JP3917049B2

JP3917049B2 - 光導波回路およびその作製方法

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Publication number: JP3917049B2
Application number: JP2002284151A
Authority: JP
Inventors: 育生小川; 俊和橋本; 芳行土居; 毅北川; 真司美野; 元速石井; 貴晴大山; 雅弘柳澤
Original assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp
Current assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date: 2002-09-27
Filing date: 2002-09-27
Publication date: 2007-05-23
Anticipated expiration: 2022-09-27
Also published as: JP2004118081A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光通信等で用いられる光導波回路およびその作製方法に関し、特に面型フォトダイオードの光導波回路への実装構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の面型ＰＤ実装構造の一例を図１６の断面図で示す。同図では、シリコン基板１６１上に石英系光導波路１６２が形成されており、その一部基板領域に溝１６３が設けられ、溝１６３内には、光導波路１６２と対向するシリコン基板凸部１６４の端面に斜めの反射ミラー（金属膜ミラー）１６５が形成されている。このような構造により、光導波路１６２を通る導波光はこの溝１６３に出射し、ミラー１６５によって上方に反射され、面型ＰＤ１６６で受光される。このような面型ＰＤ実装構造は、以下のように作製することができる。
【０００３】
まず、異方性エッチングにより、シリコン基板１６１を斜めの壁面を有する凸状部位１６４を設ける。次に、この基板１６１上に石英系光導波路１６２を形成し、上記斜め面を含む凸状部位１６４の領域の光導波路層をドライエッチング等により除去し、溝１６３を形成する。その後、上記斜め面に金属薄膜１６５を蒸着等により形成する（非特許文献１を参照）。
【０００４】
【非特許文献１】
"Low loss optical interfaces on a hybrid silicon motherboard", Jones, C.A.; Nield, M.W.; Cooper, K.; Rush, J.D.
Planar Silicon Hybrid Optoelectronics (Digest No. 1994/198), IEE Colloquium on, 1994 Page(s); 12/1-12/5
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上述の従来技術では、溝１６３はエッチングによって所望の部位にのみ形成できる利点がある。しかしながら、あらかじめシリコン基板１６１の表面を凹凸に加工しておく必要があるため、導波路作製工程が増加するという点があった。さらに、凹凸面状の基板上に光導波路１６２を形成することは実際上容易ではない。すなわち、フォトリソグラフィー等の工程では基板面内で焦点がずれてしまうため、導波路加工精度が劣化し、薄膜堆積やエッチング工程において、面内で均一な膜を得ることが困難になってしまう点があった。
【０００６】
本発明の目的は、上述の課題を解決するため、反射ミラーを光回路中の任意の位置にレイアウトでき、かつ導波路作製工程の増加や導波路加工精度の劣化のない、極めて簡便な面型ＰＤの実装構造とその作製方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明に係る光導波回路の構成は、基板上に形成された光導波回路であって、コアおよびクラッドから成る光導波路と、前記光導波路の前記コアの一端部において、前記コアよりも深く形成された溝と、前記溝中に形成されて前記光導波路の前記コアから出る光を所定方向に偏向する反射ミラーとを有し、かつ、前記反射ミラーが、その一端を前記溝の底部に固定され、もう一端を前記溝の底部または前記クラッドの層の上面で支持されたリボン状金属膜から成り、前記リボン状金属膜の前記反射ミラーが、両端ともに前記溝の底部に形成した反射材上に固定されていることを特徴とする。
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明に係る光導波回路の構成の他の態様は、基板上に形成された光導波回路であって、コアおよびクラッドから成る光導波路と、前記光導波路の前記コアの一端部において、前記コアよりも深く形成された溝と、前記溝中に形成されて前記光導波路の前記コアから出る光を所定方向に偏向する反射ミラーとを有し、かつ、前記反射ミラーが、その一端を前記溝の底部に固定され、もう一端を前記溝の底部または前記クラッドの層の上面で支持されたリボン状金属膜から成り、前記光導波路の前記コアの一端部において、前記コアよりも深く形成された第１の溝と、前記第１の溝に対して、壁状または島状のクラッドを間に挟み、前記光導波路と対向する位置に設けた第２の溝とを有し、かつ、前記リボン状金属膜の前記反射ミラーの一端が前記第１の溝の底部、もう一端が前記壁状または島状のクラッドを跨いで前記第２の溝の底部に固定されていることを特徴とする。
【００１１】
さらに、前記リボン状金属膜の前記反射ミラーの形状が凹状である構成も有効である。
【００１２】
なお、前記リボン状金属膜の前記反射ミラーの周囲に樹脂材料が充填されていてもよい。
【００１３】
また、前記溝の底部の概ね全面が、反射材で覆われ、該反射材上に前記リボン状金属膜の前記反射ミラーの一端が固定されていてもよい。
【００１４】
また、前記リボン状金属膜の前記反射ミラーは前記光導波路の前記コアから出る光を面型フォトダイオードの受光面に偏向するとしてよい。
【００１６】
また、上記目的を達成するため、本発明に係る光導波回路の作製方法は、基板上に形成された光導波回路の作製方法において、前記光導波回路の面内の所望の位置に、光導波路のコアの一端部において、前記コアよりも深く形成された溝を形成する第１の工程と、次いで前記溝の底部に金属薄膜を形成する第２の工程と、その後、リボン状金属膜の一端を前記金属薄膜上に、もう一端を前記溝の底部または前記光導波路のクラッド層の上面に別途設けた金属薄膜上に、それぞれ圧着固定する第３の工程とを有することを特徴とする。
【００１７】
ここで、前記リボン状金属膜からなる反射ミラーの面上に圧力を加えることにより、該反射ミラーの形状を調整する第４の工程をさらに有するとしてよい。
【００１８】
さらに、本発明の方法の他の形態は、基板上に形成された光導波回路の作製方法において、前記光導波回路の面内の所望の位置に、光導波路のコアの一端部において、前記コアよりも深く形成された溝を形成する第１の工程と、次いで前記溝の底部に金属薄膜を形成する第２の工程と、その後、リボン状金属膜の一端を前記溝の底部の前記金属薄膜上に圧着固定する第３の工程と、前記リボン状金属膜の残り一端を保持し、該保持位置を変化させることにより、前記リボン状金属膜の反射ミラー面の角度と形状を調整する第４の工程と、前記リボン状金属膜の残り一端を保持したままの状態で、前記反射ミラーの周囲に樹脂材料を充填し、固化する第５の工程とを有することを特徴とする。
【００１９】
本発明の方法の更に他の形態は、基板上に形成された光導波回路の作製方法において、前記光導波回路の面内の所望の位置に、光導波路のコアの一端部において、前記コアよりも深く形成された第１の溝を形成する第１の工程と、前記第１の溝に対して、壁状または島状のクラッドを間に挟み、前記光導波路と対向する位置に、第２の溝を形成する第２の工程と、次いで前記第１と第２の溝の底部にそれぞれ金属薄膜を形成する第３の工程と、その後、リボン状金属膜からなる反射ミラーの一端を前記第１の溝の底部の前記金属薄膜上に圧着固定し、もう一端を前記壁状または島状のクラッドを跨いで前記第２の溝の底部の前記金属薄膜上に圧着固定する第４の工程とを有することを特徴とする。
【００２０】
ここで、前記リボン状金属膜からなる反射ミラーの面上に圧力を加えることにより、該反射ミラーの形状を調整する工程を更に有することは好ましい。
【００２１】
また、前記第１の溝内の前記リボン状金属膜からなる反射ミラーの周囲に樹脂材料を充填し、固化する工程を更に有することも好ましい。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しつつ本発明の具体的な実施の形態について詳細な説明を行う。
【００２３】
（第１の実施の形態）
図１、図２は、本発明の第１の実施の形態に係る光導波回路の概略構成を示しており、図１はその斜視図、図２はその断面図である。図１と図２に示すように、シリコン基板１上に形成した光導波回路の一部領域に、エッチングにより溝２が形成されており、この溝２の底部には金薄膜３が蒸着形成されている。この金薄膜３上に、金リボン（リボン状金属膜；反射ミラー）４の両端が固定されている。ここで、光導波路５の出射光が金リボン４面をミラーとして上方に反射されるように、金リボンワイヤ４はループを描くように形成されている。さらに、この溝２の上方には、ミラー４によって反射した光を受光するように、面型ＰＤ６が受光面７を下にして設置されている。面型ＰＤ６の受光電流は、光導波路クラッド９上に形成した金薄膜配線（金属薄膜パターン）１０、１１を介して外部に取り出される。
【００２４】
本実施形態での作製方法を説明すると、基板１上に光導波路５を形成した後、溝部２をドライエッチングにより形成し、次に溝底部の金薄膜パタン３と、導波路クラッド８上面のＰＤ用電気配線パタン１０、１１を一括して蒸着により形成する。この後、リボン用ワイヤボンダー（図１５参照）で金リボンワイヤの両端を上記溝底部３に圧着固定することにより、反射ミラー４を形成する。
【００２５】
ここで、ループ状のミラー面４は、ワイヤボンダー（例えば、自動ボールボンダ 2460−Ｖ、2470−Ｖ（日本アビオニクス（株）社製））のループコントロール機能を用いれば容易に実現できる。
【００２６】
ところで、面型ＰＤ６は一般に受光径が数１００μｍと大きい場合が多いため、このようなループ状のミラー４でも、反射光はすべて面型ＰＤ６の受光面７に入射されるため、実用上問題にはならない。また、上記のような本実施形態の構成および作製方法を用いれば、光導波路５に十分近接してミラー４を形成できるため、ミラー４として例えば幅１００〜２００μｍ程度以上の金リボンを用いれば、多くの場合、ほぼ全出射光を上方に反射することができる。
【００２７】
ただし、光導波路５からの出射光の広がり角が極端に大きかったり、または図３に示すように、光導波路端面１２が基板面に垂直でない場合には、光導波路からの出射光の一部は、直接溝底部に向かうこともありうる。そのような場合には、図３に示すように、ボンディング用パタン部のみでなく、溝底部を金薄膜３でできる限り覆うようにすればよい。そうすれば、直接溝底部に向かった出射光も溝底部の金ミラー３によって上方に反射され、ＰＤ６の受光面７で受光することが可能となる。
【００２８】
本発明の構成の最大の特徴は、光導波路５からの出射光を上方に反射するミラーが、金リボンワイヤ４によって構成される点にある。この構成を用いれば、従来の解決すべき課題であった、あらかじめ基板を凹凸に加工するなどの特殊な導波路作製プロセスが必要ないため、光導波回路の任意の部位に極めて簡便に反射ミラーを形成できる。
【００２９】
（第２の実施の形態）
図４，図５は、それぞれ本発明の第２の実施の形態における光導波回路の概略構成を示す斜視図、および断面図である。本実施形態が上述の第１の実施の形態と異なるところは、金リボンワイヤ４の一端は溝底部１３に固定されており、もう一端は光導波路クラッド上面１４に固定されている点である。すなわち、金リボン４のボンディング用金薄膜パタン３、１５を溝底部１３と同時にクラッド上面１４にも形成し、それぞれに両端をボンディング固定している。
【００３０】
この構成では、金リボン４に対して引っ張りを加えながらボンディングを行うことで、図５に示すように、概ね平滑なミラー面を形成できる利点がある。もちろん、第１の実施の形態と同様にループコントロールを調節することによりループ状ミラー面も形成可能である。
【００３１】
ここで、ＰＤ６はクラッド上面１４の金リボン４がボンディングされる部位に接するように設置されてもよい。また逆に、ＰＤ６は半田ボール１６等を介してクラッド上面１４に固定することにより、金リボン４のボンディングされる部位に直接接触しないように設置されても良い。例えは、図４に示すように角型の面型ＰＤの下面の四すみに半田ボール１６等を配置してＰＤをクラッド上面１４から浮かせるようにするだけで、ＰＤ６と金リボン４や金薄膜パタン１５とが直接接触しないようにすることが出来る。
【００３２】
（第３の実施の形態）
図６は、本発明の第３の実施の形態における光導波回路の反射ミラー部周辺を示す断面図である。本実施形態が上述の第２の実施の形態と異なるのは、金リボンワイヤ４から成る反射ミラー面が、光導波路５から見て基板垂直方向に上向きの凹面になるように形成されている点である。このような凹面ミラーは、導波路５からの出射光の広がりを抑える効果がある。
【００３３】
さて、凹面状のミラーは、金リボン４の両端をボンディング固定後に、リボン面に適切な圧力を加えることにより実現できる。例えば、図７に示すように、金リボン４のリボン面に対し、加圧棒１７のようなもので外部から機械的に圧力を加えてもよい。また、図８に示すように、金リボン４のリボン面に対し、外部から微小なノズル１８を介してエアー等を吹き付けることによっても、凹面状のミラーが形成できる。図８の場合は非接触でミラー面を加圧できるため、ミラー面のキズ発生を避けられる利点がある。なお、図７に示す加圧棒１７の先端は、球状でも、円筒状でも良い。
【００３４】
（第４の実施の形態）
図９，図１０は、それぞれ本発明の第４の実施の形態における光導波回路の概略構成を示す斜視図および断面図である。本実施形態が、前述の第１〜第３の実施の形態と異なるのは、光導波路クラッド領域を挟むように、第１の溝１９と、第２の溝２０が設けられ、金リボン４の一端は第１の溝底部の金薄膜パターン２１に固定され、残り一端は第２の溝底部の金薄膜パターン２２に固定されている点である。ここで金リボン４の反射ミラー面は第１の溝底部２１と、第１に溝１９、第２の溝２０に挟まれたクラッド上面に支持されて形成されている。
【００３５】
このような構造を用いれば、反射ミラー面の形状調節が至って容易になる。すなわち、図１１に示すように金リボン４の固定後に、第２の溝２０側から金リボン４に加圧することにより、第１の溝側１９にある反射ミラー面を極めて平滑に形成することができる。さらに、図１２に示すように、第１の溝１９側からのミラー面への加圧と、第２の溝２０側からのリボンへの加圧を適宜調節しながら行うことによって、平滑面から所望の曲率の凹面状ミラーまで自在に形成可能である。
【００３６】
なお、図１１の加圧棒１７の先端は、球状でも円筒状でもよいが、金リボン４に一定の強力を与えるためには円筒形状の方が好適であることが判明した。
【００３７】
（第５の実施の形態）
図１３は、本発明の第５の実施の形態における光導波回路の反射ミラー部周辺の構成を示す断面図である。本実施形態が上述の第４の実施の形態と異なる点は、第１の溝１９に光を透過する樹脂２３が充填されている点である。すなわち、金リボン４の両端をボンディング固定し、反射ミラー面形状の調節をした後、第１の溝１９に樹脂２３を注入・充填し、固化させてある。
【００３８】
樹脂２３が硬化するまで、加圧棒１７（図１２参照）による加圧、またはエアーノズル１８（図１２参照）からのガス噴射圧を加えながら、樹脂２３を硬化させるほうが好適である。このように、金リボン４に張力を加えながら樹脂２３を硬化させると、金リボン４にシワなどがよらず、良好な反射ミラーを作製することが出来る。
【００３９】
本実施形態のこのような構造を用いれば、４の反射ミラー面の形状を確実に保持できる。これは、環境温度や湿度が大きく変動するような環境や、大きな振動のある環境でも、金リボン面の微妙な変形等による特性変動を防止することができる点で有利である。
【００４０】
（第６の実施の形態）
図１４は、本発明の第６の実施の形態における光導波回路の反射ミラー部周辺の構成を示す断面図である。本実施形態が上述の第１〜第５の実施の形態と異なるのは、本実施形態では、金リボン４からなる反射ミラーの一端が溝底部３に固定されているが、もう一端は固定されておらず、溝に充填された透明な樹脂２３に支持されている点である。
【００４１】
本構造の作製方法を以下に説明する。まず、シリコン基板１上に光導波路５を形成し、ドライエッチングにより溝２を形成し、溝底面にボンディング用の金パタン３を形成する。次いで、図１５の（ａ）に示すように、金リボン４の一端をその溝底部の金パターン３に固定する。その後、金リボン４の残り一端をボンダー２４で保持し、ミラー面を形成するように、ボンダー２４の保持位置を調節する。続いて、図１５の（ｂ）に示すように、溝２内に熱硬化性またはＵＶ硬化性等の樹脂２３を充填し、図１５の（ｃ）に示すように、その樹脂２３をＵＶ光源２５等により固化し、図１５の（ｄ）に示すように、最後に溝２上に残ったリボン４の不要部分を切除する。
【００４２】
前述した本発明の第２〜第５の実施の形態では、金リボンの一端を光導波路クラッド上面で支持する構造であったが、この場合では、ボンディングを行うための溝底部３のスペースと、クラッド層厚の関係から、形成できるミラー面の角度が自ずと制限される。これに対して、本第６の実施形態では、金リボン４からなる反射ミラーの一端がミラー面の角度を自在に設定できる利点がある。
【００４３】
（他の実施の形態）
上述した本発明の実施形態は、好ましい具体例を例示したものであって、本発明はこれに限定されず、特許請求の範囲に記載された範囲内での変形や変更、均等物による置換等は本発明に含まれる。
【００４４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、光導波回路の光導波路からの光を面型ＰＤに導く反射ミラーとして、リボン状金属膜を用いることとしたので、従来課題になっていた反射ミラーを設けることによる光導波路作製工程の増加や作製精度の劣化がなく、極めて簡便に反射ミラーを形成できる。
【００４５】
また、本発明は、リボン状金属膜と従来用いられているリボン用ワイヤボンダーとを利用して、容易に反射ミラーを形成できるため、高価な装置開発も不要である。
【００４６】
さらに、本発明の反射ミラー形成は、リボン状金属膜を用いている結果、光導波路端の一部にごく小さな溝があればよく、エッチングにより容易にその溝を形成することができるから、光導波回路の任意の部位に、他の部位に影響なく面型ＰＤの実装構造を設けることが可能となる。
【００４７】
したがって、本発明によれば、従来の課題を解決して、光回路中の任意の位置に面型ＰＤをレイアウトでき、かつ導波路作製工程の増加や導波路加工精度の劣化のない極めて簡便な面型ＰＤの実装構造を提供することが可能となるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態の光導波回路の概略構成を示す分解斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態の光導波回路の概略構成を示す断面図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態の光導波回路において、導波路端近傍の溝底部を金属薄膜で覆うことの効果を示す説明図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態の光導波回路の概略構成を示す分解斜視図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態の光導波回路の概略構成を示す断面図である。
【図６】本発明の第３の実施の形態の光導波回路の概略構成を示す断面図である。
【図７】本発明の第３の実施の形態の光導波回路における凹面ミラーの形成方法の第１の例を示す断面図である。
【図８】本発明の第３の実施の形態の光導波回路における凹面ミラーの形成方法の第２の例を示す断面図である。
【図９】本発明の第４の実施の形態の光導波回路の概略構成を示す分解斜視図である。
【図１０】本発明の第４の実施の形態の光導波回路の概略構成を示す断面図である。
【図１１】本発明の第４の実施の形態の光導波回路におけるミラー面形状調整方法の第１の例を示す断面図である。
【図１２】本発明の第４の実施の形態の光導波回路におけるミラー面形状調整方法の第２の例を示す断面図である。
【図１３】本発明の第５の実施の形態の光導波回路の概略構成を示す断面図である。
【図１４】本発明の第６の実施の形態の光導波回路の概略構成を示す断面図である。
【図１５】本発明の第６の実施の形態の光導波回路における作製方法の工程例を示す断面図であり、それぞれ（ａ）は金リボンの一端固定の工程、（ｂ）は樹脂注入の工程、（ｃ）は樹脂硬化の工程、（ｄ）は金リボン不要部切除の工程を示す図である。
【図１６】従来の面型ＰＤの実装構造の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
１シリコン基板
２溝
３金属膜（溝底部の金薄膜パターン）
４金リボン（リボン状金属膜；反射ミラー）
５光導波路
６面型ＰＤ
７受光面
８クラッド
９コア
１０、１１クラッド上面の金属薄膜配線（ＰＤ配線用）
１２斜めの光導波端面（斜面）
１３溝底部
１４光導波路クラッド上面
１５金属膜（クラッド上面の金薄膜パターン）
１６半田ボール
１７加圧棒
１８エアーノズル
１９第１の溝
２０第２の溝
２１第１の溝底部の金薄膜パターン
２２第２の溝底部の金薄膜パターン
２３充填された樹脂
２４ボンダー
２５ＵＶ光源
１６１シリコン基板
１６２石英系光導波路
１６３溝
１６４シリコン基板凸部
１６５反射ミラー（金属膜ミラー）
１６６面型ＰＤ

Claims

基板上に形成された光導波回路であって、
コアおよびクラッドから成る光導波路と、
前記光導波路の前記コアの一端部において、前記コアよりも深く形成された溝と、
前記溝中に形成されて前記光導波路の前記コアから出る光を所定方向に偏向する反射ミラーとを有し、
かつ、前記反射ミラーが、その一端を前記溝の底部に固定され、もう一端を前記溝の底部または前記クラッドの層の上面で支持されたリボン状金属膜から成り、
前記リボン状金属膜の前記反射ミラーが、両端ともに前記溝の底部に形成した反射材上に固定されていることを特徴とする光導波回路。
基板上に形成された光導波回路であって、
コアおよびクラッドから成る光導波路と、
前記光導波路の前記コアの一端部において、前記コアよりも深く形成された溝と、
前記溝中に形成されて前記光導波路の前記コアから出る光を所定方向に偏向する反射ミラーとを有し、
かつ、前記反射ミラーが、その一端を前記溝の底部に固定され、もう一端を前記溝の底部または前記クラッドの層の上面で支持されたリボン状金属膜から成り、
前記光導波路の前記コアの一端部において、前記コアよりも深く形成された第１の溝と、
前記第１の溝に対して、壁状または島状のクラッドを間に挟み、前記光導波路と対向する位置に設けた第２の溝とを有し、
かつ、前記リボン状金属膜の前記反射ミラーの一端が前記第１の溝の底部、もう一端が前記壁状または島状のクラッドを跨いで前記第２の溝の底部に固定されていることを特徴とする光導波回路。
前記リボン状金属膜の前記反射ミラーの形状が凹状であることを特徴とする請求項１または２に記載の光導波回路。
前記リボン状金属膜の前記反射ミラーの周囲に樹脂材料が充填されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の光導波回路。
前記溝の底部の概ね全面が、反射材で覆われ、該反射材上に前記リボン状金属膜の前記反射ミラーの一端が固定されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の光導波回路。
前記リボン状金属膜の前記反射ミラーは前記光導波路の前記コアから出る光を面型フォトダイオードの受光面に偏向することを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の光導波回路。
基板上に形成された光導波回路の作製方法において、
前記光導波回路の面内の所望の位置に、光導波路のコアの一端部において、前記コアよりも深く形成された溝を形成する第１の工程と、
次いで前記溝の底部に金属薄膜を形成する第２の工程と、
その後、リボン状金属膜の一端を前記金属薄膜上に、もう一端を前記溝の底部または前記光導波路のクラッド層の上面に別途設けた金属薄膜上に、それぞれ圧着固定する第３の工程と
を有することを特徴とする光導波回路の作製方法。
前記リボン状金属膜からなる反射ミラーの面上に圧力を加えることにより、該反射ミラーの形状を調整する第４の工程をさらに有することを特徴とする請求項７に記載の光導波回路の作製方法。
基板上に形成された光導波回路の作製方法において、
前記光導波回路の面内の所望の位置に、光導波路のコアの一端部において、前記コアよりも深く形成された溝を形成する第１の工程と、
次いで前記溝の底部に金属薄膜を形成する第２の工程と、
その後、リボン状金属膜の一端を前記溝の底部の前記金属薄膜上に圧着固定する第３の工程と、
前記リボン状金属膜の残り一端を保持し、該保持位置を変化させることにより、前記リボン状金属膜の反射ミラー面の角度と形状を調整する第４の工程と、
前記リボン状金属膜の残り一端を保持したままの状態で、前記反射ミラーの周囲に樹脂材料を充填し、固化する第５の工程と
を有することを特徴とする光導波回路の作製方法。
基板上に形成された光導波回路の作製方法において、
前記光導波回路の面内の所望の位置に、光導波路のコアの一端部において、前記コアよりも深く形成された第１の溝を形成する第１の工程と、
前記第１の溝に対して、壁状または島状のクラッドを間に挟み、前記光導波路と対向する位置に、第２の溝を形成する第２の工程と、
次いで前記第１と第２の溝の底部にそれぞれ金属薄膜を形成する第３の工程と、
その後、リボン状金属膜からなる反射ミラーの一端を前記第１の溝の底部の前記金属薄膜上に圧着固定し、もう一端を前記壁状または島状のクラッドを跨いで前記第２の溝の底部の前記金属薄膜上に圧着固定する第４の工程と
を有することを特徴とする光導波回路の作製方法。
前記リボン状金属膜からなる反射ミラーの面上に圧力を加えることにより、該反射ミラーの形状を調整する工程を更に有することを特徴とする請求項１０に記載の光導波回路の作製方法。
前記第１の溝内の前記リボン状金属膜からなる反射ミラーの周囲に樹脂材料を充填し、固化する工程を更に有することを特徴とする請求項１０または１１に記載の光導波回路の作製方法。