JPH09297235A - 光導波路及びその製造方法並びにそれを用いた光導波路モジュール - Google Patents

光導波路及びその製造方法並びにそれを用いた光導波路モジュール

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JPH09297235A
JPH09297235A JP11275396A JP11275396A JPH09297235A JP H09297235 A JPH09297235 A JP H09297235A JP 11275396 A JP11275396 A JP 11275396A JP 11275396 A JP11275396 A JP 11275396A JP H09297235 A JPH09297235 A JP H09297235A
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JP
Japan
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optical waveguide
waveguide
face
core
optical
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JP11275396A
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English (en)
Inventor
Masahiro Okawa
正浩 大川
Tomoyuki Shirata
知之 白田
Naoto Uetsuka
尚登 上塚
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Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/26Optical coupling means
    • G02B6/30Optical coupling means for use between fibre and thin-film device
    • G02B6/305Optical coupling means for use between fibre and thin-film device and having an integrated mode-size expanding section, e.g. tapered waveguide

Landscapes

  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造工程を増加させることなく光ファイバと
の接続損失を低減させることができる光導波路及びその
製造方法並びにそれを用いた光導波路モジュールを提供
する。 【解決手段】 光導波路10の接続部をテーパ状とする
ことにより、接続損失を低減することができる。また、
テーパ導波路13aの形成を光導波路10の形成と同様
のフォトリソグラフィの工程により行うので、工程数の
増加にはならず、導波路素子の低コスト化を実現するこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光導波路及びその
製造方法並びにそれを用いた光導波路モジュールに関す
る。
【0002】
【従来の技術】光ファイバ通信の応用分野を広げるため
には光伝送モジュールの小型化と低価格化とが重要な課
題である。このような課題を解決するために、光導波路
のコア(屈折率n2 )とクラッド(屈折率n1 )との比
屈折率Δ(Δ=(n2 −n1 )/n2 ×100%)を大
きくすることが検討されている。これは比屈折率Δを大
きくするとコアを伝搬する光の閉じ込めがよくなり、コ
アを引き回す場合に曲率半径を小さくすることができ、
その結果導波路素子を小型化することができるからであ
る。
【0003】しかし、比屈折率Δが大きな単一モード光
導波路を形成するためには、コア径を小さくする必要が
ある。そのため、光導波路のモードフィールドが小さく
なってしまい光ファイバを接続する際、モードフィール
ドのミスマッチにより接続損失が増加してしまうという
問題があった。
【0004】光導波路と光ファイバとの接続には、接続
部近傍のコア径を加熱等で拡大することにより、位置合
わせ精度を緩和し、低損失で接続する方法が報告されて
いる(特開平7−128544号公報)。
【0005】図6は従来の光導波路モジュールの分解斜
視図である。図7は従来のコア径の拡大方法を説明する
ための説明図であり、図7(a)は加工前を示し、図7
(b)は加工後を示す。
【0006】図6に示すように端面近傍のコア1が広が
った光導波路2と、端面近傍のコア3が広がった光ファ
イバ4とが接続されて光導波路モジュールが形成され
る。
【0007】光導波路2及び光ファイバ4の端面近傍の
コアを広げる方法としては図7(a)に示すように光導
波路2の端面をガスバーナー等の加熱源5で加熱してコ
ア1aを溶融することにより、図7(b)に示されるよ
うな拡大されたコア1が得られる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の方法では、光導波路と光ファイバとの接続部近
傍を加熱する等の工程が必要なため工程数が増加してし
まい、低価格化に問題があった。
【0009】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、製造工程を増加させることなく光ファイバとの接続
損失を低減させることができる光導波路及びその製造方
法並びにそれを用いた光導波路モジュールを提供するこ
とにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、基板上に形成された光導波路の入力側端面
或いは出力側端面におけるコアが、各端面に近づくにつ
れて横幅のみテーパ状に広がる形状であるものである。
【0011】上記構成に加え本発明は、テーパ導波路と
導波路端面との間に直線導波路が形成され、光導波路端
面に研磨代を有するのが好ましい。
【0012】上記構成に加え本発明は、テーパ導波路の
テーパ広がり角が3°以内であるのが好ましい。
【0013】上記構成に加え本発明は、基板上に形成さ
れた光導波路の入力側端面或いは出力側端面と光ファイ
バとが接続された光導波路モジュールにおいて、光導波
路の入力側端面或いは出力側端面におけるコアが、端面
に近づくにつれて横幅のみテーパ状に広がる形状である
のが好ましい。
【0014】上記構成に加え本発明は、光導波路の比屈
折率が光ファイバの比屈折率よりも大きいのが好まし
い。
【0015】上記目的を達成するために本発明は、基板
上にコア膜を形成し、フォトリソグラフィ工程によりコ
ア膜を矩形断面形状のコアに形成し、コアをクラッドで
覆う光導波路の製造方法において、光導波路の入力側端
面或いは出力側端面におけるコアが、各端面に近づくに
つれて横幅のみテーパ状に広がる形状を有するテーパ導
波路の形成を、光導波路を形成するフォトリソグラフィ
の工程と同一工程で行うものである。
【0016】上記構成によって、光導波路の接続部をテ
ーパ状とすることにより、接続損失を低減することがで
きる。また、テーパ導波路の形成を光導波路の形成と同
様のフォトリソグラフィの工程により行うので、工程数
の増加にはならず、導波路素子の低コスト化を実現する
ことができる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて詳述する。
【0018】図1は本発明の光導波路を用いた光導波路
モジュールの一実施の形態を示す分解斜視図である。図
2は図1に示した光導波路モジュールの平面図である。
図3(a)は図2のA−A線断面図、図3(b)は図2
のB−B線断面図である。
【0019】図1に示す単一モードの光導波路10は、
基板11上にバッファ層12が形成され、バッファ層1
2上に略矩形断面形状のコア13が形成され、さらにコ
ア13を覆うようにクラッド層14が形成されたもので
ある。バッファ層12及びクラッド層14の屈折率n1
は例えば1.458であり、コア13の屈折率n2は例
えば1.4653である(比屈折率Δ=0.5%)。コ
ア13の中間部の寸法は約6μm(幅w1)×6μm
(厚さd)である。
【0020】図2及び図3(a)、(b)に示すように
光導波路10は、コア13が導波路端面に近付くにつれ
て厚さ方向は一定で、横幅のみが徐々に広がるようなテ
ーパ導波路13aとなっており、そのテーパ広がり角θ
は約1°である。このテーパ広がり角θは、テーパ導波
路13aでの放射損失を十分無視できる3°以内である
のが好ましい。テーパ導波路13aは幅W2(約10μ
m)になるまで広がっている。テーパ導波路13aと導
波路端面との間には研磨代として直線導波路13bが設
けられている。導波路端面は、接続損失低減及び端面で
の反射戻り光対策として垂直面に対して所定の角度α
(例えば8°)で斜め研磨されている。直線導波路長
は、斜め研磨を十分に行うために約400μmとなって
いる。導波路端面でのコア寸法は約10μm(幅w2)
×6μm(厚さd)である。
【0021】光ファイバ15はコア15aの径が一定な
通常のものが用いられている。
【0022】図4は本発明の光導波路の製造方法の一実
施の形態を示す工程図である。
【0023】まず、基板11上にバッファ層12、コア
膜16、マスク材17及びフォトレジスト18を順次形
成する。尚、マスク材17を用いずにフォトレジスト1
8をマスク材として流用してもよい(図4(a))。
【0024】次にフォトマスク(図示せず)を介してフ
ォトレジスト18を露光した後余分なフォトレジストを
除去する。このときテーパ導波路13aのパターニング
も同時に行われ、コアパターン状のフォトレジスト18
aが残る(図4(b))。
【0025】マスク材17をエッチングした後、フォト
レジスト18aを除去すると、コアパターン状のマスク
材17aが残る(図4(c))。
【0026】コア膜16をエッチングすると、直線状の
導波路13が形成されると同時にテーパ導波路が形成さ
れる(図4(d))。
【0027】マスク材17aを除去した後、クラッド層
14を堆積させることにより光導波路10が形成される
(図4(e))。
【0028】このようなテーパ導波路を有する光導波路
10の形成は、フォトレジスト18を塗布した後、1回
の露光によって形成されるので工程数の増加が抑えられ
る。
【0029】一方、単一モード光ファイバ15は、10
μmφのコア(屈折率n2=1.4624)15aとク
ラッド(屈折率n1=1.458)19とで構成されて
おり、接続部端面が8°に研磨されている。光導波路1
0と光ファイバ15とは突き合わせでUV硬化樹脂によ
り接続固定される。
【0030】本実施の形態では、単一モードの光導波路
10及び光ファイバ15の接続損失は、波長1.31μ
mで0.21dB、1.55μmで0.15dBであ
り、従来のコア幅が一定のものに比べ、波長1.31μ
mで0.07dB、1.55μmで0.09dBの損失
低減を実現できた。
【0031】図5は光導波路と光ファイバとの接続損失
を示す図であり、横軸が導波路幅を示し、縦軸が接続損
失を示す。これはテーパ導波路により広げたコア幅をパ
ラメータとしたときの単一モード光導波路と単一モード
光ファイバ間の接続損失との関係を示している。
【0032】単一モード光導波路の比屈折率Δは0.5
%であり、単一モード光ファイバの比屈折率Δは0.3
%であり、コア径は10μmφである。図5に示した特
性から光導波路及び光ファイバの接続損失は、コア幅が
7〜13μmの間で低損失であることが分かる。
【0033】以上において、本発明によれば、光導波路
と光ファイバとの接続において、比屈折率の高い単一モ
ード光導波路の入力側或いは出力側のコアが端面に近付
くにつれ、テーパ状に徐々に広がる形状とすることによ
り接続損失の低減を実現することができる。また、テー
パ導波路の形成を、フォトリソグラフィによって光導波
路を形成すると同時に行うことにより、工程数を増加さ
せることなくテーパ導波路を形成することができる。
【0034】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果を発揮する。
【0035】(1) 光導波路の接続部をテーパ状とするこ
とにより、製造工程を増加させることなく光ファイバと
の接続損失を低減させることができる光導波路及びその
製造方法並びにそれを用いた光導波路モジュールの提供
を実現することができる。
【0036】(2) テーパ導波路の形成を光導波路の形成
と同様のフォトリソグラフィの工程により行うので、工
程数の増加にはならず、導波路素子の低コスト化を実現
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光導波路を用いた光導波路モジュール
の一実施の形態を示す分解斜視図である。
【図2】図1に示した光導波路モジュールの平面図であ
る。
【図3】(a)は図2のA−A線断面図、(b)は図2
のB−B線断面図である。
【図4】本発明の光導波路の製造方法の一実施の形態を
示す工程図である。
【図5】光導波路と光ファイバとの接続損失を示す図で
ある。
【図6】従来の光導波路モジュールの分解斜視図であ
る。
【図7】従来のコア径の拡大方法を説明するための説明
図である。
【符号の説明】
10 光導波路 11 基板 12 バッファ層 13 コア 14 クラッド層 15 光ファイバ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に形成された光導波路の入力側端
    面或いは出力側端面におけるコアが、各端面に近づくに
    つれて横幅のみテーパ状に広がる形状であることを特徴
    とする光導波路。
  2. 【請求項2】 上記テーパ導波路と導波路端面との間に
    直線導波路が形成され、光導波路端面に研磨代を有する
    請求項1記載の光導波路。
  3. 【請求項3】 上記テーパ導波路のテーパ広がり角が3
    °以内である請求項1又は2に記載の光導波路。
  4. 【請求項4】 基板上に形成された光導波路の入力側端
    面或いは出力側端面と光ファイバとが接続された光導波
    路モジュールにおいて、上記光導波路の入力側端面或い
    は出力側端面におけるコアが、端面に近づくにつれて横
    幅のみテーパ状に広がる形状であることを特徴とする光
    導波路モジュール。
  5. 【請求項5】 上記光導波路の比屈折率が光ファイバの
    比屈折率よりも大きい請求項4記載の光導波路モジュー
    ル。
  6. 【請求項6】 基板上にコア膜を形成し、フォトリソグ
    ラフィ工程により該コア膜を矩形断面形状のコアに形成
    し、該コアをクラッドで覆う光導波路の製造方法におい
    て、上記光導波路の入力側端面或いは出力側端面におけ
    るコアが、各端面に近づくにつれて横幅のみテーパ状に
    広がる形状を有するテーパ導波路の形成を、光導波路を
    形成するフォトリソグラフィの工程と同一工程で行うこ
    とを特徴とする光導波路の製造方法。
JP11275396A 1996-05-07 1996-05-07 光導波路及びその製造方法並びにそれを用いた光導波路モジュール Pending JPH09297235A (ja)

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