JPH0627334A - 光導波路 - Google Patents

光導波路

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JPH0627334A
JPH0627334A JP18326692A JP18326692A JPH0627334A JP H0627334 A JPH0627334 A JP H0627334A JP 18326692 A JP18326692 A JP 18326692A JP 18326692 A JP18326692 A JP 18326692A JP H0627334 A JPH0627334 A JP H0627334A
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JP
Japan
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waveguide
optical
substrate
waveguides
optical waveguide
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Application number
JP18326692A
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English (en)
Inventor
Yoshiaki Takeuchi
善明 竹内
Masaharu Horiguchi
正治 堀口
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板上に形成された光導波路の光ファイバ、
LD等の他の光部品との接続性を向上する。また、導波
路中に光素子を低損失で挿入する。 【構成】 基板上に形成された光導波路であって、光回
路の入出力端部の主導波路幅がテーパにより拡大されて
おり、該入出力端部の導波路の上部、下部の少なくとも
一方に、互いの光軸が平行でかつ基板に対して垂直に整
列した補助導波路が該主導波路に接するかもしくは近接
して形成されており、これらの上部、下部の補助導波路
の導波路端面と反対側の終端がテーパ状に形成され、光
回路の入出力端面が複数の導波路と一体化して形成され
ている。また、前記一体化導波路部の中心付近を横断す
る溝が形成され、該溝に光素子が挿入されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板上に形成されてな
る光導波路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光通信システム等に用いられる光部品と
して、基板上の光導波路により構成される導波型光回路
は、フォトリソグラフィ技術により一括大量形成でき、
複雑な回路の集積化の可能性のある部品形態として注目
されている。特に、石英ガラス基板やシリコン基板上に
石英系ガラス材料を基本として構成される石英系光導波
路は、低損失で石英系光ファイバとの接続性にも優れる
ことから、実用的な導波路型光回路として開発が進んで
いる。
【0003】光通信方式やシステムの高度化に伴い、光
導波型回路には、回路の大規模集積化、多機能化の要求
が高まってきている。これに対応する手段として、最小
曲率半径を小さくすることのできる比屈折率差△が大き
く、コア寸法の小さい高比屈折率差導波路を用いる方法
がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、高比屈折率差
導波路は、標準の光ファイバとの整合性が悪いため、そ
れらの接続点において大きな接続損が生じるという問題
があった。
【0005】また、高比屈折率差導波路との整合性を持
たせた高比屈折率差光ファイバと接続した場合にも光信
号のモードフィールド径が数μmと小さいため、高精度
な接続技術を必要とし、実用性に欠けていた。
【0006】更に、高比屈折率差導波路は、導波回路中
に薄膜フィルタや偏光子、磁気光学材料等の薄型の光素
子を挿入するために溝を切った場合、溝幅の増加ととも
に光の散乱による損失が急激に増加するため、この方法
が実用的でなくなるという問題があった。
【0007】本発明は、かかる事情に鑑みなされたもの
であり、本発明の目的は、基板上に形成された光導波路
の光ファイバ、レーザダイオード(LD)等の他の光部
品との接続性を向上することが可能な技術を提供するこ
とにある。
【0008】本発明の他の目的は、導波路中に光素子を
低損失で挿入することが可能な技術を提供することにあ
る。
【0009】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
にする。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、基板上に形成された光導波路であって、
光回路の入出力端部の主導波路幅がテーパにより拡大さ
れており、該入出力端部の導波路の上部、下部の少なく
とも一方に、互いの光軸が平行で、かつ基板に対して垂
直に整列した補助導波路が、該主導波路に接するかもし
くは近接して形成されており、これらの上部、下部の補
助導波路の導波路端面と反対側の終端がテーパ状に形成
され、光回路の入出力端面が複数の導波路と一体化して
形成されていることを最も主要な特徴とする。
【0011】また、前記一体化導波路部の中心付近を横
断する溝が形成され、該溝に光素子が挿入されているこ
とを特徴とする。
【0012】
【作用】従来の技術では、同一基板内でモードフィール
ド径を低損失で変化させることは困難であったが、前述
した手段によれば、光導波路の幅をその一部で拡大させ
るとともに、その幅拡大導波路部分の上部、下部または
その両方に補助導波路を積層した構造を形成し、それら
の導波路を一体化させることにより、同一基板内で光導
波路の一部のモードフィールド径を低損失で拡大するこ
とができる。
【0013】
【実施例】以下に、図面を参照して、本発明の実施例を
詳細に説明する。
【0014】なお、実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。
【0015】(実施例1)図1は、本発明の光導波路の
実施例1の入出力端子部の導波路構造を示す斜視図であ
って、1は基板、2は下側クラッド層、3は主導波路コ
ア、4は中間クラッド層、5は上部補助導波路コア、6
は上側クラッド層である。
【0016】本実施例1では、図1に示すように、導波
路として比屈折率差△=2%の高比屈折率差(△)導波
路を用い、主導波路コア3の断面は4μm角で、入出力
部付近のみ横幅が8μmに拡大している。この横幅拡大
部の長さは2mmで、横幅はそれに続く0.75mm長
のテーパ部により直線的に増加させた。上部補助導波路
コア5は、主導波路コア3の端子部に重ねるように形成
し、その形状は、端面側で厚さ4μm、幅8μmで長さ
2mmの均一幅部とそれに続く長さ1.5mmのテーパ
部とより成り立っており、厚さは均一である。
【0017】この光導波路の作製工程を図2に示す。直
径4インチ、厚さ1mmのシリコン基板上にFHD堆積
法により、まず、下側クラッド層2として組成がSiO
2−P25−B23の石英系ガラス膜を20μm堆積し
た(a)。膜の透明化は1400℃のHeとO2の混合
雰囲気中で行った。次に、主導波路コア3のコア膜とし
て組成がSiO2−GeO2の石英系ガラスをECR堆積
法により堆積した。
【0018】本実施例1では、ECR堆積法を用いた
が、CVD堆積法やスパッタ堆積法、FHD堆積法を用
いてもコア膜の作製は可能である。その次に、反応性イ
オンエッチングにより主導波路コア3を成形した
(b)。
【0019】次に、中間クラッド層4として組成がSi
2の石英ガラスをECR堆積法により堆積した
(c)。その際、中間クラッド層4は、特願平1−43
781号の導波路クラッド膜平坦化技術を用いて、主導
波路コア3と同じ厚さの表面が平坦なクラッド層とし
た。
【0020】本実施例1では、ECR堆積法を用いて中
間クラッド層を作製したが、CVD堆積法やスパッタ堆
積法、FHD堆積法等で堆積した後、研磨等により表面
を平坦にする方法を用いても、平坦な中間クラッド層の
作製は可能である。
【0021】次に、主導波路コア3と同様にして入出力
端部に上部補助導波路コア5を成形し、主導波路コア3
の入出力部と一体化させた(d)。最後に、FHD堆積
法を用いて、上部補助導波路コア5を埋め込む上側クラ
ッド層6として組成がSiO2−P25−B23の石英
系ガラス膜を20μm堆積した(e)。ガラスの透明化
は1200℃のHeとO2の混合雰囲気中で行った。
【0022】この光導波路の単一モード光ファイバとの
接続損失を測定した。用いた光ファイバは比屈折率差△
=0.32%、コア径7.8μm、ファイバ径124μ
m、遮断波長1.19μmの石英系光ファイバとした。
光導波路と光ファイバとの位置合わせは、精密微動台を
用い、突き合わせにより測定した。光源は波長1.55
μmのレーザダイオード(LD)光源を用いた。測定接
続損失は0.5dBであった。従来の入出力端子部の形
成されていない光導波路で同様な試験をしたところ、接
続損失は約2.5dBであり、本実施例1では、従来法
と比較し接続損失を大幅に低減することができた。
【0023】(実施例2)図3は、本発明の光導波路の
実施例2の波長選択素子挿入部の光導波路コアの構造を
示す斜視図であり、図4は、本実施例2の中心付近の断
面構造を示す断面図であって、11は基板、12は第1
クラッド層、13は下部補助導波路コア、14は第2ク
ラッド層、15は主導波路コア、16は第3クラッド
層、17は上部補助導波路コア、18は上部クラッド
層、19は波長選択素子挿入用溝である。
【0024】本実施例2の光導波路は、前記実施例1と
同様な方法で作製した。
【0025】本実施例2では、図3に示すように、導波
路として比屈折率差△=1.8%の高比屈折率差(△)
導波路を用い、主導波路コア15の断面は4μm角で、
波長選択素子挿入部のみ横幅が12μmに拡大してい
る。この横幅拡大部の長さは4mmで、横幅は両側の2
mm長のテーパ部により直線的に増加させた。下部及び
上部補助導波路コア13,17は、主導波路コア15の
横幅増加部に重ねるように形成し、その形状は中心付近
で厚さ3.8μm、幅12μmで長さ4mmの均一幅部
と、それに続く両側の3mmのテーパ部とより成り立っ
ており、厚さは均一である。導波路間の第2及び第3ク
ラッド層14,16の厚さは、何れも0.2μmとし
た。これらの3つの導波路が一体となって形成された素
子挿入部の中心に幅が約45μm、導波路光軸に垂直な
面からの傾きが8度の波長選択素子挿入用溝19をダイ
シングソーにより形成し、大きさ2mm×2mm、厚さ
30μmの誘電体多層膜(TiO2/SiO2)からなる
短波長通過形フィルタ(1.3/1.55μmSWPF)
を挿入して、光学接着剤で固定した。
【0026】本実施例2の導波路の波長選択素子挿入部
の過剰損失を波長1.3μmのレーザダイオード(L
D)光源で測定したところ、約1dBであった。従来の
均一幅の主導波路のみの場合、波長選択素子を本実施例
2と同様な方法で挿入したところ、過剰損失は約5dB
であった。本実施例2では、回折損失が大幅に低減され
たものと考えられる。
【0027】以上、本発明を、前記実施例に基づき具体
的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変
更可能であることは勿論である。
【0028】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明によれ
ば、基板上に形成された光導波路において、同一基板内
で光導波路の一部のモードフィールド径を低損失で拡大
することができるので、光ファイバ、レーザダイオード
(LD)等の他の光部品との接続性を向上することがで
きる。また、導波路中に光素子を低損失で挿入すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の光導波路の実施例1の入出力端子部
の導波路構造を示す斜視図、
【図2】 本実施例1の光導波路の作製工程を示す断面
図、
【図3】 本発明の光導波路の実施例2による波長選択
素子挿入部の光導波路コアの構造を示す斜視図、
【図4】 本実施例2の光導波路の中心付近の断面構造
を示す断面図。
【符号の説明】
1…基板、2…下側クラッド層、3…主導波路コア、4
…中間クラッド層、5…上部補助導波路コア、6…上側
クラッド層、11…基板、12…第1クラッド層、13
…下部補助導波路コア、14…第2クラッド層、15…
主導波路コア、16…第3クラッド層、17…上部補助
導波路コア、18…上部クラッド層、19…波長選択素
子挿入用溝。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に形成された光導波路であって、
    光回路の入出力端部の主導波路幅がテーパにより拡大さ
    れており、該入出力端部の導波路の上部、下部の少なく
    とも一方に、互いの光軸が平行で、かつ基板に対して垂
    直に整列した補助導波路が、該主導波路に接するかもし
    くは近接して形成されており、これらの上部、下部の補
    助導波路の導波路端面と反対側の終端がテーパ状に形成
    され、光回路の入出力端面が複数の導波路と一体化して
    形成されていることを特徴とする光導波路。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の光導波路において、前
    記一体化導波路部の中心付近を横断する溝が形成され、
    該溝に光素子が挿入されていることを特徴とする光導波
    路。
JP18326692A 1992-07-10 1992-07-10 光導波路 Pending JPH0627334A (ja)

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