JP2000214554A - 熱現像感光材料及びその製造方法 - Google Patents

熱現像感光材料及びその製造方法

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JP2000214554A JP11011899A JP1189999A JP2000214554A JP 2000214554 A JP2000214554 A JP 2000214554A JP 11011899 A JP11011899 A JP 11011899A JP 1189999 A JP1189999 A JP 1189999A JP 2000214554 A JP2000214554 A JP 2000214554A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 現像時の搬送性が向上し、保存後の経時変動
に対する性能変動の少ない熱現像感光材料及びその製造
方法を提供する。 【解決手段】 支持体上に有機銀塩粒子を含有する画像
形成層を少なくとも1層有し、且つ、該画像形成層側の
構成層の少なくとも1層が還元剤を含有する熱現像感光
材料において、少なくとも1種の非イオン性含フッ素界
面活性剤と少なくとも1種の無機塩または有機塩を含有
することを特徴とする熱現像感光材料。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料およ
びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来印刷製版や医療の分野では、画像形
成材料の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問題とな
っており、近年では環境保全、省スペースの観点からも
処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レーザ・
イメージセッタやレーザ・イメージャにより効率的な露
光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形成すること
ができる写真技術用途の光熱写真材料に関する技術が必
要とされている。
【0003】この技術として、例えば、米国特許第3,
152,904号などのような支持体上に有機銀塩、感
光性ハロゲン化銀粒子及び還元剤を含有する熱現像感光
材料が知られている。しかしながら、上記記載の熱現像
感光材料は、100℃以上の高温で現像する自動現像機
で現像処理する場合、搬送不良を引き起こしやすく、且
つ、熱現像温度や熱現像時間等の熱現像処理条件の変動
に対してカブリや感度等が大きく変動しやすく、また、
熱現像感光材料の経時保存時におけるカブリや感度変動
が大きいという問題点を抱えていた。
【0004】また、一般にプラスチックフィルムは帯電
性が強く、使用上多くの制約を与えている。例えば、写
真感光材料においてはポリエチレンテレフタレートのよ
うなプラスチックフィルムからなる支持体が一般に使用
されるが、このような感光材料は、特に冬季の如き低湿
度条件下においては帯電し易い。上記のような帯電現象
は近年、当業界で用いられているような高速度塗布が行
われる場合、高感度の感光材料を自動プリンターを通し
て露光処理をする場合等に起こりやすく、このような場
合に特に帯電防止対策が要望されている。
【0005】感光材料が帯電すると、ゴミ等の異物を付
着しこれによりピンホールを発生させたりして著しく品
質を劣化させてしまう。このため、一般に感光材料には
帯電防止剤が使用されている。中でもフッ素系界面活性
剤による帯電列調整、あるいは導電性ポリマーによる導
電性向上、酸化錫などの無機導電材料による帯電防止法
が、熱現像感光材料においても、種々提案されてきてい
る。
【0006】例えば、特開昭63−306437号、同
64−24245号には、フルオロアルキルカルボン酸
塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロ
アルキルスルホンアミド誘導体、パーフルオロアルキル
アミン塩、ポリオキシエチレンパーフルオロアルキルア
ミン等の含フッ素界面活性剤が開示されている。
【0007】また、特開平7−233268号には、含
フッ素脂肪族スルホン酸とポリアルキレンオキシアミン
との反応から形成されたスルホン酸のアンモニウム塩が
開示されている。
【0008】しかしながら、上記記載の含フッ素界面活
性剤を単独に用いただけでは、上記に記載したような問
題点の解決には不十分であり、それらの問題点の解決が
要望されていた。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、現像
時の搬送性が向上し、保存後の経時変動の少ない熱現像
感光材料及びその製造方法を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記に示す項目1〜9によって達成された。
【0011】1.支持体上に有機銀塩粒子を有する画像
形成層を少なくとも1層有し、且つ、該画像形成層側の
構成層の少なくとも1層が還元剤を含有する熱現像感光
材料において、少なくとも1種の非イオン性含フッ素界
面活性剤と少なくとも1種の無機塩または有機塩を含有
することを特徴とする熱現像感光材料。
【0012】2.無機塩がアルカリ金属類またはアルカ
リ土類金属からなる塩であることを特徴とする前記1に
記載の熱現像感光材料。
【0013】3.有機塩がイオン性界面活性剤であるこ
とを特徴とする前記1に記載の熱現像感光材料。
【0014】4.イオン性界面活性剤として、少なくと
も1種のフッ素系イオン性界面活性剤を含有することを
特徴とする請求項3に記載の熱現像感光材料。
【0015】5.イオン性界面活性剤として、少なくと
も1種のアニオン性界面活性剤及び少なくとも1種のカ
チオン性界面活性剤を含有することを特徴とする前記1
〜4のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
【0016】6.カチオン性界面活性剤及びアニオン性
界面活性剤が、各々、フッ素系カチオン性界面活性剤、
フッ素系アニオン性界面活性剤であることを特徴とする
前記5に記載の熱現像感光材料。
【0017】7.非イオン性含フッ素界面活性剤が、下
記一般式(1)で表される化合物であることを特徴とす
る前記1〜6のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
【0018】一般式(1) Rf1−(A)n−Rf2 式中、Rf1、Rf2は、各々、少なくとも一つのフッ素
含有脂肪族基を有する基、Aは少なくとも一つのアルキ
レンオキサイド基を有する基、nは1以上の整数を表
し、Rf1、Rf2は、各々、同じでも異なっても良い。
【0019】8.非イオン性含フッ素界面活性剤を含有
する層を塗布後、乾燥する時の乾燥風の露点温度が15
℃以下であることを特徴とする前記1〜7のいずれか1
項に記載の熱現像感光材料の製造方法。
【0020】9.前記非イオン性含フッ素界面活性剤を
塗布乾燥後の残存溶媒量が500mg/m2以下である
ことを特徴とする前記8に記載の熱現像感光材料の製造
方法。
【0021】以下、本発明を詳細に説明する。
【0022】本発明に用いられる非イオン性含フッ素界
面活性剤としては、上記一般式(1)に示される化合物
が好ましく用いられる。
【0023】上記一般式(1)において、Rf1、Rf2
で表されるフッ素含有脂肪族基としては、直鎖、分岐鎖
および環式またはこれらの組合せ(例えばアルキルシク
ロ脂肪族基)が用いられる。中でも、好ましいフッ素含
有脂肪族基としては、炭素原子数1〜20のフルオロア
ルキル基(例えば、−C49、−C817)、炭素原子
数1〜20のスルホフルオロアルキル基(例えば、C7
15SO3−、C817SO3−等)および炭素原子数1
〜20のCn2n+1SO2N(R1)R2−基(ここで、R
1は水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜2
0のアルコキシ基、炭素数1〜20のアルキルカルボキ
シル基またはアリール基であり、R2は炭素数1〜20
のアルキレン基、炭素数1〜20のアルキレンカルボキ
シル基を表し、nは1〜20の整数を表す。例えば、C
715SO2N(C25)CH2−、C817SO2N(C
2COOH)C36−等)で、各々、これらは更に置
換基を有しても良い。Aは、エチレンオキサイド基、プ
ロピレンオキサイド基、イソプロピレンオキサイド基な
どのアルキレンオキサイド基を有する基であり、末端に
アミノ基などの置換基を有しても良い。以下に具体例を
あげるが、これらに限定されるものではない。
【0024】 [F−1] C1225(CH2CH2O)241225 [F−2] C817(CH2CH2O)8817 [F−3] C715CH2CH(OH)CH2(CH2
2O)15CH2CH(OH)CH2715 [F−4] C715(CH2CH2O)10715 [F−5] C1225(CH2CH2O)101225 [F−6] C817CH2CH(OH)CH2(CH2
2O)20CH2CH(OH)CH2817 [F−7] C817(CH2CH2O)12817 [F−8] C817(CH2CH2O)12817 [F−9] C715SO2N(C25)CH2(CH2
2O)12CH2(CH3)NO2SC715 本発明に用いられる非イオン性含フッ素界面活性剤の含
有量は、熱現像感光材料1m2あたり1×10-6モルか
ら1×10-2モルの範囲が好ましい。本発明に用いられ
る含フッ素界面活性剤は、水または有機溶媒に溶解して
熱現像感光材料の構成層の塗布液に添加されてもよく、
また微粒子固体分散物として添加されてもよく、また塗
布液を塗布後に溶解したものや微粒子固体分散物を吹き
付けてもよい。
【0025】本発明に用いられる非イオン性含フッ素界
面活性剤は特に限定がなく、どの層にあっても良いが、
最表面層に含有されることが好ましい。
【0026】本発明に用いられる非イオン性含フッ素界
面活性剤が画像形成層の反対側の層に含有される場合に
は、例えば支持体上の下引層やアンチハレーション染料
含有バッキング層やバッキング保護層などに少なくとも
1種含有されることが好ましい。更に、少なくとも画像
形成層の反対側の最外層に含まれるのが好ましい。
【0027】また、画像形成層側の構成層に含有される
場合には、例えば、支持体上の下引層や画像形成層や保
護層やそれらの中間層などに少なくとも1種含有される
ことが好ましく、更に、少なくとも画像形成層側の最外
層に含まれるのが好ましい。
【0028】本発明に用いられる非イオン性含フッ素界
面活性剤の使用量は一般に感光材料1m2当り0.01
〜1gでよく、10〜500mgが好ましい。より好ま
しくは50〜300mg/m2である。
【0029】本発明に用いられる非イオン性含フッ素界
面活性剤を含有する塗布液に添加する添加剤としては特
に限定はなく、例えばバインダー、塗布助剤、マット
剤、滑り剤等を添加することができる。この場合にバイ
ンダーとフッ素系界面活性剤の重量比は重要である。バ
インダーに対するフッ素系化合物の比は25以下である
ことが好ましい。より好ましくは0.008〜25であ
る。さらに好ましくは0.04〜20である。
【0030】本発明に用いられる非イオン性含フッ素界
面活性剤を含有した塗布液を塗布する方法としてはエア
ードクター、ブレード、エアナイフ、スクイズ、含浸、
リバースロール、トランスファーロール、グラビヤ、キ
ス、キャスト、スプレイ、ディップ、バー、エクストリ
ュージョン等が利用できる。塗布液量は特に限定されな
いが、塗布液量は1〜200ml/m2が好ましく、よ
り好ましくは5〜100ml/m2である。
【0031】本発明に用いられる非イオン性含フッ素界
面活性剤を含有した塗布液を塗布する場合には前述した
ように乾燥条件は重要な因子となる。本発明に用いられ
る非イオン性含フッ素界面活性剤を含有した塗布液を塗
布乾燥する場合の乾燥風の露点温度は15℃以下にする
ことが重要である。好ましくは0〜15℃である。より
好ましくは5〜15℃である。
【0032】本発明に用いられる非イオン性含フッ素界
面活性剤を含有した塗布液を塗布乾燥する場合の残留溶
媒量としては、転写時の写真性能への影響を抑制するた
めには、1mg/m2〜500mg/m2にすることが好
ましい。更に好ましくは300mg/m2以下であり、
特に好ましくは10mg/m2〜200mg/m2であ
る。
【0033】本発明に用いられる非イオン性含フッ素界
面活性剤含有層は塗布したあと、乾燥の為に熱風を用い
て乾燥する。この時に加熱した風やロール上を通すこと
が好ましく、温度としては40〜150℃、より好まし
くは45〜100℃が好ましく、特に好ましいのは55
〜85℃であり、乾燥ゾーン全体が加温されていても良
く、また搬送ロールを加熱乾燥してもよい。乾燥時間は
好ましくは30秒〜30分であり、より好ましくは1分
〜10分である。
【0034】本発明に用いられる溶媒としては、水、ア
ルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、ブタノールなど)、ケトン類(アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ンなど)、エステル類(酢酸、蟻酸、シュウ酸、マレイ
ン酸、コハク酸などのメチル、エチル、プロピル、ブチ
ルエステルなど)、炭化水素系(ヘキサン、シクロヘキ
サンなど)、ハロゲン化炭化水素系(メチレンクロライ
ド、クロロホルム、四塩化炭素など)、芳香族炭化水素
系(ベンゼン、トルエン、キシレン、ベンジルアルコー
ル、安息香酸、アニソールなど)、アミド系(ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロ
リドンなど)、エーテル系(ジエチルエーテル、ジオキ
サン、テトラハイドロフランなど)、ジアセトンアルコ
ール、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどの
エーテルアルコール類、グリセリン、ジエチレングリコ
ール、ジメチルスルホキシド等が好ましい。
【0035】上記記載の溶媒の中でも好ましくは、メタ
ノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、トルエン、キシレン、ジアセト
ンアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルである。
【0036】次に本発明に用いられる有機塩について説
明する。
【0037】本発明において用いられる有機塩として
は、イオン性界面活性剤が好ましく用いられ、フッ素系
イオン界面活性剤が更に好ましく用いられる。
【0038】また、本発明においては、イオン性界面活
性剤として、少なくとも1種のアニオン性界面活性剤と
少なくとも1種のカチオン性界面活性剤が併用して用い
られることが好ましく、更に、アニオン性界面活性剤と
して、フッ素系アニオン界面活性剤が用いられ、カチオ
ン性界面活性剤として、フッ素系カチオン界面活性剤が
各々、用いられるのが好ましい。
【0039】以下に本発明に用いられるイオン性界面活
性剤の具体例をしめすが、本発明はこれらに限定されな
い。
【0040】
【化1】
【0041】
【化2】
【0042】
【化3】
【0043】
【化4】
【0044】
【化5】
【0045】
【化6】
【0046】
【化7】
【0047】
【化8】
【0048】
【化9】
【0049】
【化10】
【0050】
【化11】
【0051】
【化12】
【0052】
【化13】
【0053】
【化14】
【0054】
【化15】
【0055】
【化16】
【0056】
【化17】
【0057】
【化18】
【0058】本発明に用いられるイオン性界面活性剤と
しては、上記の他に、特開昭60−244945号、同
63−306437号、特開平1−24245号に記載
のイオン性のフッ素系界面活性剤、特開平5−1970
68号、同5−204115号等に記載のアニオン・カ
チオン併用のフッ素系界面活性剤を用いることが出来
る。
【0059】本発明に用いられるイオン性界面活性剤は
特に限定がなく、どの層にあっても良いが、最表面層に
含有されることが好ましい。
【0060】本発明に用いられるイオン性界面活性剤が
画像形成層の反対側の層に含有される場合には、例えば
支持体上の下引層やアンチハレーション染料含有バッキ
ング層やバッキング保護層などに少なくとも1種含有さ
れることが好ましい。更に、少なくとも画像形成層の反
対側の最外層に含まれるのが好ましい。
【0061】また、画像形成層側の構成層に含有される
場合には、例えば、支持体上の下引層や画像形成層や保
護層やそれらの中間層などに少なくとも1種含有される
ことが好ましく、更に、少なくとも画像形成層側の最外
層に含まれるのが好ましい。
【0062】本発明に用いられるイオン性界面活性剤の
使用量は一般に感光材料1m2当り0.001〜1gで
よく、5〜500mgが好ましい。より好ましくは10
〜300mg/m2である。
【0063】本発明に用いられるイオン性界面活性剤を
含有する塗布液に添加する添加剤としては特に限定はな
く、例えばバインダー、塗布助剤、マット剤、滑り剤等
を添加することができる。この場合にバインダーとフッ
素系界面活性剤の重量比は重要である。バインダーに対
するフッ素系化合物の比は25以下であることが好まし
い。より好ましくは0.008以上25以下である。さ
らに好ましくは0.04以上20以下である。
【0064】本発明に用いられるイオン性界面活性剤を
含有した塗布液を塗布する方法としてはエアードクタ
ー、ブレード、エアナイフ、スクイズ、含浸、リバース
ロール、トランスファーロール、グラビヤ、キス、キャ
スト、スプレイ、ディップ、バー、エクストリュージョ
ン等が利用できる。塗布液量は特に限定されないが、塗
布液量は1〜200ml/m2が好ましく、より好まし
くは5〜100ml/m2である。
【0065】本発明に用いられるイオン性界面活性剤を
含有した塗布液を塗布する場合には前述したように乾燥
条件は重要な因子となる。本発明に用いられるイオン性
界面活性剤を含有した塗布液を塗布乾燥する場合の乾燥
風の露点温度は15℃以下にすることが重要である。好
ましくは0〜15℃である。より好ましくは5〜15℃
である。
【0066】本発明に用いられるイオン性界面活性剤を
含有した塗布液を塗布乾燥する場合の残留溶媒量は1m
g/m2以上500mg/m2以下にすることが好まし
い。更に好ましくは300mg/m2以下であり、特に
好ましくは10mg/m2以上200mg/m2以下であ
る。
【0067】本発明に用いられるイオン性界面活性剤含
有層は塗布したあと、乾燥の為に熱風を用いて乾燥す
る。この時に加熱した風やロール上を通すことが好まし
く、温度としては40〜150℃、より好ましくは45
〜100℃が好ましく、特に好ましいのは55〜85℃
であり、乾燥ゾーン全体が加温されていても良く、また
搬送ロールを加熱乾燥してもよい。乾燥時間は好ましく
は30秒〜30分であり、より好ましくは1分〜10分
である。
【0068】次に本発明に用いられる無機塩について説
明する。
【0069】本発明に用いられる無機塩としては、アル
カリ金属塩またはアルカリ土類金属塩等が好ましく用い
られる。例えば、LiCl、LiClO4、LiBr、
NaCl、NaBr、Na2SO4、KCl、K2SO4
KBr等が挙げられる。
【0070】本発明に用いられる有機銀塩は還元可能な
銀源であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸及
びヘテロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10〜30、好まし
くは15〜25の炭素原子数)の脂肪族カルボン酸及び
含窒素複素環が好ましい。配位子が、4.0〜10.0
の銀イオンに対する総安定定数を有する有機または無機
の銀塩錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Rese
arch Disclosure第17029及び29
963に記載されており、次のものがある:有機酸の塩
(例えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、ステアリン
酸、アラキジン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の
塩);銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩(例えば、1
−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カ
ルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチオ尿素等);
アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸とのポリ
マー反応生成物の銀錯体(例えば、アルデヒド類(ホル
ムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド
等)、ヒドロキシ置換酸類(例えば、サリチル酸、安息
香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チオジ
サリチル酸)、チオエン類の銀塩または錯体(例えば、
3−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル
−4−(チアゾリン−2−チオエン、及び3−カルボキ
シメチル−4−チアゾリン−2−チオエン)、イミダゾ
ール、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−チアゾー
ル及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−ベンジル
チオ−1,2,4−トリアゾール及びベンゾトリアゾー
ルから選択される窒素酸と銀との錯体または塩;サッカ
リン、5−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩;及び
メルカプチド類の銀塩。好ましい銀源はベヘン酸銀、ア
ラキジン酸銀、ステアリン酸銀である。有機銀塩は好ま
しくは銀量として4g/m2以下で含有せしめる。更に
好ましくは3g/m2以下である。
【0071】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されているコントロールドダブルジェット法
等が好ましく用いられる。
【0072】本発明に用いられる還元剤について記載す
る。
【0073】本発明の熱現像感光材料には還元剤が内蔵
されている。好適な還元剤の例は、米国特許第3,77
0,448号、同第3,773,512号、同第3,5
93,863号、及びResearch Disclo
sure第17029及び29963に記載されてお
り、次のものがある。アミノヒドロキシシクロアルケノ
ン化合物(例えば、2−ヒドロキシピペリジノ−2−シ
クロヘキセノン);還元剤の前駆体としてアミノリダク
トン類(reductones)エステル(例えば、ピ
ペリジノヘキソースリダクトンモノアセテート);N−
ヒドロキシ尿素誘導体(例えば、N−p−メチルフェニ
ル−N−ヒドロキシ尿素);アルデヒドまたはケトンの
ヒドラゾン類(例えば、アントラセンアルデヒドフェニ
ルヒドラゾン);ホスファーアミドフェノール類;ホス
ファーアミドアニリン類;ポリヒドロキシベンゼン類
(例えば、ヒドロキノン、t−ブチル−ヒドロキノン、
イソプロピルヒドロキノン及び(2,5−ジヒドロキシ
−フェニル)メチルスルホン);スルフヒドロキサム酸
類(例えば、ベンゼンスルフヒドロキサム酸);スルホ
ンアミドアニリン類(例えば、4−(N−メタンスルホ
ンアミド)アニリン);2−テトラゾリルチオヒドロキ
ノン類(例えば、2−メチル−5−(1−フェニル−5
−テトラゾリルチオ)ヒドロキノン);テトラヒドロキ
ノキサリン類(例えば、1,2,3,4−テトラヒドロ
キノキサリン);アミドオキシン類;アジン類(例え
ば、脂肪族カルボン酸アリールヒドラザイド類とアスコ
ルビン酸の組み合わせ);ポリヒドロキシベンゼンとヒ
ドロキシルアミンの組み合わせ、リダクトン及び/また
はヒドラジン;ヒドロキサム酸類;アジン類とスルホン
アミドフェノール類の組み合わせ;α−シアノフェニル
酢酸誘導体;ビス−β−ナフトールと1,3−ジヒドロ
キシベンゼン誘導体の組み合わせ;5−ピラゾロン類;
スルホンアミドフェノール還元剤;2−フェニルインダ
ン−1,3−ジオン等;クロマン;1,4−ジヒドロピ
リジン類(例えば、2,6−ジメトキシ−3,5−ジカ
ルボエトキシ−1,4−ジヒドロピリジン);ビスフェ
ノール類(例えば、ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブ
チル−5−メチルフェニル)メタン、ビス(6−ヒドロ
キシ−m−トリ)メシトール(mesitol)、2,
2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロ
パン、4,5−エチリデン−ビス(2−t−ブチル−6
−メチル)フェノール)、紫外線感応性アスコルビン酸
誘導体及び3−ピラゾリドン類。中でも特に好ましい還
元剤はヒンダードフェノール類である。ヒンダードフェ
ノール類としては下記一般式(A)で表される化合物が
挙げられる。
【0074】
【化19】
【0075】式中、Rは水素原子または炭素原子数1〜
10のアルキル基(例えば、ブチル基、2,4,4−ト
リメチルペンチル基等)を表し、R′及びR″は炭素原
子数1〜5のアルキル基(例えば、メチル基、エチル
基、t−ブチル基等)を表す。
【0076】一般式(A)で表される化合物の具体例を
以下に示す。但し、本発明は、これらに限定されない。
【0077】
【化20】
【0078】
【化21】
【0079】前記一般式(A)で表される化合物を始め
とする還元剤の使用量は好ましくは銀1モル当り1×1
-2〜10モル、特に1×10-2〜1.5モルである。
【0080】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子につ
いて説明する。
【0081】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は光
センサーとして機能する。本発明においては、画像形成
後の白濁を低く抑え、且つ、良好な画質を得るために平
均粒子サイズが0.1μm以下が好ましく、更に好まし
くは0.01μm〜0.1μmであり、特に好ましくは
0.02μm〜0.08μmである。
【0082】ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀
粒子が立方体或いは八面体のいわゆる正常晶である場合
には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。また、正常
晶でない場合、例えば球状、棒状、或いは平板状の粒子
の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考え
たときの直径をしめす。また、ハロゲン化銀は単分散で
あることが好ましい。
【0083】ここでいう単分散とは、下記式で求められ
る単分散度が40%以下の場合を表す。本発明において
は、単分散度としては、30%以下が更に好ましく、特
に好ましくは0.1%以上20%以下である。
【0084】単分散度=(粒径の標準偏差)/(粒径の
平均値)×100 本発明においては、ハロゲン化銀粒子が平均粒径0.1
μm以下でかつ単分散粒子であることがより好ましく、
この範囲にすることで画像の粒状性も向上する。
【0085】ハロゲン化銀粒子の形状については、特に
制限はないが、ミラー指数〔100〕面の占める割合が
高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には7
0%以上、特に80%以上であることが好ましい。ミラ
ー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における
〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用した
T.Tani,J.Imaging Sci.,29,
165(1985)により求めることができる。
【0086】またもう一つの好ましいハロゲン化銀の形
状は、平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影
面積の平方根を粒径rμmとして垂直方向の厚みがhμ
mである場合のアスペクト比=r/hが3以上のものを
いう。その中でも、更に好ましくはアスペクト比が3以
上50以下である。また粒径は0.1μm以下であるこ
とが好ましく、さらに0.01μm〜0.08μmが好
ましい。これらは米国特許第5,264,337号、第
5,314,798号、第5,320,958号等に記
載されており、上記特許を参考にして目的の平板状粒子
を得ることができる。
【0087】本発明においてこれらの平板状粒子を用い
た場合、更に画像の鮮鋭性も向上する。ハロゲン組成と
しては特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化
銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよ
い。本発明に用いられるAgX粒子は、P.Glafk
ides著Chimie et Physique P
hotographique(Paul Montel
社刊、1967年)、G.F.Duffin著 Pho
tographic Emulsion Chemis
try(The Focal Press刊、1966
年)、V.L.Zelikman et al著Mak
ing and Coating Photograp
hic Emulsion(The Focal Pr
ess刊、1964年)等に記載された方法を用いて作
製されたAg乳剤を用いて調製することが出来る。
【0088】本発明に用いられるハロゲン化銀は有機銀
塩に対して0.75〜30重量%の量で含有されること
が好ましい。
【0089】本発明に用いられるハロゲン化銀には、周
期表の6族から11族に属する金属イオンを含有するこ
とが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、Co、
Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、P
t、Auが好ましい。
【0090】これらの金属イオンは金属錯体または金属
錯体イオンの形でハロゲン化銀に導入できる。これらの
金属錯体または金属錯体イオンとしては、下記一般式で
表される6配位金属錯体が好ましい。
【0091】一般式 〔ML6m 式中、Mは周期表の6〜11族の元素から選ばれる遷移
金属、Lは配位子、mは0、−、2−、3−または4−
を表す。Lで表される配位子の具体例としては、ハロゲ
ン化物(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、シアン
化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナー
ト、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニ
トロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはア
コ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位
子が存在する場合には、配位子の一つまたは二つを占め
ることが好ましい。Lは同一でもよく、また異なってい
てもよい。
【0092】Mとして特に好ましい具体例は、ロジウム
(Rh)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)、イ
リジウム(Ir)及びオスミウム(Os)である。
【0093】以下に遷移金属錯体イオンの具体例を示す
が本発明はこれらに限定されない。
【0094】1:〔RhCl63- 2:〔RuCl63- 3:〔ReCl63- 4:〔RuBr63- 5:〔OsCl63- 6:〔IrCl64- 7:〔Ru(NO)Cl52- 8:〔RuBr4(H2O)〕2- 9:〔Ru(NO)(H2O)Cl4- 10:〔RhCl5(H2O)〕2- 11:〔Re(NO)Cl52- 12:〔Re(NO)(CN)52− 13:〔Re(NO)Cl(CN)2- 14:〔Rh(NO)2Cl4- 15:〔Rh(NO)(H2O)Cl4- 16:〔Ru(NO)(CN)52- 17:〔Fe(CN)63- 18:〔Rh(NS)Cl52- 19:〔Os(NO)Cl52- 20:〔Cr(NO)Cl52- 21:〔Re(NO)Cl5- 22:〔Os(NS)Cl4(TeCN)〕2- 23:〔Ru(NS)Cl52- 24:〔Re(NS)Cl4(SeCN)〕2- 25:〔Os(NS)Cl(SCN)42- 26:〔Ir(NO)Cl52- 27:〔Ir(NS)Cl52- これらの金属イオン、金属錯体または金属錯体イオンは
一種類でもよいし、同種の金属及び異種の金属を二種以
上併用してもよい。これらの金属イオン、金属錯体また
は金属錯体イオンの含有量としては、一般的にはハロゲ
ン化銀1モル当たり1×10-9〜1×10-2モルが適当
であり、好ましくは1×10-8〜1×10-4モルであ
る。
【0095】これらの金属のイオンまたは錯体イオンを
提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、
ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハ
ロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物理熟
成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよいが、特
に核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好まし
く、更には核形成、成長の段階で添加するのが好まし
く、最も好ましくは核形成の段階で添加する。
【0096】添加に際しては、数回に渡って分割して添
加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させる
こともできるし、特開昭63−29603号、特開平2
−306236号、同3−167545号、同4−76
534号、同6−110146号、同5−273683
号等に記載されている様に粒子内に分布を持たせて含有
させることもできる。好ましくは粒子内部に分布をもた
せることができる。
【0097】これらの金属化合物は、水或いは適当な有
機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコー
ル類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添
加することができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶
液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶
解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液または水
溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶
液とハライド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液
として添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子
を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水
溶液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調
製時に予め金属のイオンまたは錯体イオンをドープして
ある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等
がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属
化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を
水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。
【0098】粒子表面に添加する時には、粒子形成直後
または物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時
に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入するこ
ともできる。
【0099】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は粒
子形成後に脱塩してもしなくてもよいが、脱塩を施す場
合、ヌードル法、フロキュレーション法等、当業界で知
られている方法を用いて水洗することにより脱塩するこ
とができる。
【0100】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は化
学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感法
としては当業界でよく知られているように硫黄増感法、
セレン増感法、テルル増感法を用いることができる。ま
た金化合物や白金、パラジウム、イリジウム化合物等の
貴金属増感法や還元増感法を用いることができる。硫黄
増感法、セレン増感法、テルル増感法に好ましく用いら
れる化合物としては公知の化合物を用いることができる
が、特開平7−128768号等に記載の化合物を使用
することができる。テルル増感剤としては例えばジアシ
ルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)テルリド類、
ビス(カルバモイル)テルリド類、ジアシルテルリド
類、ビス(オキシカルボニル)ジテルリド類、ビス(カ
ルバモイル)ジテルリド類、P=Te結合を有する化合
物、テルロカルボン酸塩類、Te−オルガニルテルロカ
ルボン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリド類、テルリド
類、テルロール類、テルロアセタール類、テルロスルホ
ナート類、P−Te結合を有する化合物、含Teヘテロ
環類、テルロカルボニル化合物、無機テルル化合物、コ
ロイド状テルルなどを用いることができる。貴金属増感
法に好ましく用いられる化合物としては例えば塩化金
酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチオシ
アネート、硫化金、金セレナイド、あるいは米国特許第
2,448,060号、英国特許第618,061号な
どに記載されている化合物を好ましく用いることができ
る。
【0101】還元増感法の具体的な化合物としてはアス
コルビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一ス
ズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導
体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等
を用いることができる。また、乳剤のpHを7以上また
はpAgを8.3以下に保持して熟成することにより還
元増感することができる。また、粒子形成中に銀イオン
のシングルアディション部分を導入することにより還元
増感することができる。
【0102】本発明に用いられる増感色素について説明
する。
【0103】本発明の熱現像感光材料には例えば特開昭
63−159841号、同60−140335号、同6
3−231437号、同63−259651号、同63
−304242号、同63−15245号、米国特許第
4,639,414号、同第4,740,455号、同
第4,741,966号、同第4,751,175号、
同第4,835,096号等に記載された増感色素が使
用できる。本発明に使用される有用な増感色素は例え
ば、Research DisclosureItem
17643IV−A項(1978年12月p.23)、同
Item 1831X項(1978年8月p.43
7)に記載もしくは引用された文献に記載されている。
特に各種スキャナー光源の分光特性に適した分光感度を
有する増感色素を有利に選択することができる。例えば
A)アルゴンレーザ光源に対しては、特開昭60−16
2247号、特開平2−48653号、米国特許2,1
61,331号、西独特許936,071号、特願平3
−189532号記載のシンプルメロシアニン類、B)
ヘリウム−ネオンレーザ光源に対しては、特開昭50−
62425号、同54−18726号、同59−102
229号に示された三核シアニン色素類、特願平6−1
03272号に示されたメロシアニン類、C)LED光
源及び赤色半導体レーザに対しては特公昭48−421
72号、同51−9609号、同55−39818号、
特開昭62−284343号、特開平2−105135
号に記載されたチアカルボシアニン類、D)赤外半導体
レーザ光源に対しては特開昭59−191032号、特
開昭60−80841号に記載されたトリカルボシアニ
ン類、特開昭59−192242号、特開平3−672
42号の一般式(IIIa)、一般式(IIIb)に記載され
た4−キノリン核を含有するジカルボシアニン類などが
有利に選択される。さらに赤外レーザ光源の波長が75
0nm以上、さらに好ましくは800nm以上である場
合このような波長域のレーザに対応されるためには、特
開平4−182639号、同5−341432号、特公
平6−52387号、同3−10931号、米国特許第
5,441,866号、特開平7−13295号等に記
載の増感色素が好ましく用いられる。これらの増感色素
は単独に用いてもよいが、それらの組合せを用いてもよ
く、増感色素の組合せは特に、強色増感の目的でしばし
ば用いられる。増感色素とともに、それ自身分光増感作
用をもたない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない
物質であって、強色増感を示す物質を乳剤中に含んでも
よい。本発明の熱現像感光材料の露光は、Arレーザ
(488nm)、He−Neレーザ(633nm)、赤
色半導体レーザ(670nm)、赤外半導体レーザ(7
80nm、820nm)などが好ましく用いられるが、
レーザパワーがハイパワーであることや、感光材料を透
明にできるなどの点から、赤外半導体レーザがより好ま
しく用いられる。
【0104】本発明には現像を抑制あるいは促進させ現
像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現
像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させるこ
とができる。
【0105】本発明にメルカプト化合物を使用する場
合、いかなる構造のものでも良いが、Ar−SM、Ar
−S−S−Arで表されるものが好ましい。式中、Mは
水素原子またはアルカリ金属原子であり、Arは1個以
上の窒素、イオウ、酸素、セレニウムまたはテルリウム
原子を有する芳香環または縮合芳香環を表す。
【0106】該芳香環としては、芳香族炭素環及び複素
芳香族環が用いられるが、本発明においては複素芳香族
環が好ましく用いられる。複素芳香族環としては、例え
ばベンゾイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾチ
アゾール、ナフトチアゾール、ベンゾオキサゾール、ナ
フトオキサゾール、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラ
ゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、ト
リアゾール、チアジアゾール、テトラゾール、トリアジ
ン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プ
リン、キノリンまたはキナゾリノンである。この複素芳
香族環は、例えば、ハロゲン原子(例えば、Brおよび
Cl等)、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシ基、ア
ルキル基(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1
〜4個の炭素原子を有するもの)およびアルコキシ基
(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1〜4個の
炭素原子を有するもの)からなる置換基群から選択され
るものを有してもよい。メルカプト置換複素芳香族化合
物としては、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−
メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾ
チアゾール、2−メルカプト−5−メチルベンゾチアゾ
ール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、2
−メルカプトキノリン、8−メルカプトプリン、2,
3,5,6−テトラクロロ−4−ピリジンチオール、4
−ヒドロキシ−2−メルカプトピリミジン、2−メルカ
プト−4−フェニルオキサゾールなどが挙げられるが、
本発明はこれらに限定されない。
【0107】本発明においては、感光性層側にマット剤
を含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防
止のためには感光材料の表面にマット剤を配することが
好ましく、そのマット剤を乳剤層側の全バインダーに対
し、重量比で0.5〜30%含有することが好ましい。
【0108】本発明に用いられる色調剤について説明す
る。
【0109】本発明の熱現像感光材料には、現像後の銀
色調を改良する目的で色調剤を添加することが好まし
い。好適な色調剤の例はResearch Discl
osure第17029号に開示されており、次のもの
がある。
【0110】イミド類(例えば、フタルイミド);環状
イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリノン
(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピラゾ
リン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾリン
及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイミド
類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミ
ド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミント
リフルオロアセテート)、メルカプタン類(例えば、3
−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N−(ア
ミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例えば、
N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);ブロッ
クされたピラゾール類、イソチウロニウム(isoth
iuronium)誘導体及びある種の光漂白剤の組み
合わせ(例えば、N,N′−ヘキサメチレン(1−カル
バモイル−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−
(3,6−ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウム
トリフルオロアセテート)、及び2−(トリブロモメチ
ルスルホニル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロ
シアニン染料(例えば、3−エチル−5−((3−エチ
ル−2−ベンゾチアゾリニリデン(ベンゾチアゾリニリ
デン))−1−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4
−オキサゾリジンジオン);フタラジノン、フタラジノ
ン誘導体またはこれらの誘導体の金属塩(例えば、4−
(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノ
ン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3
−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジノ
ンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ(例えば、6−ク
ロロフタラジノン+ベンゼンスルフィン酸ナトリウムま
たは8−メチルフタラジノン+p−トリスルホン酸ナト
リウム);フタラジン+フタル酸の組み合わせ;フタラ
ジン(フタラジンの付加物を含む)とマレイン酸無水
物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸ま
たはo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、
フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及
びテトラクロロフタル酸無水物)から選択される少なく
とも1つの化合物との組み合わせ;キナゾリンジオン
類、ベンゾオキサジン、ナルトキサジン誘導体;ベンゾ
オキサジン−2,4−ジオン類(例えば、1,3−ベン
ゾオキサジン−2,4−ジオン);ピリミジン類及び不
斉−トリアジン類(例えば、2,4−ジヒドロキシピリ
ミジン)、及びテトラアザペンタレン誘導体(例えば、
3,6−ジメルカプト−1,4−ジフェニル−1H,4
H−2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン)。好
ましい色調剤としてはフタラゾンまたはフタラジンであ
る。
【0111】本発明に用いられるカブリ防止剤について
説明する。
【0112】本発明の熱現像感光材料中にはカブリ防止
剤が含まれて良い。有効なカブリ防止剤として知られて
いるものは水銀イオンであり、感光材料中にカブリ防止
剤として水銀化合物を使用することについては、例えば
米国特許第3,589,903号に開示されている。し
かし、水銀化合物は環境的に好ましくないので、例えば
米国特許第4,546,075号及び同第4,452,
885号及び特開昭59−57234号に開示されてい
る様な非水銀カブリ防止剤が本発明においては好ましく
用いられる。
【0113】特に好ましい非水銀カブリ防止剤として
は、米国特許第3,874,946号及び同第4,75
6,999号に開示されているような化合物、−C(X
1)(X2)(X3)(ここでX1及びX2は、各々、ハロ
ゲン原子を表し、X3は水素またはハロゲン原子を表
す)で表される置換基を1以上備えたヘテロ環状化合物
が挙げられる。
【0114】その他に好適なカブリ防止剤としては、特
開平9−288328号の段落番号〔0030〕〜〔0
036〕に記載されている化合物、特開平9−9055
0号の段落番号〔0062〕〜〔0063〕に記載され
ている化合物、米国特許第5,028,523号及び欧
州特許第600,587号、同第605,981号、同
第631,176号等に開示されている化合物等を用い
ることが出来る。
【0115】本発明に用いられるマット剤について説明
する。
【0116】本発明においては、バッキング層と保護層
の両方にマット剤を含有することが好ましく、本発明の
寸法の繰り返し精度を高めるには、ポリマーマット剤ま
たは無機マット剤を乳剤層側の全バインダーに対し、重
量比で0.5〜10%含有することが好ましい。
【0117】本発明に用いられるマット剤の材質は有機
物及び無機物のいずれでもよい。
【0118】例えば、無機物としては、スイス特許第3
30,158号等に記載のシリカ、仏国特許第1,29
6,995号等に記載のガラス粉、英国特許第1,17
3,181号等に記載のアルカリ土類金属またはカドミ
ウム、亜鉛等の炭酸塩等をマット剤として用いることが
できる。有機物としては、米国特許第2,322,03
7号等に記載の澱粉、ベルギー特許第625,451号
や英国特許第981,198号等に記載された澱粉誘導
体、特公昭44−3643号等に記載のポリビニルアル
コール、スイス特許第330,158号等に記載のポリ
スチレン或いはポリメタクリレート、米国特許第3,0
79,257号等に記載のポリアクリロニトリル、米国
特許第3,022,169号等に記載されたポリカーボ
ネートの様な有機マット剤を用いることができる。
【0119】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
も良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。本発明においてマット剤の粒
径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。
【0120】本発明に用いられるマット剤は、平均粒径
が0.5μm〜10μmであることが好ましく、更に好
ましくは1.0μm〜8.0μmである。又、粒子サイ
ズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好
ましく、更に好ましくは40%以下であり、特に好まし
くは30%以下となるマット剤である。
【0121】ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下
記の式で表される値である。
【0122】 (粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100 本発明に用いられるマット剤は任意の構成層中に含むこ
とができるが、本発明の目的を達成するためには好まし
くは感光性層以外の構成層であり、更に好ましくは支持
体から見て最も外側の層である。
【0123】本発明に用いられるマット剤の添加方法
は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であっても
よいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマ
ット剤を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類
のマット剤を添加する場合は、両方の方法を併用しても
よい。
【0124】本発明に用いられるバインダーについて説
明する。
【0125】本発明の熱現像感光材料に好適なバインダ
ーは透明または半透明で、一般に無色であり、天然ポリ
マー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィル
ムを形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、
ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、
セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレー
ト、ポリビニルピロリドン、カゼイン、デンプン、ポリ
アクリル酸、ポリメチルメタクリル酸、ポリ塩化ビニ
ル、ポリメタクリル酸、コポリ(スチレン−無水マレイ
ン酸)、コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポ
リ(スチレン−ブタジエン)、ポリビニルアセタール類
(例えば、ポリビニルホルマール及びポリビニルブチラ
ール、ポリエステル類、ポリウレタン類、フェノキシ樹
脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリエポキシド類、ポリカー
ボネート類、ポリビニルアセテート、セルロースエステ
ル類、ポリアミド類がある。例えば、セルロースアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート、コポリ(スチ
レン−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジ
エン)、ポリビニルホルマール及びポリビニルブチラー
ル等が好ましく用いることができる。これらのポリマー
のガラス転移点は、30〜300℃のいずれのものも用
いることはできるが好ましくは70℃以上である。また
バッキング層、保護層に用いられる場合は、ガラス転移
温度が高い方がよく、好ましくは100℃以上、よりこ
のましくは120℃以上である。
【0126】本発明の熱現像感光材料に好適なバインダ
ーは、重量平均分子量で2000〜1000000の物
であればいずれも好ましく用いることができるが、好ま
しくは、10000以上である。本発明の熱現像感光材
料に用いられるバインダーとしては、親水性ポリマーで
も非親水性ポリマーでもよいが、好ましくは非親水性ポ
リマーである。
【0127】本発明においては、感光性層のバインダー
量が1.5〜6g/m2であることが好ましい。さらに
好ましくは1.7〜5g/m2である。
【0128】本発明において用いられる硬膜剤について
説明する。
【0129】本発明においては、感光性層、保護層、バ
ック層等各層には硬膜剤を用いても良い。本発明で用い
ることができる硬膜剤としては、エポキシ系、アジリジ
ン系、イソシアネート系、ビニルスルホン系などが挙げ
られる。イソシアネート系の硬膜剤としては、トリレン
ジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリ
レンジイソシアネートなどのイソシアネート類、これら
イソシアネート類とポリアルコールとの反応生成物(例
えばトリレンジイソシアネートとトリメチロールプロパ
ンの反応生成物)、及びこれらイソシアネート類の縮合
により生成したポリイソシアネートなどが挙げられる。
【0130】また、本発明においては、米国特許第4,
281,060号、特開平6−208193号等に記載
のイソシアネート化合物、米国特許第3,017,28
0号、特開平9−5916号等に記載のアジリジン化合
物、特開平10−186561号、同9−5916号、
米国特許第4,791,042号等に記載のエポキシ化
合物、米国特許第3,100,704号に記載のカルボ
ジイミド化合物、特開昭62−8904号に記載のビニ
ルスルホン系化合物等の硬膜剤を用いることが出来る。
【0131】本発明で用いられる硬膜剤の塗布量として
は、バインダーに対して0.3〜100wt%であるこ
とが好ましい。より好ましくは、1〜30wt%であ
り、特に好ましくは1〜10wt%である。本発明で用
いられる硬膜剤が十分に硬膜するためには50℃以上で
1〜72時間の加熱乾燥を行うことが好ましいが、特に
バッキング層に添加した場合は、70℃以上の温度で1
〜20分の加熱処理をしてやることが好ましい。
【0132】本発明に用いられる滑り剤について説明す
る。
【0133】本発明においては、裏面層及び/または保
護層に滑り剤を用いることもできる。本発明で用いられ
る滑り剤としては、例えば、特公昭53−292号公報
に開示されているようなポリオルガノシロキサン、米国
特許第4,275,146号に開示されているような高
級脂肪酸アミド、特公昭58−33541号、英国特許
第927,446号或いは特開昭55−126238号
及び同58−90633号に開示されているような高級
脂肪酸エステル(炭素数10〜24の脂肪酸と炭素数1
0〜24のアルコールのエステル)、そして、米国特許
第3,933,516号に開示されているような高級脂
肪酸金属塩、また、特開昭58−50534号に開示さ
れているような、直鎖高級脂肪酸と直鎖高級アルコール
のエステル、世界公開90108115.8に開示され
ているような分岐アルキル基を含む高級脂肪酸−高級ア
ルコールエステル等を用いることが出来る。
【0134】これらはまた天然物である油脂ワックスや
オイルも使用でき、例えばモンタン酸エステル、カウナ
バロウワックス、蜜蝋などを挙げることができる。
【0135】ポリオルガノシロキサンとしては、一般的
に知られている、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチ
ルシロキサン等のポリアルキルシロキサン、ポリジフェ
ニルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン等のポ
リアリールシロキサンのほかに、特公昭53−292、
特公昭55−49294、特開昭60−140341等
に示されるような、C5以上のアルキル基を持つオルガ
ノポリシロキサン、側鎖にポリオキシアルキレン基を有
するアルキルポリシロキサン、側鎖にアルコキシ、ヒド
ロキシ、水素、カルボキシル、アミノ、メルカプト基を
有するようなオルガノポリシロキサン等の変性ポリシロ
キサンを用いることもできるし、シロキサンユニットを
有するブロックコポリマーや、特開昭60−19124
0に示されるようなシロキサンユニットを側鎖に持つグ
ラフトコポリマーを用いることもできる。本発明で好ま
しい滑り剤の一つとしてポリオルガノシロキサンがあ
り、より好ましくはポリジメチルシロキサン、ポリジエ
チルシロキサン等のポリアルキルシロキサン、ポリジフ
ェニルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン等の
ポリアリールシロキサンである。また高級脂肪酸及びそ
の誘導体、高級アルコール及びその誘導体も好ましい滑
り剤である。
【0136】このような滑り剤を用いることにより、引
っかき強度にすぐれた感光材料を得ることができる。上
述の好ましい高級脂肪酸及びその誘導体、高級アルコー
ル及びその誘導体としては、高級脂肪酸の金属塩、高級
脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド、高級脂肪酸の多価
アルコールエステル等、また、高級脂肪族アルコール、
高級脂肪族アルコールのモノアルキルフォスファイト、
ジアルキルフォスファイト、トリアルキルフォスファイ
ト、モノアルキルフォスフェート、ジアルキルフォスフ
ェート、トリアルキルフォスフェート、高級脂肪族のア
ルキルスルフォン酸、そのアミド化合物またはその塩等
を用いることができる。
【0137】本発明に用いられる支持体について説明す
る。
【0138】本発明に用いられる支持体としては、種々
のものを利用することができる。例えば、ポリエステ
ル、硝酸セルロース、セルロースエステル、ポリビニル
アセタール、ポリカーボネート、ポリスチレン等の樹脂
フィルムの他にガラスなども挙げることができ、中でも
ポリエステルが好ましい。ポリエステルはジオールと芳
香族ジカルボン酸を必須成分として形成され、芳香族ジ
カルボン酸として2,6−、1,5−、1,4−、及び
2,7−ナフタレンジカルボン酸、テレフタル酸、イソ
フタル酸、フタル酸、ジオールとしてジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、シクロヘキサンジメタ
ノール、ビスフェノールA、ビスフェノールが挙げられ
る。この重合ポリマーとしては、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリシクロヘキサ
ンジメタノールテレフタレート等のホモポリマーを挙げ
ることができる。
【0139】特に好ましいのは2,6−ナフタレンジカ
ルボン酸を50モル%〜100モル%含むポリエステル
である。平均分子量の範囲は約5,000〜200,0
00である。本発明に用いられるポリエステルのガラス
転移点(Tg)は50℃以上であり、さらに90℃以上
200℃以下が好ましい。また本発明に用いられる支持
体は60μm以上200μm以下で用いることが好まし
い。
【0140】本発明に用いられるポリエステル支持体
は、巻き癖をつきにくくするために熱処理温度は40℃
以上Tg未満、より好ましくはTg−20℃以上Tg未
満で熱処理を行う。熱処理はこの温度範囲内の一定温度
で実施してもよく、冷却しながら熱処理してもよい。こ
の熱処理時間は、0.1時間以上1500時間以下、さ
らに好ましくは0.5時間以上200時間以下である。
支持体の熱処理は、ロール状で実施してもよく、またウ
ェブ状で搬送しながら実施してもよい。表面に凹凸を付
与し(例えばSnO2やSb25等の導電性無機微粒子
を塗布する)、面状改良を図ってもよい。又端部にロー
レットを付与し端部のみ少し高くすることで巻芯部の切
り口写りを防止するなどの工夫を行うことが望ましい。
これらの熱処理は支持体製膜後、表面処理後、バック層
塗布後(帯電防止剤、滑り剤等)、下塗り塗布後のどこ
の段階で実施してもよい。好ましいのは帯電防止剤塗布
後である。このポリエステルには紫外線吸収剤を練り込
んでも良い。
【0141】本発明では支持体と感材構成層を接着させ
るために、表面処理することが好ましい。薬品処理、機
械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線処理、高
周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザ
処理、混酸処理、オゾン酸化処理、などの表面活性化処
理が挙げられる。表面処理の中でも好ましいのは、紫外
線照射処理、火焔処理、コロナ処理、グロー処理であ
る。次に下塗法について述べると、単層でもよく2層以
上でもよい。下塗層用バインダーとしては、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、ブタジエン、メタクリル酸、アク
リル酸、イタコン酸、無水マレイン酸などの中から選ば
れた単量体を出発原料とする共重合体を始めとして、ポ
リエチレンイミン、エポキシ樹脂、グラフト化ゼラチ
ン、ニトロセルロース、ゼラチンが挙げられる。支持体
を膨潤させる化合物としてレゾルシンとp−クロルフェ
ノールがある。下塗層にはゼラチン硬化剤としてはクロ
ム塩(クロム明ばんなど)、アルデヒド類(ホルムアル
デヒド、グルタールアルデヒドなど)、イソシアネート
類、活性ハロゲン化合物(2,4−ジクロロ−6−ヒド
ロキシ−S−トリアジンなど)、エピクロルヒドリン樹
脂、活性ビニルスルホン化合物などを挙げることができ
る。SiO2、TiO2、無機物微粒子またはポリメチル
メタクリレート共重合体微粒子(0.01?10μm)
をマット剤として含有させてもよい。
【0142】本発明で用いられる支持体は現像処理後の
画像の変形を防ぐためにプラスチックフイルム(例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリイミド、ナイロン、セルローストリアセテート、ポ
リエチレンナフタレート等)が好ましい。
【0143】中でも好ましい支持体としては、ポリエチ
レンテレフタレート(以下PETと略す)及びシンジオ
タクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプラス
チック(以下SPSと略す)の支持体が挙げられる。支
持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ましくは
70〜180μmである。
【0144】また熱処理したプラスチック支持体を用い
ることもできる。採用するプラスチックとしては、前記
のプラスチックが挙げられる。支持体の熱処理とはこれ
らの支持体を製膜後、感光性層が塗布されるまでの間
に、支持体のガラス転移点より30℃以上高い温度で、
好ましくは35℃以上高い温度で、更に好ましくは40
℃以上高い温度で加熱することがよい。但し、支持体の
融点を超えた温度で加熱しては本発明の効果は得られな
い。
【0145】次に、本発明に用いられるプラスチックに
ついて説明する。
【0146】PETはポリエステルの成分が全てポリエ
チレンテレフタレートからなるものであるが、ポリエチ
レンテレフタレート以外に、酸成分としてテレフタル
酸、ナフタレン−2,6−ジカルボン酸、イソフタル
酸、ブチレンジカルボン酸、5−ナトリウムスルホイソ
フタル酸、アジピン酸等と、グリコール成分としてエチ
レングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオー
ル、シクロヘキサンジメタノール等との変性ポリエステ
ル成分が全ポリエステルの10モル%以下含まれたポリ
エステルであってもよい。
【0147】SPSは通常のポリスチレン(アタクチッ
クポリスチレン)と異なり立体的に規則性を有したポリ
スチレンである。SPSの規則的な立体規則性構造部分
をラセモ連鎖といい、2連鎖、3連鎖、5連鎖、あるい
はそれ以上と規則的な部分がより多くあることが好まし
く、本発明において、ラセモ連鎖は、2連鎖で85%以
上、3連鎖で75%以上、5連鎖で50%以上、それ以
上の連鎖で30%以上であることが好ましい。SPSの
重合は特開平3−131843号明細書記載の方法に準
じて行うことが出来る。
【0148】本発明に用いられる支持体の製膜方法及び
下引製造方法は公知の方法を用いることができるが、好
ましくは、特開平9−50094号の段落〔0030〕
〜〔0070〕に記載された方法を用いることである。
【0149】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理に
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀
塩)、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を通常(有機)バインダーマト
リックス中に分散した状態で含有している熱現像感光材
料であることが好ましい。本発明の熱現像感光材料は常
温で安定であるが、露光後高温(例えば、80℃〜14
0℃)に加熱することで現像される。加熱することで有
機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化
還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露
光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成し
た銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をな
し、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部から
水等の処理液を供給することなしで進行する。
【0150】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも一層の感光性層を有している。支持体の上に感光
性層のみを形成しても良いが、感光性層の上に少なくと
も1層の非感光性層を形成することが好ましい。感光性
層に通過する光の量または波長分布を制御するために感
光性層と同じ側にフィルター染料層および/または反対
側にアンチハレーション染料層、いわゆるバッキング層
を形成しても良いし、感光性層に染料または顔料を含ま
せても良い。用いられる染料としては所望の波長範囲で
目的の吸収を有するものであればいかなる化合物でも良
いが、例えば特開昭59−6481号、特開昭59−1
82436号、米国特許第4,271,263号、米国
特許第4,594,312号、欧州特許公開533,0
08号、欧州特許公開652,473号、特開平2−2
16140号、特開平4−348339号、特開平7−
191432号、特開平7−301890号などに記載
の化合物が好ましく用いられる。
【0151】またこれらの非感光性層には前記のバイン
ダーやマット剤を含有することが好ましく、さらにポリ
シロキサン化合物やワックスや流動パラフィンのような
スベリ剤を含有してもよい。
【0152】感光性層は複数層にしても良く、また階調
の調節のため感度を高感層/低感層または低感層/高感
層にしても良い。
【0153】熱現像感光材料の詳細は前述のとおり例え
ば米国特許第3,152,904号、同第3,457,
075号、及びD.モーガン(Morgan)による
「ドライシルバー写真材料(Dry Silver P
hotographic Material)」やD.
モーガン(Morgan)とB.シェリー(Shel
y)による「熱によって処理される銀システム(The
rmally Processed Silver S
ystems)」(イメージング・プロセッシーズ・ア
ンド・マテリアルズ(Imaging Process
es and Materials)Neblette
第8版、スタージ(Sturge)、V.ウォールワ
ース(Walworth)、A.シェップ(Shep
p)編集、第2頁、1969年)等に開示されている。
その中でも本発明においては、感光材料を80〜140
℃で熱現像することで画像を形成させ、定着を行わない
ことが特徴である。そのため、未露光部に残ったハロゲ
ン化銀や有機銀塩は除去されずにそのまま感光材料中に
残る。
【0154】本発明においては、熱現像処理した後の、
400nmにおける支持体を含んだ感光材料の光学透過
濃度が0.2以下であることが好ましい。光学透過濃度
の更に好ましい値は0.02以上0.2以下である。
【0155】本発明においては帯電性を改良するために
金属酸化物および/または導電性ポリマーなどの導電性
化合物を構成層中に含ませることができる。これらはい
ずれの層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、バ
ッキング層、感光性層と下引の間の層などに含まれる。
【0156】本発明においては米国特許第5,244,
773号カラム14〜20に記載された導電性化合物が
好ましく用いられる。
【0157】各種の添加剤は感光性層、非感光性層、ま
たはその他の構成層のいずれに添加しても良い。本発明
の熱現像感光材料には上述した以外に例えば、界面活性
剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被
覆助剤等を用いても良い。これらの添加剤及び上述した
その他の添加剤はResearch Disclosu
re Item17029(1978年6月、p.9〜
15)に記載されている化合物を好ましく用いることが
できる。
【0158】本発明の熱現像感光材料が特に600〜8
00nmに発振波長を有する印刷用イメージセッタの出
力用の熱現像感光材料である場合、ヒドラジン化合物が
感材中に含有されることが好ましい。本発明に用いられ
る好ましいヒドラジン化合物としてはResearch
Disclosure Item23516(198
3年11月号、P.346)およびそこに引用された文
献の他、米国特許第4,080,207号、同第4,2
69,929号、同第4,276,364号、同第4,
278,748号、同第4,385,108号、同第
4,459,347号、同第4,478,928号、同
第4,560,638号、同第4,686,167号、
同第4,912,016号、同第4,988,604
号、同第4,994,365号、同第5,041,35
5号、同第5,104,769号、英国特許第2,01
1,391B号、欧州特許第217,310号、同第3
01,799号、同第356,898号、特開昭60−
179734号、同61−170733号、同61−2
70744号、同62−178246号、同62−27
0948号、同63−29751号、同63−3253
8号、同63−104047号、同63−121838
号、同63−129337号、同63−223744
号、同63−234244号、同63−234245
号、同63−234246号、同63−294552
号、同63−306438号、同64−10233号、
特開平1−90439号、同1−100530号、同1
−105941号、同1−105943号、同1−27
6128号、同1−280747号、同1−28354
8号、同1−283549号、同1−285940号、
同2−2541号、同2−77057号、同2−139
538号、同2−196234号、同2−196235
号、同2−198440号、同2−198441号、同
2−198442号、同2−220042号、同2−2
21953号、同2−221954号、同2−2853
42号、同2−285343号、同2−289843
号、同2−302750号、同2−304550号、同
3−37642号、同3−54549号、同3−125
134号、同3−184039号、同3−240036
号、同3−240037号、同3−259240号、同
3−280038号、同3−282536号、同4−5
1143号、同4−56842号、同4−84134
号、同2−230233号、同4−96053号、同4
−216544号、同5−45761号、同5−457
62号、同5−45763号、同5−45764号、同
5−45765号、同6−289524号、同9−16
0164号等に記載されたものを挙げることができる。
【0159】またこの他にも特公平6−77138号に
記載の(化1)で表される化合物で、具体的には同公報
3頁、4頁に記載の化合物、特公平6−93082号に
記載の一般式(I)で表される化合物、具体的には同公
報8頁〜18頁に記載の1〜38の化合物、特開平6−
230497号に記載の一般式(4)、一般式(5)お
よび一般式(6)で表される化合物で、具体的には同公
報25頁、26頁に記載の化合物4−1〜化合物4−1
0、28頁〜36頁に記載の化合物5−1〜5−42、
および39頁、40頁に記載の化合物6−1〜化合物6
−7、特開平6−289520号に記載の一般式(I)
および一般式(2)で表される化合物、具体的には同公
報5頁〜7頁に記載の化合物1−1)〜1−17)およ
び2−1)。特開平6−313936号に記載の(化
2)および(化3)で表される化合物で、具体的には同
公報6頁〜19頁に記載の化合物、特開平6−3139
51号に記載の(化1)で表される化合物で、具体的に
は同公報3頁〜5頁に記載の化合物。特開平7−561
0号に記載の一般式(I)で表される化合物で、具体的
には同公報5頁〜10頁に記載の化合物I−1〜I−3
8、特開平7−77783号に記載の一般式(II)で表
される化合物で、具体的には同公報10頁〜27頁に記
載の化合物II−1〜II−102。特開平7−10442
6号に記載の一般式(H)および一般式(Ha)で表さ
れる化合物で、具体的には同公報8頁〜15頁に記載の
化合物H−1〜H−44等を用いることができる。
【0160】本発明の熱現像感光材料は常温で安定であ
るが、露光後高温に加熱することで現像される。加熱温
度としては80℃以上200℃以下が好ましく、更に好
ましくは100℃以上150℃以下である。加熱温度が
80℃以下では短時間で十分な画像濃度が得られず、ま
た200℃以上ではバインダーが溶融し、ローラーへの
転写など、画像そのものや搬送性にも悪影響を及ぼし好
ましくない。加熱することで有機銀塩(酸化剤として機
能する)と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生
成する。この酸化還元反応は露光でハロゲン化銀に発生
した潜像の触媒作用によって促進される。露光領域中の
有機銀塩の反応によって生成した銀は黒色画像を提供
し、これは非露光領域と対照をなし、画像の形成がなさ
れる。この反応過程は、外部から水等の処理液を供給す
ることなしで進行する。
【0161】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも一層の感光性層を有し、支持体の上に感光性層の
みを形成しても良いが、感光性層の上に少なくとも1層
の非感光性層を形成することが好ましい。感光性層に通
過する光の量または波長分布を制御するために感光性層
と同じ側または反対側にフィルター層を形成しても良い
し、感光性層に染料または顔料を含ませても良い。染料
としては特願平7−11184号の化合物が好ましい。
感光性層は複数層にしても良く、また階調の調節のため
感度を高感層/低感層または低感層/高感層にしても良
い。各種の添加剤は感光性層、非感光性層、またはその
他の形成層のいずれに添加しても良い。本発明の熱現像
感光材料には例えば、界面活性剤、酸化防止剤、安定化
剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用いても良
い。
【0162】
【実施例】実施例1 《下引済み写真用支持体の作製》濃度0.170(濃度
計PDA−65(コニカ(株)製)で測定)に青色着色
した、厚み175μmのPETフィルムの両面に8W/
2・分のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引
塗布液a−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設し
乾燥させて下引層A−1とし、また反対側の面に下記帯
電防止加工した下引塗布液b−1を乾燥膜厚0.8μm
になるように塗設し乾燥させて帯電防止加工下引層B−
1とした。
【0163】 《下引塗布液a−1》 ブチルアクリレート(30重量%) t−ブチルアクリレート(20重量%) スチレン(25重量%) 2−ヒドロキシエチルアクリレート(25重量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g コロイダルシリカ(平均粒径90μm) 0.1g 水で1リットルに仕上げる 《下引塗布液b−1》 SnO2/Sb(9/1重量比、平均粒径0.18μm) 200mg/m2になる量 ブチルアクリレート(30重量%) スチレン(20重量%) グリシジルアクリレート(40重量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1リットルに仕上げる 引き続き、下引層A−1及び下引層B−1の上表面に、
8W/m2・分のコロナ放電を施し、下引層A−1の上
には、下記下引上層塗布液a−2を乾燥膜厚0.1μm
になる様に下引層A−2として、下引層B−1の上には
下記下引上層塗布液b−2を乾燥膜厚0.8μmになる
様に帯電防止機能をもつ下引上層B−2として塗設し
た。
【0164】 《下引上層塗布液a−2》 ゼラチン 0.4g/m2になる重量 (C−1) 0.2g (C−2) 0.2g (C−3) 0.1g シリカ粒子(平均粒径3μm) 0.1g 水で1リットルに仕上げる 《下引上層塗布液b−2》 (C−4) 60g (C−5)を成分とするラテックス液(固形分20%) 80g 硫酸アンモニウム 0.5g (C−6) 12g ポリエチレングリコール(重量平均分子量600) 6g 水で1リットルに仕上げる
【0165】
【化22】
【0166】
【化23】
【0167】《支持体の熱処理》上記の下引済み支持体
の下引乾燥工程において、支持体を140℃で加熱し、
その後徐々に冷却した。
【0168】《バック面側塗布》下記構成のバック面塗
布液を調製し、下記付き量になるように押し出しコータ
ーにて塗布乾燥を行った。乾燥温度75℃、露点温度1
0℃の乾燥風を用いて5分間かけて乾燥した。更に温度
を100℃まで上昇し、2分間熱処理を行った。
【0169】 メチルエチルケトン 26.5ml/m2 CAB381−20 3.5g/m2 (イーストマンケミカル社、セルロースアセテート・ブチレート) バイロン200(東洋紡、ポリエステル) 250mg/m2 赤外染料1 15mg/m2 サイリシア440(富士サイリシア、コロイダルシリカ) 20mg/m2 Desmodur N3300 10%MEK溶液 5.3ml/m2 (モーベイ社、脂肪族イソシアネート) 非イオン性含フッ素界面活性剤 表1に記載 無機塩または有機塩 表1に記載 《感光層側塗布》 《感光性ハロゲン化銀乳剤Aの調製》水900ml中に
平均分子量10万のオセインゼラチン7.5g及び臭化
カリウム10mgを溶解して温度35℃、pHを3.0
に合わせた後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと
(98/2)のモル比の臭化カリウムと沃化カリウム
(硝酸銀と等モル量)を含む水溶液370ml及び塩化
イリジウムを銀1モル当たり1×10-4モルを、pAg
7.7に保ちながらコントロールドダブルジェット法で
10分間かけて添加した。その後4−ヒドロキシ−6−
メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン0.3g
を添加しNaOHでpHを5に調整して平均粒子サイズ
0.06μm、粒子サイズの変動係数12%、〔10
0〕面比率87%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳
剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後フ
ェノキシエタノール0.1gを加え、pH5.9、pA
g7.5に調整して、感光性ハロゲン化銀乳剤Aを得
た。
【0170】《粉末有機銀塩Aの調製》9450mlの
純水にベヘン酸324g、アラキジン酸99g、ステア
リン酸56gを80℃で溶解した。次に高速で撹拌しな
がら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液980mlを添
加した。次に濃硝酸9.3mlを加えた後、55℃に冷
却して30分撹拌させて前記ハロゲン化銀乳剤(銀量と
して0.9モルおよび水1400gを含有)を5秒間で
添加し5分間撹拌した後に1Mの硝酸銀溶液1470m
lを2分間かけて加え、さらに20分撹拌し、濾過によ
り水溶性塩を除去した。その後、濾液の電導度が2μS
/cmになるまで脱イオン水による水洗、濾過を繰り返
し、遠心脱水を実施した後、37℃にて重量減がなくな
るまで温風乾燥を行い、粉末有機銀塩Aを得た。
【0171】《感光性乳剤分散液の調製》ポリビニルブ
チラール粉末(Monsanto社 Butvar B
−79)14.57gをメチルエチルケトン1457g
に溶解し、ディゾルバー型ホモジナイザにて撹拌しなが
ら粉末有機銀塩A500gを徐々に添加して十分に混合
した。その後1mm径のZrビーズ(東レ製)を80%
充填したメディア型分散機(gettzmann社製)
にて周速13m、ミル内滞留時間を3分間として感光性
乳剤分散液を得た。
【0172】《赤外増感色素液の調製》350mgの赤
外増感色素1、13.96gの2−クロロ−安息香酸お
よび2.14gの5−メチル−2−メルカプトベンズイ
ミダゾールをメタノール73.4mlに暗所にて溶解し
赤外増感色素液を調製した。
【0173】《安定剤液の調製》1.0gの安定剤1、
0.5gの酢酸カリウムをメタノール8.5gに溶解し
安定剤液を調製した。
【0174】《現像剤液の調製》還元剤A−4(現像剤
1)17.74gをMEK(メチルエチルケトン)に溶
解し、100mlに仕上げ、現像剤液とした。
【0175】《かぶり防止剤液の調製》5.31gのか
ぶり防止剤2をMEKに溶解し、100mlに仕上げ、
かぶり防止剤液とした。
【0176】《感光層塗布液の調製》前記感光性乳剤分
散液(50g)およびMEK15.11gを撹拌しなが
ら21℃に保温し、かぶり防止剤1(10%メタノール
溶液)390μlを加え、1時間撹拌した。さらに臭化
カルシウム(10%メタノール溶液)889μlを添加
して30分撹拌した。次に、赤外増感色素液1.416
mlおよび安定剤液667μlを添加して1時間撹拌し
た後に温度を13℃まで降温してさらに30分撹拌し
た。13℃に保温したまま、ポリビニルブチラール(M
onsanto社Butvar B−79)13.31
gを添加して30分撹拌してから、さらに撹拌を続けな
がら以下の添加物を15分間隔で添加した。
【0177】 フタラジン: 305mg テトラクロロフタル酸: 102mg 4−メチルフタル酸: 137mg 赤外染料1: 37mg 上記を添加し15分撹拌した後、 かぶり防止剤液: 5.47ml 現像剤液: 14.06ml DesmodurN3300 10%MEK溶液: 1.60ml (モーベイ社、脂肪族イソシアネート)を順次添加し撹
拌することにより感光層塗布液を得た。
【0178】《表面保護層塗布液》以下の組成の液を作
製した。
【0179】 メチルエチルケトン 17ml/m2 CAB170−15 2.3g/m2 (イーストマンケミカル社、セルロースアセテート・ブチレート) フタラジン 250mg/m2 パラロイドA21(ローム&ハース社、PMMA) 100mg/m2 サイリシア310(富士サイリシア、コロイダルシリカ) 10mg/m2 CH2=CHSO2CH2CH(OH)CH2SO2CH=CH2 35mg/m2 DesmodurN3300 10%MEK溶液 3.2ml/m2 (モーベイ社、脂肪族イソシアネート) 非イオン性界面活性剤 表1に記載 無機塩または有機塩 表1に記載
【0180】
【化24】
【0181】
【化25】
【0182】上記記載の感光層塗布液と表面保護層塗布
液をエクストリュージョンコーターを用いて同時重層塗
布を行った。感光層は塗布銀量2.4g/m2になる様
に毎分20mの速度で塗布した。その後、乾燥温度75
℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて、10分間乾燥を
行った。
【0183】
【表1】
【0184】POE1(比較化合物):ポリエチレング
リコール(MW=1,000) 比較化合物B:(N−ブチルパーフルオロオクタンスル
ホンアミドエチルアクリレート/ポリ(オキシアルキレ
ン)アクリレート(6/4)共重合体)(MW=15,
000) 比較化合物C:C715SO3 -・NH3 +(CH2CH
2O)12CH2CH2NH3 +-SO3715 《フィルム中溶媒含有量の測定》フィルム面積として4
6.3cm2を切り出し、これを5mm程度に細かく刻
んで専用バイアル瓶に収納しセプタムとアルミキャップ
で密閉した後、ヒューレット・パッカード社製ヘッドス
ペースサンプラーHP7694型にセットした。
【0185】ヘッドスペースサンプラーと接続したガス
クロマトグラフィー(GC)は検出器として水素炎イオ
ン化検出器(FID)を装着したヒューレット・パッカ
ード社製5971型を使用した。主な測定条件は下記の
通りである。
【0186】 ヘッドスペースサンプラー加熱条件:120℃、20分 GC導入温度:150℃ カラム:J&W社製 DB−624 昇温プログラム:45℃、3分保持後→100℃(昇温
速度:8℃/分) 上記の測定条件を用いてガスクロマトグラムを得た。測
定対象溶媒はMEK(メチルエチルケトン)、メタノー
ルとし、左記溶媒の各々ブタノールにて希釈された一定
量を専用バイアル瓶に収納した後、上記と同様に測定し
て得られたクロマトグラムのピーク面積を用いて作成し
た検量線を使用してフィルム中溶媒含有量を得た。
【0187】今回のサンプルを測定した結果、全てのサ
ンプルにおいて、フィルム中の溶媒含有量は500mg
/m2以下であった。
【0188】《相対感度の評価》上記のように作製した
感光材料の乳剤面側から、高周波重畳にて波長800n
m〜820nmの縦マルチモード化された半導体レーザ
を露光源とした露光機によりレーザ走査による露光を与
えた。この際に、感光材料の露光面と露光レーザ光の角
度を75度として画像を形成した(なお、当該角度を9
0度とした場合に比べて、ムラが少なく、かつ予想外に
鮮鋭性等が良好な画像が得られた。)。
【0189】その後、ヒートドラムを有する自動現像機
を用いて感光材料の保護層とドラム表面が接触するよう
にして、110℃で15秒熱現像処理した。その際、露
光及び現像は23℃、50%RHに調湿した部屋で行っ
た。得られた画像の評価を濃度計により行った。測定の
結果は、感度(未露光部分よりも1.0高い濃度を与え
る露光量の比の逆数)およびカブリで評価し、感光材料
109の感度を100とする相対値で下記表2に示し
た。
【0190】《塗布性評価》濃度計PDA−65(コニ
カ(株)製)で測定したときの濃度1となるように露光
現像をし、1mm毎に塗布の巾方向に濃度測定を行いそ
の濃度の標準偏差に100をかけた数値を下記表2に示
した。
【0191】《膜付き(接着性)の評価》実施例1で作
製した熱現像感光材料を25cm×30cmに切断して
23℃、80%RHの条件で12時間調湿した後、画像
形成層とは反対側の面にカッターで斜めにキズをつけ、
その上にスコッチテープをしっかり貼り、次いで勢いよ
くスコッチテープをはがし、そのはがれ具合を目視評価
で5ランク評価した。全くはがれなかったものを5ラン
クとして、はがれ具合が大きくなるにつれ数字を下げて
いった。1ランクは完全に支持体が見える状態である。
【0192】《搬送性試験》熱現像処理を連続して10
0枚行い、その時に搬送不良をおこした枚数をカウント
した。
【0193】《保存性の評価》上記のように作製した感
光材料を乳剤面とBC面を各々合わせて重ねて、1kg
重の重しを載せて固定し、保存用のサンプルを作製し
た。これを2つに分け、一方を経時代用評価用として、
50℃、60%RHのサーモ機に5日間投入し、もう一
方を25℃、60%RHで保存した。
【0194】その後、これらのサンプルを上記と同様に
露光現像し、最小濃度(Dmin:未露光部分の濃度)
の変化と感度の変化を評価した。(感度評価のデータに
ついては、25℃、60%RHで保存した感光材料10
9の感度を100としたときの相対値の変化幅で示し
た。)
【0195】
【表2】
【0196】表2から、本発明に用いられる非イオン性
含フッ素界面活性剤及び無機塩または有機塩とを併用し
た本発明の試料は、比較試料と比べて、塗布性、膜付き
(接着性)、現像処理時の搬送性等に優れた特性を示
し、且つ、保存時の経時変動が小さく、熱現像処理条件
変化時の性能変動が極めて少ないことが明らかである。
【0197】
【発明の効果】現像時の搬送性が向上し、保存後の経時
変動に対する性能変動の少ない熱現像感光材料及びその
製造方法を提供する事が出来た。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上に有機銀塩粒子を含有する画像
    形成層を少なくとも1層有し、且つ、該画像形成層側の
    構成層の少なくとも1層が還元剤を含有する熱現像感光
    材料において、少なくとも1種の非イオン性含フッ素界
    面活性剤と少なくとも1種の無機塩または有機塩を含有
    することを特徴とする熱現像感光材料。
  2. 【請求項2】 無機塩がアルカリ金属類またはアルカリ
    土類金属からなる塩であることを特徴とする請求項1に
    記載の熱現像感光材料。
  3. 【請求項3】 有機塩がイオン性界面活性剤であること
    を特徴とする請求項1に記載の熱現像感光材料。
  4. 【請求項4】 イオン性界面活性剤として、少なくとも
    1種のフッ素系イオン性界面活性剤を含有することを特
    徴とする請求項3に記載の熱現像感光材料。
  5. 【請求項5】 イオン性界面活性剤として、少なくとも
    1種のアニオン性界面活性剤及び少なくとも1種のカチ
    オン性界面活性剤を含有することを特徴とする請求項1
    〜4のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
  6. 【請求項6】 カチオン性界面活性剤及びアニオン性界
    面活性剤が、各々、フッ素系カチオン性界面活性剤、フ
    ッ素系アニオン性界面活性剤であることを特徴とする請
    求項5に記載の熱現像感光材料。
  7. 【請求項7】 非イオン性含フッ素界面活性剤が、下記
    一般式(1)で表される化合物であることを特徴とする
    請求項1〜6のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。 一般式(1) Rf1−(A)n−Rf2 〔式中、Rf1、Rf2は、各々、少なくとも一つのフッ
    素含有脂肪族基を有する基、Aは少なくとも一つのアル
    キレンオキサイド基を有する基、nは1以上の整数を表
    し、Rf1、Rf2は、各々、同じでも異なっても良
    い。〕
  8. 【請求項8】 非イオン性含フッ素界面活性剤を含有す
    る層を塗布後、乾燥する時の乾燥風の露点温度が15℃
    以下であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1
    項に記載の熱現像感光材料の製造方法。
  9. 【請求項9】 前記非イオン性含フッ素界面活性剤を塗
    布乾燥後の残存溶媒量が500mg/m2以下であるこ
    とを特徴とする請求項8に記載の熱現像感光材料の製造
    方法。
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EP1582919A1 (en) 2004-03-23 2005-10-05 Fuji Photo Film Co. Ltd. Silver halide photosensitive material and photothermographic material
EP1635216A1 (en) 2004-09-14 2006-03-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photothermographic material
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