JP2008281624A - 光ファイバ実装導波路素子及びその製造方法 - Google Patents

光ファイバ実装導波路素子及びその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】接続損失が小さく、生産性が高い光ファイバ実装導波路素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上にアンダークラッド層3uとコア4とオーバークラッド層3oとを形成してなる光ファイバ実装導波路素子1において、ファイバ実装導波路素子1に光ファイバ6を実装するための光ファイバ実装溝2を形成し、光ファイバ実装溝2に臨むオーバークラッド層3oの端面を有し、該光ファイバ実装溝側において上記オーバークラッド層3oの端面よりも、上記コア4と上記アンダークラッド層3uとが突出している。
【選択図】図1

Description

本発明は、接続損失が小さく、生産性が高い光ファイバ実装導波路素子及びその製造方法に関する。
従来より、光ファイバを実装する導波路素子(以下、光ファイバ実装導波路素子という)においては、光ファイバをコアの延長上に案内すると共に、光ファイバを安定的に固定し易いように、光ファイバ溝が設けられる。
光ファイバ実装導波路素子は、光ファイバ実装溝に臨むクラッド及びコアの端面を有する。すなわち、クラッドに段差を設けてその段差の底部を光ファイバ溝の底面とし、この光ファイバ溝に載せて実装した光ファイバの端面がクラッド及びコアの端面に接するようになっている。
特開2006−184754号公報 特開2002−267860号公報
図4に示されるように、従来の光ファイバ実装導波路素子101は、クラッド103に周囲を囲まれたコア104がクラッド103の端面まで形成され、光ファイバ溝102に実装された光ファイバ105の端面がクラッド103の端面に接することで、光ファイバ105中のコアと光ファイバ実装導波路素子101のコア104が光結合する。
しかし、クラッド103の端面近傍を拡大して詳しく見ると、図5に示されるように、コア104の先端104aは丸みを帯びている。これは、例えば、光ファイバ実装導波路素子101がフォトリソグラフィ技術(直接露光)で製造される場合、原料となる導波路基板上にコア104とクラッド103を所望形状に区画して形成するために、フォトマスクを載せて露光を行うとき、フォトマスクの縁では光の回折が生じるなどして、フォトマスク上では直角エッジになっているマスクパターンが丸くなまって露光される。クラッド103の端面はフォトマスクの縁に位置するので、フォトマスク上のコアパターンが直角エッジになっていても、形成されたコア104の先端104aは丸みを帯びてしまう。特に、コア径(太さ)が小さい場合には、コア104の先端104aに丸みが形成されやすい。
なお、丸みを帯びたコアの先端104aとクラッド103の端面103aとの間は、クラッド103で埋まる。
図5のように、コア104の先端104aが丸みを帯びていると、コアの先端104aの曲面と光ファイバ105との間にクラッド103が入り込み、コア104とクラッド103との界面が湾曲してくるので、光が屈折して光路が変わり隣接コアに光が多量に漏れるなどして光のアイソレーションが悪化し、また、接続損失が増大する。
また、コアの先端104aが丸みを帯びてクラッド103で覆われていると、光ファイバ105との相対位置(端面に沿った方向の位置)により光結合の良好さが大きく変化するので、製造ばらつきによるコア先端部と光ファイバとの相対位置(端面に沿った方向)の変化による損失のばらつきが大きくなり、光ファイバ実装導波路素子の生産性が低下する。
また、特許文献2に示すような光導波路素子においても、上述したようにコア端面が丸くなり、光ファイバとの接続の際に、接続損失が大きくなるという問題がある。また、図6に示されるように、コア61の光接続端面をクラッド62の凹内に形成した後に、光接続端面を覆っているクラッド材及び基板を除去することによって、コア61をクラッド端面より突出させた光導波路を作製する方法であるため、クラッド62の除去工程中にコア61が破壊してしまうという問題がある。
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、接続損失が小さく、生産性が高い光ファイバ実装導波路素子及びその製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するために本発明の光ファイバ実装導波路素子は、基板上にアンダークラッド層とコアとオーバークラッド層とを形成してなる光ファイバ実装導波路素子において、上記ファイバ実装導波路素子に光ファイバを実装するための光ファイバ実装溝を形成し、上記光ファイバ実装溝に臨むオーバークラッド層の端面を有し、該光ファイバ実装溝側において上記オーバークラッド層の端面よりも、上記コアと上記アンダークラッド層とが突出しているものである。
また、本発明の光ファイバ実装導波路素子は、基板上にアンダークラッド層とコアとオーバークラッド層とを形成してなる光ファイバ実装導波路素子において、上記ファイバ実装導波路素子に光ファイバを実装するための光ファイバ実装溝を形成し、上記光ファイバ実装溝に臨むオーバークラッド層の端面を有し、該光ファイバ実装溝側において上記オーバークラッド層の端面よりも、上記コアが突出し、かつ、上記光ファイバ実装溝の底面までL字状に形成されているものである。
上記コアを複数有し、これらのコアが上記オーバークラッド層の端面より外でコア同士が連結されていてもよい。
上記コアを複数有し、これらのコアが上記オーバークラッド層の端面より外で隣接するコアの方向に広がっていてもよい。
上記光ファイバ実装溝に光ファイバが実装され、該光ファイバの端面が上記コアに接し、上記光ファイバの端面と上記オーバークラッド層、コア層及びアンダークラッド層の端面との間に接着剤を充填し、硬化させることにより、上記コアと上記光ファイバとが接続され、上記コアと硬化後の上記接着剤の屈折率の差が±0.005の範囲内であってもよい。
上記コアと上記接着剤が同材料であってもよい。
また、その製造方法は、基板上にアンダークラッド層とコアとオーバークラッド層とを形成してなる光ファイバ実装導波路素子の製造方法において、上記ファイバ実装導波路素子に光ファイバを実装するための光ファイバ実装溝を形成し、上記光ファイバ実装溝に臨むオーバークラッド層の端面を有し、該光ファイバ実装溝側において上記オーバークラッド層の端面よりも、上記コアと上記アンダークラッド層とが突出するように形成するものである。
また、その製造方法は、基板上にアンダークラッド層とコアとオーバークラッド層とを形成してなる光ファイバ実装導波路素子の製造方法において、上記ファイバ実装導波路素子に光ファイバを実装するための光ファイバ実装溝を形成し、上記光ファイバ実装溝に臨むオーバークラッド層の端面を有し、該光ファイバ実装溝側において上記オーバークラッド層の端面よりも、上記コアが突出し、かつ、上記光ファイバ実装溝の底面までL字状に形成されているように形成するものである。
上記コアを複数形成し、これらのコアが上記オーバークラッド層の端面より外でコア同士が連結されているようにしてもよい。
上記コアを複数形成し、これらのコアが上記オーバークラッド層の端面より外で隣接するコアの方向に広がっているようにしてもよい。
上記光ファイバ実装溝に光ファイバを実装し、該光ファイバの端面を上記コアに接するようにし、上記光ファイバの端面と上記オーバークラッド層、コア層及びアンダークラッド層の端面との間に接着剤を充填し、硬化させることにより、上記コアと上記光ファイバとを接続し、上記コアと硬化後の上記接着剤の屈折率の差を±0.005の範囲内としてもよい。
上記コアと上記接着剤に同材料を用いてもよい。
本発明は次の如き優れた効果を発揮する。
(1)接続損失が小さい。
(2)生産性が高い。
以下、本発明の一実施形態を添付図面に基づいて詳述する。
図1(a)および図1(b)に示されるように、本発明に係る光ファイバ実装導波路素子1は、基板8上にクラッド3であるアンダークラッド層3uとコア4とクラッド3であるオーバークラッド層3oとを形成してなる光ファイバ実装導波路素子1において、ファイバ実装導波路素子1に光ファイバ6を実装するための光ファイバ実装溝2を形成し、光ファイバ実装溝2に臨むオーバークラッド層3oの端面3aを有し、この光ファイバ実装溝側においてオーバークラッド層3oの端面3aよりも、コア4とアンダークラッド層3uとが突出しているものである。
本実施形態の光ファイバ実装導波路素子1は、等ピッチで平行な4つのコア4を有し、各コア間の中心軸の延長線上に光ファイバ固定用くさび7を形成し、光ファイバ実装溝2を形成している。
本実施形態の光ファイバ実装導波路素子1は、オーバークラッド層3oの端面3aより外に出ているコア4aの直下がアンダークラッド層3uとなっている。
光ファイバ実装導波路素子1は、直接露光法で製造される。
図8(a)に示されるように、UV硬化用クラッド材をスピンコーターなどで基板8上に塗布し、所望の部分にアンダークラッド層3uが形成されるように、UV照射を行い、UV硬化用クラッド材を硬化させる。その後、未露光部分のUV硬化用クラッド材を現像液で除去する。次に、図8(b)に示されるように、アンダークラッド層3u上にコア材を塗布後、直接露光を行い、未露光部分のコア材を現像液で除去してコア4を形成する。さらに、図8(c)に示されるように、コア4上にオーバークラッド層のためのクラッド材料を塗布後、コア4aを形成するためのマスク10を設け、直接露光を行う。図8(d)に示されるように、未露光部分を現像液で除去すると、露光部分はオーバークラッド層3oとして残る。
この工程により、図1(c)に示すように、光ファイバ実装溝2側においてオーバークラッド層3oの端面3aよりコア4とアンダークラッド層3uとが同程度突出するようにコア4とオーバークラッド層3oが形成される。
図1(b)に示されるように、光ファイバ実装導波路素子1は、光ファイバ実装溝2に光ファイバ6が実装され、その光ファイバ6の端面がオーバークラッド層3oの端面3aより外に出ているコア4a及びアンダークラッド層3uの先端に接する。光ファイバの端面とオーバークラッド層3oの端面3a、コア4a及びアンダークラッド層3uとの間には、コア4と屈折率が同じ接着剤9が充填される。接着剤9は、充填後に硬化するが、その硬化後にコア4と屈折率が同じであればよい。
以下、本発明の作用効果を述べる。
図1の光ファイバ実装導波路素子1は、光ファイバ実装溝2に光ファイバ6が実装されると、光ファイバの端面がオーバークラッド層3oの端面3aより外に出ているコア4aの先端に接する。このとき、光ファイバ実装導波路素子1が直接露光法で製造され、オーバークラッド層3oの端面3aより外に出ているコア4aの先端がフォトマスクの縁に位置することから、コア4aの先端は、拡大して詳しく見ると従来同様に丸みを帯びる。
しかし、従来と異なり、コア4aがオーバークラッド層3oの端面3aより外に出ているので、コア4aの先端の曲面と光ファイバとの間にはクラッドがない。よって、光ファイバの端面とオーバークラッド層3oの端面3aとの間に接着剤9を充填したとき、この接着剤9がコア4aの先端の曲面と光ファイバとの間に入り込む。
硬化後の接着剤9とコア4の屈折率が同じであるから、コア4と光ファイバ6との接続部において、コア4から導波路素子又は導波路素子からコア4への光が直進する。従って、隣接コアへの光の漏れを防止することができ、光のアイソレーションの悪化及び接続損失が非常に小さくなる。
また、上記構成により、光ファイバとの相対位置による光結合の劣化量が小さい。よって、光ファイバの実装トレランスがよくなり、光ファイバ実装導波路素子の生産性が向上する。
さらにまた、上記実施形態にあっては、オーバークラッド層3oの端面3aより外に出ているコア4aの直下がアンダークラッド層3uとなっている。このアンダークラッド層3uは必須ではないが、アンダークラッド層3uにより、外に出ているコア4aの機械的強度が補強される。よって、光ファイバ実装溝2に光ファイバを実装してコア4aに押し付けたとき、その押し付け圧力に対する耐性が増すので、押し付け圧力の強弱の余裕度が大きくなる。この結果、押し付け圧力の調節を粗くしてもよくなるので、光ファイバ実装導波路素子の生産性が向上する。
本発明の製造方法にあっては、オーバークラッド層3oの端面3aより外に出ているコア4aを有するコア4を直接的に作製することができるので、その作製プロセス中でのコア破損のおそれがなくなり、光ファイバ実装導波路素子の生産性が向上する。また、クラッド除去工程などの余分なプロセスを必要としないので、低コストで光ファイバ実装導波路素子を製造することができる。
次に、本発明の他の実施形態を説明する。
図2に示されるように、この光ファイバ実装導波路素子では、コア4がオーバークラッド層3oの端面3aより外で横溝2aの底面(光ファイバ実装溝2の底面2bと同一平面)までL字状に形成されている。つまり、図1(b)の形態でアンダークラッド層3uであった部分がコア4bとなっている。
この光ファイバ実装導波路素子の製造方法は、まず、図9(a)に示されるように、基板8上にアンダークラッド層3uを形成後、図9(b)に示されるように、アンダークラッド層3u及び光ファイバ実装溝2に臨む基板8a上にコア材を塗布する。次に、図9(c)に示されるように、コア4,4a,4bを形成することができるマスク11を設けて直接露光を行い、未露光部分のコア材を現像液で除去する。そして、図9(d)に示されるように、コア4,4a上にオーバークラッド層のためのクラッド材料を塗布後、コア4aを形成するためのマスク10を設け、直接露光を行う。図9(e)に示されるように、未露光部分を現像液で除去すると、露光部分はオーバークラッド層3oとして残る。
この工程により、図2(c)に示すように、光ファイバ実装溝2側においてオーバークラッド層3oの端面3aよりコア4が突出し、コア4が横溝2aの底面まで達して、コア4がL字状となるようにコア4を形成し、このL字状のコア4の一部であるコア4aがオーバークラッド層3oの端面3aより外に出るようにオーバークラッド層3oを形成することができる。
この形態では、オーバークラッド層3oの端面3aより外に出ているコア4aの直下がコア4bとなっているので、外に出ているコア4aの機械的強度がコア4bにより補強される。このため、光ファイバ実装導波路素子の歩留まりが向上する。また、光ファイバの押し付け圧力の強弱の余裕度が大きくなるので、光ファイバ実装導波路素子の生産性が向上する。
また、上記構成により、光ファイバとの相対位置による光結合の劣化量が小さい。よって、光ファイバの実装トレランスがよくなり、光ファイバ実装導波路素子の生産性が向上する。
また、図7に示されるように、コア4の先端部4dがオーバークラッド層3oの端面3aよりも外側で、隣接するコア方向(横方向)に広がって広がり部4eを形成してもよい。この形態では、コア4の先端である広がり部4eが丸みを帯びていても、光ファイバ6と接するコア4の先端部4dの面積が大きくなる。そのため、光ファイバ6とコア4を突き合わせ接続するときに、安定的に接続できるので、オーバークラッド層3oの端面3aとコア先端部4aの境界に過剰な負荷がかかることがなく、機械的強度が補強される。
さらには、図3に示されるように、コア4が複数有り、これらのコア4がオーバークラッド層3oの端面3aより外で横コア4cによって隣接するコア4同士が連結されていることが好ましい。
本実施の形態において、光ファイバ6としてGI50(コア径50μm、光ファイバ径125μm)を用い、光導波路素子のクラッド3には、アクリル系樹脂(屈折率1.52)を、コア4にはアクリル系樹脂(屈折率1.57)を、接着剤9にはエポキシ系樹脂(屈折率1.57)を用いた。また、アンダークラッド層3uの層厚は、45μm、コア4は35μm角、そしてコア4直上からのオーバークラッド層3oの層厚は45μmとなるよう設計した。
エポキシ系接着剤のほうがアクリル系接着剤よりも接着力が強いため、エポキシ系接着剤のほうが接着剤9として好ましい。また、アクリル系接着剤を接着剤9として用いる場合には、コア4と同じ材料を使用できるので、屈折率の合わせ込みが容易である。しかし、接着剤9の材料は特にこれらに限定されない。接着剤は、使用光波長に対して透明であること、硬化後の屈折率がコア4と同じ、あるいはコア4と硬化後の接着剤9の屈折率の差が±0.005の範囲内であること、光ファイバ及び光ファイバ実装導波路素子に対して十分な接着力があることが重要である。なぜなら、コア4と硬化後の接着剤9の屈折率の差が±0.005の範囲内であれば、光ファイバ6との接続損失を少なくすることができるからである。
この形態では、オーバークラッド層3oの端面3aより外に出ているコア4aが横コア4cによって連結されているので、コア4aの機械的強度がいっそう補強される。このとき、コア4cの一部はクラッド3中に入っていても構わない。
オーバークラッド層3oの端面3aより外に出ているコア4aの突き出し長さは、10〜50μmが好ましい。下限の10μmは、直接露光法におけるフォトマスクの位置ずれの許容量であり、これより長く突き出したコア4aであれば精度よく製造することができる。また、コア4aの突き出し長さが70μm程度になると、接続損失が増大するが、50μm以下ならば光が光ファイバのコア径以上に広がらないので、接続損失の増大は無視できるほど小さい。
本発明の一実施形態を示す光ファイバ実装導波路素子の図であり、(a)は上面図、(b)は光ファイバ実装時の上面図、(c)は(b)のA−A断面図である。 本発明の一実施形態を示す光ファイバ実装導波路素子の図であり、(a)は上面図、(b)は光ファイバ実装時の上面図、(c)は(b)のA−A断面図である。 本発明の他の実施形態を示す光ファイバ実装導波路素子の上面図である。 従来例1の光ファイバ実装導波路素子の上面図である。 図4の部分拡大図である。 従来例2の導波路素子の断面図である。 本発明の他の実施形態を示す光ファイバ実装導波路素子の上面図である。 (a)〜(d)は、本発明の製造方法を説明する図である。 (a)〜(e)は、本発明の製造方法を説明する図である。
符号の説明
1 光ファイバ実装導波路素子
2 光ファイバ実装溝
3 クラッド
4 コア

Claims (12)

  1. 基板上にアンダークラッド層とコアとオーバークラッド層とを形成してなる光ファイバ実装導波路素子において、上記ファイバ実装導波路素子に光ファイバを実装するための光ファイバ実装溝を形成し、上記光ファイバ実装溝に臨むオーバークラッド層の端面を有し、該光ファイバ実装溝側において上記オーバークラッド層の端面よりも、上記コアと上記アンダークラッド層とが突出していることを特徴とする光ファイバ実装導波路素子。
  2. 基板上にアンダークラッド層とコアとオーバークラッド層とを形成してなる光ファイバ実装導波路素子において、上記ファイバ実装導波路素子に光ファイバを実装するための光ファイバ実装溝を形成し、上記光ファイバ実装溝に臨むオーバークラッド層の端面を有し、該光ファイバ実装溝側において上記オーバークラッド層の端面よりも、上記コアが突出し、かつ、上記光ファイバ実装溝の底面までL字状に形成されていることを特徴とする光ファイバ実装導波路素子。
  3. 上記コアを複数有し、これらのコアが上記オーバークラッド層の端面より外でコア同士が連結されていることを特徴とする請求項1又は2記載の光ファイバ実装導波路素子。
  4. 上記コアを複数有し、これらのコアが上記オーバークラッド層の端面より外で隣接するコアの方向に広がっていることを特徴とする請求項1又は2記載の光ファイバ実装導波路素子。
  5. 上記光ファイバ実装溝に光ファイバが実装され、該光ファイバの端面が上記コアに接し、上記光ファイバの端面と上記オーバークラッド層、コア層及びアンダークラッド層の端面との間に接着剤を充填し、硬化させることにより、上記コアと上記光ファイバとが接続され、上記コアと硬化後の上記接着剤の屈折率の差が±0.005の範囲内であることを特徴とする請求項1〜4いずれか記載の光ファイバ実装導波路素子。
  6. 上記コアと上記接着剤が同材料であることを特徴とする請求項5記載の光ファイバ実装導波路素子。
  7. 基板上にアンダークラッド層とコアとオーバークラッド層とを順次形成してなる光ファイバ実装導波路素子の製造方法において、上記ファイバ実装導波路素子に光ファイバを実装するための光ファイバ実装溝を形成し、該光ファイバ実装溝に対向する位置に所定の上記アンダークラッド層及び上記コアを順次形成後、上記光ファイバ実装溝に臨むクラッドの端面を有し、該光ファイバ実装溝側において上記オーバークラッド層の端面よりも、上記コアと上記アンダークラッド層とが突出するようなマスクパターンを形成し、上記アンダークラッド層及び上記コア上にクラッド材を塗布後、露光することにより上記オーバークラッド層を形成することを特徴とする光ファイバ実装導波路素子の製造方法。
  8. 基板上にアンダークラッド層とコアとオーバークラッド層とを順次形成してなる光ファイバ実装導波路素子の製造方法において、上記ファイバ実装導波路素子光ファイバを実装するための光ファイバ実装溝を形成し、該光ファイバ実装溝に対向する位置に所定の上記アンダークラッド層を形成後、上記光ファイバ実装溝側の基板及び上記アンダークラッド層上にコア材を塗布し、直接露光することにより、上記アンダークラッド層から上記光ファイバ実装溝側の上記基板表面までを覆うL字状の上記コアを形成し、上記光ファイバ実装溝に臨むオーバークラッド層の端面を有し、該光ファイバ実装溝側において上記オーバークラッド層の端面よりも、上記コアが突出するようなマスクパターンを形成し、上記アンダークラッド層及び上記コア上にクラッド材を塗布後、露光することにより上記オーバークラッド層を形成することを特徴とする光ファイバ実装導波路素子の製造方法。
  9. 上記コアを複数形成し、これらのコアが上記オーバークラッド層の端面より外でコア同士が連結されているようにすることを特徴とする請求項6又は7記載の光ファイバ実装導波路素子の製造方法。
  10. 上記コアを複数形成し、これらのコアが上記オーバークラッド層の端面より外で隣接するコアの方向に広がっているようにすることを特徴とする請求項6又は7記載の光ファイバ実装導波路素子の製造方法。
  11. 上記光ファイバ実装溝に光ファイバを実装し、該光ファイバの端面を上記コアに接するようにし、上記光ファイバの端面と上記オーバークラッド層、コア層及びアンダークラッド層の端面との間に接着剤を充填し、硬化させることにより、上記コアと上記光ファイバとを接続し、上記コアと硬化後の上記接着剤の屈折率の差を±0.005の範囲内とすることを特徴とする請求項7〜10いずれか記載の光ファイバ実装導波路素子の製造方法。
  12. 上記コアと上記接着剤に同材料を用いることを特徴とする請求項11記載の光ファイバ実装導波路素子の製造方法。
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