成する。潜像が形成されたフィルム
を、更に矢印（６）の上方に搬送し、供給ローラ対１４
３により、光走査装置１２０の上方に設けられた熱現像
部１３０へと送り、熱現像ドラム１３１で１２０℃前後
の熱現像温度で１０〜２０秒保持し熱現像する。その
後、フィルムを矢印（７）の方向から矢印（８）の方向
に搬送ローラ対１４４で搬送しながら冷却し、矢印
（９）の方向に搬送し、画像記録装置の上部の排出トレ
イ１６０に排出する。

【０００４】図９の光走査部において、レーザ光源１を
出射したレーザビームは、コリメータレンズ２で整形さ
れ、ビームスプリッタ３でビームの一部を所定の割合で
分岐する。ビームスプリッタ３を通過したビームは、シ
リンドリカルミラー又はシリンドリカルレンズ５によ
り、回転多面体６の回転軸方向が収束し、回転多面体６
のミラー面に向かう。回転するポリゴンミラー６のミラ
ー面で反射したビーム(走査光)は、ｆθレンズ７を通過
し、Ｖミラーユニット８及びミラー９で反射され、フィ
ルムＦ上を走査する。

【０００５】また、ビームスプリッタ３で分岐されたレ
ーザビームはフォトダイオード１１に入射し、フォトダ
イオード１１は受光したビームの光量に応じた出力信号
を出力する。変調基板１２は入力された画像信号に基づ
き変調信号を出力する。さらに、変調基板１２はフォト
ダイオード１１からの出力信号を用いて、レーザ光源１
の出射光量の変動を補正した変調信号を出力する。変調
基板１２から出力された変調信号は、高周波重畳基板１
３で高周波信号を重畳され、レーザ光源１の駆動信号と
して出力され、この変調信号でレーザ光源１からレーザ
ビームを出射する。このレーザビームが上述のようにし
て主走査され図８の搬送ローラ対１４２等からなる副走
査機構で副走査方向（垂直方向）に搬送されているフィ
ルムに潜像を形成する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ここで、走査されるレ
ーザビームの照射光量を正しく測定するには、走査され
るレーザビームの照射光量と、フォトダイオード１１に
入射するレーザビームの受光光量との比率を一定にする
必要がある。しかし、何らかの条件でフォトダイオード
１１に入射するレーザビームの光量分布がわずかでもず
れると、この比率が変動してしまう。従って、この比率
を一定にするには、レーザ光源１の横マルチモードの温
度依存性の抑制、レーザ光源１、コリメータレンズ２、
ビームスプリッタ３及びフォトダイオード１１の取り付
け位置及び取り付け方向の精度の維持、温度安定性など
の環境安定性の十分さが必要になる。しかし、これらを
十分に維持しようとすると、使用できる部品に制限を受
け、また、加工工数・精度が増大し、装置のコストダウ
ンが困難であるという問題点がある。また、フォトダイ
オード１１に入射するレーザビームの光量分布がずれた
ままの状態であると、レーザ光源１からのレーザビーム
の光量が変動してしまい、その結果、フィルム上に擬画
像や濃度むらが発生してしまう。

【０００７】本発明の目的は、上記課題を解決するため
のもので、レーザ光源の温度依存性や、使用する光学部
品の温度安定性などの環境安定性の制限、使用する光学
部品の取り付け位置及び方向の精度の制限などを緩め、
使用できる部品の制限を緩めたり、加工工数・精度を抑
えたりするなどのコストダウンを可能としつつ、走査さ
れるビームの出射光量をより正しく測定できるようにで
きる光走査装置を提供することである。また、かかる光
走査装置を用い、熱に起因する影響を抑えるとともにビ
ームを安定して照射して擬画像や濃度むらの発生を防止
できる画像形成装置及び画像形成装置を提供することで
ある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による光走査装置は、ビームを出射する光源
部と、出射したビームのうち所定の割合のビームを分岐
するビーム分岐手段と、前記ビーム分岐手段により分岐
されたビームを受光するフォトダイオードと、前記フォ
トダイオードの出力を用いて前記光源部の出射光量を検
出する発光光量検出手段と、を有し、前記出射したビー
ムを記録媒体上へ走査する光走査装置であって、前記フ
ォトダイオードのビーム受光側にビームを拡散させる光
拡散部材を設けたことを特徴とする。

【０００９】この光走査装置によれば、フォトダイオー
ドのビーム受光側にビーム光を拡散させる光拡散部材を
設けたので、ビームの光量分布がわずかにずれても、フ
ォトダイオードが受光する光量の変動が少なく、レーザ
光源の温度依存性や、使用する光学部品の温度安定性な
どの環境安定性の制限、使用する光学部品の取り付け位
置及び方向の精度の制限などを緩め、使用できる部品の
制限を緩めたり、加工工数・精度を抑えたりするなどの
コストダウンを可能としつつ、走査されるビームの出射
光量をより正しく測定できるようにできる。

【００１０】前記光拡散部材はビーム波長領域における
光透過率が５０％以上であることが好ましく、これによ
り、ビーム光を十分に透過するので、フォトダイオード
が受光する光量が十分で、より良好な測定ができる。

【００１１】また、前記光拡散部材の表面が帯電防止処
理されていることにより、光拡散部材の表面の帯電を抑
えられ、埃の付着を抑えることができ、光拡散部材に埃
が付着することによる測定光量変動の発生を抑えること
ができる。

【００１２】また、前記光拡散部材のビーム入射側表面
にマット加工が施されていることにより、光拡散部材の
ビーム入射側表面でビームが拡散し、ビームの鏡面反射
が抑えられ、鏡面反射したビームによる問題の発生を抑
え、かつ、分岐したビームがビーム光源に戻ることによ
る問題の発生を抑えつつ、ビームの光量分布がわずかに
ずれても、フォトダイオードが受光する光量の変動が少
なくなる。

【００１３】また、前記光拡散部材のビーム出射側表面
にマット加工が施されていることにより、光拡散部材の
ビーム出射側表面で、ビームが拡散し、ビームの光量分
布がわずかにずれても、フォトダイオードが受光する光
量の変動が少なくなる。

【００１４】また、前記光拡散部材が乳白色のアクリル
板であることにより、安価な部材で、ビームの光量分布
がわずかにずれた際のフォトダイオードが受光する光量
の変動を少なくすることができる。

【００１５】また、前記光拡散部材が磨りガラス板であ
ることにより、安価な部材で、ビームの光量分布がわず
かにずれた際のフォトダイオードが受光する光量の変動
を少なくすることができる。

【００１６】また、前記発光光量検出手段の検出結果を
用いて、前記光源部の出射光量を制御する光源制御駆動
手段を有することが好ましい。これにより、レーザ光源
の温度依存性や、使用する光学部品の温度安定性などの
環境安定性の制限、使用する光学部品の取り付け位置及
び取り付け方向の精度の制限などを緩め、使用できる部
品の制限を緩めつつ、加工工数・精度の増大を抑え、コ
ストダウンが可能であるとともに、より良好に記録媒体
への照射光量を制御できる。

【００１７】また、本発明による画像形成装置は、上述
の光走査装置と、前記光走査装置の上方に設けられ、前
記光走査装置によりビーム露光された熱現像材料を加熱
して熱現像する熱現像手段と、前記光走査装置及び前記
熱現像手段を実質的に遮光状態にして覆う遮光枠体と、
を有する画像形成装置であって、前記光走査装置から出
されるビームの照射方向が下方向きであることを特徴と
する。

【００１８】この画像形成装置によれば、同じ遮光枠体
内に、光走査装置の上方に熱現像手段が設けられている
ので、画像形成装置は小型化しやすく、熱現像手段で熱
っせられた空気が光走査装置に到達しにくい。また、熱
現像手段で、空気より比重の大きい有機ガスが発生し、
光走査装置まで沈降してきても、光走査装置から出射す
るビームの照射方向が下方向きであるので、光走査装置
内部に有機ガスが侵入しにくく、有機ガスが光拡散部材
に凝縮することによる発光光量検出手段による照射光量
の検出の狂いを抑えることができ、記録媒体への照射光
量の良好な制御を維持できる。このようにして光走査装
置において熱現像手段における熱に起因する影響を抑え
られる。また、光走査装置において上述のようにフォト
ダイオードでより正しく測定した走査ビームの測定光量
に基づいて光源部を制御できるので、光源部からビーム
を安定して熱現像材料に露光でき、熱現像材料に擬画像
や濃度むらが発生することを防止できる。

【００１９】また、本発明による別の画像形成装置は、
回転多面鏡又はガルバノミラーを有し、光源部から出射
したビームが前記回転多面鏡又はガルバノミラーのミラ
ー面に入射し、前記回転多面鏡が回転すること又は前記
ガルバノミラーが回動することにより、前記ミラー面で
反射したビームを記録媒体上へ走査する上述の光走査装
置と、前記光走査装置により走査されるビームの走査方
向と実質的に直交する方向に熱現像感光材料を移動させ
ることにより副走査する副走査手段と、前記光走査装置
の上方に設けられ、前記光走査装置及び副走査手段とに
よりビーム露光された熱現像材料を加熱して熱現像する
熱現像手段と、前記光走査装置、前記副走査手段及び前
記熱現像手段を実質的に遮光状態にして覆う遮光枠体
と、を有する画像形成装置であって、前記光走査装置か
ら出されるビームの照射方向が下方向きであることを特
徴とする。

【００２０】この画像形成装置によれば、同じ遮光枠体
内に、光走査装置の上方に熱現像手段が設けられている
ので、画像形成装置は小型化しやすく、熱現像手段で熱
っせられた空気が光走査装置に到達しにくい。また、熱
現像手段で、空気より比重の大きい有機ガスが発生し、
光走査装置まで沈降してきても、光走査装置が回転多面
鏡又はガルバノミラーで走査する方式で、光走査装置の
開口をスリット状にすることができ、光走査装置から出
されるビームの照射方向が下方向きであるので、光走査
装置内部に有機ガスが侵入しにくく、有機ガスが光拡散
部材に凝縮することによる発光光量検出手段による射出
光量の検出の狂いを抑えることができ、媒体への照射光
量の良好な制御を維持できる。このようにして光走査装
置において熱現像手段からの熱の影響を抑えられる。ま
た、光走査装置において上述のようにフォトダイオード
でより正しく測定した走査ビームの測定光量に基づいて
光源部を制御できるので、光源部からビームを安定して
熱現像材料に露光でき、熱現像材料に擬画像や濃度むら
が発生することを防止できる。

【００２１】また、本発明による画像形成方法は、上述
の画像形成装置を用いた画像形成方法において、前記熱
現像感光材料が、ハロゲン化銀微粒子と、有機銀塩と、
還元剤とを含有する熱現像感光材料であることを特徴と
する。

【００２２】この画像形成方法によれば、熱現像により
良好な画像を得られつつ、熱現像で発生する空気より比
重の重い有機ガスが、光走査装置まで沈降してきても、
光走査装置内部に侵入しにくく、これらのガスが光拡散
部材に凝縮することによる発光光量検出手段による射出
光量の検出の狂いを抑えることができ、媒体への照射光
量の良好な制御を維持できる。

【００２３】また、前記熱現像手段の熱現像温度が１１
５℃以上１３５℃以下であることが好ましい。これによ
り、熱現像により良好な画像を得ることができるととも
に、１１５℃以上１３５℃以下の熱現像温度で発生する
空気より比重の重い有機ガスが、光走査装置まで沈降し
てきても、光走査装置内部に侵入しにくく、これらのガ
スが光拡散部材に凝縮することによる発光光量検出手段
による射出光量の検出の狂いを抑えることができ、媒体
への照射光量の良好な制御を維持できる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明による実施の形態に
ついて図面を用いて説明する。図１は本発明の実施の形
態による画像形成装置の正面図である。

【００２５】図１の画像形成装置１０は、レーザビーム
によって潜像による画像形成がなされる前の熱現像感光
材料である熱現像感光フィルム（以下、「フィルム」と
いう。）を収納するための複数の収納部４１，４２を備
え、更に、収納部４１，４２に収納された多数枚のフィ
ルムを一枚ずつ吸盤で負圧により吸着し移動させること
で取り出す公知のフィルム供給機構を内部に備える。

【００２６】画像形成装置１０は、取り出されたフィル
ムを複数の搬送ローラ対１６ａで図１の下方向（１）に
搬送するための下降搬送部１６と、下降搬送部１６から
搬送されたフィルムの位置を規制して曲がりを補正しか
つフィルムを複数の搬送ローラ対１７ａで水平方向
（２）に搬送する位置規制部１７と、位置規制部１７か
ら送り込まれ曲がりの補正されたフィルムを副走査方向
（水平方向（２））に定速度で移動させる副走査部１８
とを有する。副走査部１８は、後述の図５のように２つ
の搬送ローラ対等から構成される。

【００２７】また、画像形成装置１０は、副走査部１８
においてフィルムに対し画像情報に基づいて変調された
レーザビームを露光しながら走査しフィルムに画像情報
による潜像を形成する光走査部１９と、副走査部１８で
光走査部１９により潜像が形成されたフィルムを複数の
搬送ローラ対２０ａで図１の上方向（３）に搬送する上
昇搬送部２０とを有する。

【００２８】光走査部１９からレーザビームは図１のよ
うに下向きに副走査部１８に対し照射されるようになっ
ている。また、上昇搬送部２０は、フィルムを副走査部
１８から装置本体の上部まで搬送するための長い搬送経
路及び露光中のフィルムに衝撃を与えないため搬送ロー
ラの待避機能等を備える。

【００２９】画像形成装置１０は、上述のようにして潜
像の形成されたフィルムを加熱し熱現像してから冷却し
搬送する熱現像部３０を装置本体の上部に有する。熱現
像部３０で熱現像され画像情報が可視化されたフィルム
は冷却されて排出部２２へ搬送され装置外部へ排出され
る。

【００３０】熱現像部３０は、熱現像ドラムを含む熱現
像ドラムユニット３１と、熱現像後のフィルムを搬送し
かつ冷却する冷却搬送ユニット３２と、フィルムを排出
部２２に向け更に搬送する搬送部３３と、フィルムの熱
現像時に発生する有機ガスを取り除くための脱臭部３４
と、を有する。

【００３１】図１のように、画像形成装置１０は、遮光
枠体４３内に上述のような副走査部１８、光走査部１９
及び熱現像部３０等をほぼ遮光状態にして覆った状態で
収納している。副走査部１８及び光走査部１９は収納部
４１，４２を介して熱現像部３０の下方に配置されてい
る。フィルムは、図１の１点鎖線で示す搬送路を通って
上述のようにして収納部４１，４２から排出部２２まで
搬送される。

【００３２】次に、図２により図１の光走査部１９の光
学系について説明する。図２は画像形成装置の光走査部
１９の光学系等を概略的に示す図であり、図９と同様の
部分には同じ符号を付け、その説明は省略する。

【００３３】図２のように、光走査部１９では、変調基
板１１に取り付けられたフォトダイオード１１に板状の
光拡散部材１４が前置されており、レーザ光源１からの
レーザビームがビーム分岐手段のビームスプリッタ３で
分岐され、この分岐されたレーザビームが光拡散部材１
４を通過する際にフォトダイオード１１に向け拡散する
ようになっている。

【００３４】また、光走査部１９の光学系及び制御系
は、図１の実線及び図２の破線で示す筐体１９ａ内に収
容されており、図２のミラー９で反射したレーザビーム
は筐体１９ａの下面に設けたスリット状の開口１９ｂか
ら図１，図２の下側にフィルムＦに向けて出射するよう
になっている。このように、光走査部１９からのビーム
照射方向が下向きであり、そのための開口１９ｂが筐体
１９ａの下面に設けられているので、図１の熱現像部３
０でフィルムＦの加熱時に発生し、脱臭部３４で充分に
除去できなかった微量の有機ガスが下方に降りてきて
も、その有機ガスが光走査部１９の筐体１９ａ内に侵入
し難い構造となっている。

【００３５】光拡散部材１４としては、乳白色のアクリ
ル板や磨りガラス板などを用いることができる。また、
光拡散部材１４のビーム波長領域（ビームのピーク波長
±２ｎｍ）における光透過率（拡散透過率）は、５０％
以上、特に６０％以上が好ましい。また、９０％以下、
特に８０％以下が好ましい。また、光拡散部材１４の表
面は、公知の帯電防止処理により酸化錫等の金属酸化物
微粉末、金属微粉末、有機帯電防止剤等による帯電防止
層を形成することなど表面が帯電防止処理されているこ
とが、埃が付着することによる測定光量変動を抑えるこ
とができ好ましい。

【００３６】なお、光拡散部材１４は、ビーム入射側表
面及び出射側表面の少なくとも一方がフロスト加工など
公知のマット加工により指向性のない光拡散作用のある
マット面に形成したものであってもよい。

【００３７】また、光拡散部材１４は、光軸に対し１°
以上（特に２°以上）、また、１０°以下（特に５°以
下）傾けて配置することが好ましく、また、光拡散部材
１４のビーム波長領域（ビームのピーク波長±２ｎｍ）
の分光透過率がほぼフラットな特性（５％／ｎｍ以下）
を有することが好ましい。

【００３８】図２のように、ビームスプリッタ３とフォ
トダイオード１１との間に光拡散部材１４を設けること
による効果を図３を参照して説明する。図３（ａ）、
（ｂ）はフォトダイオード１１の受光面における光量分
布を示す図である。

【００３９】即ち、図３（ａ）のように、フォトダイオ
ード１１の受光面における光量は、光拡散部材がない場
合には、鋭く高いピークを有するような分布となるのに
対し、光拡散部材１４を設けた場合には、ピークが低下
しかつなだらかな分布となり、受光面におけるビーム径
ｄが大きくなるので、フォトダイオード１１の位置変化
や光軸変動による受光量の変動を抑えられる。また、フ
ォトダイオード１１の変調基板１２上の位置調整も容易
となるため、フォトダイオード１１の取り付け位置及び
取り付け方向の精度の制限が緩やかになり、生産時等に
おける調整が容易となる。

【００４０】また、図３（ｂ）のように、コリメータ２
から出射しビームスプリッタ３で分岐されたビームには
光拡散部材がない場合に、リップル成分が生じることあ
り、光量変動の原因となり好ましくないのに対し、光拡
散部材１４を設けた場合には、リップル成分を除去しリ
ップルの悪影響を抑え、光量を安定させることができ
る。

【００４１】また、本実施の形態における熱現像感光フ
ィルムは、比較的低感度であるために、高エネルギのビ
ームをフィルムに照射する必要があるが、その結果、フ
ォトダイオード１１にも強いエネルギのビームが入射す
る。このため、フォトダイオード１１からの受光信号が
飽和してしまい、光出力強度の直線性が悪化してしま
い、また、フォトダイオード１１の寿命が短くなってし
まい易いが、光拡散部材１４を設けることで図３
（ａ）、（ｂ）のようにフォトダイオード１１に入射す
る光量を全体として低減できるので、光出力強度の直線
性を維持でき、また寿命を長く保つことができる。

【００４２】なお、光量低減のため例えばビームスプリ
ッタ３にコーティングを施し反射率等を調整することも
可能であるが、かかるコーティングはコストがかかり、
また、所望の分光特性を得ることが困難であるのに対
し、本実施の形態では上述のように光拡散部材を設ける
ことでこれらの問題を解決できる。

【００４３】次に、図４により図２の光走査部１９の変
調基板１２及び高周波重畳基板１３における回路構成に
ついて説明する。図４は光走査部１９の変調基板１２及
び高周波重畳基板１３の回路のブロック図である。

【００４４】図４に示すように、変調基板１２は加減算
器２１０と偏差信号増幅回路２２０とを有する。画像信
号に基づいて変調された光量指令信号（変調信号）Ｓ及
び光量モニタ部からフィードバックされた負の受光信号
Ｍが加減算器２１０に入力すると、加減算器２１０から
それらの偏差を示す偏差信号を出力し、偏差信号増幅回
路２２０に送る。偏差信号増幅回路２２０は、加減算器
２１０からの偏差信号を増幅してレーザ駆動信号を線形
駆動電流出力回路２３０と非線形駆動電流出力回路２４
０に送る。線形駆動電流出力回路２３０と非線形駆動電
流出力回路２４０は、偏差信号増幅回路２２０からのレ
ーザ駆動信号を電圧電流変換して半導体レーザ（レーザ
光源）１を駆動する電流を出力する。線形駆動電流出力
回路３０は光量指令信号の増減に対応して線形な駆動電
流を出力する。非線形駆動電流出力回路２４０は、半導
体レーザの自然発光領域におけるレーザ駆動電流に対す
る非線形な光出力特性を補償するための非線形駆動電流
出力を行い、両者を合わせて光量指令信号と光出力の線
形応答を幅広いダイナミックレンジで確保している。線
形駆動電流出力回路２３０と非線形駆動電流出力回路２
４０から出力されたレーザ駆動電流は、合わせて交互駆
動制御回路３００に送られて半導体レーザ１を駆動す
る。

【００４５】変調基板１２のフォトダイオード１１、フ
ィルタ２７０、受光信号増幅回路２８０およびフィード
バックゲイン変更回路２９０は、光量モニタ部を構成
し、フォトダイオード（ＰＤ）１１は、半導体レーザ
（ＬＤ）１から発せられる前方出射光の一部を受光して
電流信号に変換しフィルタ２７０に送る。フィルタ２７
０はローパスフィルタであり、電流信号に含まれる高周
波成分を遮断し、受光信号増幅回路２８０に送る。受光
信号増幅回路２８０では、高周波成分がカットされた電
流信号を電流電圧変換して電圧出力を所定の電圧レベル
まで増幅して受光信号Ｍとして出力し、フィードバック
ゲイン変更回路２９０に送る。フィードバックゲイン変
更回路２９０は、高周波重畳基板１３の高周波重畳回路
を使用する場合と使用しない場合とで、フィードバック
ゲインを切り替えるためのものである。高周波重畳回路
を使用する場合は、半導体レーザ１は負荷３００と交互
に通電されることになり平均光量が減少する。そこで、
光量指令信号Ｓに対応する一定の光量を確保するため
に、交互駆動制御回路３００を使用しない場合と比較し
てフィードバックゲインを高く設定する。フィードバッ
クゲイン変更回路２９０で調整された受光信号Ｍは、加
減算器２１０に送られ、閉ループが完成する。

【００４６】また、高周波重畳基板１３は、半導体レー
ザ１に対置された負荷３００と、半導体レーザ及び負荷
の各々に通電するための電流駆動用トランジスタ３１
０、３２０と、インバータ３３０およびバッファゲート
３４０からなる駆動回路部と、発振器からなる制御信号
発生回路３５０とを有する。

【００４７】線形駆動電流出力回路２３０と非線形駆動
電流制御回路２４０の出力を合成して得られるレーザ駆
動電流ＩＬは、制御信号発生回路３５０の制御信号によ
り、交互に半導体レーザ１、負荷３００のいずれかに流
れることになり、負荷３００は、半導体レーザ１の代わ
りとなるダミーとしての負荷として作用する。制御信号
発生回路３５０から基準信号が発振されると、バッファ
ゲート３４０で同位相の増幅された信号が電流駆動用ト
ランジスタ３１０に伝えられる。また、基準信号がイン
バータ３３０で逆位相に反転増幅され、電流駆動用トラ
ンジスタ３２０に伝えられる。電流駆動用トランジスタ
３１０，３２０は互いに逆の位相で半導体レーザ１と負
荷３００に交互に通電する動作を繰り返す。そして、半
導体レーザ１と負荷３００に流れるレーザ駆動電流は、
もともと光量指令信号Ｓに対応しているから、半導体レ
ーザ１の出力は、光量指令信号に高周波信号が重畳され
た状態となる。

【００４８】このようにして、変調信号に高周波信号を
重畳し、この高周波重畳された変調信号で半導体レーザ
１から画像をフィルムに書き込むことにより干渉縞の発
生を防止できる。また、図３の高速アナログ変調におけ
る高周波重畳的な駆動に伴うノイズ等の影響は変調基板
１２に及ばないため、変調基板１２に高周波ノイズが生
じなく、回路の制御が安定化し、レーザビーム出力を正
確に制御できる。

【００４９】また、フォトダイオード１１は、図２のよ
うに半導体レーザ１からのレーザビームの一部を受光可
能なように配置されているが、光拡散部材１４が前置さ
れているので、フォトダイオード１１の位置変化や光軸
変動がたとえ僅かに生じても受光量の変動を抑制でき、
図３の光量モニタ部における信号変動が殆どないので、
回路を安定して制御でき、半導体レーザ１からの光出力
を正確に制御できる。

【００５０】以上のように、図２，図４の光走査部１９
によれば、フォトダイオード１１のビーム受光側にレー
ザビームを拡散させる光拡散部材１４を設けたので、レ
ーザビームの光量分布がわずかにずれても、フォトダイ
オード１１が受光する光量の変動が少なく、レーザ光源
の温度依存性や、使用する光学部品の温度安定性などの
環境安定性の制限、使用する光学部品の取り付け位置及
び方向の精度の制限などを緩め、使用できる部品の制限
を緩めたり、加工工数・精度を抑えたりするなどのコス
トダウンを可能としつつ、走査されるビームの出射光量
をより正しく測定できるようにできる。また、フォトダ
イオード１１で走査レーザビームの出射光量をより正し
く測定でき、半導体レーザ１からの光出力を正確に制御
できるため、フィルム上の記録画像にノイズ、濃度む
ら、擬画像等が生じなく、安定した画像形成を行うこと
ができる。

【００５１】次に、図５により図１の副走査部１８につ
いて説明する。図５は副走査部１８の搬送ローラ対等を
示す正面図である。

【００５２】図５に示すように、副走査部１８は、フィ
ルムＦの搬送方向ｖに沿って上流側に配置された上流側
搬送ローラ対１２１と、同じく下流側に配置された下流
側搬送ローラ対１２２と、上流側搬送ローラ対１２１の
上流側に配置され搬送方向ｖから搬送されてきたフィル
ムＦを検知するセンサ１２７と、図１、図２の光走査部
１９から照射されたレーザビームＬを受光し光走査部１
９にフィードバックしフィルムＦの先端から画像記録を
行う等の制御を行うためにローラ対１２１と１２２との
間に配置されたセンサ１２８と、を備える。

【００５３】図１の位置規制部１７の複数の搬送ローラ
対１７ａにより搬送されてきたフィルムＦが図５で搬送
方向ｖに搬送され、フィルムＦの先端をセンサ１２７が
検知すると、上流側搬送ローラ対１２１では制御部１２
９の制御によりばね調整部１２３がばね２１ｃを従動ロ
ーラ２１ｂに押圧し、従動ローラ２１ｂと駆動ローラ２
１ａとの間のニップ圧が搬送に適した大きい状態となっ
たところで、フィルムＦが従動ローラ２１ｂと駆動ロー
ラ２１ａとの間に進入してくる。そして、制御部１２９
の制御により回転駆動部１２５が一定の回転速度で駆動
ローラ２１ａを回転駆動し、フィルムＦは上流側搬送ロ
ーラ対１２１で搬送に適した大きなニップ圧で挟持され
ながら一定の搬送速度で更に搬送される。

【００５４】次に、フィルムＦが上流側搬送ローラ対１
２１と下流側搬送ローラ対１２２との間でセンサ１２８
によりその先端が検知されると、制御部１２９の制御に
よりタイミングよく光走査部１９がレーザビームＬを図
１，図５のように上方から下向きに照射してフィルムＦ
の先端から露光を開始する。レーザビームＬは被走査体
としてのフィルムＦを図５の紙面垂直方向に主走査する
とともに、搬送方向ｖに一定速度で移動することで副走
査される。フィルムＦは更に搬送方向ｖに搬送され、そ
の先端が下流側搬送ローラ対１２２に達し、駆動ローラ
２２ａと従動ローラ２２ｂとの間に進入すると、この進
入時の力により従動ローラ２２ｂが駆動ローラ２２ａか
ら離れるように移動し間隙が広がり、フィルムＦが駆動
ローラ２２ａと従動ローラ２２ｂとの間に挟まれた状態
で図５の搬送方向ｖに搬送される。

【００５５】以上のようにして、フィルムＦは搬送方向
ｖに搬送されながらその先端から後端までのフィルム全
面に外部からの画像信号に基づいて潜像が形成されるこ
とで画像形成が行われる。このフィルムＦにおける潜像
形成について、図６により説明する。図６は、本実施の
形態におけるフィルムＦの断面図であり、上述のような
露光時におけるフィルムＦ内の化学的反応を模式的に示
した図である。

【００５６】フィルムＦは、ＰＥＴからなる支持体（基
層）上に、ポリビニルブチラールを主材とする感光層が
形成され、更に、その上にセルロースブチレートからな
る保護層が形成されている。感光層には、図７に示すよ
うに感光性ハロゲン粒子と、有機銀塩であるベヘン酸銀
（Ｂｅｈ．Ａｇ）と、銀イオン還元剤とを含有し、現像
性の向上と最大濃度の向上と銀画像色調の向上のため
に、調色剤が配合されている。

【００５７】露光時に光走査部１９からレーザビームＬ
がフィルムＦに対して照射されると、図６に示すよう
に、レーザビームＬが照射された領域に、ハロゲン化銀
粒子が感光し、潜像が形成される。

【００５８】次に、潜像の形成されたフィルムＦは、次
に、図１のように、上昇搬送部２０の複数の搬送ローラ
対２０ａにより熱現像部３０の熱現像ドラムユニット３
１へと搬送される。熱現像ドラムユニット３１はフィル
ムを１１５℃以上１３５℃以下の所定温度で加熱し熱現
像してから、冷却搬送ユニット３２で冷却し搬送し、更
に排出部２２へ搬送され装置外部へ排出される。

【００５９】図７は、上述のような加熱時におけるフィ
ルムＦ内の化学的反応を模式的に示した、図６と同様な
断面図である。フィルムＦは、４０℃以下の温度では実
質的に熱現像されないが、上述のようにフィルムＦを最
低現像温度以上の現像温度に加熱すると、熱現像され
る。これは、図７に示すように、ベヘン酸銀から銀イオ
ン（Ａｇ＋）が放出され、銀イオンを放出したべヘン酸
は、調色剤と錯体を形成して、銀イオンの拡散能力が高
くなり、感光したハロゲン化銀粒子まで拡散し、感光し
たハロゲン化銀粒子を核として還元剤が作用し、化学的
反応により銀画像が形成されるからと思われる。

【００６０】以上のように、図１の画像形成装置１０に
よれば、同じ遮光枠体である遮光枠体４３内に光走査部
１９の上方に熱現像部３０が設けられているので、画像
形成装置は小型化しやすく、熱現像部３０で熱っせられ
た空気が光走査部１９に到達しにくい。また、上述のよ
うに熱現像部３０でフィルムＦを加熱すると、１１５℃
以上１３５℃以下の熱現像温度で空気より比重の重い脂
肪酸ガスや有機溶剤ガス等の有機ガスが発生し、光走査
部１９の近くまで沈降してきても、光走査部１９が回転
多面鏡又はガルバノミラーで走査する方式であるので、
光走査部１９の筐体１９ａに設けた開口１９ｂをスリッ
ト状に形成することができる。また、光走査部１９から
出射するレーザビームの照射方向が下方向きであるの
で、光走査部１９の筐体１９ａの内部に有機ガスが侵入
しにくく、有機ガスが光拡散部材１４やフォトダイオー
ド１１の受光面等に凝縮することによる出射光量の検出
の狂いを抑えることができ、フィルムへの照射光量の良
好な制御を維持できる。

【００６１】以上のようにして光走査部１９において熱
現像部３０から熱っせられた空気や有機ガス等による影
響を抑えられる。また、光走査部１９において上述のよ
うにフォトダイオード１１でより正しく測定した走査ビ
ームの測定光量に基づいてレーザ光源１を制御できるの
で、レーザ光源１からレーザビームを安定してフィルム
に露光でき、フィルムに擬画像や濃度むらが発生するこ
とを防止できる。

【００６２】次に、上述のフィルムＦについて説明す
る。このフィルムはハロゲン化銀微粒子と、有機銀塩
と、還元剤とを含有する熱現像感光材料からなる。

【００６３】熱現像感光材料の詳細は、例えば米国特許
第３，１５２，９０４号、同第３，４５７，０７５号、
及びＤ．モーガン（Ｍｏｒｇａｎ）による「ドライシル
バー写真材料（Ｄｒｙ Ｓｉｌｖｅｒ Ｐｈｏｔｏｇｒ
ａｐｈｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌ）」やＤ．モーガン（Ｍ
ｏｒｇａｎ）とＢ．シェリー（Ｓｈｅｌｙ）による「熱
によって処理される銀システム（Ｔｈｅｒｍａｌｌｙ
ＰｒｏｃｅｓｓｅｄＳｉｌｖｅｒＳｙｓｔｅｍｓ）」
（イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアル
ズ（Ｉｍａｇｉｎｇ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ ａｎｄ Ｍ
ａｔｅｒｉａｌｓ）Ｎｅｂｌｅｔｔｅ 第８版、スター
ジ（Ｓｔｕｒｇｅ）、Ｖ、ウォールワース（Ｗａｌｗｏ
ｒｔｈ）、Ａ．シェップ（Ｓｈｅｐｐ）編集、第２頁、
１９６９年）等に開示されている。

【００６４】その中でも、本発明では感光材料を１１５
℃以上１３５℃以下で熱現像することで画像を形成さ
せ、定着を行わないものに有用である。この場合、通
常、未露光部に残ったハロゲン化銀や有機銀塩は除去さ
れずにそのまま感光材料中に残ることになる。

【００６５】ハロゲン化銀粒子は、画像形成後の白濁を
低く抑えるため、及び良好な画質を得るために平均粒子
サイズが小さい方が好ましく、平均粒子サイズが０．１
μｍ以下、より好ましくは０．０１μｍ〜０．１μｍ、
特に０．０２μｍ〜０．０８μｍが好ましい。ここでい
う粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子が立方体或いは八
面体のいわゆる正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒
子の稜の長さをいう。又、正常晶でない場合、例えば球
状、棒状、或いは平板状の粒子の場合には、ハロゲン化
銀粒子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。又
ハロゲン化銀は単分散であることが好ましい。ここでい
う単分散とは、下記式で求められる単分散度が４０％以
下をいう。更に好ましくは３０％以下であり、特に好ま
しくは０．１％以上２０％以下となる粒子である。

【００６６】単分散度（％）＝（粒径の標準偏差）／
（粒径の平均値）×１００

【００６７】ハロゲン化銀粒子が平均粒径０．１μｍ以
下でかつ単分散粒子であることがより好ましく、この範
囲にすることで画像の粒状性も向上する。

【００６８】ハロゲン化銀粒子の形状については、特に
制限はないが、ミラー指数｛１００｝面の占める割合が
高いことが好ましく、この割合が５０％以上、更には７
０％以上、特に８０％以上であることが好ましい。ミラ
ー指数｛１００｝面の比率は増感色素の吸着における
｛１１１｝面と｛１００｝面との吸着依存性を利用した
Ｔ．Ｔａｎｉ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｃｉ．，２９，
１６５（１９８５）により求めることができる。

【００６９】又もう一つの好ましいハロゲン化銀の形状
は、平板状粒子である。ここでいう平板状粒子とは、投
影面積の平方根を粒径ｒμｍとし、垂直方向の厚みをｈ
μｍとした場合のアスペクト比＝ｒ／ｈが３以上のもの
をいう。その中でも好ましくはアスペクト比が３以上５
０以下である。又、粒径は０．１μｍ以下であることが
好ましく、更に０．０１μｍ〜０．０８μｍが好まし
い。これらは米国特許第５，２６４，３３７号、第５，
３１４，７９８号、第５，３２０，９５８号等に記載さ
れており、容易に目的の平板状粒子を得ることができ
る。これらの平板状粒子を用いた場合、更に画像の鮮鋭
性も向上する。

【００７０】ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、具化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。写真乳剤は、Ｐ．Ｇ１ａｆ
ｋｉｄｅｓ著Ｃｈｉｍｉｅ ｅｔ Ｐｈｙｓｉｑｕｅ
Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｑｕｅ（Ｐａｕｌ Ｍｏｎｔｅ
ｌ社刊、１９６７年）、Ｇ．Ｆ．Ｄｕｆｆｉｎ著 Ｐｈ
ｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｅｍｕｌｓｉｏｎ Ｃｈｅｍｉ
ｓｔｒｙ（Ｔｈｅ Ｆｏｃａｌ Ｐｒｅｓｓ刊、１９６
６年）、Ｖ．Ｌ．Ｚｅｌｉｋｍａｎ ｅｔ ａｌ著Ｍａ
ｋｉｎｇ ａｎｄ Ｃｏａｔｉｎｇ Ｐｈｏｔｏｇｒａ
ｐｈｉｃ Ｅｍｕｌｓｉｏｎ（Ｔｈｅ Ｆｏｃａｌ Ｐ
ｒｅｓｓ刊、１９６４年）等に記載された方法を用いて
調製することができる。即ち、酸性法、中性法、アンモ
ニア法等のいずれでもよく、又可溶性銀塩と可溶性ハロ
ゲン塩を反応させる形成としては、片側混合法、同時混
合法、それらの組合せ等のいずれを用いてもよい。この
ハロゲン化銀はいかなる方法で画像形成層に添加されて
もよく、このときハロゲン化銀は還元可能な銀源に近接
するように配置する。又、ハロゲン化銀は有機銀塩とハ
ロゲンイオンとの反応による有機銀塩中の銀の一部又は
全部をハロゲン化銀に変換することによって調製しても
よいし、ハロゲン化銀を予め調製しておき、これを有機
銀塩を調製するための溶液に添加してもよく、又はこれ
らの方法の組み合わせも可能であるが、後者が好まし
い。一般にハロゲン化銀は有機銀塩に対して０．７５〜
３０重量％の量で含有することが好ましい。

【００７１】ハロゲン化銀には、照度不軌改良や改良調
整のために、元素周期律表の６族から１０族に属する金
属のイオン又は錯体イオンを含有することが好ましい。
上記の金属としては、Ｗ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒ
ｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕが好ま
しい。

【００７２】これらの金属は錯体の形でハロゲン化銀に
導入できる。還移金属錯体は、下記一般式で表される６
配位錯体が好ましい。

【００７３】一般式〔ＭＬ６〕ｍ

【００７４】式中、Ｍは元素周期表の６〜１０族の元素
から選ばれる遷移金属、Ｌは架橋配位子、ｍは０、−、
２−又は３−を表す。Ｌで表される配位子の具体例とし
ては、ハロゲン化物（弗化物、塩化物、臭化物及び沃化
物）、シアン化物、シアナート、チオシアナート、セレ
ノシアナート、テルロシアナート、アジド及びアコの各
配位子、ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好
ましくはアコ、ニトロシル及びチオニトロシル等であ
る。アコ配位子が存在する場合には、配位子の一つ又は
二つを占めることが好ましい。Ｌは同一でもよく、又異
なっていてもよい。

【００７５】Ｍとして特に好ましい具体例は、ロジウム
（Ｒｈ）、ルテニウム（Ｒｕ）、レニウム（Ｒｅ）、イ
リジウム（Ｉｒ）及びオスミウム（Ｏｓ）である。

【００７６】以下に遷移金属配位錯体の具体例を示す。 １：〔ＲｈＣ１６〕３− ２：〔ＲｕＣ１６〕３− ３：〔ＲｅＣ１６〕３− ４：〔ＲｕＢｒ６〕３− ５：〔ＯｓＣ１６〕３− ６；〔ＩｒＣ１６〕２− ７；〔Ｒｕ（ＮＯ）Ｃ１５〕２− ８：〔ＲｕＢｒ４（Ｈ２Ｏ）〕２− ９：〔Ｒｕ（ＮＯ）（Ｈ２Ｏ）Ｃ１４〕− １０：〔ＲｈＣｌ５（Ｈ２Ｏ）〕２− １１：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃ１５〕２− １２：〔Ｒｅ（ＮＯ）ＣＮ５〕２− １３：〔Ｒｅ（ＮＯ）ＣｌＣＮ４〕２− １４：〔Ｒｈ（ＮＯ）２Ｃｌ４〕− １５：〔Ｒｈ（ＮＯ）（Ｈ２Ｏ）Ｃｌ４〕− １６：〔Ｒｕ（ＮＯ）ＣＮ５〕２− １７：〔Ｆｅ（ＣＮ）６〕３− １８：〔Ｒｈ（ＮＳ）Ｃｌ５〕２− １９：〔Ｏｓ（ＮＯ）Ｃｌ５〕２− ２０：〔Ｃｒ（ＮＯ）Ｃｌ５〕２− ２１：〔Ｒｅ（ＮＯ）Ｃｌ５〕− ２２：〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ４（ＴｅＣＮ）〕２− ２３：〔Ｒｕ（ＮＳ）Ｃｌ５〕２− ２４：〔Ｒｅ（ＮＳ）Ｃｌ４（ＳｅＣＮ）〕２− ２５：〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ（ＳＣＮ）４〕２− ２６：〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ５〕２− ２７：〔Ｉｒ（ＮＳ）Ｃｌ５〕２−

【００７７】これらの金属のイオン又は錯体イオンは一
種類でもよいし、同種の金属及び異種の金属を二種以上
併用してもよい。これらの金属のイオン又は錯体イオン
の含有量としては、一般的にはハロゲン化銀１モル当た
り１×１０^−９〜１×１０^{− ２}モルが適当であり、好ま
じくは１×１０^−８〜１×１０^−４モルである。これら
の金属のイオン又は錯体イオンを提供する化合物は、ハ
ロゲン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に
組み込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調
製、つまり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後の
どの段階で添加してもよいが、特に核形成、成長、物理
熟成の段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成
長の段階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形
成の段階で添加する。添加に際しては、数回に渡って分
割して添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含
有させることもできるし、特開昭６３‐２９６０３号、
特開平２‐３０６２３６号、同３−１６７５４５号、同
４−７６５３４号、同６‐１１０１４６号、同５‐２７
３６８３号等に記載されている様に粒子内に分布を持た
せて含有させることもできる。好ましくは粒子内部に分
布をもたせることができる。これらの金属化合物は、水
或いは適当な有機溶媒（例えば、アルコール類、エーテ
ル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド
類）に溶解して添加することができるが、例えば金属化
合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とＮａＣｌ、Ｋ
Ｃｌとを一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性
銀塩溶液又は水溶性ハライド溶液中に添加しておく方
法、或いは銀塩溶液とハライド溶液が同時に混合される
とき第３の水溶液として添加し、３液同時混合の方法で
ハロゲン化銀粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量
の金属化合物の水溶液を反応容器に投入する方法、或い
はハロゲン化銀調製時に予め金属のイオン又は錯体イオ
ンをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶
解させる方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶
液もしくは金属化合物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に溶
解した水溶液を水溶性ハライド溶液に添加する方法が好
ましい。粒子表面に添加する時には、粒子形成直後又は
物理熟成時途中もしくは終了時又は化学熟成時に必要量
の金属化合物の水溶液を反応容器に投入することもでき
る。

【００７８】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが脱塩してもしなくても
よい。

【００７９】感光性ハロゲン化銀粒子は化学増感されて
いることが好ましい。好ましい化学増感法としては当業
界でよく知られているように硫黄増感法、セレン増感
法、テルル増感法、金化合物や白金、パラジウム、イリ
ジウム化合物等の貴金属増感法や還元増感法を用いるこ
とができる。硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法
に好ましく用いられる化合物としては公知の化合物を用
いることができるが、特開平７−１２８７６８号等に記
載の化合物を使用することができる。貴金属増感法に好
ましく用いられる化合物としては例えば塩化金酸、カリ
ウムクロロオーレート、カリウムオーリチオシアネー
ト、硫化金、金セレナイド、或いは米国特許２，４４
８，０６０号、英国特許６１８，０６１号などに記載さ
れている化合物を好ましく用いることができる。還元増
感法の具体的な化合物としてはアスコルビン酸、二酸化
チオ尿素の他に例えば、塩化第一スズ、アミノイミノメ
夕ンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、
シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることができ
る。又、乳剤のｐＨを７以上又はｐＡｇを８．３以下に
保持して熟成することにより還元増感することができ
る。又、粒子形成中に銀イオンのシングルアディション
部分を導入することにより還元増感することができる。

【００８０】熱現像材料に用いられる感光性のハロゲン
化銀は、有機銀塩に対して、０．７５〜２５ｍｏｌ％の
範囲で用いられることができ、好ましくは、２〜２０ｍ
ｏｌ％の範囲で用いられることができる。

【００８１】有機銀塩には、銀イオンの供給源である有
機材料を全て含む。有機酸（特に長鎖脂肪酸（１０〜３
０の炭素原子：好ましくは１５〜２８の炭素原子））の
銀塩が好ましい。配位子が全体的に４．０〜１０．０の
間で一定の安定性を有する有機又は無機の銀塩錯体であ
ることが好ましい。そして、画像形成層の重量の約５〜
３０％であることが好ましい。

【００８２】この有機銀塩は、露光された光触媒（たと
えば写真用ハロゲン化銀等）と還元剤の存在において、
８０℃以上好ましくは１１５℃以上、特に１２０℃以上
の温度に加熱されたときに銀イオンを供給する銀塩であ
ることが望ましい。

【００８３】好ましい有機銀塩には、カルボキシル基を
有する有機化合物の銀塩が含まれる。それらには、脂肪
族カルボン酸の銀塩及び芳香族カルボン酸の銀塩が含ま
れる。脂肪族カルボン酸の銀塩の好ましい例には、べヘ
ン酸銀、ステアリン酸銀等が含まれる。脂肪族カルボン
酸におけるハロゲン原子又はヒドロキシルとの銀塩も効
果的に用いうる。メルカプト又はチオン基を有する化合
物及びそれらの誘導体の銀塩も用いうる。更に、イミノ
基を有する化合物の銀塩を用いうる。

【００８４】有機銀塩は、還元可能な銀源であり、還元
可能な銀イオン源を含有する有機酸及びへテロ有機酸の
銀塩、特に長鎖（１０〜３０、好ましくは１５〜２５の
炭素原子数）の脂肪族カルボン酸及び含窒素複素環を含
むことが好ましい。配位子が、４．０〜１０．０の銀イ
オンに対する総安定定数を有する有機又は無機の銀塩錯
体も有用である。好適な銀塩の例は、Ｒｅｓｅａｒｃｈ
Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ（以下、ＲＤとする）第１７０
２９及び２９９６３に記載されており、次のものがあ
る：有機酸の塩（例えば、没食子酸、シュウ酸、べへン
酸、アラキジン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウ
リン酸等の塩）；銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩
（例えば、１−（３−カルボキシプロピル）チオ尿素、
１−（３−カルボキシプロピル）−３，３−ジメチルチ
オ尿素等）；アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボ
ン酸とのポリマー反応生成物の銀錯体（例えば、アルデ
ヒド類（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチル
アルデヒド等）、ヒドロキシ置換酸類（例えば、サリチ
ル酸、安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、５，
５−チオジサリチル酸）、チオエン類の銀塩又は錯体
（例えば、３−（２−カルボキシエチル）−４−ヒドロ
キシメチル−４−（チアゾリン−２−チオエン、及び３
−カルボキシメチル−４−チアゾリン−２−チオエ
ン）、イミダゾール、ピラゾール、ウラゾール、１，
２，４−チアゾール及び１Ｈ−テトラゾール、３−アミ
ノ−５−べンジルチオ−１，２，４−トリアゾール及び
べンゾトリアゾールから選択される窒素酸と銀との錯体
又塩；サッカリン、５−クロロサリチルアルドキシム等
の銀塩；及びメルカプチド類の銀塩。これらの内、好ま
しい銀源はベヘン酸銀、アラキジン酸及び／又はステア
リン酸である。

【００８５】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平９−１２７６４
３号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など）を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ（例えば、
べヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど）を
作製した後に、コントロールドダブルジェットにより、
前記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作
製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよ
い。

【００８６】有機銀塩は平均粒径が２μｍ以下でありか
つ単分散であることが好ましい。有機銀塩の平均粒径と
は、有機銀塩の粒子が例えば球状、棒状、或いは平板状
の粒子の場合には、有機銀塩粒子の体積と同等な球を考
えたときの直径をいう。平均粒径は好ましくは０．０５
μｍ〜１．５μｍ、特に０．０５μｍ〜１．０μｍが好
ましい。又単分散とは、ハロゲン化銀の場合と同義であ
り、好ましくは単分散度が１〜３０である。又、有機銀
塩に於いては、全有機銀塩の６０％以上が平板状粒子で
あることが好ましい。平板状粒子とは平均粒径と厚さの
比、いわゆる下記式で表されるアスペクト比（ＡＲと略
す）が３以上のものをいう。

【００８７】ＡＲ＝平均粒径（μｍ）／厚さ（μｍ）

【００８８】有機銀塩をこれらの形状にするためには、
前記有機銀結晶をバインダーや界面活性剤などをボール
ミルなどで分散粉砕することで得られる。この範囲にす
ることで濃度が高く、かつ画像保存性に優れた感光材料
が得られる。

【００８９】感光材料の失透を防ぐためには、ハロゲン
化銀及び有機銀塩の総量が銀量に換算して１ｍ２当たり
０．５ｇ以上２．２ｇ以下であることが好ましい。この
範囲にすることで硬調な画像が得られる。又銀総量に対
するハロゲン化銀の量は、重量比で５０％以下、好まし
くは２５％以下、更に好ましくは０．１％〜１５％の間
である。

【００９０】還元剤は、銀イオンを金属銀に還元できる
いずれの材料でも良く、好ましくは有機材料である。フ
ェニドン、ヒドロキノン及びカテコールのような従来の
写真現像剤が有用である。しかし、フェノール還元剤が
好ましい。還元剤は画像形成層の１〜１０重量％存在す
るべきである。多層構成においては、還元剤が乳剤層以
外の相に添加される場合は、わずかに高い割合である約
２〜１５重量％がより望ましい。

【００９１】好適な還元剤の例は、米国特許第３，７７
０，４４８号、同第３，７７３，５１２号、同第３，５
９３，８６３号、及びＲＤ１７０２９及び２９９６３に
記載されており、次のものがある。

【００９２】アミノヒドロキシシクロアルケノン化合物
（例えば、２−ヒドロキシピペリジノ−２−シクロヘキ
セノン）；還元剤の前駆体としてアミノリダクトン類
（ｒｅｄｕｃｔｏｎｅｓ）エステル（例えば、ピペリジ
ノへキソースリダクトンモノアセテート）；Ｎ−ヒドロ
キシ尿素誘導体（例えば、Ｎ−ｐ−メチルフェニル−Ｎ
−ヒドロキシ尿素）；アルデヒド又はケトンのヒドラゾ
ン類（例えば、アントラセンアルデヒドフェニルヒドラ
ゾン）；ホスファーアミドフェノール類；ホスファーア
ミドアニリン類；ポリヒドロキシベンゼン類（例えば、
ヒドロキノン、ｔ−ブチル−ヒドロキノン、イソプロピ
ルヒドロキノン及び（２，５−ジヒドロキシ−フェニ
ル）メチルスルホン）；スルフヒドロキサム酸類（例え
ば、ベンゼンスルフヒドロキサム酸）；スルホンアミド
アニリン類（例えば、４−（Ｎ−メタンスルホンアミ
ド）アニリン）；２−テトラゾリルチオヒドロキノン類
（例えば、２−メチル−５−（１−フェニル−５−テト
ラゾリルチオ）ヒドロキノン）：テトラヒドロキノキサ
リン類（例えば、１，２，３，４−テトラヒドロキノキ
サリン）；アミドオキシム類；アジン類（例えば、脂肪
族カルボン酸アリールヒドラザイド類とアスコルビン酸
の組み合わせ）；ポリヒドロキシベンゼンとヒドロキシ
ルアミンの組み合わせ、リダクトン及び／又はヒドラジ
ン；ヒドロキサン酸類：アジン類とスルホンアミドフェ
ノール類の組み合わせ；α−シアノフェニル酢酸誘導
体；ビス−β−ナフトールと１，３−ジヒドロキシべン
ゼン誘導体の組み合わせ；５−ピラゾロン類；スルホン
アミドフェノール還元剤；２−フェニルインダン−１，
３−ジオン等；クロマン；１，４−ジヒドロピリジン類
（例えば、２，６ージメトキシ−３，５−ジカルボエト
キシ−１，４−ジヒドロピリジン）；ビスフェノール類
（例えば、ビス（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５
−メチルフェニル）メタン、ビス（６−ヒドロキシ−ｍ
−トリ）メシトール（ｍｅｓｉｔｏｌ）、２，２−ビス
（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、
４，５−エチリデン−ビス（２−ｔ−ブチル−６−メチ
ル）フェノール）、紫外線感応性アスコルビン酸誘導体
及び３−ピラゾリドン類等。中でも特に好ましい。

【００９３】還元剤はヒンダードフェノール類である。
ヒンダードフェノール類としては下記一般式（Ａ）で表
される化合物が挙げられる。

【００９４】

【化１】

【００９５】式中、Ｒは水素原子、又は炭素原子数１〜
１０のアルキル基（例えば、−Ｃ４Ｈ９、２，４，４−
トリメチルペンチル）を表し、Ｒ′及びＲ″は炭素原子
数１〜５のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｔ−
ブチル）を表す。

【００９６】一般式（Ａ）で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、以下の化合物に限定されるもので
はない。

【００９７】

【化２】

【００９８】

【化３】

【００９９】前記一般式（Ａ）で表される化合物を始め
とする還元剤の使用量は好ましくは銀１モル当り１×１
０^−２〜１０モル、特に１×１０^−２〜１．５モルであ
る。

【０１００】熱現像感光材料に好適なバインダは透明又
は半透明で、一般に無色であることが好ましく、天然ポ
リマーや合成樹脂ポリマー及びコポリマーなどが好まし
い。また、熱現像の速度を速めるために、感光層のバイ
ンダー量が１０ｇ／ｍ^２以下（特に、８ｇ／ｍ^２以下）
であることが好ましい。また、未露光部の濃度が大幅に
上昇し、使用に耐えない場合が生じないように、即ち、
濃度が安定するように、１．５ｇ／ｍ^２以上（特に、
１．７ｇ／ｍ^２以上）であることが好ましい。

【０１０１】このようなバインダとしては、例えば：ゼ
ラチン、アラビアゴム、ポリ（ビニルアルコール）、ヒ
ドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、セ
ルロースアセテートブチレート、ポリ（ビニルピロリド
ン）、カゼイン、デンプン、ポリ（アクリル酸）、ポリ
（メチルメタクリル酸）、ポリ（塩化ビニル）、ポリ
（メタクリル酸）、コポリ（スチレン−無水マレイン
酸）、コポリ（スチレン−アクリロニトリル）、コポリ
（スチレン−ブタジエン）、ポリ（ビニルアセタール）
類（例えば、ポリ（ビニルホルマール）及びポリ（ビニ
ルブチラール））、ポリ（エステル）類、ポリ（ウレタ
ン）類、フェノキシ樹脂、ポリ（塩化ビニリデン）、ポ
リ（エポキシド）類、ポリ（カーボネート）類、ポリ
（ビニルアセテート）、セルロースエステル類、ポリ
（アミド）類がある。バインダは、親水性でも疎水性で
もよいが、熱現像後のカブリを低減させるために、疎水
性透明バインダーを使用することが好ましい。好ましい
バインダとしては、ポリ（ビニルブチラール）、セルロ
ースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリアクリル酸、ポリ
ウレタンなどが挙げられる。その中でもポリビニルブチ
ラール、セルロースアセテート、セルロースアセテート
ブチレート、ポリエステルは特に好ましく用いられる。

【０１０２】また、疎水性バインダの場合、残留溶媒が
含有されていることが好ましい。残留溶媒としては、メ
チル−エチル−ケトンやアセトンなどが挙げられるが、
これらに限られない。また、残留溶媒量としては、２０
ｍｇ／ｍ^２以上（特に、２５ｍｇ／ｍ^２以上）であるこ
とが好ましく、また、５００ｍｇ／ｍ^２以下（特に、３
００ｍｇ／ｍ^２以下）であることが好ましい。なお、残
留溶煤量の測定には、ガスクロマトグラフィーを用いる
と良い。

【０１０３】熱現像感光材料は、熱現像処理にて写真画
像を形成するもので、還元可能な銀源（有機銀塩）、感
光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀の色調を
抑える色調剤を通常（有機）バインダーマトリックス中
に分散した状態で含有している熱現像感光材料であるこ
とが好ましい。熱現像感光材料は常温で安定であるが、
露光後高温（例えば、８０℃〜１４０℃）に加熱するこ
とで現像される。加熱することで有機銀塩（酸化剤とし
て機能する）と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀
を生成する。この酸化還元反応は露光でハロゲン化銀に
発生した潜像の触媒作用によって促進される。露光領域
中の有機銀塩の反応によって生成した銀は黒色画像を提
供し、これは非露光領域と対照をなし、画像の形成がな
される。この反応過程は、外部から水等の処理液を供給
することなしで進行する。

【０１０４】好適な色調剤の例はＲＤ１７０２９号に開
示されており、次のものがある。イミド類（例えば、フ
タルイミド）；環状イミド類、ピラゾリン−５−オン
類、及びキナゾリノン（例えば、スクシンイミド、３−
フェニル−２−ピラゾリン−５−オン、１−フェニルウ
ラゾール、キナゾリン及び２，４−チアゾリジンジオ
ン）；ナフタールイミド類（例えば、Ｎ−ヒドロキシ−
１，８−ナフタールイミド）；コバルト錯体（例えば、
コバルトのへキサミントリフルオロアセテート）、メル
カプタン類（例えば、３−メルカプト−１，２，４−ト
リアゾール）；Ｎ−（アミノメチル）アリールジカルボ
キシイミド類（例えば、Ｎ−（ジメチルアミノメチル）
フタルイミド）；ブロックされたピラゾール類、イソチ
ウロニウム（ｉｓｏｔｈｉｕｒｏｎｉｕｍ）誘導体及び
ある種の光漂白剤の組み合わせ（例えば、Ｎ，Ｎ′−ヘ
キサメチレン（１−カルバモイル−３，５−ジメチルピ
ラゾール）、１，８−（３，６−ジオキサオクタン）ビ
ス（イソチウロニウムトリフルオロアセテート）、及び
２−（トリブロモメチルスルホニル）べンゾチアゾール
の組み合わせ）；メロシアニン染料（例えば、３−エチ
ル−５−（（３−エチル−２−ベンゾチアゾリニリデン
（ベンゾチアゾリニリデン））−１−メチルエチリデ
ン）−２−チオ−２，４−オキサゾリジンジオン）：フ
タラジノン、フタラジノン誘導体又はこれらの誘導体の
金属塩（例えば、４−（１−ナフチル）フタラジノン、
６−クロロフタラジノン、５，７−ジメチルオキシフタ
ラジノン、及び２，３‐ジヒドロ−１，４−フタラジン
ジオン）；フタラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合
わせ（例えば、６−クロロフタラジノン＋ベンゼンスル
フィン酸ナトリウム又は８−メチルフタラジノン＋ｐ−
トリスルホン酸ナトリウム）；フタラジン＋フタル酸の
組み合わせ；フタラジン（フタラジンの付加物を含む）
とマレイン酸無水物、及びフタル酸、２，３−ナフタレ
ンジカルボン酸又はo−フェニレン酸誘導体及びその無
水物（例えば、フタル酸、４−メチルフタル酸、４−ニ
トロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物）から選
択される少なくとも１つの化合物との組み合わせ；キナ
ゾリンジオン類、ベンズオキサジン、ナルトキサジン誘
導体；ベンズオキサジン−２，４−ジオン類（例えば、
１，３−ベンズオキサジン−２，４−ジオン）；ピリミ
ジン類及び不斉−トリアジン類（例えば、２，４−ジヒ
ドロキシピリミジン）、及びテトラアザペンタレン誘導
体（例えば、３，６−ジメルカプト−１，４−ジフェニ
ル−１Ｈ，４Ｈ−２，３ａ，５，６ａ−テトラアザペン
タレン）。これらの内、好ましい色調剤としてはフタラ
ゾン又はフタラジンである。

【０１０５】現像を抑制或いは促進させ現像を制御する
ため、分光増感効率を向上させるため、現像前後の保存
性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジスルフ
ィド化合物、チオン化合物を含有させることができる。

【０１０６】メルカプト化合物を使用する場合、いかな
る構造のものでも良いが、Ａｒ−ＳＭ、Ａｒ−Ｓ−Ｓ−
Ａｒで表されるものが好ましい。

【０１０７】式中、Ｍは水素原子又はアルカリ金属原子
であり、Ａｒは１個以上の窒素、イオウ、酸素、セレニ
ウム又はテルリウム原子を有する芳香環又は縮合芳香環
である。好ましくは、複素芳香環はベンズイミダゾー
ル、ナフトイミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチ
アゾール、べンズオキサゾール、ナフトオキサゾール、
ベンゾセレナゾール、べンゾテルラゾール、イミダゾー
ル、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、チアジ
アゾール、テトラゾール、トリアジン、ピリミジン、ピ
リダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリン又は
キナゾリノンである。この複素芳香環は、例えば、ハロ
ゲン（例えば、Ｂｒ及びＣｌ）、ヒドロキシ、アミノ、
カルボキシ、アルキル（例えば、１個以上の炭素原子、
好ましくは１〜４個の炭素原子を有するもの）及びアル
コキシ（例えば、１個以上の炭素原子、好ましくは１〜
４個の炭素原子を有するもの）からなる置換基群から選
択されるものを有してもよい。メルカプト置換複素芳香
族化合物としては、２−メルカプトベンズイミダゾー
ル、２−メルカプトべンズオキサゾール、２−メルカプ
トベンゾチアゾール、２−メルカプト−５−メチルべン
ゾチアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾ
ール、２−メルカプトキノリン、８−メルカプトプリ
ン、２，３，５，６−テトラクロロ−４−ピリジンチオ
ール、４−ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジン、２
−メルカプト−４−フェニルオキサゾールなどが挙げら
れるが、これらに限定されない。

【０１０８】熱現像感光材料中にはかぶり防止剤が含ま
れて良い。有効なかぶり防止剤として例えば米国特許第
３，５８９，９０３号などで知られている水銀化合物は
環境的に好ましくない。そのため非水銀かぶり防止剤の
検討が古くから行われてきた。非水銀かぶり防止剤とし
ては例えば米国特許第４，５４６，０７５号及び同第
４，４５２，８８５号及び特開昭５９−５７２３４号に
開示されている様なかぶり防止剤が好ましい。

【０１０９】特に好ましい非水銀かぶり防止剤は、米国
特許第３，８７４，９４６号及び同第４，７５６，９９
９号に開示されているような化合物、−Ｃ（Ｘ１）（Ｘ
２）（Ｘ３）（ここでＸ１及びＸ２はハロゲンであり、
Ｘ３は水素又はハロゲン）で表される１以上の置換基を
備えたヘテロ環状化合物である。好適なかぶり防止剤の
例としては、特開平９−２８８３２８号段落番号〔００
３０〕〜〔００３６〕に記載されている化合物等が好ま
しく用いられる。又もう一つの好ましいかぶり防止剤の
例としては特開平９−９０５５０号段落番号〔００６
２〕〜〔００６３〕に記載されている化合物である。更
にその他の好適なかぶり防止剤は米国特許第５，０２
８，５２３号及び英国特許出願第９２２２１３８３．４
号、同第９３００１４７．７号、同第９３１１７９０．
１号に開示されている。

【０１１０】熱現像感光材料には、例えば特開昭６３−
１５９８４１号、同６０−１４０３３５号、同６３−２
３１４３７号、同６３−２５９６５１号、同６３−３０
４２４２号、同６３−１５２４５号、米国特許第４，６
３９，４１４号、同第４，７４０，４５５号、同第４，
７４１，９６６号、同第４，７５１，１７５号、同第
４，８３５，０９６号に記載された増感色素が使用でき
る。使用される有用な増感色素は例えばＲＤ１７６４３
ＩＶ−Ａ項（１９７８年１２月ｐ．２３）、同Ｉｔｅｍ
１８３１Ｘ項（１９７８年８月ｐ．４３７）に記載もし
くは引用された文献に記載されている。特に各種スキャ
ナー光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素
を有利に選択することができる。例えば特開平９−３４
０７８号、同９−５４４０９号、同９−８０６７９号記
載の化合物が好ましく用いられる。

【０１１１】熱現像感光材料は支持体上に少なくとも一
層の感光層を有している。支持体上に感光層のみを形成
しても良いが、感光層の上に少なくとも１層の非感光層
を形成することが好ましい。この非感光層に用いられる
バインダーは感光層に用いられるバインダーと同じ種類
でも異なった種類でもよい。感光層に通過する光の量又
は波長分布を制御するために感光層と同じ側にフィルタ
ー染料層及び／又は反対側にアンチハレーション染料
層、いわゆるバッキング層を形成しても良いし、感光層
に染料又は顔料を含ませても良い。用いられる染料とし
ては所望の波長範囲で目的の吸収を有するものであれば
いかなる化合物でも良いが、例えば特開昭５９−６４８
１号、特開昭５９−１８２４３６号、米国特許４，２７
１，２６３号、米国特許４，５９４，３１２号、欧州特
許公開５３３００８号、欧州特許公開６５２４７３号、
特開平２−２１６１４０号、特開平４−３４８３３９
号、特開平７−１９１４３２号、特開平７−３０１８９
０号などの記載の化合物が好ましく用いられる。

【０１１２】又これらの非感光層には前記のバインダー
やマット剤を含有することが好ましく、更にポリシロキ
サン化合物やワックスや流動パラフィンのようなスベリ
剤を含有してもよい。

【０１１３】感光層は複数層にしても良く、又階調の調
節のため感光層を高感度層／低感度層又は低感度層／高
感度層にしても良い。

【０１１４】また、感光材料の表面を保護したり擦り傷
を防止するために、感光層の外側に非感光層として保護
層を有することができる。

【０１１５】また、感光層側（特に保護層）にマット剤
を含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防
止のためには、感光材料の表面にマット剤を配すること
が好ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに
対し、重量比で０．５〜３０％含有することが好まし
い。又、支持体を挟み感光層とは反対側の面に非感光層
を設ける場合は、非感光層側の少なくとも１層中にマッ
ト剤を含有することが好ましく、感光材料の滑り性や指
紋付着防止のためにも感光材料の表面にマット剤を配す
ることが好ましく、そのマット剤を感光層側の反対側の
層の全バインダーに対し、重量比で０．５〜４０％含有
することが好ましい。

【０１１６】マット剤の材質は、有機物及び無機物のい
ずれでもよい。例えば、無機物としては、スイス特許第
３３０，１５８号等に記載のシリカ、仏国特許第１，２
９６，９９５号等に記載のガラス粉、英国特許第１，１
７３，１８１号等に記載のアルカリ土類金属又はカドミ
ウム、亜鉛等の炭酸塩、等をマット剤として用いること
ができる。有機物としては、米国特許第２，３２２，０
３７号等に記載の澱粉、ベルギー特許第６２５，４５１
号や英国特許第９８１，１９８号等に記載された澱粉誘
導体、特公昭４４−３６４３号等に記載のポリビニルア
ルコール、スイス特許第３３０，１５８号等に記載のポ
リスチレン或いはポリメタアクリレート、米国特許第
３，０７９，２５７号等に記載のポリアクリロニトリ
ル、米国特許第３，０２２，１６９号等に記載されたポ
リカーボネートの様な有機マット剤を用いることができ
る。

【０１１７】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。マット剤の粒径とはこの球形
換算した直径のことを示すものとする。

【０１１８】マット剤は、平均粒径が０．５μｍ〜１０
μｍであることが好ましく、更に好ましくは１．０μｍ
〜８．０μｍである。又、粒子サイズ分布の変動係数と
しては、５０％以下であることが好ましく、更に好まし
くは４０％以下であり、特に好ましくは３０％以下とな
るマット剤である。

【０１１９】ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下
記の式で表される値である。

【０１２０】 （粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）×１００

【０１２１】マット剤は任意の構成層中に含むことがで
きるが、好ましくは感光層以外の構成層であり、更に好
ましくは支持体から見て最も外側の層である。

【０１２２】マット剤の添加方法は、予め塗布液中に分
散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布
した後、乾燥が終了する以前にマット剤を噴霧する方法
を用いてもよい。又複数の種類のマット剤を添加する場
合は、両方の方法を併用してもよい。

【０１２３】各種の添加剤は感光層、非感光層、又はそ
の他の形成層のいずれに添加しても良い。熱現像感光材
料には例えば、界面活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可
塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用いても良い。これ
らの添加剤及び上述したその他の添加剤はＲＤ１７０２
９（１９７８年６月ｐ．９〜１５）に記載されている化
合物を好ましく用いることができる。

【０１２４】支持体は現像処理後の画像の変形を防ぐた
めにプラスチックフィルム（例えば、ポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、ポリイミ
ド、ナイロン、セルローストリアセテート、ポリエチレ
ンナフタレート）であることが好ましい。支持体の厚み
としては５０〜３００μｍ程度、好ましくは７０〜１８
０μｍである。又熱処理したプラスチック支持体を用い
ることもできる。採用するプラスチックとしては、前記
のプラスチックが挙げられる。支持体の熱処理とはこれ
らの支持体を製膜後、感光層が塗布されるまでの間に、
支持体のガラス転移点より３０℃以上高い温度に、好ま
しくは３５℃以上高い温度に、更に好ましくは４０℃以
上高い温度に加熱することがよい。

【０１２５】支持体の製膜方法及び下引製造方法は公知
の方法を用いることができるが、好ましくは、特開平９
−５００９４号の段落〔００３０〕〜〔００７０〕に記
載された方法を用いることである。

【０１２６】帯電性を改良するために金属酸化物及び／
又は導電性ポリマーなどの導電性化合物を構成層中に含
ませることができる。これらはいずれの層に含有させて
もよいが、好ましくは下引層、バッキング層、感光層と
下引の間の層などに含まれる。米国特許５，２４４，７
７３号カラム１４〜２０に記載された導電性化合物が好
ましく用いられる。

【０１２７】

【実施例】発明の実施の形態の図１で示した光拡散部材
１４として酸化スズの帯電防止層を設けた光透過率が６
０〜８０％の磨りガラスを３°傾けて配置した画像形成
装置１０を作製した。これにより、従来より安価な条件
で作製することができた。次に、以下に示すフィルム１
及び２の各々毎に、補正データなどを予め設定した上
で、対応するフィルムで、ＣＴスキャン画像とコンピュ
ータラジオグラフィから出力されたＸ線写真画像をそれ
ぞれ１０枚連続してプリントアウトした。そして、得ら
れた画像で濃度ムラや擬画像の発生の有無を検査した。
その後、１日当たり約１２４枚連続して画像を形成し、
１年後、同様にプリントアウトした。

【０１２８】このような検査の結果、いずれの組み合わ
せでも、実用上問題となるような濃度ムラや擬画像の発
生はなかった。また、１年後の検査でも同様の良好な結
果が得られた。この本発明者による実験結果により、上
述した実施の形態における光走査部１９により濃度ムラ
を効果的に抑えられることが確認できた。

【０１２９】＜ハロゲン化銀写真感光性熱現像材料のフ
ィルム１＞

【０１３０】［支持体の作製］濃度０．１７０（コニカ
（株）製デンシトメータＰＤＡ−６５）に青色着色し
た、厚み１７５μｍのＰＥＴフィルムの両面に８ｗ／ｍ
^２・分のコロナ放電処理を施した。

【０１３１】［感光性ハロゲン化銀乳剤Ａの調製］水９
００ｍｌ中に平均分子量１０万のオセインゼラチン７．
５ｇ及び臭化カリウム１０ｍｇを溶解して温度３５℃、
ｐＨを３．０に合わせた後、硝酸銀７４ｇを含む水溶液
３７０ｍｌと（９８／２）のモル比の臭化カリウムと沃
化カリウムを含む水溶液及び塩化イリジウムを銀１モル
当たり１×１０−４モルを、ｐＡｇ７．７に保ちながら
コントロールドダブルジェット法で１０分間かけて添加
した。その後４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３
ａ，７−テトラザインデン０．３ｇを添加しＮａＯＨで
ｐＨを５に調整して平均粒子サイズ０．０６μｍ、粒子
サイズの変動係数１２％、〔１００〕面比率８７％の立
方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を
用いて凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシエタノール
０．１ｇを加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ７．５に調整し
て、感光性ハロゲン化銀乳剤Ａを得た。

【０１３２】［ベへン酸Ｎａ溶液の調製］３４０ｍｌの
イソプロパノールにベへン酸３４ｇを６５℃で溶解し
た。次に攪拌しながら０．２５Ｎの水酸化ナトリウム水
溶液をｐＨ８．７になる様に添加した。この際水酸化ナ
トリウム水溶液は約４００ｍｌ必要とした。次にこのベ
ヘン酸ナトリウム水溶液を減圧濃縮を行いべヘン酸ナト
リウムの濃度が重量％で８．９％とした。

【０１３３】［ベへン酸銀の調製］７５０ｍｌの蒸留水
中に３０ｇのオセインゼラチンを溶解した溶液に２．９
４Ｍの硝酸銀溶液を加え銀電位を４００ｍＶとした。こ
の中にコントロールドダブルジェット法を用いて７８℃
の温度下で前記ベヘン酸ナトリウム溶液３７４ｍｌを４
４．６ｍｌ／分のスピードで添加し同時に２．９４Ｍの
硝酸銀水溶液を銀電位が４００ｍＶになる様に添加し
た。添加時のベヘン酸ナトリウム及び硝酸銀の使用量は
それぞれ０．０９２モル、０．１０１モルであった。

【０１３４】添加終了後さらに３０分攪拌し限外濾過に
より水溶性塩類を除去した。

【０１３５】［感光性乳剤Ｂの調製］このべへン酸銀分
散物に前記ハロゲン化銀乳剤Ａをそれぞれ０．０１モル
加え、更に攪拌しながらポリ酢酸ビニルの酢酸ｎ−ブチ
ル溶液（１．２ｗｔ％）１００ｇを徐々に添加して分散
物のフロックを形成後、水を取り除き、更に２回の水洗
と水の除去を行った後、残った分散物２００ｇに対し、
バインダーとしてポリビニルブチラール（平均分子量３
０００）の２．５ｗｔ％の酢酸ブチルとイソブロピルア
ルコールの１：２混合溶液６０ｇを攪拌しながら加えた
後、こうして得られたゲル状のベへン酸及びハロゲン化
銀の混合物にバインダーとしてポリビニルブチラール
（平均分子量４０００）１．５ｇ及びイソプロピルアル
コール２４０ｍｌを加え５００ｇに仕上げて分散し、感
光性乳剤Ｂを調製した。

【０１３６】［感光層塗布液Ｂの調製］前記感光性乳剤
Ｂ（５００ｇ）およびＭＥＫ１００ｇを攪拌しながら２
１℃に保温した。ピリニジウムヒドロブロミドパーブロ
ミド（ＰＨＰ、０．４５ｇ）を加え、１時間攪拌した。
さらに臭化カルシウム（１０％メタノール溶液３．２５
ｍｌ）を添加して３０分攪拌した。

【０１３７】次に増感色素−１、４−クロロ−２−べン
ゾイル安息香酸、および強色増感剤（５−メチル−２−
メルカプトべンズイミダゾール）の混合溶液（混合比率
１：２５０：２０、増感色索で０．１％メタノール溶
液、７ｍｌ）を添加して１時間攪拌した後に温度を１３
℃まで降温してさらに３０分攪拌する。

【０１３８】１３℃に保温したまま、ポリビニルブチラ
ール４８ｇを添加して充分溶解してから、以下の添加物
を添加し、感光層塗布液Ｂを調製する。 還元剤−１：１５ｇ（０．０４８４ｍｏｌ） デスモデュＮ３３００（モーベイ社、脂肪族イソシアネ
ート） １．１０ｇ フタラジン（色調剤） １．５ｇ テトラクロロフタル酸 ０．５ｇ ４−メチルフタル酸 ０．５ｇ ＩＲ染料：８ｍｇ

【０１３９】［感光層面側塗布］感光層塗布液Ｂを調製
した後、１３℃に保温して所定時間、停滞保持してか
ら、支持体上に以下の各層を順次形成し、試料を作成し
た。尚、乾燥は各々７５℃，５分間で行い、フィルム１
を得た。

【０１４０】感光層１：感光層塗布液Ｂを塗布銀量２ｇ
／ｍ^２になる様に塗布する。

【０１４１】＜ハロゲン化銀写真感光性熱現像材料のフ
ィルム２＞

【０１４２】［感光性乳剤Ｃの調製］ハロゲン化銀−ベ
ヘン酸銀ドライ乳剤を、米国特許第３，８３９，０４９
号に記載の方法によって調製した。上記ハロゲン化銀は
総銀量の９モル％を有し、一方べへン酸銀は総銀量の９
１モル％を有した。上記ハロゲン化銀は、ヨウ化物２％
を有する０．０５５μｍ臭化ヨウ化銀乳剤であった。

【０１４３】［感光層塗布液Ｃの調製］熱現像乳剤を、
上記ハロゲン化銀−ベヘン酸銀ドライ乳剤４５５ｇ、ト
ルエン２７ｇ、２−ブタノン１９１８ｇ、およびポリビ
ニルブチラール（モンサント製のＢ−７９）と均質化し
た。上記均質化熱現像乳剤（６９８ｇ）および２−ブタ
ノン６０ｇを攪拌しながら１２．８℃まで冷却した。ピ
リジニウムヒドロブロミドペルブロミド（０．９２ｇ）
を加えて、２時間攪拌した。

【０１４４】臭化カルシウム溶液（ＣａＢｒ（１ｇ）と
メタノール１０ミリリットル）３．２５ミリリットルを
加え、統いて３０分間撹拌した。更にポリビニルブチラ
ール（１５８ｇ；モンサント製Ｂ−７９）を加え、２０
分間攪拌した。温度を２１．１℃まで上昇し、以下のも
のを攪拌しながら１５分間かけて加え、感光層塗布液Ｃ
を調製した。 ２−（トリブロモメチルスルホン）キノリン ３．４２ｇ、 １，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，５，５−ト リメチルへキサン ２８．１ｇ、 ５−メチルメルカプトべンズイミダゾール０．５４５ｇを含有する溶液 ４１．１ｇ、 ２−（４−クロロべンゾイル）安息香酸 ６．１２ｇ Ｓ−１（増感染料） ０．１０４ｇ メタノール ３４．３ｇ イソシアネート（デスモダーＮ３３００、モべイ製） ２．１４ｇ テトラクロロフタル酸無水物 ０．９７ｇ フタラジン ２．８８ｇ 尚、染料Ｓ−１は以下の構造を有する。

【０１４５】

【化４】

【０１４６】［保護層溶液Ｃの調整］保護層溶液Ｃを以
下の成分を用いて調製した。 ２−ブタノン ８０．０ｇ メ夕ノール １０．７ｇ 酢酪酸セルロース（ＣＡＢ−１７１−１５５、イーストマン・ケミカルズ製） ８．０ｇ ４−メチルフタル酸 ０．５２ｇ ＭＲＡ−１、モトル還元剤、Ｎ−エチルペルフルオロオクタンスルホニルアミド エチルメタクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸の重量比 ７０：２０：１０の３級ポリマー ０．８０ｇ

【０１４７】この感光層塗布液Ｃと保護層溶液Ｃとを、
ナイフ・コータにより、同時に、０．１８ｍｍの青色ポ
リエステル・フィルム・べースに塗布する。この際、感
光層塗布液Ｃの上に保護層溶夜Ｃを塗布する。また、感
光層塗布液は、１ｍ^２当たりの乾燥被膜重量が２３ｇと
なるように、そして、保護層溶液Ｃは、１ｍ^２当たりの
乾燥被膜重量が２．４ｇとなるように塗布される。そし
て、塗布されたポリエステル・べースを、７９．４℃で
４分間乾燥して、フィルム２を得る。

【０１４８】以上のように本発明を実施の形態及び実施
例により説明したが、本発明はこれらに限定されるもの
ではなく、本発明の技術的思想の範囲内で各種の変形が
可能である。例えば、本実施の形態では、光源部をレー
ザ光源（半導体レーザ）としたが、発光ダイオード（Ｌ
ＥＤ）であってもよいことは勿論である。

【０１４９】

【発明の効果】本発明によれば、光源部の温度依存性
や、使用する光学部品の温度安定性などの環境安定性の
制限、使用する光学部品の取り付け位置及び方向の精度
の制限などを緩め、使用できる部品の制限を緩めたり、
加工工数・精度を抑えたりするなどのコストダウンを可
能としつつ、走査されるビームの出射光量をより正しく
測定できるようにできる光走査装置を提供できる。

【０１５０】また、熱に起因する影響を抑えるとともに
上述の光走査装置を用いビームを安定して照射して擬画
像や濃度むらの発生を防止できる画像形成装置及び画像
形成方法を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態による画像形成装置の正面
図である。

【図２】図１の画像形成装置の光走査部の光学系を概略
的に示す図である。

【図３】図３（ａ）、（ｂ）はフォトダイオード１１の
受光面における光量分布を、光拡散部材を配置した場合
としない場合とを比較して示す図である。

【図４】図２の光走査部の変調基板１２と高周波重畳基
板１３の回路構成を示すブロック図である。

【図５】図１の画像形成装置の副走査部を概略的に示す
正面図である。

【図６】本実施の形態におけるフィルムＦの断面図であ
り、光走査部からのレーザビームによる露光時における
フィルムＦ内の化学的反応を模式的に示した図である。

【図７】本実施の形態におけるフィルムＦの断面図であ
り、図６のような潜像の形成されたフィルムを加熱した
時におけるフィルムＦ内の化学的反応を模式的に示した
図である。

【図８】従来の画像形成装置の正面図である。

【図９】図８の画像形成装置における従来の光走査部の
光学系を概略的に示す図である。

【符号の説明】

１ レーザ光源、半導体レーザ（光源部） ３ ビームスプリッタ（ビーム分岐手段） ６ ポリゴンミラー １１ フォトダイオード １２ 変調基板 １３ 高周波重畳基板 １４ 光拡散部材 １８ 副走査部 １９ 光走査部（光走査装置） １９ａ 光走査部１９の筐体 １９ｂ 筐体１９ａの開口１９ｂ ３０ 熱現像部 ４３ 遮光枠体 Ｆ フィルム（熱現像感光材料）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｄ 13/00 Ｈ０４Ｎ 1/036 Ｚ ５Ｃ０７２ Ｈ０４Ｎ 1/036 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｄ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ Ｆターム(参考） 2C362 AA03 AA53 CB71 2H045 CB42 DA21 DA41 2H112 AA03 AA11 BB00 BC32 BC41 2H123 AB00 AB03 AB23 AB28 CA00 CA05 CA22 CB00 CB03 5C051 AA02 CA07 DB02 DB22 DB24 DB30 DC04 DC07 FA04 5C072 AA03 BA04 BA12 DA16 DA21 HA02 HA09 HA10 HA13 HB04 VA03 XA05

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ビームを出射する光源部と、 出射したビームのうち所定の割合のビームを分岐するビ
   ーム分岐手段と、 前記ビーム分岐手段により分岐されたビームを受光する
   フォトダイオードと、 前記フォトダイオードの出力を用いて前記光源部の出射
   光量を検出する発光光量検出手段と、を有し、前記出射
   したビームを記録媒体上へ走査する光走査装置であっ
   て、 前記フォトダイオードのビーム受光側にビームを拡散さ
   せる光拡散部材を設けたことを特徴とする光走査装置。
2. 【請求項２】 前記光拡散部材はビーム波長領域におけ
   る光透過率が５０％以上であることを特徴とする請求項
   １に記載の光走査装置。
3. 【請求項３】 前記光拡散部材の表面が帯電防止処理さ
   れている請求項１または２に記載の光走査装置。
4. 【請求項４】 前記光拡散部材のビーム入射側表面にマ
   ット加工が施されている請求項１乃至３のいずれか１項
   に記載の光走査装置。
5. 【請求項５】 前記光拡散部材のビーム出射側表面にマ
   ット加工が施されている請求項１乃至４のいずれか１項
   に記載の光走査装置。
6. 【請求項６】 前記光拡散部材が乳白色のアクリル板で
   あることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に
   記載の光走査装置。
7. 【請求項７】 前記光拡散部材が磨りガラス板であるこ
   とを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の
   光走査装置。
8. 【請求項８】 前記発光光量検出手段の検出結果を用い
   て、前記光源部の出射光量を制御する光源制御駆動手段
   を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１
   項に記載の光走査装置。
9. 【請求項９】 請求項１乃至８のいずれか１項に記載の
   光走査装置と、 前記光走査装置の上方に設けられ、前記光走査装置によ
   りビーム露光された熱現像材料を加熱して熱現像する熱
   現像手段と、前記光走査装置及び前記熱現像手段を実質
   的に遮光状態にして覆う遮光枠体と、を有する画像形成
   装置であって、 前記光走査装置から出されるビームの照射方向が下方向
   きであることを特徴とする画像形成装置。
10. 【請求項１０】 回転多面鏡又はガルバノミラーを有
    し、光源部から出射したビームが前記回転多面鏡又はガ
    ルバノミラーのミラー面に入射し、前記回転多面鏡が回
    転すること又は前記ガルバノミラーが回動することによ
    り、前記ミラー面で反射したビームを記録媒体上へ走査
    する請求項１〜８のいずれか１項に記載の光走査装置
    と、 前記光走査装置により走査されるビームの走査方向と実
    質的に直交する方向に熱現像感光材料を移動させること
    により副走査する副走査手段と、 前記光走査装置の上方に設けられ、前記光走査装置及び
    副走査手段とによりビーム露光された熱現像材料を加熱
    して熱現像する熱現像手段と、 前記光走査装置、前記副走査手段及び前記熱現像手段を
    実質的に遮光状態にして覆う遮光枠体と、を有する画像
    形成装置であって、 前記光走査装置から出されるビームの照射方向が下方向
    きであることを特徴とする画像形成装置。
11. 【請求項１１】 請求項９又は１０に記載の画像形成装
    置を用いた画像形成方法において、 前記熱現像感光材料が、ハロゲン化銀微粒子と、有機銀
    塩と、還元剤とを含有する熱現像感光材料であることを
    特徴とする画像形成方法。
12. 【請求項１２】 請求項１１に記載の画像形成方法にお
    いて、 前記熱現像手段の熱現像温度が１１５℃以上１３５℃以
    下であることを特徴とする画像形成方法。