JP2003083846A - 干渉計及び該干渉計で製造された高精度投影レンズ - Google Patents

干渉計及び該干渉計で製造された高精度投影レンズ

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JP2003083846A
JP2003083846A JP2001276733A JP2001276733A JP2003083846A JP 2003083846 A JP2003083846 A JP 2003083846A JP 2001276733 A JP2001276733 A JP 2001276733A JP 2001276733 A JP2001276733 A JP 2001276733A JP 2003083846 A JP2003083846 A JP 2003083846A
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beam splitter
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Takashi Genma
隆志 玄間
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70591Testing optical components
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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】光源の可干渉距離が短い場合でも、容易に高コ
ントラストな干渉縞を得ることができる干渉計及び該干
渉計で製造された高精度投影レンズを提供する。 【解決手段】所定の可干渉距離を有する光源1と、前記
光源1からの光のうち、被検光学系9を透過した測定光
と、参照光との干渉縞を検出する干渉縞検出部12と、
前記干渉縞に基づいて前記被検光学系9の波面収差を算
出する演算部13と、前記測定光の光路長と前記参照光
の光路長との差を、前記光源1の前記可干渉距離以内と
する光路長補正部Hとを有することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は干渉計、特に光学系
の透過波面収差を測定するための干渉計及び該干渉計で
製造された高精度投影レンズに関する。
【0002】
【従来の技術】代表的な半導体製造装置である縮小投影
型逐次露光装置(以下、「ステッパー」という)は、高
精度投影レンズ等を備えている。この高精度投影レンズ
等の精度を保証するため、実際の露光波長において、投
影レンズ全体や投影レンズを構成する個々の光学素子の
透過波面収差、又は反射波面収差を測定する必要があ
る。このため種々の干渉計が提案されている。
【0003】以下、従来の干渉計を添付図面に基づいて
説明する。図7は、従来の干渉計の一例を示す図であ
る。光源101から出射した光は、集光レンズ104
と、空間周波数フィルター105とを透過した後、コリ
メータレンズ106によって平行光に変換される。この
平行光は、ビームスプリッタ107で反射されてフィゾ
ーレンズ108に入射する。フィゾーレンズ108は、
焦点位置と曲率中心が一致した基準面(フィゾー面)1
08aを有する。
【0004】フィゾーレンズ108に入射した光のう
ち、フィゾー面108aを透過した光は、被検レンズ1
09を透過した後、反射鏡110によって反射される。
反射鏡110によって反射された光は、再び被検レンズ
109と、フィゾーレンズ108とを透過した後、ビー
ムスプリッタ107に入射する。ビームスプリッタ10
7に入射した光は、該ビームスプリッタ107を透過し
た後、結像レンズ111を介して撮像素子112に入射
する。この被検物109を経由した光が測定光となる。
【0005】一方、フィゾーレンズ108に入射した光
のうち、フィゾー面108aで反射された光は、ビーム
スプリッタ107を透過した後、結像レンズ111を介
して撮像素子112に入射する。このフィゾーレンズ1
08によって反射された光が参照光となる。
【0006】撮像素子112は、測定光と参照光とによ
る干渉縞を検出する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来の干渉計では、測
定光の光路長と参照光の光路長とが大きく異なる。この
ため、光源として可干渉性の低い光源を用いることがで
きないという問題がある。例えば、図7に示す従来の干
渉計において、光源の可干渉距離は100mm以下であ
るのに対し、被検レンズの物理的な長さは1m程度であ
る。このため、図7に示す従来の干渉計の構成では干渉
縞を得ることができない。
【0008】干渉計の光源波長は、ステッパーの露光波
長とほぼ等しいことが望ましい。従って、ステッパーの
露光波長にほぼ等しい発振波長を有する可干渉性の高い
光源が存在すれば、該光源を用いて干渉計を構成するこ
とが可能である。しかし、高圧水銀ランプg線(436
nm)、i線(365nm)、KrFエキシマレーザ
(248nm)、ArFエキシマレーザ(193n
m)、F2エキシマレーザ(157nm)という全ての
露光光源に対して、可干渉性のよい光源が存在している
というわけではない。特に光源の短波長化に伴い、可干
渉性の高い光源の入手は困難である。
【0009】そこで本発明は上記問題点に鑑みてなされ
たものであり、光源の可干渉距離が短い場合でも、容易
に高コントラストな干渉縞を得ることができる干渉計及
び該干渉計で製造された高精度投影レンズを提供するこ
とを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に請求項1に記載の発明は、所定の可干渉距離を有する
光源と、前記光源からの光のうち、被検光学系を透過し
た測定光と、参照光との干渉縞を検出する干渉縞検出部
と、前記干渉縞に基づいて前記被検光学系の波面収差を
算出する演算部と、前記測定光の光路長と前記参照光の
光路長との差を、前記光源の前記可干渉距離以内とする
光路長補正部を有することを特徴とする干渉計を提供す
る。
【0011】また、請求項2に記載の干渉計は、請求項
1に記載の干渉計において、前記干渉計は基準面を有
し、前記基準面は、前記光源からの光を前記基準面を反
射する参照光と、前記基準面を透過して前記被検光学系
へ射出する測定光とに分割することを特徴とする。尚本
干渉計は、いわゆるフィゾー型干渉計を構成する。
【0012】また、請求項3に記載の干渉計は、請求項
1に記載の干渉計において、前記干渉計は、前記光源か
らの光を分割する光分割部材と、前記分割された一方の
光の光路に設けられている参照面と、前記参照面で反射
した参照光と、前記分割された他方の光の光路に設けら
れている前記被検光学系を透過した測定光とを合成する
光合成部材とを有し、前記光分割部材の機能と前記光合
成部材の機能とは一つのビームスプリッタで兼用されて
いることを特徴とする。尚本干渉計は、いわゆるトワイ
マン・グリーン型干渉計を構成する。
【0013】また、請求項4に記載の干渉計は、請求項
1に記載の干渉計において、前記干渉計は、前記光源か
らの光を分割する光分割部材と、前記分割された一方の
光である参照光と、前記分割された他方の光の光路に設
けられている前記被検光学系を透過した測定光とを合成
する光合成部材とを有することを特徴とする。尚本干渉
計は、いわゆるマッハ・ツェンダー型干渉計を構成す
る。
【0014】また、請求項5に記載の干渉計は、請求項
1に記載の干渉計において、前記干渉縞のコントラスト
が最も大きくなるように、前記被検光学系を透過した測
定光の光路長と、参照光の光路長との光路長差を可変に
する光路長調整機構を有することを特徴とする。
【0015】また、請求項6に記載の干渉計は、請求項
1に記載の干渉計において、前記光路長調整機構は、少
なくとも1枚の反射部材と、前記反射部材を移動させる
移動部とを有し、前記演算部は、前記移動部により前記
反射部材を移動させて、参照光と測定光との間に所定の
位相差を与えることで縞走査を行うことを特徴とする。
【0016】また、請求項7に記載の発明は、請求項1
乃至6のいずれか一項に記載の干渉計を用いて製造され
たことを特徴とする高精度投影レンズを提供する。
【0017】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を添
付図面に基づいて説明する。
【0018】(第1実施形態)図1は、本発明の第1実
施形態に係る干渉計の概略構成図である。尚、本実施形
態に係る干渉計は、フィゾー型干渉計の例を示すもので
ある。また、被検レンズとして、ステッパー用の高精度
投影レンズを用いる。
【0019】本実施形態に係る干渉計は、光源1と集光
レンズ4との間に光路長補正部Hを有する構成である。
光路長補正部Hは、ビームスプリッタ2a,2bと折り
曲げミラー3a,3bとからなる。
【0020】光源1を出射した光は、ビームスプリッタ
2aによって2つの光に分割される。ビームスプリッタ
2aを透過した光は、ビームスプリッタ2bを透過して
集光レンズ4に入射する。一方、ビームスプリッタ2a
によって反射された光は、折り曲げミラー3a,3bを
介してビームスプリッタ2bに入射する。このビームス
プリッタ2bに入射した光は、該ビームスプリッタ2b
によって反射され、集光レンズ4に入射する。
【0021】集光レンズ4に入射した2つの光は、空間
周波数フィルター5を透過した後、コリメータレンズ6
によって平行光に変換される。この平行光は、ビームス
プリッタ7で反射されてフィゾーレンズ8に入射する。
ここで、フィゾーレンズ8は、焦点位置と曲率中心が一
致した基準面(フィゾー面)8aを有する。
【0022】フィゾー面8aを透過した光は、被検レン
ズ9を透過した後、反射鏡10によって反射される。反
射鏡10によって反射された光は、再び被検レンズ9
と、フィゾーレンズ8とを透過した後、ビームスプリッ
タ7に入射する。ビームスプリッタ7に入射したこの光
は、該ビームスプリッタ7を透過した後、結像レンズ1
1を介して撮像素子12に入射する。この被検レンズ9
を透過した光が測定光となる。
【0023】一方、フィゾー面8aで反射された光は、
ビームスプリッタ7を透過した後、結像レンズ11を介
して撮像素子12に入射する。このフィゾーレンズ8の
フィゾー面108aによって反射された光が参照光とな
る。
【0024】ここで、光路長補正部Hは、光路長補正部
Hを経由した参照光と、光路長補正部Hを経由しない測
定光との光路長差を光源1の可干渉距離以内とするよう
に構成されている。
【0025】そして、撮像素子12に入射した測定光と
参照光は、干渉縞を形成して該撮像素子12によって検
出される。撮像素子12で検出された干渉縞に基づき、
演算部13によって被検レンズ9の透過波面収差が算出
される。演算部13は、計測制御機能、収差計算機能、
収差制御機能等を有する。演算部13は、透過波面収差
に基づき、収差を低減するために必要な調整量を計算す
る。レンズの調整機構を有している被検レンズ9の場合
には、演算部13からの指示により、計測結果に基づい
て収差を自動補正することも可能である。
【0026】次に、光路長についてさらに詳しく説明す
る。撮像素子12には上述の測定光と参照光を含んだ下
記の4種類の光(1)〜(4)が入射する。 (1)光路長補正部Hを経由して、フィゾー面8aで反
射した光(参照光),(2)光路長補正部Hを経由せ
ず、被検レンズ9を透過した光(測定光),(3)光路
長補正部Hを経由して、被検レンズ9を透過した光,
(4)光路長補正部Hを経由せず、フィゾー面8aで反
射した光.以上、4種類の光のうち本実施形態に係る干
渉計は、(1)を参照光、(2)を測定光として、これ
らの光路長差を光源1の可干渉距離以内に補正してい
る。ここで、ステッパー露光光源の可干渉距離は100
mm以下であるのに対して、被検レンズの長さは約1m
であるため、(1)と(3)との光路長差、(1)と
(4)との光路長差、(2)と(3)との光路長差、
(2)と(4)との光路長差、(3)と(4)との光路
長差は、いずれも光源1の可干渉距離以上となる。従っ
て、撮像素子12に4種類の光が入射しても干渉するの
は(1)と(2)のみであるため、(3)と(4)は測
定結果に影響を及ぼすことはない。
【0027】以上のように本実施形態に係る干渉計は、
光路長補正部Hによって測定光と参照光との光路長差を
光源の可干渉距離以内に補正することができる。これに
より、可干渉性の低い光源を用いた場合でも、高コント
ラストな干渉縞を得ることができる。
【0028】次に、被検レンズ9が色収差を有する場合
について説明する。被検レンズ9が色収差を有する場
合、上記(1)の参照光と(2)の測定光との光路長が
等しいときでも、干渉縞のコントラストが最大になると
は限らない。このため、光路長補正部H内の光路長を定
める際に、被検レンズ9の色収差までを考慮した光学計
算をすることが望ましい。
【0029】光源1の発振スペクトルが所定のスペクト
ル幅を有している場合を考える。そして、このスペクト
ル幅の波長範囲において、被検レンズ9を構成している
レンズ材料の屈折率が一定ではなく、波長に依存して異
なるとする。この場合、測定光の光路長Ltest
(λ)は、次式(1)で表すことができる。 (1) Ltest(λ)=Σni(λ)・di ただし、 ni(λ):波長λの時の被検レンズ9の屈折率, di :被検レンズ9の厚さ. 上記(1)式から明らかなように、測定光の光路長Lt
est(λ)は、光源1のスペクトル幅の波長範囲にお
いて異なる値をとる。
【0030】次に、参照光の光路長について考える。簡
単のため、参照光の光路は全て空気、窒素、又はヘリウ
ムなどの気体で満たされており、光学ガラス材料は参照
光の光路内に存在しないと仮定する。この場合、参照光
の光路における屈折率は、光源1からの光の波長に依存
せず、一定である。参照光の光路長Lref(λ)は、
次式(2)で表すことができる。 (2) Lref(λ)=n・dref ただし、 n :参照光の光路の気体の屈折率, dref:参照光の光路の長さ. このように、参照光の光路長Lref(λ)は波長に依
存せず一定であるのに対し、測定光の光路長Ltest
(λ)は波長により異なる値をとる。従って、参照光の
光路長Lref(λ)を1つの所定値に定めることがで
きない。このため、観察される干渉縞のコントラストが
最大になるように、参照光の光路長Lref(λ)を定
めることが望ましい。
【0031】また、被検レンズ9の透過波面収差を測定
する場合、被検レンズ9の光軸近傍を透過する光と、レ
ンズ周辺部を通過する光とでは、光路長が異なる。従っ
て、干渉縞のコントラストが最大となる参照光の光路長
は、測定光が被検レンズ9の中心を通過する場合と、レ
ンズ周辺部を通過する場合とで異なってしまう。このた
め、被検レンズ9の波面収差を測定する領域内で、複数
の参照光の光路長毎の干渉縞のコントラストを計算す
る。そして、総合的に最もバランスのとれた条件を満足
するように、参照光の光路長を決定することが望まし
い。
【0032】ここで、本実施形態に係る干渉計は光路長
調整機構Haを有する。光路長調整機構Haは、折り曲
げミラー3a,3bと、該折り曲げミラー3a,3bを
移動させる移動部14とからなる。この移動部14によ
って折り曲げミラー3a,3bを移動させることによ
り、光路長補正部Hの光路長を調整することができる。
さらに、演算部13は移動部14によって折り曲げミラ
ー3a,3bを微小間隔で移動させて、参照光と測定光
との間に所定の位相差を与えることによって縞走査を行
う。このように本実施形態に係る干渉計は、参照光と測
定光との光路長差が可変な構成となっている。このた
め、光路長調整機構Haによって干渉縞のコントラスト
が最大となるように参照光の光路長を設定することがで
きる。
【0033】次に、被検レンズ9の波面収差の測定につ
いて図2を参照して説明する。図2は、本実施形態に係
る干渉計の変形例を示す概略構成図である。図2に示す
干渉計は、移動部15によって干渉計本体部Kと反射鏡
10とが相対的に図中の矢印方向に移動する構成であ
る。この構成により、被検レンズ9の露光範囲内の各
点、即ち被検レンズ9の光軸上や光軸外での波面収差を
測定することができる。
【0034】また、上述したように被検レンズ9の波面
収差を測定する場合、該被検レンズ9の中央(光軸上)
を通る光と、周辺(光軸外)を通る光とはレンズ材料内
の光路長が異なる。このため、光軸上での波面収差を測
定する場合と光軸外での波面収差を測定する場合とでは
干渉縞のコントラストが最大となるときの参照光の光路
長が異なる。従って、参照光の光路長を決定するために
は、被検レンズ9の中央や周辺等の各点(露光範囲内の
各点)において、参照光の光路長毎に干渉縞のコントラ
ストを計算する必要がある。そして、各点において干渉
縞のコントラストが良い最もバランスのとれた、測定光
の光路長と参照光の光路長との条件を見出し、その条件
を満たすような参照光の光路長を設定することが必要で
ある。図2に示す干渉計は、参照光の光路長が可変な構
成であるため、容易に参照光の光路長を所望の値にする
ことができる。
【0035】以上より図2に示す干渉計は、被検レンズ
9の露光範囲内の各点において、コントラストの良い干
渉縞を観察することが可能となる。
【0036】尚、光源の可干渉距離が長く十分なコント
ラストの干渉縞が得られる場合、全ての測定条件に対し
て最適な参照光の光路長を設定しておくことが望まし
い。これによって、他の全ての測定を参照光の光路長を
変化させることなしに行うことが可能となる。
【0037】また、測定する被検レンズ9の種類が異な
る場合、最適な参照光の光路長は異なる。従って、参照
光の光路長を調整するか、又は被検レンズ9に応じて光
路長補正部Hを交換することが望ましい。
【0038】(第2実施形態)図3は、本発明の第2実
施形態に係る干渉計の概略構成図である。尚、本実施形
態に係る干渉計は、トワイマン・グリーン型干渉計の例
を示すものである。
【0039】本実施形態に係る干渉計は、光源1と集光
レンズ4との間に光路長補正部Hを有する構成である。
光路長補正部Hは、ビームスプリッタ2a,2bと折り
曲げミラー3a,3b,3cとからなる。
【0040】光源1を出射した光は、ビームスプリッタ
2aによって2つの光に分割される。ビームスプリッタ
2aを透過した光は、ビームスプリッタ2bを透過して
集光レンズ4に入射する。一方、ビームスプリッタ2a
によって反射された光は、折り曲げミラー3a,3b,
3cを介してビームスプリッタ2bに入射する。このビ
ームスプリッタ2bに入射した光は、該ビームスプリッ
タ2bによって反射され、集光レンズ4に入射する。
【0041】集光レンズ4に入射した2つの光は、空間
周波数フィルター5を透過した後、コリメータレンズ6
によって平行光に変換される。この平行光は、ビームス
プリッタ7によって2つの光に分割される。ビームスプ
リッタ7によって反射された光は、集光レンズ16と被
検レンズ9とを透過した後、反射鏡10によって反射さ
れる。反射鏡10によって反射された光は、再び被検レ
ンズ9と集光レンズ16とを透過した後、ビームスプリ
ッタ7に入射する。ビームスプリッタ7に入射した光
は、該ビームスプリッタ7を透過した後、結像レンズ1
1を介して撮像素子12に入射する。この被検レンズ9
を経由した光が測定光となる。
【0042】一方、ビームスプリッタ7を透過した光
は、参照鏡17によって反射され、再びビームスプリッ
タ7に入射する。このビームスプリッタ7に入射した光
は、該ビームスプリッタ7によって反射され、結像レン
ズ11を介して撮像素子12に入射する。この参照鏡1
7によって反射された光が参照光となる。そして、撮像
素子12に入射した測定光と参照光とは、干渉縞を形成
して該撮像素子12によって検出される。撮像素子12
で検出された干渉縞に基づき、演算部13によって被検
レンズ9の透過波面収差が算出される。
【0043】尚、撮像素子12には上述の測定光と参照
光を含んだ下記の4種類の光が入射する。 (1)光路長補正部Hを経由して、ビームスプリッタ7
を透過し、参照鏡17を経て、ビームスプリッタ7で反
射した光(参照光),(2)光路長補正部Hを経由せ
ず、ビームスプリッタ7で反射し、被検レンズ9を透過
し、ビームスプリッタ7を透過した光(測定光),
(3)光路長補正部Hを経由して、ビームスプリッタ7
で反射し、被検レンズ9を透過し、ビームスプリッタ7
を透過した光,(4)光路長補正部Hを経由せず、ビー
ムスプリッタ7を透過し、参照鏡17を経て、ビームス
プリッタ7で反射した光.以上、4種類の光のうち本実
施形態に係る干渉計は、(1)を参照光、(2)を測定
光として、これらの光路長差を光源の可干渉距離以内に
補正している。
【0044】上記第1実施形態と同様に、本実施形態に
おいても(1)と(2)のみが干渉するため、(3)と
(4)は測定結果には影響を及ぼすことはない。
【0045】尚、トワイマン・グリーン型干渉計では、
参照鏡17をビームスプリッタ7に遠ざけたり近づけた
りすることによって参照光の光路長を調整できる構成と
することも可能である。これによって、光路長補正部H
を用いずに測定光の光路長と参照光の光路長とを一致さ
せることが可能である。しかし、このような構成にした
場合、参照光の光路長は片道1m以上の長さになり、空
気の揺らぎや振動等の外乱を抑えることが非常に難し
い。このため、干渉計の測定精度の低下を避けることが
困難となる。これに対して本実施形態に係る干渉計で
は、補正のための光路長は片道1m以上の長さになる
が、細いビームであることや、光路長補正部(コーナー
キューブ)Hで光を折り返すことによって外乱の影響を
抑えることができる。このため、干渉計の測定精度の低
下を避けることが可能となる。
【0046】以上のように本実施形態に係る干渉計は、
光路長補正部Hによって測定光と参照光との光路長差を
光源の可干渉距離以内に補正することができる。これに
より、可干渉性の低い光源を用いた場合でも、高コント
ラストな干渉縞を得ることができる。
【0047】(第3実施形態)図4は、本発明の第3実
施形態に係る干渉計の概略構成図である。本実施形態に
係る干渉計は、上記第2実施形態において光路分割を行
っていたビームスプリッタに替えて偏光ビームスプリッ
タを備える構成としたものである。
【0048】光源1を出射した直線偏光は、1/2波長
板18を介して光路長補正部Hの偏光ビームスプリッタ
2Paに入射する。偏光ビームスプリッタ2Paに入射
した光のうちのS偏光、P偏光はそれぞれ、該偏光ビー
ムスプリッタ2Paによって反射、透過する。尚、1/
2波長板18によってS偏光とP偏光との強度比率を調
整することが可能である。
【0049】偏光ビームスプリッタ2Paを透過したP
偏光は、偏光ビームスプリッタ2Pbを透過して集光レ
ンズ4に入射する。一方、偏光ビームスプリッタ2Pa
によって反射されたS偏光は、折り曲げミラー3a,3
bを介して偏光ビームスプリッタ2Pbに入射する。こ
の偏光ビームスプリッタ2Pbに入射したS偏光は、該
偏光ビームスプリッタ2Pbによって反射され、集光レ
ンズ4に入射する。集光レンズ4に入射した2つの光
は、空間周波数フィルター5を透過した後、コリメータ
レンズ6によって平行光に変換される。
【0050】この平行光のうち、光路長補正部Hを経由
しないP偏光は、1/2波長板19によってS偏光に変
換されて偏光ビームスプリッタ7Pに入射する。このS
偏光は、偏光ビームスプリッタ7Pによって反射されて
1/4波長板20と集光レンズ16と被検レンズ9とを
透過した後、反射鏡10によって反射される。反射鏡1
0によって反射された光は、再び被検レンズ9と集光レ
ンズ16と1/4波長板20とを透過した後、偏光ビー
ムスプリッタ7Pに入射する。尚、この偏光ビームスプ
リッタ7Pに入射した光は、1/4波長板20を往復し
たことによってP偏光に変換されているため、偏光ビー
ムスプリッタ7Pを透過する。この被検レンズ9を経由
した光が測定光となる。
【0051】一方、コリメータレンズ6によって変換さ
れた平行光のうち、光路長補正部Hを経由したS偏光
は、1/2波長板19によってP偏光に変換されて偏光
ビームスプリッタ7Pに入射する。偏光ビームスプリッ
タ7Pに入射したP偏光は、該偏光ビームスプリッタ7
Pを透過し、1/4波長板21を経て参照鏡17によっ
て反射される。参照鏡17によって反射された光は、再
び1/4波長板21を経て偏光ビームスプリッタ7Pに
入射する。尚、この偏光ビームスプリッタ7Pに入射し
た光は、1/4波長板21を往復したことによってS偏
光に変換されているため、偏光ビームスプリッタ7Pに
よって反射される。この参照鏡17によって反射された
光が参照光となる。
【0052】測定光と参照光とは、偏光板22と結像レ
ンズ11とを介して撮像素子12に入射する。ここで、
偏光ビームスプリッタ7Pを出射した測定光と参照光と
は、偏光の方位が直交しているためにそのままでは干渉
しない。このため、これらの光を45度方向の偏光板2
2を透過させることによって干渉するようにしている。
そして、撮像素子12に入射した測定光と参照光とは、
干渉縞を形成して該撮像素子12によって検出される。
撮像素子12で検出された干渉縞に基づき、演算部13
によって被検レンズ9の透過波面収差が算出される。
【0053】尚、上述のように撮像素子12には下記の
2種類の光のみが入射する。 (1)光路長補正部Hを経由して、偏光ビームスプリッ
タ7Pを透過し、参照鏡17を経て、偏光ビームスプリ
ッタ7Pで反射した光(参照光),(2)光路長補正部
Hを経由せず、偏光ビームスプリッタ7Pで反射し、被
検レンズ9を透過し、偏光ビームスプリッタ7Pを透過
した光(測定光).本実施形態に係る干渉計は、(1)
を参照光、(2)を測定光として、これらの光路長差を
光源1の可干渉距離以内に補正している。
【0054】以上のように本実施形態に係る干渉計は、
光路長補正部Hによって測定光と参照光との光路長差を
光源の可干渉距離以内に補正することができる。これに
より、可干渉性の低い光源を用いた場合でも、高コント
ラストな干渉縞を得ることができる。また、第1、第2
実施形態に係る干渉計における(3)、(4)のような
余分な光が撮像素子12に入射しないため、光量を有効
に使用でき、また干渉縞のコントラストのさらなる向上
を図ることができる。
【0055】(第4実施形態)図5は、本発明の第4実
施形態に係る干渉計の概略構成図である。尚、上記第3
実施形態と同様の構成である部分には同じ符号を付して
重複する説明を省略し、特徴的な部分について説明す
る。
【0056】上記第3実施形態に係る干渉計において、
光路長補正部Hは光源1と集光レンズ4との間(光源
側)に配置される。しかし、光路長補正部Hの配置され
る場所はこれに限られず、光源1から撮像素子12まで
の光路内であればよい。
【0057】本実施形態に係る干渉計は、第3実施形態
において光源側に配置していた光路長補正部Hを、結像
レンズ11と偏光板22との間(撮像素子側)に配置し
た構成である。
【0058】従って本実施形態に係る干渉計において
も、光路長補正部Hによって測定光と参照光との光路長
差を光源の可干渉距離以内に補正することができる。こ
れにより、可干渉性の低い光源を用いた場合でも、光量
を有効に使用でき、高コントラストな干渉縞を得ること
ができる。
【0059】尚、本実施形態における光路長補正部Hの
撮像素子側への配置は、第1実施形態に係るフィゾー型
干渉計においても適用することが可能である。
【0060】(第5実施形態)図6は、本発明の第5実
施形態に係る干渉計の概略構成図である。尚、本実施形
態に係る干渉計は、マッハ・ツェンダー型干渉計の例を
示すものである。
【0061】本実施形態に係る干渉計は、光源1と集光
レンズ4との間に光路長補正部Hを有する構成である。
光路長補正部Hは、偏光ビームスプリッタ2Pa,2P
bと折り曲げミラー3a,3bとからなる。
【0062】光源1を出射した直線偏光は、1/2波長
板18を介して光路長補正部Hの偏光ビームスプリッタ
2Paに入射する。偏光ビームスプリッタ2Paに入射
した光のうちのS偏光、P偏光はそれぞれ、該偏光ビー
ムスプリッタ2Paによって反射、透過する。尚、1/
2波長板18によってS偏光とP偏光との強度比率を調
整することが可能である。
【0063】偏光ビームスプリッタ2Paを透過したP
偏光は、偏光ビームスプリッタ2Pbを透過して集光レ
ンズ4に入射する。一方、偏光ビームスプリッタ2Pa
によって反射されたS偏光は、折り曲げミラー3a,3
bを介して偏光ビームスプリッタ2Pbに入射する。こ
の偏光ビームスプリッタ2Pbに入射したS偏光は、該
偏光ビームスプリッタ2Pbによって反射され、集光レ
ンズ4に入射する。集光レンズ4に入射した2つの光
は、空間周波数フィルター5を透過した後、コリメータ
レンズ6によって平行光に変換される。
【0064】この平行光のうち、光路長補正部Hを経由
しないP偏光は、1/2波長板23によってS偏光に変
換されて偏光ビームスプリッタ7Paに入射する。この
S偏光は、偏光ビームスプリッタ7Paによって反射さ
れて、集光レンズ16と被検レンズ9とコリメータレン
ズ24とを透過する。そしてこのS偏光は、折り曲げミ
ラー25によって反射され、偏光ビームスプリッタ7P
bに入射する。この偏光ビームスプリッタ7Pbに入射
したS偏光は、該偏光ビームスプリッタ7Pbによって
反射される。この被検レンズ9を経由した光が測定光と
なる。
【0065】一方、コリメータレンズ6によって変換さ
れた平行光のうち、光路長補正部Hを経由したS偏光
は、1/2波長板23によってP偏光に変換されて偏光
ビームスプリッタ7Paに入射する。偏光ビームスプリ
ッタ7Paに入射したP偏光は、該偏光ビームスプリッ
タ7Paを透過し、折り返しミラー26によって反射さ
れ、偏光ビームスプリッタ7Pbに入射する。この偏光
ビームスプリッタ7Pbに入射したP偏光は、該偏光ビ
ームスプリッタ7Pbを透過する。この光が参照光とな
る。
【0066】測定光と参照光とは、偏光板22と結像レ
ンズ11とを介して撮像素子12に入射する。ここで、
偏光ビームスプリッタ7Pbを出射した測定光と参照光
とは、偏光の方位が直交しているためにそのままでは干
渉しない。このため、これらの光を45度方向の偏光板
22を透過させることによって干渉するようにしてい
る。そして、撮像素子12に入射した測定光と参照光と
は、干渉縞を形成して該撮像素子12によって検出され
る。撮像素子12で検出された干渉縞に基づき、演算部
13によって被検レンズ9の透過波面収差が算出され
る。
【0067】尚、光路長補正部Hの役割は、上記各実施
形態に係る干渉計に備えられた光路長補正部Hと同様で
ある。
【0068】また本実施形態に係る干渉計では、偏光ビ
ームスプリッタによって光路の分割を行っている。この
ため撮像素子12には、上記第3、第4実施形態と同様
に、2種類の光のみが入射する。ここで、偏光ビームス
プリッタを用いずに、強度分割のビームスプリッタによ
って光路の分割を行った場合、撮像素子12には上記第
1、第2実施形態と同様に、4種類の光が入射する。
【0069】従って本実施形態に係る干渉計において
も、光路長補正部Hによって測定光と参照光との光路長
差を光源の可干渉距離以内に補正することができる。こ
れにより、可干渉性の低い光源を用いた場合でも、光量
を有効に使用でき、高コントラストな干渉縞を得ること
ができる。マッハ・ツェンダー型干渉計の場合、通常は
測定光の光路長と参照光の光路長とに大きな差は生じな
い。しかし、ステッパーに備えられる高精度投影レンズ
等のようにガラス材料内の光路長が大きな場合、測定光
と参照光との光路長差を無視することはできない。この
ため上記各実施形態に係る干渉計と同様に、本実施形態
に係る干渉計も高精度投影レンズ等を測定する際に有効
である。
【0070】また、上記各実施形態に係る干渉計を用い
ることによって、投影レンズの透過波面収差を簡便に干
渉測定することができる。このため、高精度な投影レン
ズを製造することが可能となる。
【0071】
【発明の効果】本発明によれば、光源の可干渉距離が短
い場合でも、容易に高コントラストな干渉縞を得ること
ができる干渉計及び該干渉計で製造された高精度投影レ
ンズを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態に係るフィゾー型干渉計
の概略構成図である。
【図2】本発明の第1実施形態に係るフィゾー型干渉計
の変形例を示す概略構成図である。
【図3】本発明の第2実施形態に係るトワイマン・グリ
ーン型干渉計の概略構成図である。
【図4】本発明の第3実施形態に係るトワイマン・グリ
ーン型干渉計の概略構成図である。
【図5】本発明の第4実施形態に係るトワイマン・グリ
ーン型干渉計の概略構成図である。
【図6】本発明の第5実施形態に係るマッハ・ツェンダ
ー型干渉計の概略構成図である。
【図7】従来の干渉計の概略構成図である。
【符号の説明】
1,101 光源 2a,2b,7,107 ビームスプリッタ 2Pa,2Pb,7P,7Pa,7Pb 偏光ビーム
スプリッタ 3a,3b,3c,25,26 折り曲げミラー 4,16,104 集光レンズ 5,105 空間周波数フィルター 6,24,106 コリメータレンズ 8,108 フィゾーレンズ 8a,108a フィゾー面(基準面) 9,109 被検レンズ 10,110 反射鏡 11,111 結像レンズ 12,112 撮像素子 13 演算部 14,15 移動部 17 参照鏡 18,19,23 1/2波長板 20,21 1/4波長板 22 偏光板 H 光路長補正部 Ha 光路長調整機構 K 干渉計本体部

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】所定の可干渉距離を有する光源と、 前記光源からの光のうち、被検光学系を透過した測定光
    と、参照光との干渉縞を検出する干渉縞検出部と、 前記干渉縞に基づいて前記被検光学系の波面収差を算出
    する演算部と、 前記測定光の光路長と前記参照光の光路長との差を、前
    記光源の前記可干渉距離以内とする光路長補正部とを有
    することを特徴とする干渉計。
  2. 【請求項2】請求項1に記載の干渉計において、 前記干渉計は基準面を有し、 前記基準面は、前記光源からの光を前記基準面を反射す
    る参照光と、前記基準面を透過して前記被検光学系へ射
    出する測定光とに分割することを特徴とする干渉計。
  3. 【請求項3】請求項1に記載の干渉計において、 前記干渉計は、前記光源からの光を分割する光分割部材
    と、 前記分割された一方の光の光路に設けられている参照面
    と、 前記参照面で反射した参照光と、前記分割された他方の
    光の光路に設けられている前記被検光学系を透過した測
    定光とを合成する光合成部材とを有し、 前記光分割部材の機能と前記光合成部材の機能とは一つ
    のビームスプリッタで兼用されていることを特徴とする
    干渉計。
  4. 【請求項4】請求項1に記載の干渉計において、 前記干渉計は、前記光源からの光を分割する光分割部材
    と、 前記分割された一方の光である参照光と、前記分割され
    た他方の光の光路に設けられている前記被検光学系を透
    過した測定光とを合成する光合成部材とを有することを
    特徴とする干渉計。
  5. 【請求項5】請求項1に記載の干渉計において、 前記干渉縞のコントラストが最も大きくなるように、前
    記被検光学系を透過した測定光の光路長と、参照光の光
    路長との光路長差を可変にする光路長調整機構を有する
    ことを特徴とする干渉計。
  6. 【請求項6】請求項1に記載の干渉計において、 前記光路長調整機構は、少なくとも1枚の反射部材と、 前記反射部材を移動させる移動部とを有し、 前記演算部は、前記移動部により前記反射部材を移動さ
    せて、参照光と測定光との間に所定の位相差を与えるこ
    とで縞走査を行うことを特徴とする干渉計。
  7. 【請求項7】請求項1乃至6のいずれか一項に記載の干
    渉計を用いて製造されたことを特徴とする高精度投影レ
    ンズ。
JP2001276733A 2001-09-12 2001-09-12 干渉計及び該干渉計で製造された高精度投影レンズ Withdrawn JP2003083846A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7508488B2 (en) 2004-10-13 2009-03-24 Carl Zeiss Smt Ag Projection exposure system and method of manufacturing a miniaturized device
US7738117B2 (en) 2005-03-30 2010-06-15 Carl Zeiss Smt Ag Method of manufacturing an optical element
JP2011257190A (ja) * 2010-06-07 2011-12-22 Fujifilm Corp 実時間測定分岐型干渉計

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