JPH0660966B2 - 光デバイスの製造方法 - Google Patents
光デバイスの製造方法Info
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- JPH0660966B2 JPH0660966B2 JP61205370A JP20537086A JPH0660966B2 JP H0660966 B2 JPH0660966 B2 JP H0660966B2 JP 61205370 A JP61205370 A JP 61205370A JP 20537086 A JP20537086 A JP 20537086A JP H0660966 B2 JPH0660966 B2 JP H0660966B2
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- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/12007—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind forming wavelength selective elements, e.g. multiplexer, demultiplexer
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- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
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- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/30—Optical coupling means for use between fibre and thin-film device
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- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B2006/12083—Constructional arrangements
- G02B2006/12109—Filter
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 結合度が安定で、結合損失の少ない光カプラ，光合分波
器，光減衰器等の光デバイスを低コストで構成しうるよ
うにするための製造方法であって、ガラス等の透明基板
表面部分を、配置されるべき導波路上の所定位置の所望
形状の角形突片を少なくとも残してエッチング除去し、
角形突片の１面上のみに光学膜を被着し光学膜付突片を
形成し、光学膜付突片を含む基板表面にクラッド層及び
コア層を積層し、かかる積層をエッチングして光学膜付
突片の光学膜面に一端が密着し基板上に延在する光導波
路と、光学膜の付着されていない対向面に一端が密着し
基板上に延在する光導波路とを形成し、続いて各導波路
の上面及び側面をクラッド層で覆うようにする。
器，光減衰器等の光デバイスを低コストで構成しうるよ
うにするための製造方法であって、ガラス等の透明基板
表面部分を、配置されるべき導波路上の所定位置の所望
形状の角形突片を少なくとも残してエッチング除去し、
角形突片の１面上のみに光学膜を被着し光学膜付突片を
形成し、光学膜付突片を含む基板表面にクラッド層及び
コア層を積層し、かかる積層をエッチングして光学膜付
突片の光学膜面に一端が密着し基板上に延在する光導波
路と、光学膜の付着されていない対向面に一端が密着し
基板上に延在する光導波路とを形成し、続いて各導波路
の上面及び側面をクラッド層で覆うようにする。
本発明は、光カプラ，光合分波器，光減衰器等の光デバ
イスの製造方法に関する。
イスの製造方法に関する。
光カプラ，光合分波器，光減衰器等の光デバイスは、透
明板（例えばガラス板，シリコン板）の表面に屈折率の
異なる誘電体膜を交互に数十層積層した光学膜を、基板
上に形成した複数の光導波路の光路上に挿入して構成し
たものが、小形で、且つ光結合損失が小さいので、広く
使用されている。
明板（例えばガラス板，シリコン板）の表面に屈折率の
異なる誘電体膜を交互に数十層積層した光学膜を、基板
上に形成した複数の光導波路の光路上に挿入して構成し
たものが、小形で、且つ光結合損失が小さいので、広く
使用されている。
第３図は従来の製造方法により形成された光デバイスの
斜視図であって、(a)は光導波路に光学膜付基板を組込
む前の斜視図、(b)は組込み後の斜視図である。
斜視図であって、(a)は光導波路に光学膜付基板を組込
む前の斜視図、(b)は組込み後の斜視図である。
第３図(a)において、４はガラス，シリコン等よりなる
基板であって、その表面をドライエッチングして一方の
側縁部に並行した一対のガイド溝５ａ，５ｂを有する保
持ブロック５が形成されている。このガイド溝５ａは後
述する第１の光フアイバ７を、ガイド溝５ｂは第３の光
フアイバ９をそれぞれ挿着する溝である。
基板であって、その表面をドライエッチングして一方の
側縁部に並行した一対のガイド溝５ａ，５ｂを有する保
持ブロック５が形成されている。このガイド溝５ａは後
述する第１の光フアイバ７を、ガイド溝５ｂは第３の光
フアイバ９をそれぞれ挿着する溝である。
また、保持ブロック５に対向して反対側の側縁部で、ガ
イド溝５ａの延伸線上に、第２の光フアイバ８を挿着す
るガイド溝６ａを有する保持ブロック６が形成されてい
る。
イド溝５ａの延伸線上に、第２の光フアイバ８を挿着す
るガイド溝６ａを有する保持ブロック６が形成されてい
る。
そして、ガイド溝５ａの延伸線上に第１の光導波路１が
ガイド溝６ａの延伸線上に第２の光導波路２が形成さ
れ、第１の光導波路１と第２の光導波路２の当接部に
は、上面視が所望の斜視角を有し、幅が例えば５０μｍ
〜１００μｍ程度の導波路間隙１５が設けられている。
ガイド溝６ａの延伸線上に第２の光導波路２が形成さ
れ、第１の光導波路１と第２の光導波路２の当接部に
は、上面視が所望の斜視角を有し、幅が例えば５０μｍ
〜１００μｍ程度の導波路間隙１５が設けられている。
さらに、導波路間隙１５の第１の光導波路１側は、第１
の光導波路１から分岐し、ガイド溝５ｂに通ずる第３の
光導波路３が形成されている。
の光導波路１から分岐し、ガイド溝５ｂに通ずる第３の
光導波路３が形成されている。
これらの光導波路１，２，３の断面形状は、光フアイバ
のコア径により定まる所定の角形である。
のコア径により定まる所定の角形である。
一方、導波路間隙１５に挿着する光学膜付基板１０は、
短冊形のガラスブロック１１の１側面に、所望の特性を
有する光学膜（例えばフイルター膜）１２を形成したも
のである。
短冊形のガラスブロック１１の１側面に、所望の特性を
有する光学膜（例えばフイルター膜）１２を形成したも
のである。
第３図(b)は上述のような光学膜付基板１０を導波路間
隙１５中に組込んで形成した光デバイスである。
隙１５中に組込んで形成した光デバイスである。
第３図(b)において、導波路間隙１５に光学接着剤を充
填して、その後、光学膜付基板１０を導波路間隙１５に
押入することにより、光学膜付基板１０は導波路間隙１
５内に固着されている。
填して、その後、光学膜付基板１０を導波路間隙１５に
押入することにより、光学膜付基板１０は導波路間隙１
５内に固着されている。
また、第１の光フアイバ７は、ガイド溝５ａに挿入さ
れ、その端面が第１の光導波路１の端面に当接した状態
で、保持ブロック５に例えばレーザー溶接，或いは接着
剤等の手段により固着され、第１の光導波路１に接続さ
れている。
れ、その端面が第１の光導波路１の端面に当接した状態
で、保持ブロック５に例えばレーザー溶接，或いは接着
剤等の手段により固着され、第１の光導波路１に接続さ
れている。
第２の光フアイバ８，第３の光フアイバ９もまた、第１
の光フアイバ１と同様な手段により、ガイド溝６ａ，ガ
イド溝５ｂにそれぞれ挿入され固着されて、それぞれ第
２の光導波路２，第３の光導波路３にそれぞれ接続され
ている。
の光フアイバ１と同様な手段により、ガイド溝６ａ，ガ
イド溝５ｂにそれぞれ挿入され固着されて、それぞれ第
２の光導波路２，第３の光導波路３にそれぞれ接続され
ている。
したがって、例えば光学膜１２がフイルター膜の場合に
は、第１の光フアイバ７に波長λ１，λ２の合波を入射
させると、第１の光導波路１に伝送され、波長λ１の光
は光学膜付基板１０の光学膜１２を透過して直進し、第
２の光導波路２を経て第２の光フアイバ８に入射する。
は、第１の光フアイバ７に波長λ１，λ２の合波を入射
させると、第１の光導波路１に伝送され、波長λ１の光
は光学膜付基板１０の光学膜１２を透過して直進し、第
２の光導波路２を経て第２の光フアイバ８に入射する。
一方、波長λ２の光は、光学膜１２で反射して、第３の
光導波路３に入射し、第３の光導波路３を経て第３の光
フアイバ９に入射する。即ち、図示の光デバイスは、光
合分波器の機能を有する。
光導波路３に入射し、第３の光導波路３を経て第３の光
フアイバ９に入射する。即ち、図示の光デバイスは、光
合分波器の機能を有する。
しかしながら上記従来の製造方法により形成された光デ
バイスでは、導波路間隙１５中に光学膜付基板１０が密
着挿入しうるようにしないと、光学膜付基板１０が光導
波路と所定の角度とはならず、導波路間隙と拡散膜との
間に裕度が生ずると光デバイスの所望の特性を得ること
ができなくなる。
バイスでは、導波路間隙１５中に光学膜付基板１０が密
着挿入しうるようにしないと、光学膜付基板１０が光導
波路と所定の角度とはならず、導波路間隙と拡散膜との
間に裕度が生ずると光デバイスの所望の特性を得ること
ができなくなる。
しかし、光学膜付基板１０の厚さ及び導波路間隙１５を
そのように高精度に加工することは困難であるので、光
学膜付基板１０を導波路間隙１５に挿入後、光学膜付基
板１０の角度を調整しなければならないという問題点が
ある。
そのように高精度に加工することは困難であるので、光
学膜付基板１０を導波路間隙１５に挿入後、光学膜付基
板１０の角度を調整しなければならないという問題点が
ある。
また、光学膜付基板１０の厚さは、取扱上の理由から薄
くすることが困難であり、その厚さはせいぜい５０μｍ
程度である。このため、光が光学膜付基板１２を通過す
る間に発散して、光結合度が低下するという問題点があ
る。
くすることが困難であり、その厚さはせいぜい５０μｍ
程度である。このため、光が光学膜付基板１２を通過す
る間に発散して、光結合度が低下するという問題点があ
る。
さらに、光学膜付基板１０を光学接着剤で導波路間隙１
５部分に固着するため、温度変化，経時変化等により、
光学接着剤の接着強度が低下して光学膜付基板１０が動
き、光デバイス特性の信頼性が低くなるという問題点
と、光学膜付基板１０の位置の調整，或いは光学膜付基
板１０を、基板４とは別個に作らねばならないので、コ
スト高になるという問題点がある。
５部分に固着するため、温度変化，経時変化等により、
光学接着剤の接着強度が低下して光学膜付基板１０が動
き、光デバイス特性の信頼性が低くなるという問題点
と、光学膜付基板１０の位置の調整，或いは光学膜付基
板１０を、基板４とは別個に作らねばならないので、コ
スト高になるという問題点がある。
上記問題点は本発明により、ガラス等の透明基板４０の
表面部分を、配置されるべき導波路上の所定位置の所望
形状の角形突片２１を少なくとも残してエッチング除去
する工程、角形突片の１面上のみに光学膜２２を被着し
光学膜付突片２０を形成する工程、光学膜付突片を含む
基板表面にクラッド層及びコア層を積層する工程、かか
る積層をエッチングして光学膜付突片の光学膜面に一端
が密着し基板上に延在する光導波路１，３と、光学膜の
付着されていない対向面に一端が密着し基板上に延在す
る光導波路２とを形成する工程及び各導波路の上面及び
側面をクラッド層で覆う工程を含むことを特徴する光デ
バイスの製造方法によって解決される。
表面部分を、配置されるべき導波路上の所定位置の所望
形状の角形突片２１を少なくとも残してエッチング除去
する工程、角形突片の１面上のみに光学膜２２を被着し
光学膜付突片２０を形成する工程、光学膜付突片を含む
基板表面にクラッド層及びコア層を積層する工程、かか
る積層をエッチングして光学膜付突片の光学膜面に一端
が密着し基板上に延在する光導波路１，３と、光学膜の
付着されていない対向面に一端が密着し基板上に延在す
る光導波路２とを形成する工程及び各導波路の上面及び
側面をクラッド層で覆う工程を含むことを特徴する光デ
バイスの製造方法によって解決される。
上記本発明の製造方法によって形成された光デバイスで
は角形突片２１はエッチング手段で形成されたものであ
るので、充分に薄く形成されており、且つ平面視の角度
が高精度である。また、それぞれの光導波路は、基板４
０の表面に所望の誘電体層を形成し、その後エッチング
手段により形成することができる。よって、光学膜付突
片２０の側面には、それぞれの光導波路が密着してい
る。
は角形突片２１はエッチング手段で形成されたものであ
るので、充分に薄く形成されており、且つ平面視の角度
が高精度である。また、それぞれの光導波路は、基板４
０の表面に所望の誘電体層を形成し、その後エッチング
手段により形成することができる。よって、光学膜付突
片２０の側面には、それぞれの光導波路が密着してい
る。
したがって、光結合度が高く、且つ所望の光デバイス特
性を有している。
性を有している。
角形突片２１の側面に形成する光学膜２２は、リフトオ
フ手段により形成することができ、従来の如く、基板４
０とは別個に形成する必要がないので、調整作業等を必
要とせず、光デバイスが低コストである。
フ手段により形成することができ、従来の如く、基板４
０とは別個に形成する必要がないので、調整作業等を必
要とせず、光デバイスが低コストである。
以下図を参照しながら、本発明の製造方法を具体的に説
明する。
明する。
なお、全図を通じて同一符号は同一対象物を示す。
第１図(a)は本発明の製造方法によって形成された光デ
バイスの１例の斜視図、第１図(b)は第１図(a)の要部斜
視図、第２図(a)，(b)，(c)，(d)，(e)は本発明の製造
方法の一実施例の工程を示す図である。
バイスの１例の斜視図、第１図(b)は第１図(a)の要部斜
視図、第２図(a)，(b)，(c)，(d)，(e)は本発明の製造
方法の一実施例の工程を示す図である。
第１図において、透明体（例えばガラス，シリコン等）
よりなる基板４０の表面には、一方の側縁部に、並行し
た一対のガイド溝５ａ，５ｂを有する保持ブロック５
と、保持ブロック５に対向して反対側の側縁部におい
て、ガイド溝５ａの延伸線上に、ガイド溝６ａを有する
保持ブロック６とがエッチングで形成されている。
よりなる基板４０の表面には、一方の側縁部に、並行し
た一対のガイド溝５ａ，５ｂを有する保持ブロック５
と、保持ブロック５に対向して反対側の側縁部におい
て、ガイド溝５ａの延伸線上に、ガイド溝６ａを有する
保持ブロック６とがエッチングで形成されている。
また、ガイド溝５ａとガイド溝６ａとを結ぶ直線上の所
望の位置に、この直線とは光デバイスの特性から定まる
所定の角度に平面視角度が傾斜した、厚さの薄い（例え
ば２０μｍ）角形突片２１が、エッチングで形成され、
その角形突片２１の保持ブロック５側の側面に、所望の
光学膜（例えばフイルタ膜）２２が被着されて光学膜付
突片２０が形成されている。
望の位置に、この直線とは光デバイスの特性から定まる
所定の角度に平面視角度が傾斜した、厚さの薄い（例え
ば２０μｍ）角形突片２１が、エッチングで形成され、
その角形突片２１の保持ブロック５側の側面に、所望の
光学膜（例えばフイルタ膜）２２が被着されて光学膜付
突片２０が形成されている。
そして、端面が光学膜付突片２０の光学膜２２に密着し
て、ガイド溝５ａに通ずる第１の光導波路１が形成さ
れ、光学膜２２の被着されていない角形突片２１の側面
に、端面が密着して、ガイド溝６ａに通ずる第２の光導
波路２が形成されている。
て、ガイド溝５ａに通ずる第１の光導波路１が形成さ
れ、光学膜２２の被着されていない角形突片２１の側面
に、端面が密着して、ガイド溝６ａに通ずる第２の光導
波路２が形成されている。
また、光学膜付突片の光学膜２２側には、第１の光導波
路１の入射光の反射方向に傾斜して、第１の光導波路１
から分岐し、ガイド溝５ｂに通ずる第３の光導波路３が
形成されている。
路１の入射光の反射方向に傾斜して、第１の光導波路１
から分岐し、ガイド溝５ｂに通ずる第３の光導波路３が
形成されている。
これらの光導波路は中心部にコア層２３が形成され、コ
ア層２３の４側面にクラッド層２４が形成されたもので
ある。このコア層２３の断面形状は、光フアイバのコア
径により定まる所定の寸法であって、１０μｍ〜６０μ
ｍ程度の角形である。
ア層２３の４側面にクラッド層２４が形成されたもので
ある。このコア層２３の断面形状は、光フアイバのコア
径により定まる所定の寸法であって、１０μｍ〜６０μ
ｍ程度の角形である。
また、第１の光フアイバ７は、ガイド溝５ａに挿入さ
れ、その端面が第１の光導波路１の端面に当接した状態
で、保持ブロック５に例えばレーザー溶接，或いは接着
剤等の手段により固着され、第１の光導波路１に接続さ
れている。
れ、その端面が第１の光導波路１の端面に当接した状態
で、保持ブロック５に例えばレーザー溶接，或いは接着
剤等の手段により固着され、第１の光導波路１に接続さ
れている。
第２の光フアイバ８，第３の光フアイバ９もまた、第１
の光フアイバ１と同様な手段により、ガイド溝６ａ，ガ
イド溝５ｂにそれぞれ挿入され固着されて、それぞれ対
応する第２の光導波路２，第３の光導波路３に接続され
ている。
の光フアイバ１と同様な手段により、ガイド溝６ａ，ガ
イド溝５ｂにそれぞれ挿入され固着されて、それぞれ対
応する第２の光導波路２，第３の光導波路３に接続され
ている。
したがって、例えば光学膜２２がフイルター膜の場合、
第１の光フアイバ７に波長λ１，λ２の合波を入射させ
ると、第１の光導波路１に伝送され、波長λ１の光は光
学膜付突片２０の光学膜２２を透過して直進し、第２の
光導波路２を経て光フアイバ８に入射する。一方、波長
λ２の光は、光学膜２２で反射して、第３の光導波路３
に入射し、第３の光導波路３を経て第３の光フアイバ９
に入射する。上述のように、本発明の製造方法で構成さ
れた光デバイスは、角形突片２１が例えば２０μｍと充
分に薄いので、従来の光結合損失が０．５ｄＢであった
のに対して、０．１ｄＢと充分に小さい。
第１の光フアイバ７に波長λ１，λ２の合波を入射させ
ると、第１の光導波路１に伝送され、波長λ１の光は光
学膜付突片２０の光学膜２２を透過して直進し、第２の
光導波路２を経て光フアイバ８に入射する。一方、波長
λ２の光は、光学膜２２で反射して、第３の光導波路３
に入射し、第３の光導波路３を経て第３の光フアイバ９
に入射する。上述のように、本発明の製造方法で構成さ
れた光デバイスは、角形突片２１が例えば２０μｍと充
分に薄いので、従来の光結合損失が０．５ｄＢであった
のに対して、０．１ｄＢと充分に小さい。
また、光学膜付突片２０の傾斜角等を高精度に形成する
ことが容易であって、且つ後述するように、それぞれの
光導波路，角形突片２１，光学膜２２，保持ブロック
５，６等の形成が、互いに共通性の多いエッチング手段
及び誘電体膜形成手段により、基板４０上で行われるの
で、低コストである。
ことが容易であって、且つ後述するように、それぞれの
光導波路，角形突片２１，光学膜２２，保持ブロック
５，６等の形成が、互いに共通性の多いエッチング手段
及び誘電体膜形成手段により、基板４０上で行われるの
で、低コストである。
さらにまた、光学膜付突片２０は基板４０と一体となっ
ているので、温度，湿度等の環境が変化しても、光学膜
付突片２０がずれたりする恐れがなくて、光デバイスの
特性の信頼度が高い。
ているので、温度，湿度等の環境が変化しても、光学膜
付突片２０がずれたりする恐れがなくて、光デバイスの
特性の信頼度が高い。
第２図は上述の如く光デバイスの本発明の製造方法を工
程順に説明するための図である。
程順に説明するための図である。
第２図において、(a)のような透明体（例えばガラス，
シリコン等で、シリコンの場合には熱酸化してＳｉＯ２
化する）の基板４０を用い、その上面をガイド溝５ａ，
５ｂ，６ａ以外の保持ブロック５，６及び角形突片２１
部分をマスクで覆い、ドライエッチング（エッチングガ
スは弗素系ガスでＣＦ４，Ｃ２Ｆ６等）して、第２図
(b)のように、保持ブロック５，６及び角形突片２１を
形成する。
シリコン等で、シリコンの場合には熱酸化してＳｉＯ２
化する）の基板４０を用い、その上面をガイド溝５ａ，
５ｂ，６ａ以外の保持ブロック５，６及び角形突片２１
部分をマスクで覆い、ドライエッチング（エッチングガ
スは弗素系ガスでＣＦ４，Ｃ２Ｆ６等）して、第２図
(b)のように、保持ブロック５，６及び角形突片２１を
形成する。
次に、角形突片２１の光学膜を付着する側面を除く基板
４０の全表面に、銅膜を蒸着等で形成し、さらに角形突
片２１の側面を含む基板４０の全表面に、所望の光学膜
特性（例えばフイルタ特性）を有する誘電体膜を所望に
積層蒸着させ、次に硝酸に漬けて、角形突片２１の側面
を除く、他の部分の光学膜を除去するという、所謂リフ
トオフ法により、第２図(c)のように、角形突片２１の
側面に、光学膜２２を形成して光学膜付突片２０とす
る。
４０の全表面に、銅膜を蒸着等で形成し、さらに角形突
片２１の側面を含む基板４０の全表面に、所望の光学膜
特性（例えばフイルタ特性）を有する誘電体膜を所望に
積層蒸着させ、次に硝酸に漬けて、角形突片２１の側面
を除く、他の部分の光学膜を除去するという、所謂リフ
トオフ法により、第２図(c)のように、角形突片２１の
側面に、光学膜２２を形成して光学膜付突片２０とす
る。
次に第２図(d)のように、基板４０の表面に、クラッド
層（第１図に示す下面のクラッド層２４），コア層（第
１図に示すコア層２３）の順に積層された誘電体層２５
を、真空蒸着法，スパッタリング法，ＣＶＤ法，火炎堆
積法等の手段で形成する。
層（第１図に示す下面のクラッド層２４），コア層（第
１図に示すコア層２３）の順に積層された誘電体層２５
を、真空蒸着法，スパッタリング法，ＣＶＤ法，火炎堆
積法等の手段で形成する。
その後、第２図(e)のように、誘電体層２５をエッチン
グして、端面が光学膜２２に密着し、ガイド溝５ａに連
通する第１の光導波路１，、光学膜２２とは反対側の角
形突片２１の側面に端面が密着し、ガイド溝６ａに連通
する第２の光導波路２及び第１の光導波路１から分岐
し、ガイド溝５ｂに通ずる第３の光導波路３をそれぞれ
形成する。
グして、端面が光学膜２２に密着し、ガイド溝５ａに連
通する第１の光導波路１，、光学膜２２とは反対側の角
形突片２１の側面に端面が密着し、ガイド溝６ａに連通
する第２の光導波路２及び第１の光導波路１から分岐
し、ガイド溝５ｂに通ずる第３の光導波路３をそれぞれ
形成する。
そして、それぞれの光導波路１，２，３の上面及び側面
をクラッド層で覆うものとする。
をクラッド層で覆うものとする。
なお、保持ブロック５，６は、角形突片２１をドライエ
ッチングする際に設けずに、誘電体層２５を形成し、そ
れぞれの光導波路１，２，３をエッチングする時に、同
時に誘電体層２５をエッチングして形成することもでき
る。
ッチングする際に設けずに、誘電体層２５を形成し、そ
れぞれの光導波路１，２，３をエッチングする時に、同
時に誘電体層２５をエッチングして形成することもでき
る。
このようにして保持ブロック５，６を形成した方が、光
導波路とガイド溝との軸心の一致の精度が高い。
導波路とガイド溝との軸心の一致の精度が高い。
以上説明したように本発明の製造方法によれば、結合度
が安定で、結合損失が少なく、かつ所望の光学膜特性を
有する光デバイスが低コストで構成しうることになる。
が安定で、結合損失が少なく、かつ所望の光学膜特性を
有する光デバイスが低コストで構成しうることになる。
第１図(a)は本発明の製造方法によって形成された光デ
バイスの１例を示し、(b)はその要部の構成を示し、第
２図の(a)，(b)，(c)，(d)，(e)は光デバイスの本発明
の製造方法を工程順に示す図であり、第３図(a)，(b)は
従来の製造方法による光デバイスの１例の斜視図であ
る。 図において、 １は第１の光導波路、 ２は第２の光導波路、 ３は第３の光導波路、 ４，４０は基板、 ５，６は保持ブロック、 ２０は光学膜付突片、 ２１は角形突片、 ２２，１２は光学膜をそれぞれ示す。
バイスの１例を示し、(b)はその要部の構成を示し、第
２図の(a)，(b)，(c)，(d)，(e)は光デバイスの本発明
の製造方法を工程順に示す図であり、第３図(a)，(b)は
従来の製造方法による光デバイスの１例の斜視図であ
る。 図において、 １は第１の光導波路、 ２は第２の光導波路、 ３は第３の光導波路、 ４，４０は基板、 ５，６は保持ブロック、 ２０は光学膜付突片、 ２１は角形突片、 ２２，１２は光学膜をそれぞれ示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 日下 敏 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−198408（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−42202（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】ガラス等の透明基板４０の表面部分を、配
置されるべき導波路上の所定位置の所望形状の角形突片
２１を少なくとも残してエッチング除去する工程、角形
突片の１面上のみに光学膜２２を被着し光学膜付突片２
０を形成する工程、光学膜付突片を含む基板表面にクラ
ッド層及びコア層を積層する工程、かかる積層をエッチ
ングして光学膜付突片の光学膜面に一端が密着し基板上
に延在する光導波路１，３と、光学膜の付着されていな
い対向面に一端が密着し基板上に延在する光導波路２と
を形成する工程及び各導波路の上面及び側面をクラッド
層で覆う工程を含むことを特徴とする光デバイスの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61205370A JPH0660966B2 (ja) | 1986-09-01 | 1986-09-01 | 光デバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61205370A JPH0660966B2 (ja) | 1986-09-01 | 1986-09-01 | 光デバイスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6360410A JPS6360410A (ja) | 1988-03-16 |
| JPH0660966B2 true JPH0660966B2 (ja) | 1994-08-10 |
Family
ID=16505719
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61205370A Expired - Lifetime JPH0660966B2 (ja) | 1986-09-01 | 1986-09-01 | 光デバイスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0660966B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3258520B2 (ja) * | 1994-12-12 | 2002-02-18 | 松下電器産業株式会社 | 光ファイバセンサ及びその製造方法 |
| JP3231213B2 (ja) * | 1995-04-04 | 2001-11-19 | 松下電器産業株式会社 | 光センサ装置及びその製造方法 |
| WO2000055663A1 (en) * | 1999-03-15 | 2000-09-21 | Visionex, Inc. | Optical networking assembly |
| US6542660B1 (en) | 1999-05-25 | 2003-04-01 | Cirrex Corp. | Method and system for increasing a number of information channels carried by optical waveguides |
| WO2000072416A1 (en) | 1999-05-25 | 2000-11-30 | Cirrex Corporation | Optical feedback assembly |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5642202A (en) * | 1979-09-14 | 1981-04-20 | Fujitsu Ltd | Photocoupling circuit with filter |
| JPS59198408A (ja) * | 1983-04-26 | 1984-11-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 導波形光分波器 |
-
1986
- 1986-09-01 JP JP61205370A patent/JPH0660966B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6360410A (ja) | 1988-03-16 |
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