JP2003131054A - 平面型光回路 - Google Patents
平面型光回路Info
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- JP2003131054A JP2003131054A JP2001326811A JP2001326811A JP2003131054A JP 2003131054 A JP2003131054 A JP 2003131054A JP 2001326811 A JP2001326811 A JP 2001326811A JP 2001326811 A JP2001326811 A JP 2001326811A JP 2003131054 A JP2003131054 A JP 2003131054A
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Abstract
抑え、小型の平面型光回路を提供すること。 【解決手段】 コア幅w1の交差する一方の導波路10
1と、コア幅wの交差する他方の導波路102とを交差
角θで交差させる。ここで、交差角θは鋭角側の角度を
取るものとする(0°<θ≦90°)。また、コア幅w
1とwとの関係は、w1<wの関係にある。これによ
り、この交差部におけるいずれか一つ又は複数のコアの
断面積が小さくなっているので、互いに光の干渉を避け
られ、損失を低減させることができる。
Description
れた平面型光回路に関し、より詳細には、導波路が交差
する交差部でいずれか一つ又は複数のコアの断面積を小
さくすることにより、導波路同士の光の干渉を抑えると
ともに、交差部に生じる損失を低減させるようにした平
面型光回路に関する。
平面型光回路の需要が急激に増している。この需要に対
応し、コストを抑えるには光回路の集積度を向上させる
ことが重要である。その高密度化を実現する設計の一例
として、導波路同士を交差させる交差導波路を用いる場
合がある。しかし、交差部では互いの導波路の光が干渉
し合い、大きな損失が発生するので、数多くの交差導波
路が必要な光回路は損失が大きく従来から問題であっ
た。また、損失を抑制するため導波路同士は直角に交差
させる必要があり、設計の自由度が制限されていた。
傍でコア幅を狭める方法が従来から知られている(特開
平5−60929号公報参照)。これは、交差するコア
幅wの一方の導波路1501と、交差されるコア幅wの
他方の導波路1502が直角に交差し、この交差部15
03における両者のコア幅w1はwよりも小さくなって
いる。交差部1503のコア幅w1を狭くすることによ
りスポットサイズが広がるため、交差部1503におい
て互いの導波路には光の干渉が発生せず、その結果、交
差導波路の過剰損失は低減される。
れば、光回路中に多くの交差導波路を用いることがで
き、設計の自由度を向上させることができる。また、構
成上数多くの交差導波路が必要な光回路でも損失を低減
でき、高性能な光部品を実現できる。
うな従来の方法では、交差角は大きく、また交差部にお
けるすべての導波路のコア幅を狭めなければならないた
め、回路の小型化には制限があるという問題があった。
たもので、その目的とするところは、過剰損失を低減し
ながらも交差部の大きさを抑え、小型の平面型光回路を
提供することにある。
的を達成するために、請求項1に記載の発明は、コア
と、該コアよりも屈折率の低いクラッドで囲まれた複数
の導波路が形成された平面型光回路において、前記複数
の導波路が互いに所定の角度で交差する交差部を有し、
該交差部におけるいずれか一つ又は複数のコアの断面積
が小さくなっていることを特徴とする。
に記載の発明において、前記コアの断面積の断面形状が
次第に変化していることを特徴とする。
又は2に記載の発明において、前記交差部の角度が15
°以上で、90°以下であることを特徴とする。
1,2又は3に記載の発明において、前記平面型光回路
がシリコン基板上に形成され、前記導波路が石英系ガラ
スからなることを特徴とする。
狭めることによりスポットサイズが拡大できることに着
目し、交差部の一つのもしくは複数の導波路を狭いコア
幅に設定するようにしたので、互いに光の干渉を避けら
れるので損失が低減できる。また、交差角θを小さくす
ることにより交差導波路を小型にすることができる。
も薄くすることによりさらにスポットサイズが拡大され
るので、損失低減の効果が得られる。
異なるものとすることにより互いの干渉を抑える効果が
期待できる。
施の形態について説明する。
回路の第1実施形態を説明するための図で、コア幅w1
の交差する一方の導波路101と、コア幅wの交差する
他方の導波路102とが交差角θで交差させている。た
だし、交差角θは鋭角側の角度を取るものとする(0°
<θ≦90°)。また、コア幅w1とwとの関係は、w
1<wの関係にある。なお、一方を交差する導波路、他
方を交差する他方の導波路と表現したが、それらを入れ
替えても違いはない。ここでは解析例としてコアとクラ
ッドの比屈折率差Δ=1.5%、交差する他方の導波路
のコア幅w=4.5μm、コア厚h=4.5μmに設定
した。
点辺りの過剰損失のコア幅w1依存性を示す図で、コア
幅wに対して一方の導波路のコア幅w1を狭めるにつれ
て過剰損失は一旦増加した後、w1=0.5μm前後で
最小値を取る。また、過剰損失を最小にする最適なコア
幅w1は交差角に依存しない。例えば、交差角θを30
°に設定した場合、通常は0.12dB/交差点もの損
失が発生するが、一方の導波路のコア幅が0.5μmで
あれば0.01dB/交差点に抑えることが可能であ
る。このように、交差角θを小さくした場合でも、交差
する一方の導波路のコア幅を狭めれば過剰損失を低減す
ることができる。
剰損失の交差角依存性を示す図で、損失が急激に増大す
る交差角度θminはコア幅w1=0.5μmで最も小
さいことがわかる。したがって、一方の導波路のコア幅
を狭くすることにより、損失を低減しながらも交差角を
小さくすることができ小型化が可能である。例えば、損
失を0.01dB/交差点に抑えたい場合は、一方の導
波路のコア幅を0.5μm、最低交差角度θmin=3
0°以上の交差角を用いればよい。
おける他の例を説明するための図で、図4(a)は、コ
ア幅w1の交差する一方の導波路401と、コア幅wの
交差する他方の導波路402とが交差角θで交差させて
いる。一方の導波路401は、交差部においてコア幅は
w1であるが、コア幅wに向けてを変化するテーパ部4
01aを有している。図4(b)は、コア幅w1の交差
する一方の導波路403と、コア幅wの交差する他方の
導波路402とが交差角θで交差させている。一方の導
波路403は、交差部においてコア幅はw1であるが、
コア幅w2(w1>w2)に向けてを変化するテーパ部
403aを有している。
る。図5は、導波路間隔Gの2本の導波路を交差させた
様子を示す図で、図中符号501は間隔Gの導波路、5
02は交差角θで交差する導波路の交差点、Lは間隔G
の導波路が交差する交差点の長さを示している。図6
は、曲率半径が2000μmの場合の交差角と導波路間
隔の関係を示す図である。明らかに交差角が大きいほど
大きな導波路間隔Gが必要であり、交差角90°で交差
させるには導波路間隔Gは約600μmでなければなら
ない。導波路のコア幅は4.5μmなので、導波路間隔
はコア幅の100倍以上にもなる。ここで、交差角θを
35°とすれば、導波路同士を約100μmまで近づけ
ることが可能となる。
ズの関係を示す図である。ただし、交差部の長さをL、
曲率半径をRとすれば、交差部の規格化回路サイズはL
×G/R2で表される。交差角を90°から35°に下
げることにより、規格化回路サイズは0.4から0.0
3に低下させることができる。
方の導波路のコア幅を狭くすることでθminを小さく
でき、回路サイズを小型にしながらも損失を低減でき
る。また一方の交差部のコア幅のみを狭くすればいいの
で、回路をより小型にすることが可能である。なお、本
実施形態の説明ではΔ=1.5%、w=4.5μm、h
=4.5μmに固定して解析した結果を示したが、Δ,
w,hの値を変えた場合にも、同様の効果が期待でき
る。
路作製方法を説明するための図である。まず、シリコン
基板801上に火炎堆積法でSiO2を主体にした下部
クラッドガラススート802、SiO2にGeO2を添
加したコアガラススート803aを堆積する(図8
(a))。
明化を行う。この時に、下部クラッドガラス層803、
コアガラス804は設計した厚さとなるように、ガラス
の堆積を行っている(図8(b))。
てコアガラス804上にエッチングマスクを形成し(図
8(c))、反応性イオンエッチングによってコアガラ
ス804のパターン化を行う(図8(d))。
部クラッドガラス806を再度火炎堆積法で形成する。
上部クラッドガラス806にはB2O3やP2O5など
のドーパントを添加してガラス転移温度を下げ、それぞ
れのコアガラス804とコアガラス804の狭い隙間に
も上部クラッドガラス806が入り込むようにしている
(図8(e))。
発明の平面型光回路の第2実施形態を説明するための図
で、図9(a)は、コア幅w1の一方の導波路901を
任意のコア幅w3の他方の導波路902と交差角θで交
差させている場合を示す図で、図9(b)は、コア幅w
1の一方の導波路903を任意のコア幅w4の他方の導
波路904と交差角θで交差させている場合を示す図で
あるが、導波路903はコア幅w1からw(w>w1)
に向けたテーパ部903aを有している。上述した第1
実施形態では、交差する他方の導波路のコア幅をwとし
たのに対し、本実施形態ではw3,w4は任意の値であ
る。
3,w4依存性を示す図である。ここではΔ=1.5
%、交差角θ=30°、導波路のコア厚4.5μmとし
た。コア幅w3やw4に対し、交差する一方の導波路の
コア幅をw1=0.5μmに狭めることにより、コア幅
がw1=4.5μmである場合に比べて更に損失が低減
される。
とは異なる任意のコア幅w3,w4の導波路と交差させ
なければならない場合も存在する。本実施形態のように
一方を狭いコア幅にすれば、第1実施形態と同様に損失
が低減される。
導波路のいずれか一方又は両者のコア幅を狭くする場合
について説明したが、図11(a),(b)及び図12
(a),(b)に示すように、コアの断面を変化させる
ことによっても同様の効果が得られる。図11(a)
は、一定のコア幅wを有する一方の導波路1102と、
他方の導波路1101のコア幅w1に向けたテーパ部1
101aとが交差している場合を示す図で、図11
(b)は、一定のコア幅wを有する一方の導波路110
2と、他方の導波路1103のコア幅w1からw2(w
1>w2)に向けたテーパ部1103aとが交差してい
る場合を示す図である。
を有する一方の導波路1201と、他方の導波路120
2のコア幅wから縮小されたテーパ部1202aとが交
差している場合を示す図で、図12(b)は、一方の導
波路1203のコア幅wからw1(w>w1)に向けた
テーパ部1203aと、他方の導波路1204のコア幅
wからw1(w>w1)に向けたテーパ部1204aと
を交差された場合を示す図である。
の導波路1301と他方の曲がり導波路1302との交
差部1303でコアの断面形状が次第に変化しているも
のでもよい。
て具体的に説明したが、コアの厚さを変化させることに
よっても互いに光の干渉を避けられるので、過剰損失が
低減できる。
の導波路の場合、すなわち交差点に接続する導波路本数
が4本の場合であった、しかしながら、図14に示すよ
うに、3本以上の導波路1401(コア幅w),140
2(コア幅w1),1403(コア幅w1)の場合にも
適用可能である。なお、1404は交差部である。
路を用いた例を示したが、その導波路材料がポリイミ
ド,シリコン,半導体,LiNbO3などであっても本
発明の上記の原理は適用可能である。また、基板もシリ
コンに限定するものではない。
アと、このコアよりも屈折率の低いクラッドで囲まれた
複数の導波路が形成された平面型光回路において、複数
の導波路が互いに所定の角度で交差する交差部を有し、
この交差部におけるいずれか一つ又は複数のコアの断面
積が小さくなっているので、互いに光の干渉を避け、損
失を低減させることができる。それと同時に交差角をθ
minまで下げることができるので、回路の大幅な小型
化が可能となる。
異なるものとすることにより互いの干渉を抑える効果が
期待できる。
させながら回路の設計の自由度を向上させ、平面型光回
路の小型化を実現できる。
るための図である。
剰損失とコア幅の関係を示す図である。
剰損失と交差角の関係を示す図である。
テーパで徐々に変化させた例を示す図である。
示す図である。
る。
関係を示す図である。
工程を示す図である。
るための図で、(a)は、コア幅w1の一方の導波路を
任意のコア幅w3の他方の導波路と交差角θで交差させ
ている場合を示す図で、(b)は、コア幅w1の導波路
を任意のコア幅w4の導波路と交差角θで交差させてい
る場合を示す図である。
の過剰損失とコア幅の関係を示す図である。
断面形状が次第に変化している場合(テーパ導波路)を
示す図で、(a)は、一定のコア幅wを有する一方の導
波路と、他方の導波路のテーパ部とが交差している場合
を示す図で、(b)は、一定のコア幅wを有する一方の
導波路と、他方の導波路のテーパ部とが交差している場
合を示す図である。
断面形状が次第に変化している場合(テーパ導波路)を
示す図で、(a)は、一定のコア幅w1を有する一方の
導波路と、他方の導波路のテーパ部とが交差している場
合を示す図で、(b)は、一方の導波路のテーパ部と、
他方の導波路のテーパ部とを交差された場合を示す図で
ある。
断面形状が次第に変化している場合(曲がり導波路)を
示す図である。
る導波路が6本である場合を示す図である。
が狭い従来型の平面型光回路を示す図である。
幅wよりも狭いコア幅w1の導波路 102,402,1102,1401 コア幅wの導波
路 401,903,1203,1204 コア幅wからw
1に向けたテーパ部を有する導波路 401a,403a,903a,1101a,1103
a,1202a,1203a,1204a テーパ部 403,1103 コア幅w1からw2に向けたテーパ
部を有する導波路 501 間隔Gの導波路 502 交差角θで交差する導波路の交差点 801 シリコン基板 802 下部ガラスクラッドスート 802a コアガラススート 803 下部クラッドガラス層 804 コアガラス 805 エッチングマスク 806 上部クラッドガラス 902 任意のコア幅w3の導波路 904 任意のコア幅w4の導波路 1101 コア幅wよりも狭いコア幅w1に向けたテー
パ部を有する導波路 1202 コア幅wから縮小したテーパ部を有する導波
路 1301 導波路 1302 曲がり導波路 1303,1404 交差部
Claims (4)
- 【請求項1】 コアと、該コアよりも屈折率の低いクラ
ッドで囲まれた複数の導波路が形成された平面型光回路
において、前記複数の導波路が互いに所定の角度で交差
する交差部を有し、該交差部におけるいずれか一つ又は
複数のコアの断面積が小さくなっていることを特徴とす
る平面型光回路。 - 【請求項2】 前記コアの断面積の断面形状が次第に変
化していることを特徴とする請求項1に記載の平面型光
回路。 - 【請求項3】 前記交差部の角度が15°以上で、90
°以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の
平面型光回路。 - 【請求項4】 前記平面型光回路がシリコン基板上に形
成され、前記導波路が石英系ガラスからなることを特徴
とする請求項1,2又は3に記載の平面型光回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001326811A JP2003131054A (ja) | 2001-10-24 | 2001-10-24 | 平面型光回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001326811A JP2003131054A (ja) | 2001-10-24 | 2001-10-24 | 平面型光回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003131054A true JP2003131054A (ja) | 2003-05-08 |
Family
ID=19143129
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001326811A Pending JP2003131054A (ja) | 2001-10-24 | 2001-10-24 | 平面型光回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003131054A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008504562A (ja) * | 2004-03-24 | 2008-02-14 | シオプティカル インコーポレーテッド | 薄いシリコン中の光クロスオーバ |
JP2009204736A (ja) * | 2008-02-26 | 2009-09-10 | Toshiba Corp | 光導波回路及びそれを用いたマルチコア中央処理装置 |
JPWO2009041571A1 (ja) * | 2007-09-27 | 2011-01-27 | アルプス電気株式会社 | 交差型導光路 |
JP2013174839A (ja) * | 2012-02-27 | 2013-09-05 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光導波路、光配線部品および電子機器 |
-
2001
- 2001-10-24 JP JP2001326811A patent/JP2003131054A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008504562A (ja) * | 2004-03-24 | 2008-02-14 | シオプティカル インコーポレーテッド | 薄いシリコン中の光クロスオーバ |
JPWO2009041571A1 (ja) * | 2007-09-27 | 2011-01-27 | アルプス電気株式会社 | 交差型導光路 |
JP2009204736A (ja) * | 2008-02-26 | 2009-09-10 | Toshiba Corp | 光導波回路及びそれを用いたマルチコア中央処理装置 |
JP2013174839A (ja) * | 2012-02-27 | 2013-09-05 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 光導波路、光配線部品および電子機器 |
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