JPH095549A - 光回路及びその作製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 導波路内を伝搬する高次モード光を除去ある
いは低減する機能を備えた光回路及びその作製方法を提
供する。 【構成】 本発明の光回路は、柱状の入力導波路（２
０）と、入力導波路の中心軸と自らの中心軸とを略一致
させ、入力導波路の光出射端面と自らの光入射端面とを
突き合わせて入力導波路に接続された柱状のモードフィ
ルタ導波路（２２）と、モードフィルタ導波路の中心軸
と自らの中心軸とを略一致させ、モードフィルタ導波路
の光出射端面と自らの光入射端面とを突き合わせてモー
ドフィルタ導波路に接続された柱状の出力導波路（２
４）とを備えている。モードフィルタ導波路の幅及び厚
さは、入力導波路の光出射端面の幅及び厚さ、並びに出
力導波路の光入射端面の幅及び厚さよりそれぞれ小さく
なっている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光通信情報システム等
において用いられる光回路に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】光通信情報処理の分野で良く用いられる
光回路としては、平面基板上に形成されたクラッド層内
にクラッド層よりも屈折率の高い導波路（コア）が埋設
されたものが一般的である。導波路は光伝搬方向に沿っ
て延びる柱状のものが一般的で、所定の幅及び厚さを有
している。導波路には様々な形状のものが知られてお
り、例えば、一定の幅及び厚さを有する直線導波路や曲
り導波路、一定の厚さを有し光伝搬方向に沿って幅が単
調に大きくなるテーパ導波路等がある。また、直線導波
路からテーパ導波路を介して２本の曲り導波路に分岐す
るようなＹ分岐導波路も、光分岐結合回路として一般的
に用いられている。

【０００３】これらの導波路には、開口数が十分に小さ
く、通常は単一モードの光のみを伝搬させるシングルモ
ード導波路と複数のモードの光を伝搬させるマルチモー
ド導波路が存在するが、光通信の分野では長距離、大容
量通信を好適に行う観点からシングルモード導波路を備
える光回路が良く用いられている。

【０００４】このような光回路の一例としては、例え
ば、特開平６−１８７３０号公報に記載されている分岐
・合波光回路がある。これは、一定幅の入力導波路にこ
れよりも幅の狭い末端を有するテーパ導波路が２本接続
され、これらのテーパ導波路の他方の末端に入力導波路
と同一幅の曲り導波路がそれぞれ接続された構造を有す
るもので、入力導波路、テーパ導波路及び曲り導波路の
厚さはすべて同一であると思われる。

【０００５】上記のような光回路は、通常、長距離伝送
用のシングルモード光ファイバに接続されて使用され
る。光回路とシングルモード光ファイバは、シングルモ
ード光ファイバと光回路の導波路の端面同士を突き合わ
せ、シングルモード光ファイバの軸と導波路の軸とが一
致するようにして接続される。これにより、シングルモ
ード光ファイバ内を進行する０次モード光が、光回路の
導波路内に入射するようになる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、シング
ルモード導波路といえども、製造時に導波路とクラッド
との境界面に凹凸が生じたり、屈折率分布が設計どおり
に制御されないため、０次モード光のほかに高次モード
光も導波しうるようになることがしばしば起こる。シン
グルモード光ファイバから光回路の導波路内に光が入射
する際には、通常、導波路の軸方向に進行する光のみな
らず導波路の軸方向に対して傾いた方向に進行する光も
同時に入射する。軸方向に進行する光は０次モード光と
して導波路内を進行するが、軸方向に対して傾いた方向
に進行する光は高次モード光として導波路内を進行す
る。このように、光ファイバからの光が軸ずれ入射によ
って高次モード光が発生することがあり、シングルモー
ド性が十分に担保されない場合がある。高次モード光と
０次モード光とが同時に伝搬されるとモード分散が生
じ、伝搬に伴う光パルスの広がり方が顕著になるので、
長距離通信や大容量通信に悪影響を及ぼすことになる。
また、光回路により光パワー分岐等を行う場合にも、悪
影響を与える。

【０００７】本発明は、上記の問題点に鑑みなされたも
ので、導波路内を伝搬する高次モード光を除去あるいは
低減する機能を備えた光回路及びその作製方法を提供す
ることを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明の光回路は、（ａ）柱状の入力導波路
と、（ｂ）所定の幅及び厚さを有する柱状のモードフィ
ルタ導波路であって、入力導波路の中心軸と自らの中心
軸とを略一致させ、入力導波路の光出射端面と自らの光
入射端面とを突き合わせて入力導波路に接続されたもの
と、（ｃ）モードフィルタ導波路の中心軸と自らの中心
軸とを略一致させ、モードフィルタ導波路の光出射端面
と自らの光入射端面とを突き合わせてモードフィルタ導
波路に接続された柱状の出力導波路とを備えており、上
記モードフィルタ導波路の幅は、入力導波路の光出射端
面の幅及び出力導波路の光入射端面の幅よりそれぞれ小
さく、モードフィルタ導波路の厚さは、入力導波路の光
出射端面の厚さ及び出力導波路の光入射端面の厚さより
それぞれ小さいことを特徴としている。

【０００９】また、本発明の光回路の作製方法は、上
面が平坦な基体を用意し、この基体上部を加工して上記
の入力導波路、モードフィルタ導波路及び出力導波路の
各下面と略同一形状にする第１の工程と、基体上に基
体上部よりも屈折率が高い第１の導波路材料層を形成す
る第２の工程と、第１の導波路材料層に、入力導波
路、モードフィルタ導波路及び出力導波路からなる一連
の導波路の平面形状と同一のマスクパターンを用いてエ
ッチング加工を施すことにより、上記の入力導波路及び
出力導波路を形成するとともに、上記のモードフィルタ
導波路と同一の平面形状を有し、その上面が入力導波路
及び出力導波路の上面と一平面をなすモードフィルタ部
材を形成する第３の工程と、このモードフィルタ部材
にエッチング加工を施してその上部を所定の厚さだけ除
去することによりモードフィルタ導波路を形成する第４
の工程とを備えている。

【００１０】上記の基体は、例えば、平行平板の基板上
面に第１の導波路材料層よりも屈折率の低い第３の導波
路材料層を形成し、この第３の導波路材料層にエッチン
グ加工を施して入力導波路、モードフィルタ導波路及び
出力導波路の各下面と略同一形状にしたものであっても
良い。

【００１１】

【作用】本発明者らの知見によれば、導波路の幅や高さ
が小さいほど導波路内を伝搬する高次モード光は導波路
外部に放射されやすくなる。本発明の光回路が備えるモ
ードフィルタ導波路は、入力導波路の光出射端面及び出
力導波路の光入射端面よりも小さい幅と厚さを有してい
るので、入力導波路内を進行する光に含まれる高次モー
ド光はモードフィルタ導波路を伝搬する途中で外部に放
射される。これにより、高次モード光が除去あるいは低
減される。０次モード光は、高次モード光に比較して導
波路内における光パワー分布が中心軸近傍に集中してい
るので、高次モード光よりも外部に放射されにくい。ま
た、入力導波路、モードフィルタ導波路及び出力導波路
は互いに中心軸を一致させて接続されているので、中心
軸に沿って進行する０次光は入力導波路からモードフィ
ルタ導波路を介して出力導波路まで良好に伝搬される。
これにより、入力導波路からモードフィルタ導波路を介
して出力導波路に入射する光をほぼ０次モード光のみと
することができる。

【００１２】次に、本発明の光回路の作製方法では、第
１工程により前記入力導波路、モードフィルタ導波路及
び出力導波路の各下面と略同一形状の上部を有する基体
を作製し、第に工程ではこの基体上に第１の導波路材料
層を形成する。これにより、第１導波路材料層の下面は
入力導波路、モードフィルタ導波路及び出力導波路の各
下面と同一形状になる。次いで、第３工程では、第１導
波路材料層にエッチング加工を施して不要な部分を除去
することで入力導波路及び出力導波路が形成されるとと
もに、入力導波路の光出射端面及び出力導波路の光入射
端面よりも幅が小さく、その上面が入力導波路及び出力
導波路の上面と一平面をなすモードフィルタ部材が形成
される。次に、第４工程では、モードフィルタ部材の上
面にエッチング加工を施してモードフィルタ部材を薄く
することで、入力導波路及び出力導波路と中心軸が一致
したモードフィルタ導波路が形成される。

【００１３】

【実施例】以下、添付図面を参照しながら本発明の実施
例を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の
要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
また、図面の寸法比率は説明のものと必ずしも一致して
いない。

【００１４】図１は、本実施例の光回路の構成を示す斜
視図である。また、図２は、本実施例の光回路について
図１のＡ−Ａ′線に沿った断面構造を示す図である。さ
らに、図３（ａ）〜（ｃ）は、本実施例の光回路につい
て図２のＢ−Ｂ′線、Ｃ−Ｃ′線及びＤ−Ｄ′線に沿っ
た断面構造をそれそれ示す図である。以下では、これら
の図を参照しながら、本実施例の光回路の構成を説明す
る。

【００１５】本実施例の光回路は、基板１０、下部クラ
ッド層１２、入力導波路２０、モードフィルタ導波路２
２、出力導波路２４、並びに上部クラッド層１４から構
成されている。

【００１６】基板１０は、厚さ１ｍｍの平行平板であ
り、その材料はシリコン（Ｓｉ）である。下部クラッド
層１２は、基板１０の上面に形成された厚さ７０μｍの
石英（ＳｉＯ₂ ）ガラス層である。基板１０及び下部ク
ラッド層１２からなる積層体が、本実施例の光回路の基
体となる。

【００１７】入力導波路２０、モードフィルタ導波路２
２、及び出力導波路２４は、下部クラッド層１２上に形
成されている。入力導波路２０は、正方形の断面（８×
８μｍ）を有し、光の伝搬方向に沿って直線的に延びる
柱状の石英ガラス層であり、言い換えれば、一定の幅と
一定の厚さ（ともに、８μｍ）を有する直線導波路であ
る。

【００１８】モードフィルタ導波路２２も正方形の断面
を有しており、光の伝搬方向に沿って直線的に延びる柱
状の石英ガラス層、すなわち一定の幅と一定の厚さを有
する直線導波路であるが、幅と厚さがともに６μｍであ
り、入力導波路２０よりも小さい。また、モードフィル
タ導波路２２の長さは１ｍｍである。このモードフィル
タ導波路２２は、入力導波路２０の光出射端面（モード
フィルタ導波路２２側の端面）と自らの光入射端面（入
力導波路２０側の端面）とを突き合わせて入力導波路２
０に接続されており、入力導波路２０と中心軸がほぼ一
致するように配置されている。

【００１９】出力導波路２４は、光伝搬方向に沿って１
本の直線導波路から２本の曲り導波路に分岐する形状の
導波路である。すなわち、出力導波路２４は、図２に示
すように、直線部２４ａ、テーパ部２４ｂ並びに曲線部
２４ｃ及び２４ｄから構成されるＹ分岐導波路である。
出力導波路２４の直線部２４ａ、並びに曲線部２４ｃ及
び２４ｄは、入力導波路２０と同様に正方形の断面を有
し、光の伝搬方向に沿って直線的に延びる柱状の石英ガ
ラス層である。この出力導波路２４は、モードフィルタ
導波路２２の光出射端面（出力導波路２４側の端面）と
自らの光入射端面（モードフィルタ導波路２２側の端
面）とを突き合わせてモードフィルタ導波路２２に接続
されており、モードフィルタ導波路２２と中心軸がほぼ
一致するように配置されている。

【００２０】このように、入力導波路２０、モードフィ
ルタ導波路２２及び出力導波路２４は互いに中心軸を一
致させながら接続されており、一つの導波路を構成して
いる。入力導波路２０からモードフィルタ導波路２２を
介して出力導波路２４に入射した伝搬光は二つに分岐さ
れ、各分岐光は曲線部２４ｃ及び２４ｄ内を進行する。
したがって、本実施例の光回路は光分岐結合器として機
能する。

【００２１】上部クラッド層１４は、入力導波路２０、
モードフィルタ導波路２２及び出力導波路２４を密着し
て覆うように下部クラッド層１２上に形成された厚さ４
０μｍの石英（ＳｉＯ₂ ）ガラス層である。この上部ク
ラッド層１４と下部クラッド層１２とは一体となって一
つのクラッド層を構成しており、各導波路はこのクラッ
ド層内に埋設されている。

【００２２】入力導波路２０、モードフィルタ導波路２
２及び出力導波路２４は、いずれも上部クラッド層１４
及び下部クラッド層１２より高い屈折率を有しており、
各導波路内に光を閉じこめて伝搬させるようになってい
る。具体的には、入力導波路２０、モードフィルタ導波
路２２及び出力導波路２４の屈折率は１．４５３であ
り、上部クラッド層１４及び下部クラッド層１２の屈折
率は１．４５０である。

【００２３】これらの導波路はいずれもシングルモード
導波路であり、所定の条件下で０次モード光のみを伝搬
させるように設計されている。しかしながら、製造時に
導波路とクラッドとの境界面に凹凸が生じたり、屈折率
分布が設計どおりに制御されないことかあるため、一部
の高次モード光が伝搬されうるような構造になっている
ことがある。

【００２４】本実施例の光回路は、このような高次モー
ド光をモードフィルタ導波路２２によって除去あるいは
低減するものである。図４は、本実施例の光回路におけ
る高次モード光の除去を説明するための図である。この
図に示されるように、モードフィルタ導波路２２は、入
力導波路２０の光出射端面及び出力導波路２４の光入射
端面よりも小さい幅と厚さを有しているが、導波路の幅
や高さが小さいほど導波路内を伝搬する高次モード光は
導波路外部に放射されやすくなるので、入力導波路２０
内から入射した高次モード光はモードフィルタ導波路２
２を伝搬する途中で外部に放射されることになる。一
方、０次モード光は、高次モード光に比較して導波路内
における光パワー分布が中心軸近傍に集中しているの
で、高次モード光よりも外部に放射されにくい。入力導
波路２０、モードフィルタ導波路２２及び出力導波路２
４は互いに中心軸を一致させて接続されているので、中
心軸に沿って進行する０次光は入力導波路２０からモー
ドフィルタ導波路２２を介して出力導波路２４まで良好
に伝搬される。このように、本実施例の光回路では、入
力導波路内を進行する高次モード光のみがモードフィル
タ導波路２２で除去あるいは低減されることになる。し
たがって、本実施例の光回路を用いれば、高次モード光
が長距離通信や大容量通信、出力導波路２４の光分岐機
能等に与える悪影響を除去あるいは低減することができ
る。

【００２５】次に、本実施例の光回路の作製方法を説明
する。図５〜図１３は、各作製工程を示す図である。こ
れらの図面では、本実施例の光回路のうち入力導波路２
０とモードフィルタ導波路２２を含む部分のみの作製工
程が図示されている。出力導波路２４は入力導波路２０
と同様に作製することができるため省略した。

【００２６】本実施例では、まず、厚さ１ｍｍの平行平
板のシリコン基板１０を用意し、表面を洗浄する。次い
で、火炎堆積法（ＦＨＤ）を用いて、基板１０上に石英
系ガラスからなる厚さ７０μｍの下部クラッド層１２を
形成する。具体的には、まず、ＳｉＣｌ₄ 、ＢＣｌ₃ お
よびＰＯＣｌ₃ を酸水素炎バーナに供給しながらバーナ
火炎中で生成されたガラス微粒子をシリコン基板１０の
上面に吹き付けて、ガラス微粒子層（ＳｉＯ₂ ＋Ｂ₂ Ｏ
₃ ＋Ｐ₂ Ｏ₅ ）を堆積させる。次に、シリコン基板１０
を焼結炉内で加熱してガラス微粒子を焼結させ、その
後、徐冷して透明ガラス化する。こうして、下部クラッ
ド層１２（ＳｉＯ₂ ＋Ｂ₂ Ｏ₃ ＋Ｐ₂ Ｏ₅）が形成され
る（図５）。

【００２７】次に、一般的なフォトリソグラフィ技術を
用いて、下部クラッド層１２の上面に厚さ１μｍの感光
性レジスト層３０を形成する。図６に示されるように、
このレジスト層３０は、下部クラッド層１２の上面の約
半分を覆っており、他の半分は露出した状態になってい
る。

【００２８】続いて、レジスト層３０をエッチングマス
クとしてドライエッチングの一種である反応性イオンエ
ッチングを行い、下部クラッド層１２の露出部分を約１
μｍ除去する。エッチングが完了したら、レジスト層３
０を除去する。これによって、下部クラッド層１２の上
面に図７に示されるような段差が形成される。この段差
は、入力導波路２０の下面とモードフィルタ導波路２２
の下面とがなす段差と同一のものである。

【００２９】次に、図８に示すように下部クラッド層１
２上に入力導波路２０及びモードフィルタ導波路２２と
なるべき厚さ８μｍのコア層４０を形成する。なお、こ
の厚さは、段差のある下部クラッド層１２の上面のうち
低い方の面からの厚さである。このコア層４０は、下部
クラッド層１２と同様に火炎堆積法を用いて形成する。
コア層４０には石英ガラスの屈折率上昇材であるＧｅＯ
₂ が添加されており、下部クラッド層１２よりも屈折率
が高くなるように調節されている。また、図８に示され
るように、コア層４０の上面は平坦になっている。

【００３０】次に、コア層４０上に厚さ１μｍの感光性
レジスト層３２を形成する。レジスト層３２は、図９に
示されるように、比較的幅の広い第１の帯状部分３２ａ
とこれよりも幅の狭い第２の帯状部分３２ｂから構成さ
れている。帯状部分３２ａの幅は約８ｍｍであり、帯状
部分３２ｂの幅は約６ｍｍである。帯状部分３２ａと帯
状部分３２ｂとは、互いの中心軸を一致させて連結して
いる。

【００３１】次いで、レジスト層３２をエッチングマス
クとして反応性イオンエッチングを行い、コア層４０の
露出部分及びこの部分の直下に位置する下部クラッド層
１２を、下部クラッド層１２の上面のうち低い方の面が
露出するまで除去する。エッチングが完了したら、レジ
スト層３２を除去する（図１０）。

【００３２】これにより、下部クラッド層１２上に正方
形の断面を有する柱状のコア部材４０ａと長方形の断面
を有するコア部材４０ｂが形成される。コア部材４０ａ
は入力導波路２０そのものであり、コア部材４０ｂはモ
ードフィルタ導波路２２となるべき部材である。コア部
材４０ａの幅及び厚さはともに約８μｍであり、コア部
材４０ｂの幅は約６μｍ、厚さは約７μｍである。コア
部材４０ｂの下方には、エッチングによって除去されず
に残った下部クラッド層１２の突起状部分１２ａが存在
しているため、上面は一致しているにもかかわらずコア
部材４０ｂはコア部材４０ａよりも薄くなっている。

【００３３】次に、図１１のように、下部クラッド層１
２及びコア部材４０ａの上面に厚さ９μｍの感光性レジ
スト層３４ａ、３４ｂ及び３６を形成し、コア部材４０
ｂの上面のみが露出するようにしておく。

【００３４】続いて、レジスト層３４ａ、３４ｂ及び３
６をエッチングマスクとして反応性イオンエッチングを
行い、コア部材４０ｂの上面を約１μｍ除去する。エッ
チングが完了したら、レジスト層３４及び３６を除去す
る（図１２）。これにより、幅及び厚さがともに約６μ
ｍの柱状のコア部材４０ｃが形成される。このコア部材
４０ｃが、モードフィルタ導波路２２である。コア部材
４０ａとコア部材４０ｃとは、互いの中心軸を略一致さ
せて接続されている。こうして、下部クラッド層１２上
に入力導波路２０とモードフィルタ導波路２２が形成さ
れる。

【００３５】次に、火炎堆積法を用いて下部クラッド層
１２上に厚さ約４０μｍの上部クラッド層１４（ＳｉＯ
₂ ＋Ｂ₂ Ｏ₃ ＋Ｐ₂ Ｏ₅ ）を形成する。これにより、入
力導波路２０及びモードフィルタ導波路２２は上部クラ
ッド層１４に被覆される（図１３）。下部クラッド層１
２と上部クラッド層１４は一体となって一つのクラッド
層を構成しており、入力導波路２０及びモードフィルタ
導波路２２はこのクラッド層内に埋め込まれた状態で固
定されることになる。

【００３６】以上のようにして、本実施例に係る光回路
が作製される。なお、出力導波路２４の作製については
説明を省略したが、出力導波路２４と同一の平面形状を
有するレジスト層をコア層４０上に形成してエッチング
を行うことで、入力導波路２０と同様に形成することが
できる。図の光回路を作製する場合は、入力導波路２
０、モードフィルタ導波路２２及び出力導波路２４から
なる一連の導波路と同一の平面形状を有するレジスト層
をコア層４０上に形成してエッチングを行えば良い。一
般的に言えば、作製すべき導波路と同一の平面形状を有
するレジスト層をコア層４０上に形成してからエッチン
グを行うことで、所望のパターンの導波路を形成するこ
とができる。このときも、モードフィルタ導波路に相当
する幅の狭い部分を含むようにレジスト層を形成する。

【００３７】次に、本実施例の光回路の応用例を説明す
る。図１４は、図１の光回路を１×ｎ分岐（ｎは２以上
の整数）の光回路に応用した例を示す平面断面図であ
る。これは、本実施例の光回路を直列に複数接続したも
ので、ねずみ算式に出力側の導波路の数が増加していく
ものである。この光回路でも、入力導波路と出力導波路
との間に介在する幅及び高さの小さいモードフィルタ導
波路により高次モードがカットされるので、好適な光分
岐結合動作が行われる。

【００３８】以上、本発明の実施例を詳細に説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、様
々な変形が可能である。例えば、本発明は様々なタイプ
の光回路に適用することができ、上述した埋め込み型の
光回路のみならず、リッジ型や装荷型の光回路にも適用
することができる。また、本実施例ではシリコン基板を
用いて光回路を作製したが、代わりに石英基板を用いて
本発明の光回路を作製することもできる。この場合は、
石英基板が下部クラッド層の働きをするので、基板上に
下部クラッド層を形成しなくて済む。作製方法を簡単に
説明すると、まず、石英基板にエッチング等の加工を施
し、入力導波路及びモードフィルタ導波路の下面がなす
段差、並びにモードフィルタ導波路及び出力導波路の下
面がなす段差を形成する。次に、この石英基板上にコア
層を堆積してから、実施例と同様のパターンニング加工
を施すことで、石英基板の上面に入力導波路、モードフ
ィルタ導波路及び出力導波路を直接形成する。この後、
これらの導波路を被覆するように上部クラッド層を形成
すると、光回路が完成する。このように石英基板を基体
として用いれば、石英基板が下部クラッド層の働きをす
るので、基板上に下部クラッド層を形成しなくて済む。
これにより作製工程が削減されるので、本発明の光回路
を効率良く作製することができる。

【００３９】

【発明の効果】以上、詳細に説明した通り、本発明の光
回路によれば、導波路内を進行する高次モード光がモー
ドフィルタ導波路で除去あるいは低減されるので、好適
な長距離通信や大容量通信、あるいは光機能動作を実現
することができる。

【００４０】また、本発明の光回路の作製方法によれ
ば、上記の効果を奏する光回路を好適に作製することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例の光回路の構成を示す斜視図である。

【図２】本実施例の光回路の第１の断面図である。

【図３】本実施例の光回路の第２の断面図である。

【図４】本実施例における高次モード光の除去を説明す
るための図である。

【図５】本実施例の光回路の作製方法を示す第１の工程
図である。

【図６】本実施例の光回路の作製方法を示す第２の工程
図である。

【図７】本実施例の光回路の作製方法を示す第３の工程
図である。

【図８】本実施例の光回路の作製方法を示す第４の工程
図である。

【図９】本実施例の光回路の作製方法を示す第５の工程
図である。

【図１０】本実施例の光回路の作製方法を示す第６の工
程図である。

【図１１】本実施例の光回路の作製方法を示す第７の工
程図である。

【図１２】本実施例の光回路の作製方法を示す第８の工
程図である。

【図１３】本実施例の光回路の作製方法を示す第９の工
程図である。

【図１４】本実施例の光回路を１×ｎ分岐（ｎは２以上
の整数）の光回路に応用した例を示す平面断面図であ
る。

【符号の説明】

１０…基板、１２…下部クラッド層、１４…上部クラッ
ド層、２０…入力導波路、２２…モードフィルタ導波
路、２４…出力導波路。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 柱状の入力導波路と、 所定の幅及び厚さを有する柱状のモードフィルタ導波路
   であって、前記入力導波路の中心軸と自らの中心軸とを
   略一致させ、前記入力導波路の光出射端面と自らの光入
   射端面とを突き合わせて前記入力導波路に接続されたも
   のと、 前記モードフィルタ導波路の中心軸と自らの中心軸とを
   略一致させ、前記モードフィルタ導波路の光出射端面と
   自らの光入射端面とを突き合わせて前記モードフィルタ
   導波路に接続された柱状の出力導波路と、 を備える光回路であって、 前記モードフィルタ導波路の幅は、前記入力導波路の光
   出射端面の幅及び前記出力導波路の光入射端面の幅より
   それぞれ小さく、前記モードフィルタ導波路の厚さは、
   前記入力導波路の光出射端面の厚さ及び前記出力導波路
   の光入射端面の厚さよりそれぞれ小さいことを特徴とす
   る光回路。
2. 【請求項２】 請求項１記載の光回路を作製する方法で
   あって、 上面が平坦な基体を用意し、この基体上部を加工して前
   記入力導波路、モードフィルタ導波路及び出力導波路の
   各下面と略同一形状にする第１の工程と、 前記基体上に前記基体上部よりも屈折率が高い第１の導
   波路材料層を形成する第２の工程と、 前記第１の導波路材料層に、前記入力導波路、モードフ
   ィルタ導波路及び出力導波路からなる一連の導波路の平
   面形状と同一のマスクパターンを用いてエッチング加工
   を施すことにより、前記入力導波路及び出力導波路を形
   成するとともに、前記モードフィルタ導波路と同一の平
   面形状を有し、その上面が前記入力導波路及び出力導波
   路の上面と一平面をなすモードフィルタ部材を形成する
   第３の工程と、 前記モードフィルタ部材にエッチング加工を施してその
   上部を所定の厚さだけ除去することにより前記モードフ
   ィルタ導波路を形成する第４の工程と、 を備える光回路の作製方法。