JP3196797B2 - 積層型石英系光導波路の製造方法 - Google Patents
積層型石英系光導波路の製造方法Info
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- JP3196797B2 JP3196797B2 JP17129293A JP17129293A JP3196797B2 JP 3196797 B2 JP3196797 B2 JP 3196797B2 JP 17129293 A JP17129293 A JP 17129293A JP 17129293 A JP17129293 A JP 17129293A JP 3196797 B2 JP3196797 B2 JP 3196797B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、導波路光回路部品分野
に用い、再現性が高く、経済的な積層型石英系光導波路
の製造方法に関するものである。
に用い、再現性が高く、経済的な積層型石英系光導波路
の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】石英系導波型光回路は石英系光ファイバ
との整合性が良いことから、実用的な導波型光部品を実
現できる手段として注目されている。この種の石英系導
波型光回路を作製するためには、数μｍから数十μｍ厚
の石英系ガラス膜を形成する技術とフォトリソグラフィ
を利用して数μｍ幅のパターン形状に加工する技術とを
組み合わせるようにしている。この膜形成技術と加工技
術をどのように組み合わせるかが光導波路および最終的
な光回路の構造と特性を決定することになる。
との整合性が良いことから、実用的な導波型光部品を実
現できる手段として注目されている。この種の石英系導
波型光回路を作製するためには、数μｍから数十μｍ厚
の石英系ガラス膜を形成する技術とフォトリソグラフィ
を利用して数μｍ幅のパターン形状に加工する技術とを
組み合わせるようにしている。この膜形成技術と加工技
術をどのように組み合わせるかが光導波路および最終的
な光回路の構造と特性を決定することになる。
【０００３】図８，９は、従来法による積層型石英系光
導波路の作製手順を示す。図８，９は石英系光回路の基
本回路のひとつであり、２タップ型リング共振器を積層
構造で作製する場合について、断面図で示してある。先
ず、最初に基板１に下部クラッド膜２と第一コア膜３と
を形成した後、第一コア膜３を導波路パターンになるよ
うに凸型に加工し、第一コア導波路３１を形成する（図
８（Ａ）〜（Ｃ）参照）。次に、中間クラッドとなるガ
ラス膜４を形成した後、適当な膜厚になるまで不要なガ
ラス部分を除去する（図８（Ｄ），図９（Ａ）参照）。
次に、第二コア膜５を形成し、所望の回路パターンに凸
型に加工し、第二コア導波路５１を形成する（図９
（Ｂ），（Ｃ）参照）。最後に上部クラッド６を形成す
ることで埋め込み型の積層型光導波路を作製することが
できる（図９（Ｄ）参照）。この結果、図９に示した回
路では、同図中（Ｄ）に示す符号Ｂの部分で第一コア導
波路３１と第二コア導波路５１とが光的に結合できるよ
うに縦形の方向性結合器の構成になっている。
導波路の作製手順を示す。図８，９は石英系光回路の基
本回路のひとつであり、２タップ型リング共振器を積層
構造で作製する場合について、断面図で示してある。先
ず、最初に基板１に下部クラッド膜２と第一コア膜３と
を形成した後、第一コア膜３を導波路パターンになるよ
うに凸型に加工し、第一コア導波路３１を形成する（図
８（Ａ）〜（Ｃ）参照）。次に、中間クラッドとなるガ
ラス膜４を形成した後、適当な膜厚になるまで不要なガ
ラス部分を除去する（図８（Ｄ），図９（Ａ）参照）。
次に、第二コア膜５を形成し、所望の回路パターンに凸
型に加工し、第二コア導波路５１を形成する（図９
（Ｂ），（Ｃ）参照）。最後に上部クラッド６を形成す
ることで埋め込み型の積層型光導波路を作製することが
できる（図９（Ｄ）参照）。この結果、図９に示した回
路では、同図中（Ｄ）に示す符号Ｂの部分で第一コア導
波路３１と第二コア導波路５１とが光的に結合できるよ
うに縦形の方向性結合器の構成になっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の積層
型石英系光導波路では第一コア導波路の加工を凸型プロ
セスで行っていたので、第二コア層を堆積する前に下地
を平坦にするために数十μｍの厚膜の中間クラッド層と
しての例えばガラス膜４を形成する必要があった。一
方、第一コア導波路と第二コア導波路とを光結合させる
ためには、第一コア導波路と第二コア導波路の間の中間
クラッド膜を数μｍ以下にする必要があった。そのた
め、中間クラッド層の膜厚の制御は数十μｍの厚膜の堆
積膜厚とバックエッチング量とを制御することで行われ
ていた。従って、中間クラッド層の膜厚を基板内で均一
にすることが困難であった。
型石英系光導波路では第一コア導波路の加工を凸型プロ
セスで行っていたので、第二コア層を堆積する前に下地
を平坦にするために数十μｍの厚膜の中間クラッド層と
しての例えばガラス膜４を形成する必要があった。一
方、第一コア導波路と第二コア導波路とを光結合させる
ためには、第一コア導波路と第二コア導波路の間の中間
クラッド膜を数μｍ以下にする必要があった。そのた
め、中間クラッド層の膜厚の制御は数十μｍの厚膜の堆
積膜厚とバックエッチング量とを制御することで行われ
ていた。従って、中間クラッド層の膜厚を基板内で均一
にすることが困難であった。
【０００５】また、凸型のコアの上部に石英系ガラス膜
４を形成すると、本質的にコアが変形しやすくなる。そ
のため従来法では第一コア導波路と第二コア導波路との
結合部での結合率を再現性よく作製することができない
という問題があった。
４を形成すると、本質的にコアが変形しやすくなる。そ
のため従来法では第一コア導波路と第二コア導波路との
結合部での結合率を再現性よく作製することができない
という問題があった。
【０００６】さらに、従来法では第一コアが凸型になっ
ており、第一コア導波路と第二コア導波路を分離するた
めに中間クラッド層を形成することが本質的に必要であ
るので、中間クラッド層形成プロセスを原理的に省略す
ることができず経済的でないという問題もあった。
ており、第一コア導波路と第二コア導波路を分離するた
めに中間クラッド層を形成することが本質的に必要であ
るので、中間クラッド層形成プロセスを原理的に省略す
ることができず経済的でないという問題もあった。
【０００７】本発明は、従来法での積層型光導波回路の
作製法において、前記の欠点を解決するためになされた
もので、再現性が高い積層型石英系光導波路の製造方法
を提供することを目的とする。
作製法において、前記の欠点を解決するためになされた
もので、再現性が高い積層型石英系光導波路の製造方法
を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記目的を解決するため
の本発明による積層型石英系光導波路の製造方法は、基
板上に下部クラッド層として石英系ガラスを形成する工
程と、上記下部クラッドを凹型に加工した部分に該下部
クラッドガラスより屈折率が高い第一コア層を堆積し、
該凹部に光伝搬作用を有する第一層のコア導波路を形成
する工程と、該第一層のコア導波路の上部に凸型の第二
層のコア導波路のみを形成する工程と、上部クラッド層
としてコアガラスより屈折率の低い石英系ガラスを形成
する工程とからなる積層型石英系光導波路の製造方法で
あって、 下部クラッドガラスより屈折率が高い石英系ガ
ラス膜を堆積した後、下部クラッドに形成した凹部が第
一層のコア導波路に、かつ第二層のコア導波路が下部ク
ラッド上面に形成するように該石英系ガラス膜の不要な
部分を下部クラッド層上 面近傍までエッチングにより除
去して光伝搬作用を有する第一層と第二層のコア導波路
を同時に形成することを特徴とする。
の本発明による積層型石英系光導波路の製造方法は、基
板上に下部クラッド層として石英系ガラスを形成する工
程と、上記下部クラッドを凹型に加工した部分に該下部
クラッドガラスより屈折率が高い第一コア層を堆積し、
該凹部に光伝搬作用を有する第一層のコア導波路を形成
する工程と、該第一層のコア導波路の上部に凸型の第二
層のコア導波路のみを形成する工程と、上部クラッド層
としてコアガラスより屈折率の低い石英系ガラスを形成
する工程とからなる積層型石英系光導波路の製造方法で
あって、 下部クラッドガラスより屈折率が高い石英系ガ
ラス膜を堆積した後、下部クラッドに形成した凹部が第
一層のコア導波路に、かつ第二層のコア導波路が下部ク
ラッド上面に形成するように該石英系ガラス膜の不要な
部分を下部クラッド層上 面近傍までエッチングにより除
去して光伝搬作用を有する第一層と第二層のコア導波路
を同時に形成することを特徴とする。
【０００９】すなわち、従来第一コア導波路を凸型プロ
セスで形成していたのとは異なり、下部クラッドを凹部
に加工した部分に下部クラッドガラスより屈折率が高い
第一コア層を堆積し、光伝搬作用を有する第一コア導波
路を凹型プロセスで形成すると共に、下部クラッドガラ
スより屈折率が高い石英系ガラス膜を堆積した後、下部
クラッドに形成した凹部が第一層のコア導波路に、かつ
第二層のコア導波路が下部クラッド上面に形成するよう
に該石英系ガラス膜の不要な部分を下部クラッド層上面
近傍までエッチングにより除去して光伝搬作用を有する
第一層と第二層のコア導波路を同時に形成するように図
ったものである。
セスで形成していたのとは異なり、下部クラッドを凹部
に加工した部分に下部クラッドガラスより屈折率が高い
第一コア層を堆積し、光伝搬作用を有する第一コア導波
路を凹型プロセスで形成すると共に、下部クラッドガラ
スより屈折率が高い石英系ガラス膜を堆積した後、下部
クラッドに形成した凹部が第一層のコア導波路に、かつ
第二層のコア導波路が下部クラッド上面に形成するよう
に該石英系ガラス膜の不要な部分を下部クラッド層上面
近傍までエッチングにより除去して光伝搬作用を有する
第一層と第二層のコア導波路を同時に形成するように図
ったものである。
【００１０】
【作用】第一コア導波路を凹型プロセスで作製すると、
第一コア導波路が下部クラッドに埋め込まれた構造にな
っているので、従来技術での凸型コアでは第一コア導波
路と第二コア導波路を分離するために本質的に必要な中
間クラッド層がなくても積層型光導波路を製造できる。
第一コア導波路が下部クラッドに埋め込まれた構造にな
っているので、従来技術での凸型コアでは第一コア導波
路と第二コア導波路を分離するために本質的に必要な中
間クラッド層がなくても積層型光導波路を製造できる。
【００１１】また、第一コア導波路と第二コア導波路と
の結合部での結合率を再現性よく且つ同時に作製でき、
プロセス工程数を大幅に減少できる製造方法になってい
る。
の結合部での結合率を再現性よく且つ同時に作製でき、
プロセス工程数を大幅に減少できる製造方法になってい
る。
【００１２】
【実施例】以下、図面により本発明の実施例を詳細に説
明する。
明する。
【００１３】参考例１ 図１，図２は、本発明による積層型石英系光導波路の一
参考例を示し、図１は図２のＡ−Ａ′における断面拡大
図であり、図２は平面図である。図１中、符号１は基
板，２は下部クラッド層，３１は第一コア導波路，４は
中間クラッド層，５１は第二コア導波路，６は上部クラ
ッド層を各々図示する。尚、図８，９に示した従来例と
の大きな相違点は、第一コア導波路３１が下部クラッド
２の中に埋め込まれていることである。
参考例を示し、図１は図２のＡ−Ａ′における断面拡大
図であり、図２は平面図である。図１中、符号１は基
板，２は下部クラッド層，３１は第一コア導波路，４は
中間クラッド層，５１は第二コア導波路，６は上部クラ
ッド層を各々図示する。尚、図８，９に示した従来例と
の大きな相違点は、第一コア導波路３１が下部クラッド
２の中に埋め込まれていることである。
【００１４】図１，２に示した積層型石英系光導波路を
製造するプロセス手順を図３，４に示す。
製造するプロセス手順を図３，４に示す。
【００１５】シリコン基板１に三塩化ボロン（ＢＣ
ｌ3 ）、三塩化リン（ＰＣｌ3 ）、四塩化硅素（ＳｉＣ
ｌ4 ）の火炎加水分解反応を利用して、ドープト石英ガ
ラス微粒子を堆積した。次に、ガラス微粒子をＳｉ基板
と一緒に電気炉中で高温（約１３５０℃）に加熱して透
明ガラス化して約３０μｍ厚の下部クラッド層２とした
（図３（Ｂ）参照）。次に、第一コア導波路になる部分
を反応性イオンエッチングにより６μｍ除去して下部ク
ラッド層２に幅６μｍ深さ６μｍの溝パターン３１１を
形成した（図３（Ｃ）参照）。次に、三塩化ボロン（Ｂ
Ｃｌ3 ）、三塩化リン（ＰＣｌ3 ）、四塩化ゲルマニュ
ウム（ＧｅＣｌ4 ）、四塩化硅素（ＳｉＣｌ4 ）の火炎
加水分解反応によりコア用ドープト石英ガラス微粒子を
堆積し、透明ガラス化を行った。この際コアガラス層３
の膜厚は下部クラッド２の表面上で６μｍになるように
作製した（図３（Ｄ）参照）。次に、反応性イオンエッ
チングによりコア膜３を下部クラッド表面までエッチン
グし、下部クラッド２の凹部のみに矩形の第一コア導波
路３１を残した（図４（Ａ）参照）。次に、下部クラッ
ド２と同じ組成の石英系ガラスを中間クラッド膜４とし
て堆積し、その上に第二コア層５として第一コアと同じ
組成の石英系ガラス膜を堆積、透明ガラス化を行った。
作製した膜厚は中間クラッド膜４の膜厚が２μｍであ
り、かつ第二コア層５の膜厚は６μｍであった。
ｌ3 ）、三塩化リン（ＰＣｌ3 ）、四塩化硅素（ＳｉＣ
ｌ4 ）の火炎加水分解反応を利用して、ドープト石英ガ
ラス微粒子を堆積した。次に、ガラス微粒子をＳｉ基板
と一緒に電気炉中で高温（約１３５０℃）に加熱して透
明ガラス化して約３０μｍ厚の下部クラッド層２とした
（図３（Ｂ）参照）。次に、第一コア導波路になる部分
を反応性イオンエッチングにより６μｍ除去して下部ク
ラッド層２に幅６μｍ深さ６μｍの溝パターン３１１を
形成した（図３（Ｃ）参照）。次に、三塩化ボロン（Ｂ
Ｃｌ3 ）、三塩化リン（ＰＣｌ3 ）、四塩化ゲルマニュ
ウム（ＧｅＣｌ4 ）、四塩化硅素（ＳｉＣｌ4 ）の火炎
加水分解反応によりコア用ドープト石英ガラス微粒子を
堆積し、透明ガラス化を行った。この際コアガラス層３
の膜厚は下部クラッド２の表面上で６μｍになるように
作製した（図３（Ｄ）参照）。次に、反応性イオンエッ
チングによりコア膜３を下部クラッド表面までエッチン
グし、下部クラッド２の凹部のみに矩形の第一コア導波
路３１を残した（図４（Ａ）参照）。次に、下部クラッ
ド２と同じ組成の石英系ガラスを中間クラッド膜４とし
て堆積し、その上に第二コア層５として第一コアと同じ
組成の石英系ガラス膜を堆積、透明ガラス化を行った。
作製した膜厚は中間クラッド膜４の膜厚が２μｍであ
り、かつ第二コア層５の膜厚は６μｍであった。
【００１６】次に、第二コア導波路５１を形成するため
に、第二コア層５の不要な部分を反応性イオンエッチン
グで除去した。最後に下部クラッドとほぼ同じ屈折率を
もつＢ2Ｏ3，Ｐ2Ｏ5添加石英ガラス層６を約３０μｍ上
部クラッドとして火炎加水分解反応により形成した。
に、第二コア層５の不要な部分を反応性イオンエッチン
グで除去した。最後に下部クラッドとほぼ同じ屈折率を
もつＢ2Ｏ3，Ｐ2Ｏ5添加石英ガラス層６を約３０μｍ上
部クラッドとして火炎加水分解反応により形成した。
【００１７】この参考例で作製した導波路の諸元は、第
一コアおよび第二コアともコア部寸法６μｍ×６μｍ、
コア・クラッド間の比屈折率差0.７５％であった。ま
た、作製したリング共振器はリング半径6.５mm、２個の
方向性結合器の結合率は共に２０％にした。
一コアおよび第二コアともコア部寸法６μｍ×６μｍ、
コア・クラッド間の比屈折率差0.７５％であった。ま
た、作製したリング共振器はリング半径6.５mm、２個の
方向性結合器の結合率は共に２０％にした。
【００１８】このようにして作製した２タップ型リング
共振器の共振特性を図５に示す。この結果、フィネスが
約３０であり、本発明による方法で積層型の２タップ型
リング共振器が作製できていることがわかる。
共振器の共振特性を図５に示す。この結果、フィネスが
約３０であり、本発明による方法で積層型の２タップ型
リング共振器が作製できていることがわかる。
【００１９】実施例１ 次に、図３，６を用いて実施例１を説明する。先ず、図
３に示すように、参考例１と同じ方法で第一コアガラス
層３を下部クラッド層２の表面上で６μｍになるように
作製した後、図６に示すように第二コア導波路５１を形
成するように、反応性イオンエッチングにより該コア膜
３を下部クラッド表面までエッチングすることで、第一
層のコア導波路３１と第二層のコア導波路５１を同時に
作製した。次に参考例１と同様に上部クラッド６を作製
した。
３に示すように、参考例１と同じ方法で第一コアガラス
層３を下部クラッド層２の表面上で６μｍになるように
作製した後、図６に示すように第二コア導波路５１を形
成するように、反応性イオンエッチングにより該コア膜
３を下部クラッド表面までエッチングすることで、第一
層のコア導波路３１と第二層のコア導波路５１を同時に
作製した。次に参考例１と同様に上部クラッド６を作製
した。
【００２０】この結果、作製した積層型リング共振器の
共振特性は図４とほぼ同様の特性を示した。ただし、本
実施例の２タップ型リング共振器は、第一コア導波路と
第二コア導波路から構成される縦形の方向性結合器の結
合率が８０％であることを繁栄して、フィネスは約１０
であった。このことは、本発明が中間クラッド層の存在
が本質ではないことを示している。
共振特性は図４とほぼ同様の特性を示した。ただし、本
実施例の２タップ型リング共振器は、第一コア導波路と
第二コア導波路から構成される縦形の方向性結合器の結
合率が８０％であることを繁栄して、フィネスは約１０
であった。このことは、本発明が中間クラッド層の存在
が本質ではないことを示している。
【００２１】参考例２ 次に、図７を用いて参考例２を説明する。参考例１にお
いては第一コア導波路３１と第二コア導波路５１の諸元
が同じ積層型リング共振器を作製したが、本参考例では
第二コア導波路５１を形成する際に、第二コアの比屈折
率差が1.５％、コア断面寸法が３×３μｍになるよう
に、膜堆積条件および加工用マスクを変更して、積層型
異種導波路リング共振器を作製した。このように、本参
考例ではＮＡ変換を伴う異種導波路光回路を積層構成で
作製できる。以上、２タップ型リング共振器を例にと
り、本発明の石英導波路の構造と製造方法について説明
したが、本発明は２タップ型リング共振器に限定される
ことはなく、導波路型光分岐・結合器、光スイッチ、光
合分波器等の多種、多様な積層型光部品メニューに適用
できることは言うまでもない。
いては第一コア導波路３１と第二コア導波路５１の諸元
が同じ積層型リング共振器を作製したが、本参考例では
第二コア導波路５１を形成する際に、第二コアの比屈折
率差が1.５％、コア断面寸法が３×３μｍになるよう
に、膜堆積条件および加工用マスクを変更して、積層型
異種導波路リング共振器を作製した。このように、本参
考例ではＮＡ変換を伴う異種導波路光回路を積層構成で
作製できる。以上、２タップ型リング共振器を例にと
り、本発明の石英導波路の構造と製造方法について説明
したが、本発明は２タップ型リング共振器に限定される
ことはなく、導波路型光分岐・結合器、光スイッチ、光
合分波器等の多種、多様な積層型光部品メニューに適用
できることは言うまでもない。
【００２２】また、実施例ではすべて２層の場合につい
て本発明について説明したが、本発明の本質は凹型プロ
セスによるコアを使用することにあるので、３層以上の
多層積層回路を作製する場合も本発明が適用できること
は説明するまでもない。
て本発明について説明したが、本発明の本質は凹型プロ
セスによるコアを使用することにあるので、３層以上の
多層積層回路を作製する場合も本発明が適用できること
は説明するまでもない。
【００２３】さらに、以上の実施例では、石英系ガラス
膜を火炎加水分解反応を利用して堆積したが、これは、
この方法が比較的厚く、高品質なガラス膜の堆積に適し
ているからである。場合によっては、別のガラス膜堆積
法、例えばＣＶＤ法やスパッタ法を一部または全部に用
いることもできる。
膜を火炎加水分解反応を利用して堆積したが、これは、
この方法が比較的厚く、高品質なガラス膜の堆積に適し
ているからである。場合によっては、別のガラス膜堆積
法、例えばＣＶＤ法やスパッタ法を一部または全部に用
いることもできる。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、第一
コアを凹型プロセスにより形成することで、第二コア膜
を堆積するために必要な下地の平坦さを中間クラッド層
形成で実現する必要がなく、第一コアと第二コアとを同
時に精度よく作製できる。そのため、積層方向性結合器
の再現性の向上、かつ容易に強結合ができ、積層型光部
品を安定かつ再現性よく製造するうえで極めて効果的で
ある。さらに、中間クラッド層がない積層導波路を作製
でき、プロセス工程数を大幅に減少でき、生産コストを
安くできるという利点もある。また、１枚の基板に各層
でのコア導波路が光結合しない回路を多数作製する場合
には生産性を向上できるという利点もある。
コアを凹型プロセスにより形成することで、第二コア膜
を堆積するために必要な下地の平坦さを中間クラッド層
形成で実現する必要がなく、第一コアと第二コアとを同
時に精度よく作製できる。そのため、積層方向性結合器
の再現性の向上、かつ容易に強結合ができ、積層型光部
品を安定かつ再現性よく製造するうえで極めて効果的で
ある。さらに、中間クラッド層がない積層導波路を作製
でき、プロセス工程数を大幅に減少でき、生産コストを
安くできるという利点もある。また、１枚の基板に各層
でのコア導波路が光結合しない回路を多数作製する場合
には生産性を向上できるという利点もある。
【図１】図２の積層型石英系光導波路のＡ−Ａ′におけ
る断面拡大図である。
る断面拡大図である。
【図２】本発明の積層型石英系光導波路の一参考例の平
面図である。
面図である。
【図３】図１に示す２タップ型リング共振器の作製手順
を示す。
を示す。
【図４】図１に示す２タップ型リング共振器の作製手順
を示す。
を示す。
【図５】参考例１で作製した２タップ型リング共振器の
共振特性を示す。
共振特性を示す。
【図６】本発明の実施例１による中間クラッド層のない
２タップ型リング共振器の作製手順を示す。
２タップ型リング共振器の作製手順を示す。
【図７】参考例２による異種導波路の積層型リング共振
器の断面拡大図である。
器の断面拡大図である。
【図８】従来法による積層型リング共振器の作製手順を
示す。
示す。
【図９】従来法による積層型リング共振器の作製手順を
示す。
示す。
１ 基板 ２ 下部クラッド層 ３ 第一コア層 ３１ 第一コア導波路 ３１１ 第一コア導波路用凹型溝 ４ 中間クラッド層 ５ 第二コア層 ５１ 第二コア導波路 ６ 上部クラッド層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野瀬 勝秀 東京都千代田区内幸町一丁目１番６号 日本電信電話株式会社内 (56)参考文献 特開 平５−157922（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−83506（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−604（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−42606（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−70839（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 6/12 - 6/14
Claims (2)
- 【請求項１】 基板上に下部クラッド層として石英
系ガラスを形成する工程と、 上記下部クラッドを凹型に加工した部分に該下部クラッ
ドガラスより屈折率が高い第一コア層を堆積し、該凹部
に光伝搬作用を有する第一層のコア導波路を形成する工
程と、 該第一層のコア導波路の上部に凸型の第二層のコア導波
路のみを形成する工程と、 上部クラッド層としてコアガラスより屈折率の低い石英
系ガラスを形成する工程とからなる積層型石英系光導波
路の製造方法であって、 下部クラッドガラスより屈折率が高い石英系ガラス膜を
堆積した後、下部クラッドに形成した凹部が第一層のコ
ア導波路に、かつ第二層のコア導波路が下部クラッド上
面に形成するように該石英系ガラス膜の不要な部分を下
部クラッド層上面近傍までエッチングにより除去して光
伝搬作用を有する第一層と第二層のコア導波路を同時に
形成することを特徴とする積層型石英系光導波路の製造
方法。 - 【請求項２】 上記基板がシリコン基板であること
を特徴とする請求項１記載の積層型石英系光導波路の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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