JP2003130608A - 点回折型干渉計測方法、点回折型干渉計測装置、及び該方法を用いて製造された高精度投影レンズ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】参照光のピンホールへの３次元的なアライメン
トを精度良く、短時間で効率良く行える点回折型干渉計
測方法等を提供する。 【解決手段】点光源生成手段１，２を用いて略理想的な
球面波を形成する工程と、点光源生成手段１，２からの
光束を光路分割素子４によって２つの光束へ分割する分
割工程と、分割した光束のうちの一方の光束をピンホー
ル１２ａを通過させて略理想的な球面波である参照光へ
変換する参照光変換工程と、参照光と被検物を経由した
測定光との干渉縞を干渉縞検出部１４で検出する検出工
程とを含む点回折型干渉計測方法において、一方の光束
をピンホール１２ａの共役位置ＣＰへ集光する工程と、
ピンホール１２ａの共役位置ＣＰへ集光した光束をピン
ホール１２ａへ集光するように反射する反射工程とを含
むことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、点回折型干渉計測
(Point Diffraction Interferometry)を利用した点回折
型干渉計測方法、点回折型干渉計測装置、及び該方法を
用いて製造された高精度投影レンズに関する。

【０００２】

【従来の技術】代表的な半導体製造装置として、縮小投
影型逐次露光装置（以下「ステッパー」という）が挙げ
られる。ステッパーに搭載される高精度投影レンズ等
は、その精度を保証するために、実際の露光波長におい
て、投影レンズ全体や投影レンズを構成する個々の光学
素子の透過波面収差、又は反射波面収差を測定する必要
がある。このため、露光波長領域と同一、又は露光波長
領域に略等しい発振波長を有する可干渉性の高い光源を
用いた種々の干渉計が提案されている。

【０００３】ところが、近年の半導体素子の高集積化に
対応するため、ステッパーの露光波長は短波長化してい
る。例えば、光源として高圧水銀ランプを用いたｇ線
（４３６ｎｍ）からｉ線（３６５ｎｍ）へ、更にはＫｒ
Ｆエキシマレーザ（２４８ｎｍ）からＡｒＦエキシマレ
ーザ（１９３ｎｍ）へと短波長化している。この結果、
露光波長付近の発振波長を有する可干渉性が高い光を射
出する光源の入手は非常に困難となってきている。その
ため、可干渉性が比較的低い光を射出する光源でも高精
度な干渉計測を行うことができる点回折型干渉計測を用
いた点回折型干渉計測装置が提案されている。

【０００４】以下、従来の一般的な点回折型干渉計測装
置について説明する。従来の点回折型干渉計測装置にお
いて、光源から射出された光束は、被検物を経由した
後、回折格子によって２つの光束に分離される。分離さ
れた２つの光束のうちの一方の光は、ピンホールを通過
して略理想的な球面波である参照光に変換される。この
参照光と、分離された２つの光束のうちのもう一方の光
である測定光とが干渉して干渉縞を形成する。この干渉
縞は、干渉縞検出部によって観察される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述のように従来の点
回折型干渉計測装置においては、被検物を経由した光束
のうち、参照光生成用の光束は微小なピンホールを通過
して略理想的な球面波に変換される。このため被検物
を、発生する収差量が異なる種々多様な被検物に替えて
計測する度に、参照光生成用の光束を３次元的にアライ
メントして微小なピンホールへ精度良く導く必要があ
る。しかしながら、この３次元的なアライメントを短時
間で精度良く行うことは困難であるという問題がある。

【０００６】そこで本発明は上記問題点に鑑みてなされ
たものであり、参照光（参照光生成用の光束）のピンホ
ールへの３次元的なアライメントを精度良く、短時間で
効率良く行うことができる点回折型干渉計測方法、点回
折型干渉計測装置、及び該方法を用いて製造された高精
度投影レンズを提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に請求項１に記載の発明は、点光源生成手段を用いて略
理想的な球面波を形成する工程と、前記点光源生成手段
からの光束を光路分割素子によって２つの光束へ分割す
る分割工程と、前記分割した光束のうちの一方の光束
を、ピンホールを通過させて略理想的な球面波である参
照光へ変換する参照光変換工程と、前記参照光と被検物
を経由した測定光とを干渉させて生じる干渉縞を干渉縞
検出部で検出する検出工程とを含む点回折型干渉計測方
法において、前記一方の光束を前記ピンホールの共役位
置へ集光する工程と、前記ピンホールの共役位置へ集光
した光束を、前記ピンホールへ集光するように反射する
反射工程とを含むことを特徴とする点回折型干渉計測方
法を提供する。

【０００８】また、請求項２に記載の点回折型干渉計測
方法は、請求項１に記載の点回折型干渉計測方法におい
て、前記反射工程は、前記ピンホールの共役位置へ集光
した光束を当該ピンホールの共役位置において、前記ピ
ンホールへ集光するように頂点反射する頂点反射工程で
あることを特徴とする。

【０００９】また、請求項３に記載の点回折型干渉計測
方法は、請求項１に記載の点回折型干渉計測方法におい
て、前記反射工程は、前記ピンホールの共役位置へ集光
した光束を平行光束に変換し、当該平行光束をコーナー
キューブによって前記ピンホールへ集光するように反射
する反射工程であることを特徴とする。

【００１０】また、請求項４に記載の点回折型干渉計測
方法は、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の点回折
型干渉計測方法において、前記点光源生成手段は、光源
と、前記光源から射出した光束を略理想的な球面波とす
るための光源用ピンホールとを有し、前記光源と前記光
源用ピンホールとの間の光路内に設けられている光路長
補正部により、前記参照光の光路長と前記測定光の光路
長とを略等しくする光路長補正工程をさらに含むことを
特徴とする。

【００１１】また、請求項５に記載の発明は、球面波を
生成する点光源生成手段と、前記点光源生成手段から射
出された光を２つの光束へ分割する光路分割素子と、前
記分割した光束のうちの一方の光束を略理想的な球面波
である参照光へ変換するピンホールと、前記参照光と被
検物を経由した測定光とを干渉させて生じる干渉縞を検
出する干渉縞検出部とを有する点回折型干渉計測装置に
おいて、前記一方の光束を前記ピンホールの共役位置へ
集光する集光部材と、前記ピンホールの共役位置へ集光
した光束を、前記ピンホールへ集光するように反射する
反射部材とを有することを特徴とする点回折型干渉計測
装置を提供する。

【００１２】また、請求項６に記載の高精度投影レンズ
は、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の点回折型干
渉計測方法を用いて製造されたことを特徴とする。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の各実施形態に係
る点回折型干渉計測装置を添付図面に基づいて説明す
る。

【００１４】（第１実施形態）図１は本発明の第１実施
形態に係る点回折型干渉計測装置を示す概略構成図であ
る。図１において、光源１から射出された光束は、光源
用ピンホール２を照明する。ここで、この光源用ピンホ
ール２を射出した光は、略理想的な球面波と見なすこと
ができる。そして、光源用ピンホール２を射出した球面
波は、コリメータレンズ３によって平行光に変換され
て、グレーティング（回折格子）４に入射する。グレー
ティング４に入射した球面波は、該グレーティング４に
よって各回折次数の光束に分離される。分離された光束
のうち、０次光は干渉縞検出部１４に到達するまでに参
照光に変換される光束であり、＋１次光は測定光となる
光束である。尚、図中のグレーティング４よりも干渉縞
検出部１４側の光束を示す点線と実線とは、それぞれ参
照光生成用の光束と測定光生成用の光束とを示してい
る。

【００１５】グレーティング４によって分離された光束
のうちの０次光、即ち参照光生成用の光束（参照光用の
光束）は、光源１側から順に、ハーフミラー５と、折り
曲げミラー６と、集光レンズ７とを経由する。そして、
集光レンズ７を射出した光は被検物８を透過し、平面反
射ミラー１０１によって反射される。この反射された光
は、平面反射ミラー１０１側から順に、再び被検物８
と、集光レンズ７と、折り曲げミラー６とを経由する。
そして、折り曲げミラー６を経由した光は、ハーフミラ
ー５によって折り曲げミラー１０に向かって反射され
る。この折り曲げミラー１０を経由した光は、集光レン
ズ１１を介して、参照光用ピンホール１２ａへ入射す
る。参照光用ピンホール１２ａを射出した光は、略理想
的な球面波と見なすことができるためこれが参照光とな
る。そしてこの参照光は、コリメータレンズ１３を介し
て干渉縞検出部１４へ入射する。

【００１６】一方、グレーティング４によって分離され
た光束のうちの＋１次光、即ち測定光生成用の光束（測
定光用の光束）は、光源１側から順に、ハーフミラー５
と、折り曲げミラー６と、集光レンズ７とを経由する。
そして、集光レンズ７を射出した光は被検物８を透過
し、球面反射ミラー９によって反射される。この反射さ
れた光は、球面反射ミラー９側から順に、再び被検物８
と、集光レンズ７と、折り曲げミラー６とを経由する。
そして、折り曲げミラー６を経由した光は、ハーフミラ
ー５によって折り曲げミラー１０に向かって反射され
る。この折り曲げミラー１０を経由した光は、集光レン
ズ１１を介して、ウィンドウ１２ｂへ入射する。このウ
ィンドウ１２ｂを素通りした光が測定光であり、コリメ
ータレンズ１３を介して干渉縞検出部１４へ入射する。

【００１７】干渉縞検出部１４へ入射した参照光と測定
光とは、互いに干渉して該干渉縞検出部１４上に干渉縞
を形成する。干渉縞検出部１４では、干渉縞の位相差に
基づいて被検物８の透過波面収差が算出される。

【００１８】尚、本実施形態、及び以下の全実施形態に
係る点回折型干渉計測装置は、主に被検物８としてステ
ッパーに搭載される高精度投影レンズを配置し、該投影
レンズの波面収差を計測するものである。しかし、本発
明はこれに限られず、その他のより高い精度が要求され
るレンズの計測にも適用することができる。

【００１９】次に、本実施形態に係る点回折型干渉計測
装置の特徴的な部分について詳細に説明する。平面反射
ミラー１０１は、参照光用ピンホール１２ａと共役な位
置に配置されている。言い換えれば、平面反射ミラー１
０１は、被検物８の集光位置即ち頂点反射（キャッツア
イ）位置ＣＰに配置されている。また、参照光用ピンホ
ール１２ａと集光レンズ７の集光点Ａとは共役であり、
予め参照光用の光束は参照光用ピンホール１２ａに入射
するように調整してある。

【００２０】従って、集光レンズ７によって集光点Ａに
集光した参照光用の光束は、被検物８を透過した後、平
面反射ミラー１０１によって頂点反射される。尚頂点反
射は、入射光を光源へ戻す特性、即ち入射光束を逆行さ
せることによって反射光束をもとの入射光束の光路へ戻
す特性を有する。従って、頂点反射されたこの光束は、
再び被検物８を透過して集光点Ａに集光する。

【００２１】ここで、被検物８を、発生する収差量が異
なる種々多様な被検物に替えて計測する場合、参照光用
の光束の集光位置（被検物の集光位置）は、平面反射ミ
ラー１０１に対して横ずれ（ｘ方向、ｙ方向へのずれ）
してしまう。しかし上記頂点反射の特性のため、集光レ
ンズ７によって集光点Ａに集光した参照光用の光束は、
被検物８によって集光位置が横ずれしてしまっても、頂
点反射されることによって再び被検物８を経由して集光
点Ａに集光する。この構成により、被検物を替えても、
参照光用の光束は参照光用ピンホール１２ａに対して横
ずれすることがない。従って、被検物を替えて計測を行
う際に、参照光用の光束の参照光用ピンホール１２ａへ
のアライメントは、平面反射ミラー１０１の位置を光軸
方向（ｚ方向）へ調整するのみでよい。

【００２２】以上のように本実施形態に係る点回折型干
渉計測装置では、被検物を種々多様な被検物に替えて計
測する際に、平面反射ミラー１０１の光軸方向（Ｚ方
向）への位置の調整を行うのみで、参照光用の光束を参
照光用ピンホール１２ａへ精度良く短時間で入射させる
ことができる。

【００２３】（第２実施形態）図２は本発明の第２実施
形態に係る点回折型干渉計測装置を示す概略構成図であ
る。尚、上記第１実施形態と同様の構成である部分には
同じ符号を付して重複する説明を省略し、特徴的な部分
について詳細に説明する。

【００２４】本実施形態に係る点回折型干渉計測装置
は、被検物８と球面反射ミラー９との間に平面反射ミラ
ー１０１に替えて、折り曲げミラー２０１とコリメータ
レンズ２０２とコーナーキューブ２０３とを有する。

【００２５】この構成の下、集光レンズ７によって集光
点Ａに集光した参照光用の光束は、被検物８を透過した
後、折り曲げミラー２０１によってコリメータレンズ２
０２へ向かって反射される。尚、折り曲げミラー２０１
の配置場所は集光位置ＣＰ付近であればよく、コリメー
タレンズ２０２の配置場所は集光位置ＣＰ以降でなけれ
ばならない。そして、コリメータレンズ２０２に入射し
た光束は、該コリメータレンズ２０２によって平行光束
に変換されて、コーナーキューブ２０３へ入射する。尚
コーナーキューブ２０３は、上述の頂点反射と同様、入
射光を光源へ戻す特性、即ち入射光束を逆行させること
によって、反射光束をもとの入射光束の光路へ戻す特性
を有する。

【００２６】従って、コーナーキューブ２０３によって
反射された光束は、入射平行光束と同じ光路を辿り、再
びコリメータレンズ２０２に入射する。コリメータレン
ズ２０２を射出した光束は、折り曲げミラー２０１によ
って被検物８へ向かって反射される。そしてこの光束は
再び被検物８を透過して集光点Ａに集光する。

【００２７】ここで、被検物８を、発生する収差量が異
なる種々多様な被検物に替えて計測する場合、参照光用
の光束の集光位置（被検物の集光位置）は被検物８によ
ってｘ方向、ｙ方向へ横ずれしてしまう。しかし上記コ
ーナーキューブ２０３の特性のため、集光レンズ７によ
って集光点Ａに集光した参照光用の光束は、被検物８に
よって集光位置が横ずれしてしまっても、コーナーキュ
ーブ２０３で反射されることによって再び被検物８を経
由して集光点Ａに集光する。この構成により、被検物を
替えても参照光用の光束は、参照光用ピンホール１２ａ
に対して横ずれすることがない。従って、被検物を替え
て計測を行う際に、参照光用の光束の参照光用ピンホー
ル１２ａへのアライメントは、折り曲げミラー２０１と
コリメータレンズ２０２とコーナーキューブ２０３の位
置をｚ方向へ調整するのみでよい。

【００２８】以上のように本実施形態に係る点回折型干
渉計測装置では、第１実施形態が奏する効果と同様に、
被検物を種々多様な被検物に替えて計測する際に、折り
曲げミラー２０１とコリメータレンズ２０２とコーナー
キューブ２０３のＺ方向への位置の調整を行うのみで、
参照光用の光束を参照光用ピンホール１２ａへ精度良く
短時間で入射させることができる。

【００２９】（第３実施形態）図３は本発明の第３実施
形態に係る点回折型干渉計測装置を示す概略構成図であ
る。尚、上記第１実施形態と同様の構成である部分には
同じ符号を付して重複する説明を省略し、特徴的な部分
について詳細に説明する。

【００３０】上記第１実施形態において、参照光用の光
束の光路長は、折り返し位置の違いによって測定光用の
光束の光路長よりも短い。ここで光路長とは、光源１か
ら干渉縞検出部１４までの光路の長さをいう。本実施形
態に係る点回折型干渉計測装置は、この光路長差を光源
光の可干渉距離以内に補正するため、光源１と光源用ピ
ンホール２との間に光路長差補正部Ｈを備える構成とし
ている。光路長差補正部Ｈは、ハーフミラー３０１，３
０４と折り曲げミラー３０２，３０３とからなる。そし
て、光路長差補正部Ｈは光源用ピンホール２よりも光源
１側に配置されているため、折り曲げミラー３０２，３
０３の傾き等により光束に変動等が生じた場合、光源用
ピンホール２によってそれらの変動等を除去することが
できる。

【００３１】光源１から射出された光束は、ハーフミラ
ー３０１によって２つの光束に分離される。ハーフミラ
ー３０１を透過した光は、ハーフミラー３０４を透過し
て、光源用ピンホール２へ入射する。一方、ハーフミラ
ー３０１によって反射された光は、折り曲げミラー３０
２と、折り曲げミラー３０３とを経由してハーフミラー
３０４へ入射する。そしてこの光束は、ハーフミラー３
０４で反射されて、光源用ピンホール２へ入射する。従
って、ハーフミラー３０１によって反射された光は、折
り曲げミラー３０２，３０３を経由する分だけ、ハーフ
ミラー３０１を透過した光よりも光路長を長くすること
ができる。この構成により、ハーフミラー３０１を透
過、反射した光をそれぞれ測定光、参照光とすることに
より、測定光と参照光との光路長差を光源光の可干渉距
離以内に補正している。

【００３２】以上のように本実施形態に係る点回折型干
渉計測装置では、上記第１実施形態が奏する効果に加え
て、光源の可干渉距離が短い場合であっても、参照光と
測定光との光路長差を光源の可干渉距離以内に補正する
ことができる。

【００３３】（第４実施形態）図４は本発明の第４実施
形態に係る点回折型干渉計測装置を示す概略構成図であ
る。尚、上記第２実施形態と同様の構成である部分には
同じ符号を付して重複する説明を省略し、特徴的な部分
について詳細に説明する。

【００３４】上記第２実施形態において、測定光用の光
束の光路長は、折り返し位置の違いによって参照光用の
光束の光路長よりも短い。本実施形態に係る点回折型干
渉計測装置は、この光路長差を光源光の可干渉距離以内
に補正するため、光源１と光源用ピンホール２との間に
光路長差補正部Ｈを備える構成としている。光路長差補
正部Ｈは、ハーフミラー４０１，４０４と折り曲げミラ
ー４０２，４０３とからなる。そして、光路長差補正部
Ｈは光源用ピンホール２よりも光源１側に配置されてい
るため、折り曲げミラー４０２，４０３の傾き等により
光束に変動等が生じた場合、光源用ピンホール２によっ
てそれらの変動等を除去することができる。

【００３５】光源１から射出された光束は、ハーフミラ
ー４０１によって２つの光束に分離される。ハーフミラ
ー４０１を透過した光は、ハーフミラー４０４を透過し
て、光源用ピンホール２へ入射する。一方、ハーフミラ
ー４０１によって反射された光は、折り曲げミラー４０
２と、折り曲げミラー４０３とを経由してハーフミラー
４０４へ入射する。そしてこの光束は、ハーフミラー４
０４で反射されて、光源用ピンホール２へ入射する。従
って、ハーフミラー４０１によって反射された光は、折
り曲げミラー４０２，４０３を経由する分だけ、ハーフ
ミラー４０１を透過した光よりも光路長を長くすること
ができる。この構成により、ハーフミラー４０１を透
過、反射した光をそれぞれ参照光、測定光とすることに
より、参照光と測定光との光路長差を光源光の可干渉距
離以内に補正している。

【００３６】以上のように本実施形態に係る点回折型干
渉計測装置では、上記第２実施形態が奏する効果に加え
て、光源の可干渉距離が短い場合であっても、参照光と
測定光との光路長差を光源の可干渉距離以内に補正する
ことができる。

【００３７】上記各実施形態に係る点回折型干渉計測装
置の好ましい態様では、被検物８の波面収差の計測の前
段階として、参照光用の光束が参照光用ピンホール１２
ａに精度良く入射するように、装置較正（装置のキャリ
ブレーション）を行っておくことが望ましい。この装置
較正は、折り曲げミラー６と集光レンズ７との間にコー
ナーキューブを配置するか、又は折り曲げミラー６と集
光レンズ７との間に集光レンズと平面反射ミラー（集光
レンズの集光位置に配置）を配置するか、又は集光点Ａ
に平面反射ミラーを配置することによって行うことがで
きる。いずれの方法においても、上述の頂点反射、コー
ナーキューブの特性を利用して、参照光用の光束が参照
光用ピンホール１２ａに精度良く入射するように調整す
ることができる。

【００３８】尚、上記各実施形態に係る点回折型干渉計
測装置において、グレーティング４はコリメータレンズ
３とハーフミラー５との間に配置されている。しかし本
発明はこれに限られず、グレーティング４を集光レンズ
１１と参照光用ピンホール１２ａ（ウィンドウ１２ｂ）
との間に配置する構成とすることもできる。斯かる場
合、平面反射ミラー１０１、折り曲げミラー２０１に替
えてハーフミラーを配置する構成とすればよい。この構
成にすることにより、上記各実施形態が奏する効果と同
様の効果を奏することができる。

【００３９】また、上記各実施形態に係る点回折型干渉
計測装置は、被検物８の透過波面収差を計測するもので
ある。しかし本発明はこれに限られず、集光点Ａに平面
反射ミラー１０１、又は折り曲げミラー２０１と集光レ
ンズ２０２とコーナーキューブ２０３を配置することに
よって、被検物８の反射波面収差を計測する点回折型干
渉計測装置を構成することもできる。

【００４０】さらに、上記各実施形態に係る点回折型干
渉計測装置を用いることによって、投影レンズの波面収
差を簡便に干渉計測することができる。このため、高精
度な投影レンズを製造することができる。

【００４１】

【発明の効果】本発明により、参照光のピンホールへの
３次元的なアライメントを精度良く、短時間で効率良く
行うことができる点回折型干渉計測方法、点回折型干渉
計測装置、及び該方法を用いて製造された高精度投影レ
ンズを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態に係る点回折型干渉計測
装置を示す概略構成図である。

【図２】本発明の第２実施形態に係る点回折型干渉計測
装置を示す概略構成図である。

【図３】本発明の第３実施形態に係る点回折型干渉計測
装置を示す概略構成図である。

【図４】本発明の第４実施形態に係る点回折型干渉計測
装置を示す概略構成図である。

【符号の説明】

１ 光源 ２ 光源用ピンホール ３，１３，２０２ コリメータレンズ ４ グレーティング ５，３０１，３０４，４０１，４０４ ハーフミラー ６，１０，２０１，３０２，３０３，４０２，４０４
折り曲げミラー ７，１１ 集光レンズ ８ 被検物 ９ 球面反射ミラー １２ａ 参照光用ピンホール １２ｂ ウィンドウ １４ 干渉縞検出部 １０１ 平面反射ミラー ２０３ コーナーキューブ Ａ 集光点 ＣＰ 頂点反射位置 Ｈ 光路長差補正部

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】点光源生成手段を用いて略理想的な球面波
   を形成する工程と、 前記点光源生成手段からの光束を光路分割素子によって
   ２つの光束へ分割する分割工程と、 前記分割した光束のうちの一方の光束を、ピンホールを
   通過させて略理想的な球面波である参照光へ変換する参
   照光変換工程と、 前記参照光と被検物を経由した測定光とを干渉させて生
   じる干渉縞を干渉縞検出部で検出する検出工程とを含む
   点回折型干渉計測方法において、 前記一方の光束を前記ピンホールの共役位置へ集光する
   工程と、 前記ピンホールの共役位置へ集光した光束を、前記ピン
   ホールへ集光するように反射する反射工程とを含むこと
   を特徴とする点回折型干渉計測方法。
2. 【請求項２】請求項１に記載の点回折型干渉計測方法に
   おいて、 前記反射工程は、前記ピンホールの共役位置へ集光した
   光束を当該ピンホールの共役位置において、前記ピンホ
   ールへ集光するように頂点反射する頂点反射工程である
   ことを特徴とする点回折型干渉計測方法。
3. 【請求項３】請求項１に記載の点回折型干渉計測方法に
   おいて、 前記反射工程は、前記ピンホールの共役位置へ集光した
   光束を平行光束に変換し、当該平行光束をコーナーキュ
   ーブによって前記ピンホールへ集光するように反射する
   反射工程であることを特徴とする点回折型干渉計測方
   法。
4. 【請求項４】請求項１乃至３のいずれか一項に記載の点
   回折型干渉計測方法において、 前記点光源生成手段は、光源と、前記光源から射出した
   光束を略理想的な球面波とするための光源用ピンホール
   とを有し、 前記光源と前記光源用ピンホールとの間の光路内に設け
   られている光路長補正部により、前記参照光の光路長と
   前記測定光の光路長とを略等しくする光路長補正工程を
   さらに含むことを特徴とする点回折型干渉計測方法。
5. 【請求項５】球面波を生成する点光源生成手段と、 前記点光源生成手段から射出された光を２つの光束へ分
   割する光路分割素子と、 前記分割した光束のうちの一方の光束を略理想的な球面
   波である参照光へ変換するピンホールと、 前記参照光と被検物を経由した測定光とを干渉させて生
   じる干渉縞を検出する干渉縞検出部とを有する点回折型
   干渉計測装置において、 前記一方の光束を前記ピンホールの共役位置へ集光する
   集光部材と、 前記ピンホールの共役位置へ集光した光束を、前記ピン
   ホールへ集光するように反射する反射部材とを有するこ
   とを特徴とする点回折型干渉計測装置。
6. 【請求項６】請求項１乃至４のいずれか一項に記載の点
   回折型干渉計測方法を用いて製造されたことを特徴とす
   る高精度投影レンズ。