JP2003065895A - 偏芯測定装置及び偏芯測定方法 - Google Patents
偏芯測定装置及び偏芯測定方法Info
- Publication number
- JP2003065895A JP2003065895A JP2001256929A JP2001256929A JP2003065895A JP 2003065895 A JP2003065895 A JP 2003065895A JP 2001256929 A JP2001256929 A JP 2001256929A JP 2001256929 A JP2001256929 A JP 2001256929A JP 2003065895 A JP2003065895 A JP 2003065895A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- lens
- eccentricity
- reflected
- reflecting means
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 空気の揺らぎや振動等による外乱の影響を小
さくして高精度な測定を簡易に行うとともに、偏芯の測
定対象となっていない他の光学部材表面からの反射光に
よって生じる測定誤差の影響による測定精度の低下を防
止する。 【解決手段】 光源１１より射出された可干渉光９１を
測定光９１ａと参照光９１ｂとに分割し、測定光９１ａ
を被検レンズ表面１ａにおいてキャッツアイ反射させる
一方で、参照光９１ｂを被検レンズ１に至らせることな
く反射手段（光透過反射手段１５）において反射させ、
被検レンズ表面１ａにおいてキャッツアイ反射した測定
光９１ａと反射手段（光透過反射手段１５）において反
射した参照光９１ｂとを重ね合わせてイメージセンサ１
９の受光面上に干渉縞を形成させ、被検レンズ１を基準
軸（レンズ系全体の光軸Ｌ）まわりに回転させたときに
生ずる干渉縞の変動に基づいて被検レンズ１の基準軸に
対する偏芯を求める。
さくして高精度な測定を簡易に行うとともに、偏芯の測
定対象となっていない他の光学部材表面からの反射光に
よって生じる測定誤差の影響による測定精度の低下を防
止する。 【解決手段】 光源１１より射出された可干渉光９１を
測定光９１ａと参照光９１ｂとに分割し、測定光９１ａ
を被検レンズ表面１ａにおいてキャッツアイ反射させる
一方で、参照光９１ｂを被検レンズ１に至らせることな
く反射手段（光透過反射手段１５）において反射させ、
被検レンズ表面１ａにおいてキャッツアイ反射した測定
光９１ａと反射手段（光透過反射手段１５）において反
射した参照光９１ｂとを重ね合わせてイメージセンサ１
９の受光面上に干渉縞を形成させ、被検レンズ１を基準
軸（レンズ系全体の光軸Ｌ）まわりに回転させたときに
生ずる干渉縞の変動に基づいて被検レンズ１の基準軸に
対する偏芯を求める。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レンズ等の光学部
材単体、或いは複数の光学部材が光軸方向に並設されて
なる光学部材系（例えばレンズ系）において、個々の光
学部材の基準軸（例えば光学部材系全体の光軸）に対す
る偏芯、すなわち光学部材表面の曲率中心が基準軸より
どれだけずれているか、或いは光学部材が基準軸に対し
てどれだけ傾いているかを測定する偏芯測定装置及び偏
芯測定方法に関する。
材単体、或いは複数の光学部材が光軸方向に並設されて
なる光学部材系（例えばレンズ系）において、個々の光
学部材の基準軸（例えば光学部材系全体の光軸）に対す
る偏芯、すなわち光学部材表面の曲率中心が基準軸より
どれだけずれているか、或いは光学部材が基準軸に対し
てどれだけ傾いているかを測定する偏芯測定装置及び偏
芯測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】複数のレンズ部材が光軸方向に並設され
てなるレンズ系においては、個々のレンズ部材は基準
軸、すなわちレンズ系全体の光軸に対してずれ或いは傾
きを有しているのが普通であり、このようなずれや傾き
を一般に偏芯と称している。また、レンズ部材単体にお
いても、これが据え付けられる対象の基準軸に対してず
れや傾きを有している場合があり、これも同様に偏芯と
呼んでいる。
てなるレンズ系においては、個々のレンズ部材は基準
軸、すなわちレンズ系全体の光軸に対してずれ或いは傾
きを有しているのが普通であり、このようなずれや傾き
を一般に偏芯と称している。また、レンズ部材単体にお
いても、これが据え付けられる対象の基準軸に対してず
れや傾きを有している場合があり、これも同様に偏芯と
呼んでいる。
【０００３】このような偏芯を測定する装置としては従
来種々の形態のものが考案されている。図２３は従来の
偏芯測定装置の一例を示すものであり、偏芯測定の対象
となっている被検レンズ７０１が基準軸、例えばこの被
検レンズ７０１を含んで構成されるレンズ系全体の光軸
Ｌからどれだけ偏芯しているかを測定するものである。
この装置では、光源７１１より射出された可干渉光７９
０が光透過反射手段７１２の半透膜７１２ａを左方に透
過する第１の光７９１と半透膜７１２ａにおいて下方に
反射する第２の光７９２とに分割される。半透膜７１２
ａを左方に透過した第１の光７９１は光透過反射手段７
１２の反射面７１２ｂにおいて下方に反射し、半透膜７
１２ａにおいて下方に反射した第２の光７９２とともに
反射手段７１３に入射する。これら両光７９１，７９２
はそれぞれ反射手段７１３の反射面７１３ａ，７１３ｂ
に入射し、第１の光７９１は左方に、第２の光７９２は
右方にそれぞれ反射する。
来種々の形態のものが考案されている。図２３は従来の
偏芯測定装置の一例を示すものであり、偏芯測定の対象
となっている被検レンズ７０１が基準軸、例えばこの被
検レンズ７０１を含んで構成されるレンズ系全体の光軸
Ｌからどれだけ偏芯しているかを測定するものである。
この装置では、光源７１１より射出された可干渉光７９
０が光透過反射手段７１２の半透膜７１２ａを左方に透
過する第１の光７９１と半透膜７１２ａにおいて下方に
反射する第２の光７９２とに分割される。半透膜７１２
ａを左方に透過した第１の光７９１は光透過反射手段７
１２の反射面７１２ｂにおいて下方に反射し、半透膜７
１２ａにおいて下方に反射した第２の光７９２とともに
反射手段７１３に入射する。これら両光７９１，７９２
はそれぞれ反射手段７１３の反射面７１３ａ，７１３ｂ
に入射し、第１の光７９１は左方に、第２の光７９２は
右方にそれぞれ反射する。
【０００４】反射面７１３ａにおいて左方に反射した第
１の光７９１は反射手段７１３の左方に設置された偏向
手段７１４において反射・偏向されて被検レンズ７０１
の表面（以下、被検レンズ表面７０１ａとする）上の微
小領域に入射する。一方、反射面７１３ｂにおいて右方
に反射した第２の光７９２は反射手段７１３の右方に設
置された偏向手段７１５において反射・偏向され、第１
の光７９１が入射したのとは異なる被検レンズ表面７０
１ａ上の微小領域に入射される。ここで、両偏向手段７
１４，７１５は反射・偏向後の両光７９１，７９２が被
検レンズ表面７０１ａの見かけ上の曲率中心７０１ｂを
通る（交叉する）ように、図における左右方向位置及び
紙面に垂直な軸まわりの回転角度が調節される。また、
第１の光７９１と第２の光７９２が被検レンズ表面７０
１ａの曲率中心７０１ｂに集光するよう、光７９０の集
光位置が調節される。
１の光７９１は反射手段７１３の左方に設置された偏向
手段７１４において反射・偏向されて被検レンズ７０１
の表面（以下、被検レンズ表面７０１ａとする）上の微
小領域に入射する。一方、反射面７１３ｂにおいて右方
に反射した第２の光７９２は反射手段７１３の右方に設
置された偏向手段７１５において反射・偏向され、第１
の光７９１が入射したのとは異なる被検レンズ表面７０
１ａ上の微小領域に入射される。ここで、両偏向手段７
１４，７１５は反射・偏向後の両光７９１，７９２が被
検レンズ表面７０１ａの見かけ上の曲率中心７０１ｂを
通る（交叉する）ように、図における左右方向位置及び
紙面に垂直な軸まわりの回転角度が調節される。また、
第１の光７９１と第２の光７９２が被検レンズ表面７０
１ａの曲率中心７０１ｂに集光するよう、光７９０の集
光位置が調節される。
【０００５】被検レンズ表面７０１ａ上の異なる領域に
入射された第１及び第２両光７９１，７９２は、それぞ
れ入射時とほぼ同じ経路を逆進して偏向手段７１４，７
１５へ戻って反射した後、更に反射手段７１３の反射面
７１３ａ，７１３ｂにおいて上方に反射して光透過反射
手段７１２に至る。第１の光７９１は光透過反射手段７
１２の反射面７１２ｂにおいて右方に反射した後、同じ
光透過反射手段７１２の半透膜７１２ａにおいて上方に
反射し、第２の光７９２は光透過反射手段７１２の半透
膜７１２ａを上方に透過するので、これら両光７９１，
７９２は再び重ね合わされて干渉し、光透過反射手段７
１２の上方に設けられた光検出手段７１６の受光面上に
干渉縞を形成する。この干渉縞は光検出手段７１６にお
いて検出されるが、被検レンズ７０１を基準軸（ここで
はレンズ系全体の光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生
じる干渉縞の変動を、方位角検出手段７１７により検出
される被検レンズ７０１の方位角の情報をもとに解析す
ることにより（この解析は演算装置７１８が行う）、被
検レンズ７０１の基準軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求め
ることができる。
入射された第１及び第２両光７９１，７９２は、それぞ
れ入射時とほぼ同じ経路を逆進して偏向手段７１４，７
１５へ戻って反射した後、更に反射手段７１３の反射面
７１３ａ，７１３ｂにおいて上方に反射して光透過反射
手段７１２に至る。第１の光７９１は光透過反射手段７
１２の反射面７１２ｂにおいて右方に反射した後、同じ
光透過反射手段７１２の半透膜７１２ａにおいて上方に
反射し、第２の光７９２は光透過反射手段７１２の半透
膜７１２ａを上方に透過するので、これら両光７９１，
７９２は再び重ね合わされて干渉し、光透過反射手段７
１２の上方に設けられた光検出手段７１６の受光面上に
干渉縞を形成する。この干渉縞は光検出手段７１６にお
いて検出されるが、被検レンズ７０１を基準軸（ここで
はレンズ系全体の光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生
じる干渉縞の変動を、方位角検出手段７１７により検出
される被検レンズ７０１の方位角の情報をもとに解析す
ることにより（この解析は演算装置７１８が行う）、被
検レンズ７０１の基準軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求め
ることができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成の偏芯測定装置においては、干渉縞を形成する
第１及び第２両光７９１，７９２が被検レンズ表面７０
１ａの曲率中心７０１ｂを通る（交叉する）ようにする
必要がある。このため、干渉縞を形成する両光７９１，
７９２が進む行路は非共通部分が多くなり、空気の揺ら
ぎ（擾乱）や振動等による外乱の影響が大きくなって測
定精度が低下する虞があった。また、被検レンズ表面７
０１ａの曲率半径に応じて偏向手段７１４，７１５の調
整を行う必要があり、測定に時間がかかるという問題も
あった。更に、両光７９１，７９２が交叉する被検レン
ズ表面７０１ａの曲率中心７０１ｂが、偏芯の測定対象
となっていない他のレンズ部材表面の曲率中心とほぼ一
致するようなときには、このレンズ部材の表面において
反射する光が両光７９１，７９２の干渉に影響を与えて
測定誤差を生じさせる虞があるという問題もあった。
うな構成の偏芯測定装置においては、干渉縞を形成する
第１及び第２両光７９１，７９２が被検レンズ表面７０
１ａの曲率中心７０１ｂを通る（交叉する）ようにする
必要がある。このため、干渉縞を形成する両光７９１，
７９２が進む行路は非共通部分が多くなり、空気の揺ら
ぎ（擾乱）や振動等による外乱の影響が大きくなって測
定精度が低下する虞があった。また、被検レンズ表面７
０１ａの曲率半径に応じて偏向手段７１４，７１５の調
整を行う必要があり、測定に時間がかかるという問題も
あった。更に、両光７９１，７９２が交叉する被検レン
ズ表面７０１ａの曲率中心７０１ｂが、偏芯の測定対象
となっていない他のレンズ部材表面の曲率中心とほぼ一
致するようなときには、このレンズ部材の表面において
反射する光が両光７９１，７９２の干渉に影響を与えて
測定誤差を生じさせる虞があるという問題もあった。
【０００７】本発明はこのような問題に鑑みてなされた
ものであり、空気の揺らぎや振動等による外乱の影響を
小さくして高精度な測定を簡易に行うことができるとと
もに、偏芯の測定対象となっていない他の光学部材表面
からの反射光によって生じる測定誤差の影響による測定
精度の低下を防止することが可能な偏芯測定装置及び偏
芯測定方法を提供することを目的としている。
ものであり、空気の揺らぎや振動等による外乱の影響を
小さくして高精度な測定を簡易に行うことができるとと
もに、偏芯の測定対象となっていない他の光学部材表面
からの反射光によって生じる測定誤差の影響による測定
精度の低下を防止することが可能な偏芯測定装置及び偏
芯測定方法を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】第１の本発明に係る偏芯
測定装置は、光源より射出された可干渉光を測定光と参
照光とに分割し、測定光を被検物（例えば、実施形態に
おける被検レンズ１）上においてキャッツアイ反射させ
る一方で、参照光を被検物に至らせることなく反射手段
（例えば、実施形態における光透過反射手段１５）にお
いて反射させ、被検物上においてキャッツアイ反射した
測定光と反射手段において反射した参照光とを重ね合わ
せて干渉縞を形成させる干渉光学系と、被検物を基準軸
（例えば、実施形態におけるレンズ系全体の光軸Ｌ）ま
わりに回転させる被検物回転手段（例えば、実施形態に
おける回転台）と、被検物回転手段により被検物を基準
軸まわりに回転させたときに生ずる干渉縞の変動に基づ
いて被検物の基準軸に対する偏芯を求める演算手段（例
えば、実施形態におけるイメージセンサ１９、方位角セ
ンサ２０及び演算装置２１）とを備えて構成される。
測定装置は、光源より射出された可干渉光を測定光と参
照光とに分割し、測定光を被検物（例えば、実施形態に
おける被検レンズ１）上においてキャッツアイ反射させ
る一方で、参照光を被検物に至らせることなく反射手段
（例えば、実施形態における光透過反射手段１５）にお
いて反射させ、被検物上においてキャッツアイ反射した
測定光と反射手段において反射した参照光とを重ね合わ
せて干渉縞を形成させる干渉光学系と、被検物を基準軸
（例えば、実施形態におけるレンズ系全体の光軸Ｌ）ま
わりに回転させる被検物回転手段（例えば、実施形態に
おける回転台）と、被検物回転手段により被検物を基準
軸まわりに回転させたときに生ずる干渉縞の変動に基づ
いて被検物の基準軸に対する偏芯を求める演算手段（例
えば、実施形態におけるイメージセンサ１９、方位角セ
ンサ２０及び演算装置２１）とを備えて構成される。
【０００９】また、第１の本発明に係る偏芯測定方法
は、光源より射出された可干渉光を測定光と参照光とに
分割し、測定光を被検物上においてキャッツアイ反射さ
せる一方で、参照光を被検物に至らせることなく反射手
段において反射させ、被検物上においてキャッツアイ反
射した測定光と反射手段において反射した参照光とを重
ね合わせて干渉縞を形成させ、被検物を基準軸まわりに
回転させたときに生ずる干渉縞の変動に基づいて被検物
の基準軸に対する偏芯を求めるものである。
は、光源より射出された可干渉光を測定光と参照光とに
分割し、測定光を被検物上においてキャッツアイ反射さ
せる一方で、参照光を被検物に至らせることなく反射手
段において反射させ、被検物上においてキャッツアイ反
射した測定光と反射手段において反射した参照光とを重
ね合わせて干渉縞を形成させ、被検物を基準軸まわりに
回転させたときに生ずる干渉縞の変動に基づいて被検物
の基準軸に対する偏芯を求めるものである。
【００１０】第１の本発明に係る偏芯測定装置（或いは
偏芯測定方法）によれば、従来のように干渉縞を形成す
る２光が被検物表面の曲率中心を通る（曲率中心におい
て交叉する）ようにする必要がないので、光源より射出
された可干渉光を被検物に極めて近い位置で分割して干
渉縞を形成する２光（測定光と参照光）を得ることがで
きる。このため、干渉縞を形成するこれら２光の共通光
路を多く（非共通光路を少なく）することができ、大気
の揺らぎ（擾乱）や振動等による外乱の影響を小さくし
て高精度な偏芯測定を行うことが可能となる。また、測
定光はその集光点を被検物上に位置させる（キャッツア
イ反射させる）だけでよく、その光軸方向が被検物表面
の曲率中心を通るようにする必要がないので、従来被検
物の曲率半径が異なるごとに行っていた光の方向調整は
不要になり、測定が簡易になる。
偏芯測定方法）によれば、従来のように干渉縞を形成す
る２光が被検物表面の曲率中心を通る（曲率中心におい
て交叉する）ようにする必要がないので、光源より射出
された可干渉光を被検物に極めて近い位置で分割して干
渉縞を形成する２光（測定光と参照光）を得ることがで
きる。このため、干渉縞を形成するこれら２光の共通光
路を多く（非共通光路を少なく）することができ、大気
の揺らぎ（擾乱）や振動等による外乱の影響を小さくし
て高精度な偏芯測定を行うことが可能となる。また、測
定光はその集光点を被検物上に位置させる（キャッツア
イ反射させる）だけでよく、その光軸方向が被検物表面
の曲率中心を通るようにする必要がないので、従来被検
物の曲率半径が異なるごとに行っていた光の方向調整は
不要になり、測定が簡易になる。
【００１１】第２の本発明に係る偏芯測定装置は、光源
より射出された可干渉光を測定光と参照光とに分割し、
測定光を被検物（例えば、実施形態における被検レンズ
１）の一方の面側から入射させて被検物の他方の面側に
設置した第１の反射手段（例えば、実施形態における反
射手段５１７）においてキャッツアイ反射させる一方
で、参照光を被検物に至らせることなく第２の反射手段
（例えば、実施形態における光透過反射手段５１５）に
おいて反射させ、第１の反射手段においてキャッツアイ
反射して被検物の一方の面側に戻ってきた測定光と第２
の反射手段において反射した参照光とを重ね合わせて干
渉縞を形成させる干渉光学系と、被検物を基準軸（例え
ば、実施形態におけるレンズ系全体の光軸Ｌ）まわりに
回転させる被検物回転手段（例えば、実施形態における
回転台）と、被検物回転手段により被検物を基準軸まわ
りに回転させたときに生ずる干渉縞の変動に基づいて被
検物の基準軸に対する偏芯を求める演算手段（例えば、
実施形態におけるイメージセンサ５１９、方位角センサ
５２０及び演算装置５２１）とを備えて構成される。
より射出された可干渉光を測定光と参照光とに分割し、
測定光を被検物（例えば、実施形態における被検レンズ
１）の一方の面側から入射させて被検物の他方の面側に
設置した第１の反射手段（例えば、実施形態における反
射手段５１７）においてキャッツアイ反射させる一方
で、参照光を被検物に至らせることなく第２の反射手段
（例えば、実施形態における光透過反射手段５１５）に
おいて反射させ、第１の反射手段においてキャッツアイ
反射して被検物の一方の面側に戻ってきた測定光と第２
の反射手段において反射した参照光とを重ね合わせて干
渉縞を形成させる干渉光学系と、被検物を基準軸（例え
ば、実施形態におけるレンズ系全体の光軸Ｌ）まわりに
回転させる被検物回転手段（例えば、実施形態における
回転台）と、被検物回転手段により被検物を基準軸まわ
りに回転させたときに生ずる干渉縞の変動に基づいて被
検物の基準軸に対する偏芯を求める演算手段（例えば、
実施形態におけるイメージセンサ５１９、方位角センサ
５２０及び演算装置５２１）とを備えて構成される。
【００１２】また、第２の本発明に係る偏芯測定方法
は、光源より射出された可干渉光を測定光と参照光とに
分割し、測定光を被検物の一方の面側から入射させて被
検物の他方の面側に設置した第１の反射手段においてキ
ャッツアイ反射させる一方で、参照光を被検物に至らせ
ることなく第２の反射手段において反射させ、第１の反
射手段においてキャッツアイ反射して被検物の一方の面
側に戻ってきた測定光と第２の反射手段において反射し
た参照光とを重ね合わせて干渉縞を形成させ、被検物を
基準軸まわりに回転させたときに生ずる干渉縞の変動に
基づいて被検物の基準軸に対する偏芯を求めるものであ
る。
は、光源より射出された可干渉光を測定光と参照光とに
分割し、測定光を被検物の一方の面側から入射させて被
検物の他方の面側に設置した第１の反射手段においてキ
ャッツアイ反射させる一方で、参照光を被検物に至らせ
ることなく第２の反射手段において反射させ、第１の反
射手段においてキャッツアイ反射して被検物の一方の面
側に戻ってきた測定光と第２の反射手段において反射し
た参照光とを重ね合わせて干渉縞を形成させ、被検物を
基準軸まわりに回転させたときに生ずる干渉縞の変動に
基づいて被検物の基準軸に対する偏芯を求めるものであ
る。
【００１３】第２の本発明に係る偏芯測定装置（或いは
偏芯測定方法）によれば、従来のように干渉縞を形成す
る２光が被検物表面の曲率中心を通る（曲率中心におい
て交叉する）ようにする必要がないので、光源より射出
された可干渉光を被検物に極めて近い位置で分割して干
渉縞を形成する２光（測定光と参照光）を得ることがで
きる。このため、干渉縞を形成するこれら２光の共通光
路を多く（非共通光路を少なく）することができ、大気
の揺らぎ（擾乱）や振動等による外乱の影響を小さくし
て高精度な偏芯測定を行うことが可能となる。また、測
定光はその集光点を第１の反射手段上に位置させるだけ
でよく、その光軸方向が被検物表面の曲率中心を通るよ
うにする必要がないので、従来被検物の曲率半径が異な
るごとに行っていた光の方向調整は不要になり、測定が
簡易になる。
偏芯測定方法）によれば、従来のように干渉縞を形成す
る２光が被検物表面の曲率中心を通る（曲率中心におい
て交叉する）ようにする必要がないので、光源より射出
された可干渉光を被検物に極めて近い位置で分割して干
渉縞を形成する２光（測定光と参照光）を得ることがで
きる。このため、干渉縞を形成するこれら２光の共通光
路を多く（非共通光路を少なく）することができ、大気
の揺らぎ（擾乱）や振動等による外乱の影響を小さくし
て高精度な偏芯測定を行うことが可能となる。また、測
定光はその集光点を第１の反射手段上に位置させるだけ
でよく、その光軸方向が被検物表面の曲率中心を通るよ
うにする必要がないので、従来被検物の曲率半径が異な
るごとに行っていた光の方向調整は不要になり、測定が
簡易になる。
【００１４】なお、これら両偏芯測定装置では、光源よ
り射出された可干渉光を測定光と参照光とに分割する手
段及びこれら分割された両光それぞれをキャッツアイ反
射させる手段をまとめてヘッド部とするとともに、この
ヘッド部が光源を含んでなるベース部に対して独立して
移動可能な構成とすることができる。このような構成を
有する偏芯測定装置では、ヘッド部がベース部から離れ
ていても、これら両部の間を進む両光の光路は共通であ
るため、偏芯測定時にはこのヘッド部の被検物に対する
安定性が保たれるようにするのみで、精度の良い偏芯測
定を行うことができる。更に、測定光軸が回転軸と一致
しないので、被検レンズの中心付近に凹凸等の欠陥があ
った場合でもその影響をうけることがない。
り射出された可干渉光を測定光と参照光とに分割する手
段及びこれら分割された両光それぞれをキャッツアイ反
射させる手段をまとめてヘッド部とするとともに、この
ヘッド部が光源を含んでなるベース部に対して独立して
移動可能な構成とすることができる。このような構成を
有する偏芯測定装置では、ヘッド部がベース部から離れ
ていても、これら両部の間を進む両光の光路は共通であ
るため、偏芯測定時にはこのヘッド部の被検物に対する
安定性が保たれるようにするのみで、精度の良い偏芯測
定を行うことができる。更に、測定光軸が回転軸と一致
しないので、被検レンズの中心付近に凹凸等の欠陥があ
った場合でもその影響をうけることがない。
【００１５】また、上記第１及び第２の本発明に係る偏
芯測定装置（或いは偏芯測定方法）においては、干渉縞
が測定光と参照光のみにより形成されるように可干渉光
のコヒーレント長を（短い光源の場合は参照光と測定光
の光路長差を）調整する機構を備えていることが好まし
い。このような構成であれば、偏芯の測定対象となって
いない他の光学部材表面からの反射光による測定誤差の
発生がなくなり、測定精度の低下を防止して高精度な偏
芯測定を行うことが可能となる。
芯測定装置（或いは偏芯測定方法）においては、干渉縞
が測定光と参照光のみにより形成されるように可干渉光
のコヒーレント長を（短い光源の場合は参照光と測定光
の光路長差を）調整する機構を備えていることが好まし
い。このような構成であれば、偏芯の測定対象となって
いない他の光学部材表面からの反射光による測定誤差の
発生がなくなり、測定精度の低下を防止して高精度な偏
芯測定を行うことが可能となる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
ましい実施形態について説明する。図１は本発明に係る
偏芯測定装置の第１実施形態（第１の本発明に係る偏芯
測定装置及び偏芯測定方法に対応）の基本構成例を示す
ものであり、被検レンズ１の基準軸に対する偏芯を反射
偏芯測定により測定するものである。なお、ここでは被
検レンズ１は複数のレンズからなるレンズ系のうちの一
つであるものとし、被検レンズ１の基準軸とは、このレ
ンズ系全体の光軸Ｌをいうものとする。
ましい実施形態について説明する。図１は本発明に係る
偏芯測定装置の第１実施形態（第１の本発明に係る偏芯
測定装置及び偏芯測定方法に対応）の基本構成例を示す
ものであり、被検レンズ１の基準軸に対する偏芯を反射
偏芯測定により測定するものである。なお、ここでは被
検レンズ１は複数のレンズからなるレンズ系のうちの一
つであるものとし、被検レンズ１の基準軸とは、このレ
ンズ系全体の光軸Ｌをいうものとする。
【００１７】本第１実施形態に係る偏芯測定装置では、
光源（例えばレーザー光源）１１より射出された可干渉
光（コヒーレント光）９１がレンズ１２ａ，１２ｂ及び
ピンホール１２ｃからなるビーム拡大器１２により或る
程度広がりのある平行光にされた後、光透過反射手段
（例えばハーフミラー）１３の半透膜１３ａを下方に透
過し、集光手段（例えば集光レンズゾーンプレートなど
でもよい。）１４により集光される。集光手段１４の下
方には上下に平行に並べられた２つの光透過反射手段
（例えばハーフミラー）１５，１６が設けられており、
集光手段１４により集光された可干渉光９１は上側の光
透過反射手段１５を下方に透過した後、下側の光透過反
射手段１６を下方に透過する測定光９１ａと、この光透
過反射手段１６において上方に反射する参照光９１ｂと
に分割される。
光源（例えばレーザー光源）１１より射出された可干渉
光（コヒーレント光）９１がレンズ１２ａ，１２ｂ及び
ピンホール１２ｃからなるビーム拡大器１２により或る
程度広がりのある平行光にされた後、光透過反射手段
（例えばハーフミラー）１３の半透膜１３ａを下方に透
過し、集光手段（例えば集光レンズゾーンプレートなど
でもよい。）１４により集光される。集光手段１４の下
方には上下に平行に並べられた２つの光透過反射手段
（例えばハーフミラー）１５，１６が設けられており、
集光手段１４により集光された可干渉光９１は上側の光
透過反射手段１５を下方に透過した後、下側の光透過反
射手段１６を下方に透過する測定光９１ａと、この光透
過反射手段１６において上方に反射する参照光９１ｂと
に分割される。
【００１８】光透過反射手段１６を下方に透過した測定
光９１ａは、被検レンズ１の表面（以下、被検レンズ表
面１ａと称する）上の微小領域に集光される。ここで、
測定光９１ａの集光点が被検レンズ表面１ａ上の微小領
域に位置するようにする調節は、集光手段１４と、光透
過反射手段１５，１６のいずれか一方を図の上下方向に
移動させることにより行う。なお、この測定光９１ａの
光軸は、被検レンズ１を含んでなるレンズ系全体の光軸
Ｌと一致しないようにする必要がある。また、可干渉光
９１のコヒーレント長が短い光源１１を備えた場合は、
参照光９１ｂと測定光９１ａの光路長差を調整する。
光９１ａは、被検レンズ１の表面（以下、被検レンズ表
面１ａと称する）上の微小領域に集光される。ここで、
測定光９１ａの集光点が被検レンズ表面１ａ上の微小領
域に位置するようにする調節は、集光手段１４と、光透
過反射手段１５，１６のいずれか一方を図の上下方向に
移動させることにより行う。なお、この測定光９１ａの
光軸は、被検レンズ１を含んでなるレンズ系全体の光軸
Ｌと一致しないようにする必要がある。また、可干渉光
９１のコヒーレント長が短い光源１１を備えた場合は、
参照光９１ｂと測定光９１ａの光路長差を調整する。
【００１９】このように被検レンズ表面１ａ上の微小領
域に集光された測定光９１ａは被検レンズ表面１ａにお
いてキャッツアイ反射して両光透過反射手段１６，１５
を上方に透過し、更に集光手段１４を上方に透過した
後、光透過反射手段１３に至る。一方、光透過反射手段
１６において上方に反射した参照光９１ｂは光透過反射
手段１５において反射し、更に光透過反射手段１６にお
いて上方に反射して光透過反射手段１５及び集光手段１
４を上方に透過した後、光透過反射手段１３に至る。
域に集光された測定光９１ａは被検レンズ表面１ａにお
いてキャッツアイ反射して両光透過反射手段１６，１５
を上方に透過し、更に集光手段１４を上方に透過した
後、光透過反射手段１３に至る。一方、光透過反射手段
１６において上方に反射した参照光９１ｂは光透過反射
手段１５において反射し、更に光透過反射手段１６にお
いて上方に反射して光透過反射手段１５及び集光手段１
４を上方に透過した後、光透過反射手段１３に至る。
【００２０】このように被検レンズ表面１ａにおいてキ
ャッツアイ反射して光透過反射手段１３に戻った測定光
９１ａと、被検レンズ１には至らずに光透過反射手段１
５においてキャッツアイ反射して光透過反射手段１３に
戻った参照光９１ｂとは再び重ね合わされて干渉し、光
透過反射手段１３の半透膜１３ａにおいて右方に反射し
た後、絞り１７及び集光手段（例えば集光レンズゾーン
プレートなどでもよい。）１８に集光されてイメージセ
ンサ（光量センサでもよい）１９の受光面上に至り、干
渉縞を形成する。イメージセンサ１９はこの測定光９１
ａと参照光９１ｂとにより形成された干渉縞を検出し、
ディジタル信号に変換して演算装置２１に出力する。
ャッツアイ反射して光透過反射手段１３に戻った測定光
９１ａと、被検レンズ１には至らずに光透過反射手段１
５においてキャッツアイ反射して光透過反射手段１３に
戻った参照光９１ｂとは再び重ね合わされて干渉し、光
透過反射手段１３の半透膜１３ａにおいて右方に反射し
た後、絞り１７及び集光手段（例えば集光レンズゾーン
プレートなどでもよい。）１８に集光されてイメージセ
ンサ（光量センサでもよい）１９の受光面上に至り、干
渉縞を形成する。イメージセンサ１９はこの測定光９１
ａと参照光９１ｂとにより形成された干渉縞を検出し、
ディジタル信号に変換して演算装置２１に出力する。
【００２１】被検レンズ１は図示しない回転台により基
準軸（ここでは被検レンズ１を含んでなるレンズ系全体
の光軸Ｌ）まわりに回転されるようになっており、被検
レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）まわりの方位角は回転台の
近傍に設けられた方位角センサ２０により検出されるよ
うになっている。この方位角センサ２０も上記演算装置
２１に繋がっており、演算装置２１は被検レンズ１を基
準軸（光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生じる干渉縞
の変動を方位角センサ２０により検出される被検レンズ
１の方位角の情報をもとに解析し、被検レンズ１の基準
軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求める。
準軸（ここでは被検レンズ１を含んでなるレンズ系全体
の光軸Ｌ）まわりに回転されるようになっており、被検
レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）まわりの方位角は回転台の
近傍に設けられた方位角センサ２０により検出されるよ
うになっている。この方位角センサ２０も上記演算装置
２１に繋がっており、演算装置２１は被検レンズ１を基
準軸（光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生じる干渉縞
の変動を方位角センサ２０により検出される被検レンズ
１の方位角の情報をもとに解析し、被検レンズ１の基準
軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求める。
【００２２】ここで、被検レンズ１の回転に応じて干渉
縞に明暗の変化が生じない場合には被検レンズ表面１ａ
の曲率中心Ｏ（図２参照）は基準軸（光軸Ｌ）上に位置
していることとなり、被検レンズ１は基準軸（光軸Ｌ）
に対して偏芯していないことが分かる。一方、被検レン
ズ１の回転に応じて干渉縞に明暗の変化が生じた場合に
は被検レンズ表面１ａの曲率中心Ｏは基準軸（光軸Ｌ）
上に位置していないこととなり、被検レンズ１は基準軸
（光軸Ｌ）に対して偏芯していることが分かる（図２に
示す状態）。被検レンズ１が偏芯している場合、被検レ
ンズ１が基準軸（光軸Ｌ）まわりに１回転する間に光透
過反射手段１５と被検レンズ表面１ａとの間の距離は変
化することになるので、測定光９１ａの光路長はその分
変動し、測定光９１ａと参照光９１ｂとが干渉して形成
される干渉縞はイメージセンサ１９上で変動することに
なる（イメージセンサ１９の替わりに光量センサが用い
られているのであれば明るさが変動することになる）。
縞に明暗の変化が生じない場合には被検レンズ表面１ａ
の曲率中心Ｏ（図２参照）は基準軸（光軸Ｌ）上に位置
していることとなり、被検レンズ１は基準軸（光軸Ｌ）
に対して偏芯していないことが分かる。一方、被検レン
ズ１の回転に応じて干渉縞に明暗の変化が生じた場合に
は被検レンズ表面１ａの曲率中心Ｏは基準軸（光軸Ｌ）
上に位置していないこととなり、被検レンズ１は基準軸
（光軸Ｌ）に対して偏芯していることが分かる（図２に
示す状態）。被検レンズ１が偏芯している場合、被検レ
ンズ１が基準軸（光軸Ｌ）まわりに１回転する間に光透
過反射手段１５と被検レンズ表面１ａとの間の距離は変
化することになるので、測定光９１ａの光路長はその分
変動し、測定光９１ａと参照光９１ｂとが干渉して形成
される干渉縞はイメージセンサ１９上で変動することに
なる（イメージセンサ１９の替わりに光量センサが用い
られているのであれば明るさが変動することになる）。
【００２３】図２は被検レンズ１の基準軸（レンズ系全
体の光軸Ｌ）まわりの回転により光透過反射手段１５と
被検レンズ表面１ａとの間の距離が変動する様子を説明
する図であり、実線で示す被検レンズ１は或る方位角に
おけるときのもの、破線で示す被検レンズ１はそれから
１８０度基準軸（光軸Ｌ）まわりに回転したときのもの
を示している。この図から分かるように、測定光９１ａ
の光軸が基準軸（光軸Ｌ）と一致していないのであれ
ば、或る方位角において光透過反射手段１５と被検レン
ズ表面１ａとの間の距離はＨ1であっても被検レンズ１
を１８０度回転させたときにはＨ2となり、その差ｈを
生じることになる。この光透過反射手段１５と被検レン
ズ表面１ａとの間の距離は被検レンズ１が１回転すると
もとに戻るが、その間に生じる干渉縞の変動方向及び変
動量を検出することにより被検レンズ１の偏芯を求める
ことができる。
体の光軸Ｌ）まわりの回転により光透過反射手段１５と
被検レンズ表面１ａとの間の距離が変動する様子を説明
する図であり、実線で示す被検レンズ１は或る方位角に
おけるときのもの、破線で示す被検レンズ１はそれから
１８０度基準軸（光軸Ｌ）まわりに回転したときのもの
を示している。この図から分かるように、測定光９１ａ
の光軸が基準軸（光軸Ｌ）と一致していないのであれ
ば、或る方位角において光透過反射手段１５と被検レン
ズ表面１ａとの間の距離はＨ1であっても被検レンズ１
を１８０度回転させたときにはＨ2となり、その差ｈを
生じることになる。この光透過反射手段１５と被検レン
ズ表面１ａとの間の距離は被検レンズ１が１回転すると
もとに戻るが、その間に生じる干渉縞の変動方向及び変
動量を検出することにより被検レンズ１の偏芯を求める
ことができる。
【００２４】ここで、検出された干渉縞の変動量をδ
Ψ、被検レンズ表面１ａに当たる測定光９１ａの光軸と
基準軸（レンズ系全体の光軸Ｌ）との間の距離をｄ（図
２参照）、被検レンズ表面１ａの曲率半径をＲ（図２参
照）、光源１１の波長をλとすると、被検レンズ表面１
ａの曲率中心が基準軸（光軸Ｌ）からずれている量、す
なわちシフト量ｓ（図２参照）は近似的に下式（１）の
ように表すことができる。
Ψ、被検レンズ表面１ａに当たる測定光９１ａの光軸と
基準軸（レンズ系全体の光軸Ｌ）との間の距離をｄ（図
２参照）、被検レンズ表面１ａの曲率半径をＲ（図２参
照）、光源１１の波長をλとすると、被検レンズ表面１
ａの曲率中心が基準軸（光軸Ｌ）からずれている量、す
なわちシフト量ｓ（図２参照）は近似的に下式（１）の
ように表すことができる。
【００２５】
【数１】
ｓ＝（λ／４π）（Ｒ／２ｄ）δΨ ……（１）
【００２６】また、被検レンズ表面１ａの基準軸（光軸
Ｌ）に対する傾き量、すなわちチルト量は上式（１）よ
り求められ、下式（２）のように表すことができる。
Ｌ）に対する傾き量、すなわちチルト量は上式（１）よ
り求められ、下式（２）のように表すことができる。
【００２７】
【数２】
ｔ＝（λ／４π）（１／２ｄ）δΨ ……（２）
【００２８】被検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する
偏芯はこれらの式（１），（２）を用いて求めることが
できるが、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１が
レンズ系の最も手前側（ここでは集光手段１４、光透過
反射手段１５，１６等がある側）に位置するものでない
ときには、得られた被検レンズ１についての偏芯情報
（シフト量及びチルト量）を、その被検レンズ１の手前
側にあるレンズ全ての偏芯情報を用いて補正することに
より、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１の正確
な偏芯情報を得ることができる。
偏芯はこれらの式（１），（２）を用いて求めることが
できるが、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１が
レンズ系の最も手前側（ここでは集光手段１４、光透過
反射手段１５，１６等がある側）に位置するものでない
ときには、得られた被検レンズ１についての偏芯情報
（シフト量及びチルト量）を、その被検レンズ１の手前
側にあるレンズ全ての偏芯情報を用いて補正することに
より、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１の正確
な偏芯情報を得ることができる。
【００２９】このように本実施形態に係る偏芯測定装置
（第１の本発明に係る偏芯測定装置及び偏芯測定方法）
では、光源１１より射出された可干渉光９１を測定光９
１ａと参照光９１ｂとに分割し、測定光９１ａを被検レ
ンズ表面１ａにおいてキャッツアイ反射させる一方で、
参照光９１ｂを被検レンズ１に至らせることなく反射手
段（ここでは光透過反射手段１５）においてキャッツア
イ反射させ、被検レンズ表面１ａにおいてキャッツアイ
反射した測定光９１ａと反射手段（光透過反射手段１
５）においてキャッツアイ反射した参照光９１ｂとを重
ね合わせて干渉縞を形成させ、被検レンズ１を基準軸
（ここではレンズ系全体の光軸Ｌ）まわりに回転させた
ときに生ずる干渉縞の変動に基づいて被検レンズ１の基
準軸に対する偏芯を求めるようになっている。
（第１の本発明に係る偏芯測定装置及び偏芯測定方法）
では、光源１１より射出された可干渉光９１を測定光９
１ａと参照光９１ｂとに分割し、測定光９１ａを被検レ
ンズ表面１ａにおいてキャッツアイ反射させる一方で、
参照光９１ｂを被検レンズ１に至らせることなく反射手
段（ここでは光透過反射手段１５）においてキャッツア
イ反射させ、被検レンズ表面１ａにおいてキャッツアイ
反射した測定光９１ａと反射手段（光透過反射手段１
５）においてキャッツアイ反射した参照光９１ｂとを重
ね合わせて干渉縞を形成させ、被検レンズ１を基準軸
（ここではレンズ系全体の光軸Ｌ）まわりに回転させた
ときに生ずる干渉縞の変動に基づいて被検レンズ１の基
準軸に対する偏芯を求めるようになっている。
【００３０】このため、従来のように干渉縞を形成する
２光が被検レンズ表面の曲率中心を通る（曲率中心にお
いて交叉する）ようにする必要がなく、光源１１より射
出された可干渉光９１を被検レンズ１に極めて近い位置
で分割して干渉縞を形成する２光（測定光９１ａと参照
光９１ｂ）を得ることができる。したがって、干渉縞を
形成するこれら２光（測定光９１ａと参照光９１ｂ）の
共通光路を多く（非共通光路を少なく）することがで
き、大気の揺らぎ（擾乱）や振動等による外乱の影響を
小さくして高精度な偏芯測定を行うことが可能となる。
また、測定光９１ａはその集光点を被検レンズ表面１ａ
上に位置させる（キャッツアイ反射させる）だけでよ
く、その光軸方向が被検レンズ表面１ａの曲率中心を通
るようにする必要がないので、従来被検レンズの曲率半
径が異なるごとに行っていた光の方向調整は不要にな
り、測定が簡易になる。
２光が被検レンズ表面の曲率中心を通る（曲率中心にお
いて交叉する）ようにする必要がなく、光源１１より射
出された可干渉光９１を被検レンズ１に極めて近い位置
で分割して干渉縞を形成する２光（測定光９１ａと参照
光９１ｂ）を得ることができる。したがって、干渉縞を
形成するこれら２光（測定光９１ａと参照光９１ｂ）の
共通光路を多く（非共通光路を少なく）することがで
き、大気の揺らぎ（擾乱）や振動等による外乱の影響を
小さくして高精度な偏芯測定を行うことが可能となる。
また、測定光９１ａはその集光点を被検レンズ表面１ａ
上に位置させる（キャッツアイ反射させる）だけでよ
く、その光軸方向が被検レンズ表面１ａの曲率中心を通
るようにする必要がないので、従来被検レンズの曲率半
径が異なるごとに行っていた光の方向調整は不要にな
り、測定が簡易になる。
【００３１】また、被検レンズ１が極薄い場合、又は被
検レンズ１が複数のレンズからなるレンズ系のうち極め
て近い位置に配置するレンズである場合、測定光９１ａ
は被検レンズ表面１ａにおいて反射するほか、その被検
レンズ１を下方に透過してその奥側（図１では被検レン
ズ１の下側に位置するレンズに相当する）にあるレンズ
の表面においても反射し、その反射光も測定光９１ａと
干渉を起こす虞がある。このため本実施形態に係る偏芯
測定装置においては、可干渉光９１のコヒーレント長を
調整し（具体的にはコヒーレント長が短い可干渉光を射
出する光源１１を用い）、干渉縞が被検レンズ表面１ａ
でキャッツアイ反射した測定光９１ａと反射手段（光透
過反射手段１５）でキャッツアイ反射した参照光９１ｂ
のみにより形成されるように（換言すると、測定光が参
照光以外の光と干渉を起こすことがないように）するこ
とも可能である。このようにすれば、偏芯の測定対象と
なっていない他の光学部材表面からの反射光による測定
誤差の発生がなくなり、測定精度の低下を防止して高精
度な偏芯測定を行うことが可能となる。
検レンズ１が複数のレンズからなるレンズ系のうち極め
て近い位置に配置するレンズである場合、測定光９１ａ
は被検レンズ表面１ａにおいて反射するほか、その被検
レンズ１を下方に透過してその奥側（図１では被検レン
ズ１の下側に位置するレンズに相当する）にあるレンズ
の表面においても反射し、その反射光も測定光９１ａと
干渉を起こす虞がある。このため本実施形態に係る偏芯
測定装置においては、可干渉光９１のコヒーレント長を
調整し（具体的にはコヒーレント長が短い可干渉光を射
出する光源１１を用い）、干渉縞が被検レンズ表面１ａ
でキャッツアイ反射した測定光９１ａと反射手段（光透
過反射手段１５）でキャッツアイ反射した参照光９１ｂ
のみにより形成されるように（換言すると、測定光が参
照光以外の光と干渉を起こすことがないように）するこ
とも可能である。このようにすれば、偏芯の測定対象と
なっていない他の光学部材表面からの反射光による測定
誤差の発生がなくなり、測定精度の低下を防止して高精
度な偏芯測定を行うことが可能となる。
【００３２】また、上記２つの光透過反射手段１５，１
６のうち上側の光透過反射手段１５を参照光９１ｂの光
軸方向に移動可能な構成とし、よく知られた縞走査（フ
リンジスキャン）を行うようにしてもよい。このような
縞走査干渉法によれば、より高精度な偏芯測定結果を得
ることができる。なお、ここでは２つの光透過反射手段
１５，１６のうち、上側の光透過反射手段１５を参照光
９１ｂの光軸方向に移動させる場合を例に説明したが、
参照光９１ｂの光軸方向に移動させるのは下側の光透過
反射手段１６であってもよく、或いはこれら光透過反射
手段１５，１６の両方であってもよい。
６のうち上側の光透過反射手段１５を参照光９１ｂの光
軸方向に移動可能な構成とし、よく知られた縞走査（フ
リンジスキャン）を行うようにしてもよい。このような
縞走査干渉法によれば、より高精度な偏芯測定結果を得
ることができる。なお、ここでは２つの光透過反射手段
１５，１６のうち、上側の光透過反射手段１５を参照光
９１ｂの光軸方向に移動させる場合を例に説明したが、
参照光９１ｂの光軸方向に移動させるのは下側の光透過
反射手段１６であってもよく、或いはこれら光透過反射
手段１５，１６の両方であってもよい。
【００３３】図３は本第１実施形態に係る偏芯測定装置
の第１変形例を示している。上記第１実施形態の基本構
成例に係る偏芯測定装置（図１参照）では、測定光９１
ａの光軸方向は、その測定光９１ａが到達する被検レン
ズ表面１ａ上の微小領域における曲率半径方向と一致し
ないので通常であり、被検レンズ表面１ａで反射した光
が集光手段１４を透過した後に光軸が横方向にずれる。
このままでは、測定光９１ａと参照光９１ｂとの干渉領
域が狭くなる上に、光源１１から生じた収差がキャンセ
ルされず、収差として残ってしまう。
の第１変形例を示している。上記第１実施形態の基本構
成例に係る偏芯測定装置（図１参照）では、測定光９１
ａの光軸方向は、その測定光９１ａが到達する被検レン
ズ表面１ａ上の微小領域における曲率半径方向と一致し
ないので通常であり、被検レンズ表面１ａで反射した光
が集光手段１４を透過した後に光軸が横方向にずれる。
このままでは、測定光９１ａと参照光９１ｂとの干渉領
域が狭くなる上に、光源１１から生じた収差がキャンセ
ルされず、収差として残ってしまう。
【００３４】このような欠点を解消するため、本第１変
形例に係る偏芯測定装置では、上記基本構成例に係る偏
芯測定装置における光透過反射手段１５を紙面に垂直な
軸まわりに傾動可能とし、光透過反射手段１５において
キャッツアイ反射して光透過反射手段１６に戻ってきた
参照光９１ｂが、被検レンズ表面１ａにおいてキャッツ
アイ反射して光透過反射手段１６に戻ってきた測定光９
１ａとほとんど完全に重なるように光透過反射手段１６
における参照光９１ｂの反射角度を調整できるようにな
っている。なお、そうした場合は、イメージセンサ１９
側に設けられた絞りは不要になる。
形例に係る偏芯測定装置では、上記基本構成例に係る偏
芯測定装置における光透過反射手段１５を紙面に垂直な
軸まわりに傾動可能とし、光透過反射手段１５において
キャッツアイ反射して光透過反射手段１６に戻ってきた
参照光９１ｂが、被検レンズ表面１ａにおいてキャッツ
アイ反射して光透過反射手段１６に戻ってきた測定光９
１ａとほとんど完全に重なるように光透過反射手段１６
における参照光９１ｂの反射角度を調整できるようにな
っている。なお、そうした場合は、イメージセンサ１９
側に設けられた絞りは不要になる。
【００３５】また、この第１変形例に係る偏芯測定装置
においては、光透過反射手段１３として偏向ビームスプ
リッタ（ＰＢＳ）１１３を用いるとともに、この偏光ビ
ームスプリッタ１１３と集光手段１４との間に１／４波
長板１１４を設けている。この場合、偏光ビームスプリ
ッタ１１３の半透膜１１３ａを下方に透過する光９１は
Ｐ偏光であるが、このＰ偏光は被検レンズ表面１ａ若し
くは光透過反射手段１５，１６において反射して偏光ビ
ームスプリッタ１１３に再び戻ってくるまでの間に１／
４波長板１１４を２回透過するのでＳ偏光となり、これ
ら光の殆どは偏光ビームスプリッタ１１３の半透膜１１
３ａにおいて反射するので、その光量の大部分をイメー
ジセンサ１９に集光させることができる。
においては、光透過反射手段１３として偏向ビームスプ
リッタ（ＰＢＳ）１１３を用いるとともに、この偏光ビ
ームスプリッタ１１３と集光手段１４との間に１／４波
長板１１４を設けている。この場合、偏光ビームスプリ
ッタ１１３の半透膜１１３ａを下方に透過する光９１は
Ｐ偏光であるが、このＰ偏光は被検レンズ表面１ａ若し
くは光透過反射手段１５，１６において反射して偏光ビ
ームスプリッタ１１３に再び戻ってくるまでの間に１／
４波長板１１４を２回透過するのでＳ偏光となり、これ
ら光の殆どは偏光ビームスプリッタ１１３の半透膜１１
３ａにおいて反射するので、その光量の大部分をイメー
ジセンサ１９に集光させることができる。
【００３６】図４は本第１実施形態に係る偏芯測定装置
の第２変形例を示している。この第２変形例に係る偏芯
測定装置は、測定光９１ａの光軸方向が、その測定光９
１ａが到達する被検レンズ表面１ａ上の微小領域におけ
る曲率半径方向と一致していない場合に、得られる干渉
縞の領域が狭くなる欠点を改善するものであり、上記基
本構成例に係る偏芯測定装置における光源１１から光透
過反射手段１６に至るまでの光学系の全体を紙面に垂直
な軸まわりに揺動可能にしたものである。このような構
成の装置においては、測定光９１ａの光軸を紙面に垂直
な軸まわりに所望に傾けることができるので、測定光９
１ａの光軸方向をその測定光９１ａが至る被検レンズ表
面１ａにおける曲率半径方向に一致させることができ
る。
の第２変形例を示している。この第２変形例に係る偏芯
測定装置は、測定光９１ａの光軸方向が、その測定光９
１ａが到達する被検レンズ表面１ａ上の微小領域におけ
る曲率半径方向と一致していない場合に、得られる干渉
縞の領域が狭くなる欠点を改善するものであり、上記基
本構成例に係る偏芯測定装置における光源１１から光透
過反射手段１６に至るまでの光学系の全体を紙面に垂直
な軸まわりに揺動可能にしたものである。このような構
成の装置においては、測定光９１ａの光軸を紙面に垂直
な軸まわりに所望に傾けることができるので、測定光９
１ａの光軸方向をその測定光９１ａが至る被検レンズ表
面１ａにおける曲率半径方向に一致させることができ
る。
【００３７】図５は本発明に係る偏芯測定装置の第２実
施形態（第１の本発明に係る偏芯測定装置及び偏芯測定
方法に対応）の基本構成例を示すものであり、上記第１
実施形態に係る偏芯測定装置と同様、被検レンズ１の基
準軸に対する偏芯を反射偏芯測定により測定するもので
ある。なお、ここでも被検レンズ１は複数のレンズから
なるレンズ系のうちの一つであるものとし、被検レンズ
１の基準軸とは、このレンズ系全体の光軸Ｌをいうもの
とする。上記第１実施形態に係る偏芯測定装置では、測
定光と参照光とが同じ光軸上を進むように光源から射出
された可干渉光を分割する構成であったが、本第２実施
形態に係る偏芯測定装置では、測定光と参照光とが異な
る光軸上（直交する光軸上）を進むように光源からの光
を分割する構成を有する。
施形態（第１の本発明に係る偏芯測定装置及び偏芯測定
方法に対応）の基本構成例を示すものであり、上記第１
実施形態に係る偏芯測定装置と同様、被検レンズ１の基
準軸に対する偏芯を反射偏芯測定により測定するもので
ある。なお、ここでも被検レンズ１は複数のレンズから
なるレンズ系のうちの一つであるものとし、被検レンズ
１の基準軸とは、このレンズ系全体の光軸Ｌをいうもの
とする。上記第１実施形態に係る偏芯測定装置では、測
定光と参照光とが同じ光軸上を進むように光源から射出
された可干渉光を分割する構成であったが、本第２実施
形態に係る偏芯測定装置では、測定光と参照光とが異な
る光軸上（直交する光軸上）を進むように光源からの光
を分割する構成を有する。
【００３８】本第２実施形態に係る偏芯測定装置では、
光源（例えばレーザー光源）２１１より射出された可干
渉光２９１がレンズ２１２ａ，２１２ｂ及びピンホール
２１２ｃからなるビーム拡大器２１２により或る程度広
がりのある平行光にされた後、光透過反射手段（例えば
ハーフミラー）２１３の半透膜２１３ａを下方に透過
し、集光手段（例えば集光レンズゾーンプレートなどで
もよい。）２１４により集光される。集光手段２１４と
被検レンズ１との間には光透過反射手段（例えばハーフ
ミラー）２１５が設けられており、集光手段２１４によ
り集光された可干渉光２９１はこの光透過反射手段２１
５の半透膜２１５ａを下方に透過する測定光２９１ａ
と、この半透膜２１５ａにおいて左方に反射する参照光
２９１ｂとに分割される。
光源（例えばレーザー光源）２１１より射出された可干
渉光２９１がレンズ２１２ａ，２１２ｂ及びピンホール
２１２ｃからなるビーム拡大器２１２により或る程度広
がりのある平行光にされた後、光透過反射手段（例えば
ハーフミラー）２１３の半透膜２１３ａを下方に透過
し、集光手段（例えば集光レンズゾーンプレートなどで
もよい。）２１４により集光される。集光手段２１４と
被検レンズ１との間には光透過反射手段（例えばハーフ
ミラー）２１５が設けられており、集光手段２１４によ
り集光された可干渉光２９１はこの光透過反射手段２１
５の半透膜２１５ａを下方に透過する測定光２９１ａ
と、この半透膜２１５ａにおいて左方に反射する参照光
２９１ｂとに分割される。
【００３９】光透過反射手段２１５の半透膜２１５ａを
下方に透過した測定光２９１ａは、被検レンズ表面１ａ
上の微小領域に集光される。ここで、測定光２９１ａの
集光点が被検レンズ表面１ａ上の微小領域に位置するよ
うにする調節は、集光手段２１４と光透過反射手段２１
５を図の上下方向に移動させることにより行う。なお、
この測定光２９１ａの光軸は、被検レンズ１を含んでな
るレンズ系全体の光軸Ｌと一致しないようにする必要が
ある。可干渉光２９１のコヒーレント長が短い光源２１
１を備えた場合は、参照光２９１ｂと測定光２９１ａの
光路長差を調整する。
下方に透過した測定光２９１ａは、被検レンズ表面１ａ
上の微小領域に集光される。ここで、測定光２９１ａの
集光点が被検レンズ表面１ａ上の微小領域に位置するよ
うにする調節は、集光手段２１４と光透過反射手段２１
５を図の上下方向に移動させることにより行う。なお、
この測定光２９１ａの光軸は、被検レンズ１を含んでな
るレンズ系全体の光軸Ｌと一致しないようにする必要が
ある。可干渉光２９１のコヒーレント長が短い光源２１
１を備えた場合は、参照光２９１ｂと測定光２９１ａの
光路長差を調整する。
【００４０】このように被検レンズ表面１ａ上の微小領
域に集光された測定光２９１ａは被検レンズ表面１ａに
おいてキャッツアイ反射して光透過反射手段２１５の半
透膜２１５ａを上方に透過し、光透過反射手段２１３に
至る。一方、光透過反射手段２１５の半透膜２１５ａに
おいて左方に反射した参照光２９１ｂは光透過反射手段
２１５の左方に設けられた反射手段（例えばミラー）２
１６においてキャッツアイ反射し、更に光透過反射手段
２１５の半透膜２１５ａにおいて上方に反射した後、集
光手段２１４を経て光透過反射手段２１３に至る。
域に集光された測定光２９１ａは被検レンズ表面１ａに
おいてキャッツアイ反射して光透過反射手段２１５の半
透膜２１５ａを上方に透過し、光透過反射手段２１３に
至る。一方、光透過反射手段２１５の半透膜２１５ａに
おいて左方に反射した参照光２９１ｂは光透過反射手段
２１５の左方に設けられた反射手段（例えばミラー）２
１６においてキャッツアイ反射し、更に光透過反射手段
２１５の半透膜２１５ａにおいて上方に反射した後、集
光手段２１４を経て光透過反射手段２１３に至る。
【００４１】このように被検レンズ表面１ａにおいてキ
ャッツアイ反射して光透過反射手段２１３に戻った測定
光２９１ａと、被検レンズ１には至らずに反射手段２１
６においてキャッツアイ反射して光透過反射手段２１３
に戻った参照光２９１ｂとは再び重ね合わされて干渉
し、光透過反射手段２１３の半透膜２１３ａにおいて右
方に反射した後、絞り２１７及び集光手段（例えば集光
レンズ。ゾーンプレートなどでもよい）２１８に集光さ
れてイメージセンサ（光量センサでもよい）２１９の受
光面上に至り、干渉縞を形成する。イメージセンサ２１
９はこの測定光２９１ａと参照光２９１ｂとにより形成
された干渉縞を検出し、ディジタル信号に変換して演算
装置２２１に出力する。
ャッツアイ反射して光透過反射手段２１３に戻った測定
光２９１ａと、被検レンズ１には至らずに反射手段２１
６においてキャッツアイ反射して光透過反射手段２１３
に戻った参照光２９１ｂとは再び重ね合わされて干渉
し、光透過反射手段２１３の半透膜２１３ａにおいて右
方に反射した後、絞り２１７及び集光手段（例えば集光
レンズ。ゾーンプレートなどでもよい）２１８に集光さ
れてイメージセンサ（光量センサでもよい）２１９の受
光面上に至り、干渉縞を形成する。イメージセンサ２１
９はこの測定光２９１ａと参照光２９１ｂとにより形成
された干渉縞を検出し、ディジタル信号に変換して演算
装置２２１に出力する。
【００４２】被検レンズ１は図示しない回転台により基
準軸（ここでは被検レンズ１を含んでなるレンズ系全体
の光軸Ｌ）まわりに回転されるようになっており、被検
レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）まわりの方位角は回転台の
近傍に設けられた方位角センサ２２０により検出される
ようになっている。この方位角センサ２２０も上記演算
装置２２１に繋がっており、演算装置２２１は被検レン
ズ１を基準軸（光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生じ
る干渉縞の変動を方位角センサ２２０により検出される
被検レンズ１の方位角の情報をもとに解析し、被検レン
ズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求める。
準軸（ここでは被検レンズ１を含んでなるレンズ系全体
の光軸Ｌ）まわりに回転されるようになっており、被検
レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）まわりの方位角は回転台の
近傍に設けられた方位角センサ２２０により検出される
ようになっている。この方位角センサ２２０も上記演算
装置２２１に繋がっており、演算装置２２１は被検レン
ズ１を基準軸（光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生じ
る干渉縞の変動を方位角センサ２２０により検出される
被検レンズ１の方位角の情報をもとに解析し、被検レン
ズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求める。
【００４３】ここで、その偏芯を求める具体的手順につ
いては、上述の第１実施形態に係る偏芯測定装置の場合
と同様であり、前述の式（１），（２）により被検レン
ズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対するシフト量（ｓ）又はチ
ルト量（ｔ）を求めることができる。このため本第２実
施形態に係る偏芯測定装置においても、上述の第１実施
形態に係る偏芯測定装置と同様の効果が得られる。ま
た、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１がレンズ
系の最も手前側（ここでは集光手段２１４、光透過反射
手段２１５等がある側）に位置するものでないときに
は、得られた被検レンズ１についての偏芯情報（シフト
量及びチルト量）を、その被検レンズ１の手前側にある
レンズ全ての偏芯情報を用いて補正することにより、偏
芯測定の対象となっている被検レンズ１の正確な偏芯情
報を得ることができる。
いては、上述の第１実施形態に係る偏芯測定装置の場合
と同様であり、前述の式（１），（２）により被検レン
ズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対するシフト量（ｓ）又はチ
ルト量（ｔ）を求めることができる。このため本第２実
施形態に係る偏芯測定装置においても、上述の第１実施
形態に係る偏芯測定装置と同様の効果が得られる。ま
た、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１がレンズ
系の最も手前側（ここでは集光手段２１４、光透過反射
手段２１５等がある側）に位置するものでないときに
は、得られた被検レンズ１についての偏芯情報（シフト
量及びチルト量）を、その被検レンズ１の手前側にある
レンズ全ての偏芯情報を用いて補正することにより、偏
芯測定の対象となっている被検レンズ１の正確な偏芯情
報を得ることができる。
【００４４】また、本第２実施形態形態に係る偏芯測定
装置においては、コヒーレント長が短い可干渉光を射出
する光源２１１を用いて、被検レンズ１の表面でキャッ
ツアイ反射した測定光２９１ａが反射手段２１６でキャ
ッツアイ反射した参照光２９１ｂ以外の光と干渉を起こ
さないようにし、干渉縞が測定光２９１ａと参照光２９
１ｂのみとにより形成されるようにしてもよい。
装置においては、コヒーレント長が短い可干渉光を射出
する光源２１１を用いて、被検レンズ１の表面でキャッ
ツアイ反射した測定光２９１ａが反射手段２１６でキャ
ッツアイ反射した参照光２９１ｂ以外の光と干渉を起こ
さないようにし、干渉縞が測定光２９１ａと参照光２９
１ｂのみとにより形成されるようにしてもよい。
【００４５】また、上記光透過反射手段２１５、反射手
段２１６のいずれか一方を光軸方向に移動可能な構成と
して縞走査を行うようにしてもよい。このような縞走査
干渉法によれば、より高精度な偏芯測定結果を得ること
ができる。
段２１６のいずれか一方を光軸方向に移動可能な構成と
して縞走査を行うようにしてもよい。このような縞走査
干渉法によれば、より高精度な偏芯測定結果を得ること
ができる。
【００４６】図６は本第２実施形態に係る偏芯測定装置
の第１変形例を示している。上記第２実施形態の基本構
成例に係る偏芯測定装置（図５参照）では、測定光２９
１ａの光軸方向は、その測定光２９１ａが到達する被検
レンズ表面１ａ上の微小領域における曲率半径方向と一
致しないのが通常であり、被検レンズ表面１ａで反射し
た光が集光手段２１４を透過した後に光軸が横方向にず
れる。このままでは、測定光２９１ａと参照光２９１ｂ
との干渉領域が狭くなる上に、光源２１１から生じた収
差がキャンセルされず、収差として残ってしまう。この
ような欠点を解消するため、本第１変形例に係る偏芯測
定装置では、上記基本構成例に係る偏芯測定装置におけ
る反射手段２１６を紙面に垂直な軸まわりに傾動可能と
し、反射手段２１６においてキャッツアイ反射して光透
過反射手段２１５に戻ってきた参照光２９１ｂが、被検
レンズ表面１ａにおいてキャッツアイ反射して光透過反
射手段２１５に戻ってきた測定光２９１ａとほとんど完
全に重なるように反射手段２１６における参照光２９１
ｂの反射角度を調整できるようになっている。
の第１変形例を示している。上記第２実施形態の基本構
成例に係る偏芯測定装置（図５参照）では、測定光２９
１ａの光軸方向は、その測定光２９１ａが到達する被検
レンズ表面１ａ上の微小領域における曲率半径方向と一
致しないのが通常であり、被検レンズ表面１ａで反射し
た光が集光手段２１４を透過した後に光軸が横方向にず
れる。このままでは、測定光２９１ａと参照光２９１ｂ
との干渉領域が狭くなる上に、光源２１１から生じた収
差がキャンセルされず、収差として残ってしまう。この
ような欠点を解消するため、本第１変形例に係る偏芯測
定装置では、上記基本構成例に係る偏芯測定装置におけ
る反射手段２１６を紙面に垂直な軸まわりに傾動可能と
し、反射手段２１６においてキャッツアイ反射して光透
過反射手段２１５に戻ってきた参照光２９１ｂが、被検
レンズ表面１ａにおいてキャッツアイ反射して光透過反
射手段２１５に戻ってきた測定光２９１ａとほとんど完
全に重なるように反射手段２１６における参照光２９１
ｂの反射角度を調整できるようになっている。
【００４７】図７は本第２実施形態に係る偏芯測定装置
の第２変形例を示している。この第２変形例では光源２
１１から射出されて光透過反射手段２１３に入射した光
２９２がその半透膜２１３ａを下方に透過する測定光２
９２ａと半透膜２１３において左方に反射する参照光２
９２ｂとに分割される。
の第２変形例を示している。この第２変形例では光源２
１１から射出されて光透過反射手段２１３に入射した光
２９２がその半透膜２１３ａを下方に透過する測定光２
９２ａと半透膜２１３において左方に反射する参照光２
９２ｂとに分割される。
【００４８】光透過反射手段２１３の半透膜２１３ａを
下方に透過した測定光２９２ａは、光透過反射手段２１
３の下方に設置された集光手段（例えば集光レンズ。ゾ
ーンプレートなどでもよい）２２４により被検レンズ表
面１ａ上の微小領域に集光されてキャッツアイ反射し、
反射の前後で同じ（或いは平行は）光路を戻って集光手
段２２４を上方に透過し、光透過反射手段２１３に至
る。一方、光透過反射手段２１３の半透膜２１３ａにお
いて左方に反射した参照光２９２ｂは、光透過反射手段
２１３の左方に設置された集光手段（例えば集光レンズ
ゾーンプレートなどでもよい。）２２５により集光され
た後、この集光手段２２５の左方に設置された反射手段
（例えばミラー）２２６においてキャッツアイ反射し、
反射の前後で同じ（或いは平行な）光路を戻って集光手
段２２５を右方に透過し、光透過反射手段２１３に至
る。ここで、集光手段２２５及び反射手段２２６に代え
て、コーナーキューブ、位相共役反射鏡、平面ミラー等
を設置してもよい。
下方に透過した測定光２９２ａは、光透過反射手段２１
３の下方に設置された集光手段（例えば集光レンズ。ゾ
ーンプレートなどでもよい）２２４により被検レンズ表
面１ａ上の微小領域に集光されてキャッツアイ反射し、
反射の前後で同じ（或いは平行は）光路を戻って集光手
段２２４を上方に透過し、光透過反射手段２１３に至
る。一方、光透過反射手段２１３の半透膜２１３ａにお
いて左方に反射した参照光２９２ｂは、光透過反射手段
２１３の左方に設置された集光手段（例えば集光レンズ
ゾーンプレートなどでもよい。）２２５により集光され
た後、この集光手段２２５の左方に設置された反射手段
（例えばミラー）２２６においてキャッツアイ反射し、
反射の前後で同じ（或いは平行な）光路を戻って集光手
段２２５を右方に透過し、光透過反射手段２１３に至
る。ここで、集光手段２２５及び反射手段２２６に代え
て、コーナーキューブ、位相共役反射鏡、平面ミラー等
を設置してもよい。
【００４９】光透過反射手段２１３に下方から入射した
測定光２９２ａはその半透膜２１３ａにおいて右方に反
射し、光透過反射手段２１３に左方から入射した参照光
２９２ｂはその半透膜２１３ａを右方に透過するので、
これら測定光２９２ａと参照光２９２ｂは再び重ね合わ
されて干渉し、集光手段２１８により集光されてイメー
ジセンサ２１９上に干渉縞を形成する。このような構成
においても、上述の基本構成例に係る偏芯測定装置と同
様の効果を得ることができる。
測定光２９２ａはその半透膜２１３ａにおいて右方に反
射し、光透過反射手段２１３に左方から入射した参照光
２９２ｂはその半透膜２１３ａを右方に透過するので、
これら測定光２９２ａと参照光２９２ｂは再び重ね合わ
されて干渉し、集光手段２１８により集光されてイメー
ジセンサ２１９上に干渉縞を形成する。このような構成
においても、上述の基本構成例に係る偏芯測定装置と同
様の効果を得ることができる。
【００５０】図８は本第２実施形態に係る偏芯測定装置
の第３変形例を示している。上記第２実施形態の第２変
形例に係る偏芯測定装置（図７参照）では、測定光２９
２ａの光軸方向は、その測定光２９２ａが到達する被検
レンズ表面１ａ上の微小領域における曲率半径方向と一
致しないのが通常であり、被検レンズ表面１ａで反射し
た光が集光手段２２４を透過した後に光軸が横方向にず
れる。このままでは、測定光２９２ａと参照光２９２ｂ
との干渉領域が狭くなる上に、光源２１１から生じた収
差がキャンセルされず、収差として残ってしまう。この
ような欠点を解消するため、この第３変形例に係る偏芯
測定装置では、上記第２変形例に係る偏芯測定装置にお
ける反射手段２２６を紙面に垂直な軸まわりに傾動可能
とし、反射手段２２６においてキャッツアイ反射して光
透過反射手段２１３に戻ってきた参照光２９２ｂが、被
検レンズ表面１ａにおいてキャッツアイ反射して光透過
反射手段２１３に戻ってきた測定光２９２ａとほとんど
完全に重なるように反射手段２２６における参照光２９
２ｂの反射角度を調整できるようになっている。
の第３変形例を示している。上記第２実施形態の第２変
形例に係る偏芯測定装置（図７参照）では、測定光２９
２ａの光軸方向は、その測定光２９２ａが到達する被検
レンズ表面１ａ上の微小領域における曲率半径方向と一
致しないのが通常であり、被検レンズ表面１ａで反射し
た光が集光手段２２４を透過した後に光軸が横方向にず
れる。このままでは、測定光２９２ａと参照光２９２ｂ
との干渉領域が狭くなる上に、光源２１１から生じた収
差がキャンセルされず、収差として残ってしまう。この
ような欠点を解消するため、この第３変形例に係る偏芯
測定装置では、上記第２変形例に係る偏芯測定装置にお
ける反射手段２２６を紙面に垂直な軸まわりに傾動可能
とし、反射手段２２６においてキャッツアイ反射して光
透過反射手段２１３に戻ってきた参照光２９２ｂが、被
検レンズ表面１ａにおいてキャッツアイ反射して光透過
反射手段２１３に戻ってきた測定光２９２ａとほとんど
完全に重なるように反射手段２２６における参照光２９
２ｂの反射角度を調整できるようになっている。
【００５１】図９は本第２実施形態に係る偏芯測定装置
の第４変形例を示している。この第４変形例に係る偏芯
測定装置では、上記第２又は第３変形例に係る偏芯測定
装置（図７、図８参照）において、集光手段２２４と被
検レンズ１との間にフォーカス用の集光レンズ系２４４
を設けたものであり、このフォーカス用の集光レンズ系
２４４によって、被検レンズ表面１ａ上に至る測定光２
９２ａの集光点の位置調節を行うことができる。
の第４変形例を示している。この第４変形例に係る偏芯
測定装置では、上記第２又は第３変形例に係る偏芯測定
装置（図７、図８参照）において、集光手段２２４と被
検レンズ１との間にフォーカス用の集光レンズ系２４４
を設けたものであり、このフォーカス用の集光レンズ系
２４４によって、被検レンズ表面１ａ上に至る測定光２
９２ａの集光点の位置調節を行うことができる。
【００５２】図１０は本第２実施形態に係る偏芯測定装
置の第５変形例を示している。この第５変形例に係る偏
芯測定装置では、上記第４変形例に係る偏芯測定装置
（図９参照）において、光透過反射手段２１３とその左
方に位置する集光手段２２５との間に反射手段２５７と
移動可能なコーナーキューブ（或いはコーナーミラー）
２５８を設けている。このため光透過反射手段２１３の
半透膜２１３ａにおいて左方に反射した参照光２９２ｂ
は、集光手段２２５に至る前に先ず反射手段２５７にお
いて上方に反射し、コーナーキューブ２５８において折
り返すように下方に反射した後（ここで、コーナーキュ
ーブ２５８における反射光は入射光と平行になる）、反
射手段２５７において左方に反射して集光手段２２５に
入射する。
置の第５変形例を示している。この第５変形例に係る偏
芯測定装置では、上記第４変形例に係る偏芯測定装置
（図９参照）において、光透過反射手段２１３とその左
方に位置する集光手段２２５との間に反射手段２５７と
移動可能なコーナーキューブ（或いはコーナーミラー）
２５８を設けている。このため光透過反射手段２１３の
半透膜２１３ａにおいて左方に反射した参照光２９２ｂ
は、集光手段２２５に至る前に先ず反射手段２５７にお
いて上方に反射し、コーナーキューブ２５８において折
り返すように下方に反射した後（ここで、コーナーキュ
ーブ２５８における反射光は入射光と平行になる）、反
射手段２５７において左方に反射して集光手段２２５に
入射する。
【００５３】このように本第５変形例に係る偏芯測定装
置では、測定光２９２ａの光路長はフォーカス用の集光
レンズ２４４の上下方向（測定光２９２ａの光軸方向）
移動により、また参照光２９２ｂの光路長はコーナーキ
ューブ２５８の上下方向移動によりそれぞれ調節するこ
とが可能である。このため本変形例に係る偏芯測定装置
では、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１がレン
ズ系の奥側（図１０では下方に相当）に位置する場合で
あってもフォーカス用の集光レンズ２４４を上下方向に
移動させるのみで測定光２９２ａの集光点を被検レンズ
表面１ａ上に位置させることができ（測定光２９２ａを
被検レンズ表面１ａ上でキャッツアイ反射させることが
でき）、その一方でコーナーキューブ２５８を上下方向
に移動させることにより、参照光２９２ｂの光路長を測
定光２９２ａの光路長にほぼ一致させるようにすること
ができる。
置では、測定光２９２ａの光路長はフォーカス用の集光
レンズ２４４の上下方向（測定光２９２ａの光軸方向）
移動により、また参照光２９２ｂの光路長はコーナーキ
ューブ２５８の上下方向移動によりそれぞれ調節するこ
とが可能である。このため本変形例に係る偏芯測定装置
では、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１がレン
ズ系の奥側（図１０では下方に相当）に位置する場合で
あってもフォーカス用の集光レンズ２４４を上下方向に
移動させるのみで測定光２９２ａの集光点を被検レンズ
表面１ａ上に位置させることができ（測定光２９２ａを
被検レンズ表面１ａ上でキャッツアイ反射させることが
でき）、その一方でコーナーキューブ２５８を上下方向
に移動させることにより、参照光２９２ｂの光路長を測
定光２９２ａの光路長にほぼ一致させるようにすること
ができる。
【００５４】また、このように本第５変形例に係る偏芯
測定装置では、参照光２９２ｂの光路長を測定光２９２
ａの光路長に容易に一致させることができるので、光源
２１１からの光のコヒーレント長が短い場合であっても
測定光２９２ａの集光点を大幅に移動させることがで
き、レンズ系をなすレンズ部材がその光軸Ｌ方向（図１
０では上下方向）に多数存在する場合であっても、個々
のレンズ部材についての偏芯測定を精度良く行うことが
可能である。なお、図１０では測定光２９２ａの集光点
を被検レンズ１の裏面１ｂ上に集光させた場合の例を示
している。
測定装置では、参照光２９２ｂの光路長を測定光２９２
ａの光路長に容易に一致させることができるので、光源
２１１からの光のコヒーレント長が短い場合であっても
測定光２９２ａの集光点を大幅に移動させることがで
き、レンズ系をなすレンズ部材がその光軸Ｌ方向（図１
０では上下方向）に多数存在する場合であっても、個々
のレンズ部材についての偏芯測定を精度良く行うことが
可能である。なお、図１０では測定光２９２ａの集光点
を被検レンズ１の裏面１ｂ上に集光させた場合の例を示
している。
【００５５】図１０において、上記構成の光路長補正機
構を調整し、測定光２９２ａと参照光２９２ｂの光路長
の差を変化させる。両光路長の差がコヒーレント長より
大きい場合は、測定光２９２ａと参照光２９２ｂとは干
渉せず、干渉縞の強度は一定である。両光路長の差が小
さくなるにつれて干渉縞のコントラストが向上してい
き、光路長差がほぼ０になると、干渉縞のコントラスト
が最大になる。再び両光路長の差が生じると干渉縞のコ
ントラストが低下していき、コヒーレント長より大きく
なると、干渉の明暗は一様になる。このような過程にお
ける光路長補正機構の調整量を記録し、光路長差を検出
する。以上のように、被検レンズ１の０度、１８０度の
２つの位置よりも多い位置において、干渉縞のコントラ
ストの最大になる光路長補正機構の調整量の変化を検出
し、被検レンズ１の偏芯量を算出することで被検面以外
の面での反射光の影響を抑えることができるので、偏芯
量が大きい被検レンズ１に対しても充分な精度で偏芯測
定を行うことができる。
構を調整し、測定光２９２ａと参照光２９２ｂの光路長
の差を変化させる。両光路長の差がコヒーレント長より
大きい場合は、測定光２９２ａと参照光２９２ｂとは干
渉せず、干渉縞の強度は一定である。両光路長の差が小
さくなるにつれて干渉縞のコントラストが向上してい
き、光路長差がほぼ０になると、干渉縞のコントラスト
が最大になる。再び両光路長の差が生じると干渉縞のコ
ントラストが低下していき、コヒーレント長より大きく
なると、干渉の明暗は一様になる。このような過程にお
ける光路長補正機構の調整量を記録し、光路長差を検出
する。以上のように、被検レンズ１の０度、１８０度の
２つの位置よりも多い位置において、干渉縞のコントラ
ストの最大になる光路長補正機構の調整量の変化を検出
し、被検レンズ１の偏芯量を算出することで被検面以外
の面での反射光の影響を抑えることができるので、偏芯
量が大きい被検レンズ１に対しても充分な精度で偏芯測
定を行うことができる。
【００５６】また、ここでは図示しないが、本第２実施
形態の第２〜第５変形例に係る偏芯測定装置（図７〜図
１０参照）においては、前述した第１実施形態の第１変
形例に係る偏芯測定装置（図３参照）のように、光透過
反射手段２１３として偏向ビームスプリッタ（ＰＢＳ）
を用い、この光透過反射手段（偏光ビームスプリッタ）
２１３と集光手段２２４との間に第１の１／４波長板を
設けるとともに、光透過反射手段（偏光ビームスプリッ
タ）２１３と集光手段２２５との間に第２の１／４波長
板を設ける。この場合、光透過反射手段（偏光ビームス
プリッタ）２１３の半透膜２１３ａを下方に透過する光
はＰ偏光であり、被検レンズ表面１ａにおいて反射して
光透過反射手段（偏光ビームスプリッタ）２１３に再び
戻ってくるまでの間に第１の１／４波長板を２回透過す
るのでＳ偏光となり、この光の殆どが光透過反射手段
（偏光ビームスプリッタ）２１３の半透膜２１３ａにお
いて右方に反射するようになる。
形態の第２〜第５変形例に係る偏芯測定装置（図７〜図
１０参照）においては、前述した第１実施形態の第１変
形例に係る偏芯測定装置（図３参照）のように、光透過
反射手段２１３として偏向ビームスプリッタ（ＰＢＳ）
を用い、この光透過反射手段（偏光ビームスプリッタ）
２１３と集光手段２２４との間に第１の１／４波長板を
設けるとともに、光透過反射手段（偏光ビームスプリッ
タ）２１３と集光手段２２５との間に第２の１／４波長
板を設ける。この場合、光透過反射手段（偏光ビームス
プリッタ）２１３の半透膜２１３ａを下方に透過する光
はＰ偏光であり、被検レンズ表面１ａにおいて反射して
光透過反射手段（偏光ビームスプリッタ）２１３に再び
戻ってくるまでの間に第１の１／４波長板を２回透過す
るのでＳ偏光となり、この光の殆どが光透過反射手段
（偏光ビームスプリッタ）２１３の半透膜２１３ａにお
いて右方に反射するようになる。
【００５７】一方、光透過反射手段（偏光ビームスプリ
ッタ）２１３の半透膜２１３ａにおいて左方に反射する
光はＳ偏光であり、反射手段２２６において反射して光
透過反射手段（偏光ビームスプリッタ）２１３に再び戻
ってくるまでの間に第２の１／４波長板を２回透過して
Ｐ偏光となるので、この光の殆どが光透過反射手段（偏
光ビームスプリッタ）２１３の半透膜２１３ａを右方に
透過するようになる。このような構成では、被検レンズ
表面１ａ又は反射手段２２６において反射して戻ってき
た光（測定光２９２ａ及び参照光２９２ｂ）をイメージ
センサ２１９に集光させることができる。
ッタ）２１３の半透膜２１３ａにおいて左方に反射する
光はＳ偏光であり、反射手段２２６において反射して光
透過反射手段（偏光ビームスプリッタ）２１３に再び戻
ってくるまでの間に第２の１／４波長板を２回透過して
Ｐ偏光となるので、この光の殆どが光透過反射手段（偏
光ビームスプリッタ）２１３の半透膜２１３ａを右方に
透過するようになる。このような構成では、被検レンズ
表面１ａ又は反射手段２２６において反射して戻ってき
た光（測定光２９２ａ及び参照光２９２ｂ）をイメージ
センサ２１９に集光させることができる。
【００５８】更に、本第２実施形態の基本構成例及び第
１〜第５変形例に係る偏芯測定装置（図５〜図１０参
照）においては、前述した第１実施形態の第２変形例に
係る偏芯測定装置（図４参照）のように、光源２１１か
ら光透過反射手段２１５（或いは集光手段２２４又はフ
ォーカス用の集光レンズ２４４）に至るまでの光学系全
体を紙面に垂直な軸まわりに揺動可能とし、測定光２９
１ａ（或いは２９２ａ）の光軸方向をその測定光２９１
ａ（或いは２９２ａ）が至る被検レンズ表面１ａにおけ
る曲率半径方向に一致させることができるようにしても
よい。このような構成では、被検レンズ表面１ａで反射
した測定光２９１ａ（或いは２９２ａ）は参照光２９１
ｂ（或いは２９２ｂ）とほとんど完全に重なるようにな
る。なお、そうした場合は、イメージセンサ２１９側に
設けられた絞り２１７は不要になる。
１〜第５変形例に係る偏芯測定装置（図５〜図１０参
照）においては、前述した第１実施形態の第２変形例に
係る偏芯測定装置（図４参照）のように、光源２１１か
ら光透過反射手段２１５（或いは集光手段２２４又はフ
ォーカス用の集光レンズ２４４）に至るまでの光学系全
体を紙面に垂直な軸まわりに揺動可能とし、測定光２９
１ａ（或いは２９２ａ）の光軸方向をその測定光２９１
ａ（或いは２９２ａ）が至る被検レンズ表面１ａにおけ
る曲率半径方向に一致させることができるようにしても
よい。このような構成では、被検レンズ表面１ａで反射
した測定光２９１ａ（或いは２９２ａ）は参照光２９１
ｂ（或いは２９２ｂ）とほとんど完全に重なるようにな
る。なお、そうした場合は、イメージセンサ２１９側に
設けられた絞り２１７は不要になる。
【００５９】図１１は本発明に係る偏芯測定装置の第３
実施形態（第１の本発明に係る偏芯測定装置及び偏芯測
定方法に対応）の基本構成例を示すものであり、上記第
１及び第２実施形態に係る偏芯測定装置と同様、被検レ
ンズ１の基準軸に対する偏芯を反射偏芯測定により測定
するものである。なお、ここでも被検レンズ１は複数の
レンズからなるレンズ系のうちの一つであるものとし、
被検レンズ１の基準軸とは、このレンズ系全体の光軸Ｌ
をいうものとする。本第３実施形態に係る偏芯測定装置
では、上述の第１実施形態に係る偏芯測定装置と同様、
測定光と参照光とが同じ光軸上を進むように光源からの
光を分割する構成を有する。
実施形態（第１の本発明に係る偏芯測定装置及び偏芯測
定方法に対応）の基本構成例を示すものであり、上記第
１及び第２実施形態に係る偏芯測定装置と同様、被検レ
ンズ１の基準軸に対する偏芯を反射偏芯測定により測定
するものである。なお、ここでも被検レンズ１は複数の
レンズからなるレンズ系のうちの一つであるものとし、
被検レンズ１の基準軸とは、このレンズ系全体の光軸Ｌ
をいうものとする。本第３実施形態に係る偏芯測定装置
では、上述の第１実施形態に係る偏芯測定装置と同様、
測定光と参照光とが同じ光軸上を進むように光源からの
光を分割する構成を有する。
【００６０】本第３実施形態に係る偏芯測定装置では、
光源（例えばレーザー光源）３１１より射出された可干
渉光３９１がレンズ３１２ａ，３１２ｂ及びピンホール
３１２ｃからなるビーム拡大器３１２により或る程度広
がりのある平行光にされた後、光透過反射手段（例えば
ハーフミラー）３１３の半透膜３１３ａを下方に透過
し、集光手段（例えば集光レンズゾーンプレートなどで
もよい。）３１４により集光される。集光手段３１４の
下方焦点位置には光透過反射手段（例えばハーフミラ
ー）３１５が設けられており、集光手段３１４により集
光された光３９１はこの光透過反射手段３１５を下方に
透過する測定光３９１ａと、この光透過反射手段３１５
において上方にキャッツアイ反射する参照光３９１ｂと
に分割される。
光源（例えばレーザー光源）３１１より射出された可干
渉光３９１がレンズ３１２ａ，３１２ｂ及びピンホール
３１２ｃからなるビーム拡大器３１２により或る程度広
がりのある平行光にされた後、光透過反射手段（例えば
ハーフミラー）３１３の半透膜３１３ａを下方に透過
し、集光手段（例えば集光レンズゾーンプレートなどで
もよい。）３１４により集光される。集光手段３１４の
下方焦点位置には光透過反射手段（例えばハーフミラ
ー）３１５が設けられており、集光手段３１４により集
光された光３９１はこの光透過反射手段３１５を下方に
透過する測定光３９１ａと、この光透過反射手段３１５
において上方にキャッツアイ反射する参照光３９１ｂと
に分割される。
【００６１】光透過反射手段３１５を下方に透過した測
定光３９１ａは、この光透過反射手段３１５の下方に設
けられた集光手段（例えば集光レンズゾーンプレートな
どでもよい。）３１６により、被検レンズ表面１ａ上の
微小領域に集光される。ここで、測定光３９１ａの集光
点が被検レンズ表面１ａ上の微小領域に位置するように
する調節は、集光手段３１４から集光手段３１６に至る
光学系の全体を図の上下方向に移動させることにより行
う。なお、この測定光３９１ａの光軸は、被検レンズ１
を含んでなるレンズ系全体の光軸Ｌと一致しないように
する必要がある。
定光３９１ａは、この光透過反射手段３１５の下方に設
けられた集光手段（例えば集光レンズゾーンプレートな
どでもよい。）３１６により、被検レンズ表面１ａ上の
微小領域に集光される。ここで、測定光３９１ａの集光
点が被検レンズ表面１ａ上の微小領域に位置するように
する調節は、集光手段３１４から集光手段３１６に至る
光学系の全体を図の上下方向に移動させることにより行
う。なお、この測定光３９１ａの光軸は、被検レンズ１
を含んでなるレンズ系全体の光軸Ｌと一致しないように
する必要がある。
【００６２】このように被検レンズ表面１ａ上の微小領
域に集光された測定光３９１ａは被検レンズ表面１ａに
おいてキャッツアイ反射して集光手段３１６、光透過反
射手段３１５及び集光手段３１４を上方に透過し、光透
過反射手段３１３に至る。一方、光透過反射手段３１５
において上方にキャッツアイ反射した参照光３９１ｂは
反射の前後で同じ（或いは平行な）光路を戻って集光手
段３１４を上方に透過し、光透過反射手段３１３に至
る。
域に集光された測定光３９１ａは被検レンズ表面１ａに
おいてキャッツアイ反射して集光手段３１６、光透過反
射手段３１５及び集光手段３１４を上方に透過し、光透
過反射手段３１３に至る。一方、光透過反射手段３１５
において上方にキャッツアイ反射した参照光３９１ｂは
反射の前後で同じ（或いは平行な）光路を戻って集光手
段３１４を上方に透過し、光透過反射手段３１３に至
る。
【００６３】このように被検レンズ表面１ａにおいてキ
ャッツアイ反射して光透過反射手段３１３に戻った測定
光３９１ａと、被検レンズ１には至らずに光透過反射手
段３１５においてキャッツアイ反射して光透過反射手段
３１３に戻った参照光３９１ｂとは再び重ね合わされて
干渉し、光透過反射手段３１３の半透膜３１３ａにおい
て右方に反射した後、集光手段（例えば集光レンズゾー
ンプレートなどでもよい。）３１８に集光されてイメー
ジセンサ（光量センサでもよい）３１９の受光面上に至
り、干渉縞を形成する。イメージセンサ３１９はこの測
定光３９１ａと参照光３９１ｂとにより形成された干渉
縞を検出し、ディジタル信号に変換して演算装置３２１
に出力する。
ャッツアイ反射して光透過反射手段３１３に戻った測定
光３９１ａと、被検レンズ１には至らずに光透過反射手
段３１５においてキャッツアイ反射して光透過反射手段
３１３に戻った参照光３９１ｂとは再び重ね合わされて
干渉し、光透過反射手段３１３の半透膜３１３ａにおい
て右方に反射した後、集光手段（例えば集光レンズゾー
ンプレートなどでもよい。）３１８に集光されてイメー
ジセンサ（光量センサでもよい）３１９の受光面上に至
り、干渉縞を形成する。イメージセンサ３１９はこの測
定光３９１ａと参照光３９１ｂとにより形成された干渉
縞を検出し、ディジタル信号に変換して演算装置３２１
に出力する。
【００６４】被検レンズ１は図示しない回転台により基
準軸（ここでは被検レンズ１を含んでなるレンズ系全体
の光軸Ｌ）まわりに回転されるようになっており、被検
レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）まわりの方位角は回転台の
近傍に設けられた方位角センサ３２０により検出される
ようになっている。この方位角センサ３２０も上記演算
装置３２１に繋がっており、演算装置３２１は被検レン
ズ１を基準軸（光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生じ
る干渉縞の変動を方位角センサ３２０により検出される
被検レンズ１の方位角の情報をもとに解析し、被検レン
ズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求める。
準軸（ここでは被検レンズ１を含んでなるレンズ系全体
の光軸Ｌ）まわりに回転されるようになっており、被検
レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）まわりの方位角は回転台の
近傍に設けられた方位角センサ３２０により検出される
ようになっている。この方位角センサ３２０も上記演算
装置３２１に繋がっており、演算装置３２１は被検レン
ズ１を基準軸（光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生じ
る干渉縞の変動を方位角センサ３２０により検出される
被検レンズ１の方位角の情報をもとに解析し、被検レン
ズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求める。
【００６５】ここで、その偏芯を求める具体的手順につ
いては、上述の第１及び第２実施形態に係る偏芯測定装
置の場合と同様であり、前述の式（１），（２）により
被検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対するシフト量
（ｓ）又はチルト量（ｔ）を求めることができる。この
ため本第３実施形態に係る偏芯測定装置においても、上
述の第１実施形態及び第２実施形態に係る偏芯測定装置
と同様の効果が得られる。また、偏芯測定の対象となっ
ている被検レンズ１がレンズ系の最も手前側（ここでは
集光手段３１６等がある側）に位置するものでないとき
には、得られた被検レンズ１についての偏芯情報（シフ
ト量及びチルト量）を、その被検レンズ１の手前側にあ
るレンズ全ての偏芯情報を用いて補正することにより、
偏芯測定の対象となっている被検レンズ１の正確な偏芯
情報を得ることができる。
いては、上述の第１及び第２実施形態に係る偏芯測定装
置の場合と同様であり、前述の式（１），（２）により
被検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対するシフト量
（ｓ）又はチルト量（ｔ）を求めることができる。この
ため本第３実施形態に係る偏芯測定装置においても、上
述の第１実施形態及び第２実施形態に係る偏芯測定装置
と同様の効果が得られる。また、偏芯測定の対象となっ
ている被検レンズ１がレンズ系の最も手前側（ここでは
集光手段３１６等がある側）に位置するものでないとき
には、得られた被検レンズ１についての偏芯情報（シフ
ト量及びチルト量）を、その被検レンズ１の手前側にあ
るレンズ全ての偏芯情報を用いて補正することにより、
偏芯測定の対象となっている被検レンズ１の正確な偏芯
情報を得ることができる。
【００６６】また、本第３実施形態に係る偏芯測定装置
においては、コヒーレント長が短い可干渉光を射出する
光源３１１を用いて被検レンズ１の表面でキャッツアイ
反射した測定光３９１ａが光透過反射手段３１５でキャ
ッツアイ反射した参照光３９１ｂ以外の光と干渉を起こ
さないようにし、干渉縞が測定光３９１ａと参照光３９
１ｂのみとにより形成されるようにしてもよい。但し、
図１０のような光路長補正機構が必要である。
においては、コヒーレント長が短い可干渉光を射出する
光源３１１を用いて被検レンズ１の表面でキャッツアイ
反射した測定光３９１ａが光透過反射手段３１５でキャ
ッツアイ反射した参照光３９１ｂ以外の光と干渉を起こ
さないようにし、干渉縞が測定光３９１ａと参照光３９
１ｂのみとにより形成されるようにしてもよい。但し、
図１０のような光路長補正機構が必要である。
【００６７】また、上記光透過反射手段３１５を参照光
３９１ｂの光軸方向に移動可能な構成として縞走査を行
うようにしてもよい。このような縞走査干渉法によれ
ば、より高精度な偏芯測定結果を得ることができる。
３９１ｂの光軸方向に移動可能な構成として縞走査を行
うようにしてもよい。このような縞走査干渉法によれ
ば、より高精度な偏芯測定結果を得ることができる。
【００６８】図１２は本第３実施形態に係る偏芯測定装
置の第１変形例を示している。上記第３実施形態の基本
構成例に係る偏芯測定装置（図１１参照）では、測定光
３９１ａの光軸方向は、その測定光３９１ａが到達する
被検レンズ表面１ａ上の微小領域における曲率半径方向
と一致していないのが通常であり、被検レンズ表面１ａ
で反射した光が集光手段３１６を透過した後に光軸が横
方向にずれる。このままでは、測定光３９１ａと参照光
３９１ｂとの干渉領域が狭くなる上に、光源１１から生
じた収差がキャンセルされず、収差として残ってしま
う。このような欠点を解消するため、本第１変形例に係
る偏芯測定装置では、上記基本構成例に係る偏芯測定装
置における光透過反射手段３１５を紙面に垂直な軸まわ
りに傾動可能とし、光透過反射手段３１５においてキャ
ッツアイ反射して光透過反射手段３１３に戻ってきた参
照光３９１ｂが、被検レンズ表面１ａにおいてキャッツ
アイ反射して光透過反射手段３１３に戻ってきた測定光
３９１ａとほとんど完全に重なるように光透過反射手段
３１５における参照光３９１ｂの反射角度を調整できる
ようになっている。
置の第１変形例を示している。上記第３実施形態の基本
構成例に係る偏芯測定装置（図１１参照）では、測定光
３９１ａの光軸方向は、その測定光３９１ａが到達する
被検レンズ表面１ａ上の微小領域における曲率半径方向
と一致していないのが通常であり、被検レンズ表面１ａ
で反射した光が集光手段３１６を透過した後に光軸が横
方向にずれる。このままでは、測定光３９１ａと参照光
３９１ｂとの干渉領域が狭くなる上に、光源１１から生
じた収差がキャンセルされず、収差として残ってしま
う。このような欠点を解消するため、本第１変形例に係
る偏芯測定装置では、上記基本構成例に係る偏芯測定装
置における光透過反射手段３１５を紙面に垂直な軸まわ
りに傾動可能とし、光透過反射手段３１５においてキャ
ッツアイ反射して光透過反射手段３１３に戻ってきた参
照光３９１ｂが、被検レンズ表面１ａにおいてキャッツ
アイ反射して光透過反射手段３１３に戻ってきた測定光
３９１ａとほとんど完全に重なるように光透過反射手段
３１５における参照光３９１ｂの反射角度を調整できる
ようになっている。
【００６９】図１３は上記本第３実施形態の基本構成例
に係る偏芯測定装置（図１１参照）を用いて被検レンズ
１の裏面１ｂにおける反射偏芯を測定する場合の例を示
したものであり、この場合は測定光３９１ａが集光され
て形成する微小領域（集光点）が被検レンズ１の裏面１
ｂ上に位置するようにする。
に係る偏芯測定装置（図１１参照）を用いて被検レンズ
１の裏面１ｂにおける反射偏芯を測定する場合の例を示
したものであり、この場合は測定光３９１ａが集光され
て形成する微小領域（集光点）が被検レンズ１の裏面１
ｂ上に位置するようにする。
【００７０】図１４は本第３実施形態に係る偏芯測定装
置の第２変形例を示している。この第２変形例に係る偏
芯測定装置では、上記第１変形例に係る偏芯測定装置
（図１２参照）において、ビーム拡大器３１２（図１１
参照）と光透過反射手段３１３との間に入射光の一部を
透過し、残りの一部を入射光とは直角の方向に反射する
２つの光透過反射手段（例えばミラー）３２７，３２８
を設けるとともに、これら光透過反射手段３２７，３２
８の左方には左右方向に移動可能なコーナーキューブ
（或いはコーナーミラー）３２９を設けている。このよ
うな構成では、光源３１１から射出された光３９１のう
ち測定光３９１ａは光透過反射手段３２７，３２８を下
方に透過して光透過反射手段３１３に至り、参照光３９
１ｂは光透過反射手段３２７において左方に反射し、コ
ーナーキューブ３２９において折り返すように右方に反
射した後（ここで、コーナーキューブ３２９における反
射光は入射光と平行になる）、光透過反射手段３２８に
おいて下方に反射して光透過反射手段３１３に至る。
置の第２変形例を示している。この第２変形例に係る偏
芯測定装置では、上記第１変形例に係る偏芯測定装置
（図１２参照）において、ビーム拡大器３１２（図１１
参照）と光透過反射手段３１３との間に入射光の一部を
透過し、残りの一部を入射光とは直角の方向に反射する
２つの光透過反射手段（例えばミラー）３２７，３２８
を設けるとともに、これら光透過反射手段３２７，３２
８の左方には左右方向に移動可能なコーナーキューブ
（或いはコーナーミラー）３２９を設けている。このよ
うな構成では、光源３１１から射出された光３９１のう
ち測定光３９１ａは光透過反射手段３２７，３２８を下
方に透過して光透過反射手段３１３に至り、参照光３９
１ｂは光透過反射手段３２７において左方に反射し、コ
ーナーキューブ３２９において折り返すように右方に反
射した後（ここで、コーナーキューブ３２９における反
射光は入射光と平行になる）、光透過反射手段３２８に
おいて下方に反射して光透過反射手段３１３に至る。
【００７１】このように本第２変形例に係る偏芯測定装
置では、参照光３９１ｂの光路長をコーナーキューブ３
２９の左右方向移動により調節することが可能である。
このため本変形例に係る偏芯測定装置では、光源３１１
からの光のコヒーレント長が短い場合であっても、参照
光３９１ｂの光路長を容易に測定光３９１ａの光路長に
一致させることができる。
置では、参照光３９１ｂの光路長をコーナーキューブ３
２９の左右方向移動により調節することが可能である。
このため本変形例に係る偏芯測定装置では、光源３１１
からの光のコヒーレント長が短い場合であっても、参照
光３９１ｂの光路長を容易に測定光３９１ａの光路長に
一致させることができる。
【００７２】図１４において、上記構成の光路長補正機
構を調整し、測定光３９１ａと参照光３９１ｂの光路長
の差を変化させる。両光路長の差がコヒーレント長より
大きい場合は、測定光３９１ａと参照光３９１ｂとは干
渉せず、干渉縞の強度は一定である。両光路長の差が小
さくなるにつれて干渉縞のコントラストが向上してい
き、光路長差がほぼ０になると、干渉縞のコントラスト
が最大になる。再び両光路長の差が生じると干渉縞のコ
ントラストが低下していき、コヒーレント長より大きく
なると、干渉の明暗は一様になる。このような過程にお
ける光路長補正機構の調整量を記録し、光路長差を検出
する。以上のように、被検レンズ１の０度、１８０度の
２つの位置よりも多い位置において、干渉縞のコントラ
ストの最大になる光路長補正機構の調整量の変化を検出
し、被検レンズ１の偏芯量を算出することで被検面以外
の面での反射光の影響を抑えることができるので、偏芯
量が大きい被検レンズ１に対しても充分な精度で偏芯測
定を行うことができる。
構を調整し、測定光３９１ａと参照光３９１ｂの光路長
の差を変化させる。両光路長の差がコヒーレント長より
大きい場合は、測定光３９１ａと参照光３９１ｂとは干
渉せず、干渉縞の強度は一定である。両光路長の差が小
さくなるにつれて干渉縞のコントラストが向上してい
き、光路長差がほぼ０になると、干渉縞のコントラスト
が最大になる。再び両光路長の差が生じると干渉縞のコ
ントラストが低下していき、コヒーレント長より大きく
なると、干渉の明暗は一様になる。このような過程にお
ける光路長補正機構の調整量を記録し、光路長差を検出
する。以上のように、被検レンズ１の０度、１８０度の
２つの位置よりも多い位置において、干渉縞のコントラ
ストの最大になる光路長補正機構の調整量の変化を検出
し、被検レンズ１の偏芯量を算出することで被検面以外
の面での反射光の影響を抑えることができるので、偏芯
量が大きい被検レンズ１に対しても充分な精度で偏芯測
定を行うことができる。
【００７３】また、ここでは図示しないが、本第３実施
形態の基本構成例及び第１、第２変形例に係る偏芯測定
装置（図１１〜図１４参照）においては、前述した第１
実施形態の第１変形例に係る偏芯測定装置（図３参照）
のように、光透過反射手段３１３として偏向ビームスプ
リッタ（ＰＢＳ）を用いるとともに、この光透過反射手
段（偏光ビームスプリッタ）３１３と集光手段３１４と
の間に１／４波長板を設ける。この場合、光透過反射手
段（偏光ビームスプリッタ）３１３の半透膜３１３ａを
下方に透過する光はＰ偏光であり、被検レンズ表面１ａ
又は光透過反射手段３１５において反射し、光透過反射
手段（偏光ビームスプリッタ）３１３に再び戻ってくる
までの間に１／４波長板を２回透過するのでＳ偏光とな
り、これら光の殆どが光透過反射手段（偏光ビームスプ
リッタ）３１３の半透膜３１３ａにおいて右方に反射す
るようになる。このような構成では被検レンズ表面１ａ
又は光透過反射手段３１５において反射して戻ってきた
光（測定光３９１ａ及び参照光３９１ｂ）の大部分をイ
メージセンサ３１９に集光させることができる。
形態の基本構成例及び第１、第２変形例に係る偏芯測定
装置（図１１〜図１４参照）においては、前述した第１
実施形態の第１変形例に係る偏芯測定装置（図３参照）
のように、光透過反射手段３１３として偏向ビームスプ
リッタ（ＰＢＳ）を用いるとともに、この光透過反射手
段（偏光ビームスプリッタ）３１３と集光手段３１４と
の間に１／４波長板を設ける。この場合、光透過反射手
段（偏光ビームスプリッタ）３１３の半透膜３１３ａを
下方に透過する光はＰ偏光であり、被検レンズ表面１ａ
又は光透過反射手段３１５において反射し、光透過反射
手段（偏光ビームスプリッタ）３１３に再び戻ってくる
までの間に１／４波長板を２回透過するのでＳ偏光とな
り、これら光の殆どが光透過反射手段（偏光ビームスプ
リッタ）３１３の半透膜３１３ａにおいて右方に反射す
るようになる。このような構成では被検レンズ表面１ａ
又は光透過反射手段３１５において反射して戻ってきた
光（測定光３９１ａ及び参照光３９１ｂ）の大部分をイ
メージセンサ３１９に集光させることができる。
【００７４】更に、本第３実施形態の基本構成例及び第
１、第２変形例に係る偏芯測定装置（図１１〜図１４参
照）においては、前述した第１実施形態の第２変形例に
係る偏芯測定装置（図４参照）のように、光源３１１か
ら集光手段３１６に至るまでの光学系全体を紙面に垂直
な軸まわりに揺動可能とし、測定光３９１ａの光軸方向
をその測定光３９１ａが至る被検レンズ表面１ａにおけ
る曲率半径方向に一致させることができるようにしても
よい。このような構成では、被検レンズ表面１ａで反射
した測定光３９１ａは参照光３９１ｂとほとんど完全に
重なるようになる。
１、第２変形例に係る偏芯測定装置（図１１〜図１４参
照）においては、前述した第１実施形態の第２変形例に
係る偏芯測定装置（図４参照）のように、光源３１１か
ら集光手段３１６に至るまでの光学系全体を紙面に垂直
な軸まわりに揺動可能とし、測定光３９１ａの光軸方向
をその測定光３９１ａが至る被検レンズ表面１ａにおけ
る曲率半径方向に一致させることができるようにしても
よい。このような構成では、被検レンズ表面１ａで反射
した測定光３９１ａは参照光３９１ｂとほとんど完全に
重なるようになる。
【００７５】図１５は本発明に係る偏芯測定装置の第４
実施形態（第１の本発明に係る偏芯測定装置及び偏芯測
定方法に対応）の基本構成例を示すものであり、上記第
１〜第３実施形態に係る偏芯測定装置と同様、被検レン
ズ１の基準軸に対する偏芯を反射偏芯測定により測定す
るものである。なお、ここでも被検レンズ１は複数のレ
ンズからなるレンズ系のうちの一つであるものとし、被
検レンズ１の基準軸とはこのレンズ系全体の光軸Ｌをい
うものとする。本第４実施形態に係る偏芯測定装置で
は、上述の第１又は第３実施形態に係る偏芯測定装置と
同様、測定光と参照光とが同じ光軸上を進むように光源
からの光を分割する構成を有する。
実施形態（第１の本発明に係る偏芯測定装置及び偏芯測
定方法に対応）の基本構成例を示すものであり、上記第
１〜第３実施形態に係る偏芯測定装置と同様、被検レン
ズ１の基準軸に対する偏芯を反射偏芯測定により測定す
るものである。なお、ここでも被検レンズ１は複数のレ
ンズからなるレンズ系のうちの一つであるものとし、被
検レンズ１の基準軸とはこのレンズ系全体の光軸Ｌをい
うものとする。本第４実施形態に係る偏芯測定装置で
は、上述の第１又は第３実施形態に係る偏芯測定装置と
同様、測定光と参照光とが同じ光軸上を進むように光源
からの光を分割する構成を有する。
【００７６】本第４実施形態に係る偏芯測定装置では、
光源（例えばレーザー光源）４１１より射出された可干
渉光４９１がレンズ４１２ａ，４１２ｂ及びピンホール
４１２ｃからなるビーム拡大器４１２により或る程度広
がりのある平行光にされた後、光透過反射手段（例えば
ハーフミラー）４１３の半透膜４１３ａを下方に透過
し、集光手段（例えば集光レンズ。ゾーンプレートなど
でもよい）４１４により集光される。この集光手段４１
４においては、フィゾー面４１４ａの曲率中心と後方焦
点とは一致するようになっている。集光手段４１４によ
り集光された可干渉光４９１はフィゾー面４１４ａを下
方に透過する測定光４９１ａと、フィゾー面４１４ａに
おいて上方に反射（キャッツアイ反射）する参照光４９
１ｂとに分割される。
光源（例えばレーザー光源）４１１より射出された可干
渉光４９１がレンズ４１２ａ，４１２ｂ及びピンホール
４１２ｃからなるビーム拡大器４１２により或る程度広
がりのある平行光にされた後、光透過反射手段（例えば
ハーフミラー）４１３の半透膜４１３ａを下方に透過
し、集光手段（例えば集光レンズ。ゾーンプレートなど
でもよい）４１４により集光される。この集光手段４１
４においては、フィゾー面４１４ａの曲率中心と後方焦
点とは一致するようになっている。集光手段４１４によ
り集光された可干渉光４９１はフィゾー面４１４ａを下
方に透過する測定光４９１ａと、フィゾー面４１４ａに
おいて上方に反射（キャッツアイ反射）する参照光４９
１ｂとに分割される。
【００７７】集光手段４１４のフィゾー面４１４ａを下
方に透過した測定光４９１ａは、被検レンズ表面１ａ上
の微小領域に集光される。ここで、測定光４９１ａの集
光点が被検レンズ表面１ａ上の微小領域に位置するよう
にする調節は、集光手段４１４を上下方向に移動させる
ことにより行う。なお、この測定光４９１ａの光軸は、
被検レンズ１を含んでなるレンズ系全体の光軸Ｌと一致
しないようにする必要がある。
方に透過した測定光４９１ａは、被検レンズ表面１ａ上
の微小領域に集光される。ここで、測定光４９１ａの集
光点が被検レンズ表面１ａ上の微小領域に位置するよう
にする調節は、集光手段４１４を上下方向に移動させる
ことにより行う。なお、この測定光４９１ａの光軸は、
被検レンズ１を含んでなるレンズ系全体の光軸Ｌと一致
しないようにする必要がある。
【００７８】このように被検レンズ表面１ａ上の微小領
域に集光された測定光４９１ａは被検レンズ表面１ａに
おいてキャッツアイ反射して集光手段４１４を上方に透
過し、光透過反射手段４１３に至る。一方、集光手段４
１４のフィゾー面４１４ａにおいて上方に反射した参照
光４９１ｂは光透過反射手段４１３に戻る。
域に集光された測定光４９１ａは被検レンズ表面１ａに
おいてキャッツアイ反射して集光手段４１４を上方に透
過し、光透過反射手段４１３に至る。一方、集光手段４
１４のフィゾー面４１４ａにおいて上方に反射した参照
光４９１ｂは光透過反射手段４１３に戻る。
【００７９】このように被検レンズ表面１ａにおいてキ
ャッツアイ反射して光透過反射手段４１３に戻った測定
光４９１ａと、被検レンズ１には至らずにフィゾー面４
１４ａにおいて反射して光透過反射手段４１３に戻った
参照光４９１ｂとは再び重ね合わされて干渉し、光透過
反射手段４１３の半透膜４１３ａにおいて右方に反射し
た後、集光手段（例えば集光レンズ。ゾーンプレートな
どでもよい）４１８に集光されてイメージセンサ（光量
センサでもよい）４１９の受光面上に至り、干渉縞を形
成する。イメージセンサ４１９はこの測定光４９１ａと
参照光４９１ｂとにより形成された干渉縞を検出し、デ
ィジタル信号に変換して演算装置４２１に出力する。
ャッツアイ反射して光透過反射手段４１３に戻った測定
光４９１ａと、被検レンズ１には至らずにフィゾー面４
１４ａにおいて反射して光透過反射手段４１３に戻った
参照光４９１ｂとは再び重ね合わされて干渉し、光透過
反射手段４１３の半透膜４１３ａにおいて右方に反射し
た後、集光手段（例えば集光レンズ。ゾーンプレートな
どでもよい）４１８に集光されてイメージセンサ（光量
センサでもよい）４１９の受光面上に至り、干渉縞を形
成する。イメージセンサ４１９はこの測定光４９１ａと
参照光４９１ｂとにより形成された干渉縞を検出し、デ
ィジタル信号に変換して演算装置４２１に出力する。
【００８０】被検レンズ１は図示しない回転台により基
準軸（ここでは、被検レンズ１を含んでなるレンズ系全
体の光軸Ｌ）まわりに回転されるようになっており、被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）まわりの方位角は回転台
の近傍に設けられた方位角センサ４２０により検出され
るようになっている。この方位角センサ４２０も上記演
算装置４２１に繋がっており、演算装置４２１は被検レ
ンズ１を基準軸（光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生
じる干渉縞の変動を方位角センサ４２０により検出され
る被検レンズ１の方位角の情報をもとに解析し、被検レ
ンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求める。
準軸（ここでは、被検レンズ１を含んでなるレンズ系全
体の光軸Ｌ）まわりに回転されるようになっており、被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）まわりの方位角は回転台
の近傍に設けられた方位角センサ４２０により検出され
るようになっている。この方位角センサ４２０も上記演
算装置４２１に繋がっており、演算装置４２１は被検レ
ンズ１を基準軸（光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生
じる干渉縞の変動を方位角センサ４２０により検出され
る被検レンズ１の方位角の情報をもとに解析し、被検レ
ンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求める。
【００８１】ここで、その偏芯を求める具体的手順につ
いては、上述の第１〜第３実施形態に係る偏芯測定装置
の場合と同様であり、前述の式（１），（２）により被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対するシフト量（ｓ）
又はチルト量（ｔ）を求めることができる。このため本
第４実施形態に係る偏芯測定装置においても、上述の第
１実施形態、第２実施形態及び第３実施形態に係る偏芯
測定装置と同様の効果が得られる。また、偏芯測定の対
象となっている被検レンズ１がレンズ系の最も手前側
（ここでは集光手段４１４がある側）に位置するもので
ないときには、得られた被検レンズ１についての偏芯情
報（シフト量及びチルト量）を、その被検レンズ１の手
前側にあるレンズ全ての偏芯情報を用いて補正すること
により、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１の正
確な偏芯情報を得ることができる。
いては、上述の第１〜第３実施形態に係る偏芯測定装置
の場合と同様であり、前述の式（１），（２）により被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対するシフト量（ｓ）
又はチルト量（ｔ）を求めることができる。このため本
第４実施形態に係る偏芯測定装置においても、上述の第
１実施形態、第２実施形態及び第３実施形態に係る偏芯
測定装置と同様の効果が得られる。また、偏芯測定の対
象となっている被検レンズ１がレンズ系の最も手前側
（ここでは集光手段４１４がある側）に位置するもので
ないときには、得られた被検レンズ１についての偏芯情
報（シフト量及びチルト量）を、その被検レンズ１の手
前側にあるレンズ全ての偏芯情報を用いて補正すること
により、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１の正
確な偏芯情報を得ることができる。
【００８２】また、本第４実施形態に係る偏芯測定装置
においては、コヒーレント長が短い可干渉光を射出する
光源４１１を用いて被検レンズ１の表面でキャッツアイ
反射した測定光４９１ａがフィゾー面４１４ａで反射し
た参照光４９１ｂ以外の光と干渉を起こさないように
し、干渉縞が測定光４９１ａと参照光４９１ｂのみとに
より形成されるようにしてもよいのは上述の第１〜第３
実施形態に係る偏芯測定装置の場合と同様である。但
し、図１４のような光路長調整機構が必要である。
においては、コヒーレント長が短い可干渉光を射出する
光源４１１を用いて被検レンズ１の表面でキャッツアイ
反射した測定光４９１ａがフィゾー面４１４ａで反射し
た参照光４９１ｂ以外の光と干渉を起こさないように
し、干渉縞が測定光４９１ａと参照光４９１ｂのみとに
より形成されるようにしてもよいのは上述の第１〜第３
実施形態に係る偏芯測定装置の場合と同様である。但
し、図１４のような光路長調整機構が必要である。
【００８３】また、上記集光手段４１４を参照光４９１
ｂの光軸方向に移動可能な構成として縞走査を行うよう
にしてもよい。このような縞走査干渉法によれば、より
高精度な測定結果を得ることができる。
ｂの光軸方向に移動可能な構成として縞走査を行うよう
にしてもよい。このような縞走査干渉法によれば、より
高精度な測定結果を得ることができる。
【００８４】図１６は本第４実施形態に係る偏芯測定装
置の変形例を示している。本変形例に係る偏芯測定装置
においては、フィゾー面４１６ａを上面に有する光透過
反射手段（例えばフィゾーフラット）４１６が集光手段
４１４の上方、すなわち光透過反射手段４１３と集光手
段４１４との間に設置される。このような構成では、光
透過反射手段４１３の半透膜４１３ａを下方に透過した
可干渉光４９１は光透過反射手段４１６を下方に透過す
る測定光４９１ａと、光透過反射手段４１６のフィゾー
面４１６ａにおいて上方に反射する参照光４９１ｂとに
分割される。このような構成の偏芯測定装置において
も、上記基本構成例に係る偏芯測定装置と同様の効果が
得られる。
置の変形例を示している。本変形例に係る偏芯測定装置
においては、フィゾー面４１６ａを上面に有する光透過
反射手段（例えばフィゾーフラット）４１６が集光手段
４１４の上方、すなわち光透過反射手段４１３と集光手
段４１４との間に設置される。このような構成では、光
透過反射手段４１３の半透膜４１３ａを下方に透過した
可干渉光４９１は光透過反射手段４１６を下方に透過す
る測定光４９１ａと、光透過反射手段４１６のフィゾー
面４１６ａにおいて上方に反射する参照光４９１ｂとに
分割される。このような構成の偏芯測定装置において
も、上記基本構成例に係る偏芯測定装置と同様の効果が
得られる。
【００８５】また、ここでは図示しないが、本第４実施
形態の基本構成例及び変形例に係る偏芯測定装置（図１
５及び図１６参照）においては、前述した第１実施形態
の第３変形例に係る偏芯測定装置（図３参照）のよう
に、光透過反射手段４１３として偏向ビームスプリッタ
（ＰＢＳ）を用いるとともに、この光透過反射手段（偏
光ビームスプリッタ）４１３と集光手段４１４との間に
１／４波長板を設けるようにする。この場合、光透過反
射手段（偏光ビームスプリッタ）４１３の半透膜４１３
ａを下方に透過する光はＰ偏光であり、被検レンズ表面
１ａ又はフィゾー面４１４ａ（或いは４１６ａ）におい
て反射し、光透過反射手段（偏光ビームスプリッタ）４
１３に再び戻ってくるまでの間に１／４波長板を２回透
過するのでＳ偏光となり、これら光の殆どが光透過反射
手段（偏光ビームスプリッタ）４１３の半透膜４１３ａ
において右方に反射するようになる。このような構成で
は被検レンズ表面１ａ又はフィゾー面４１４ａ（或いは
４１６ａ）において反射して戻ってきた光（測定光４９
１ａ及び参照光４９１ｂ）の大部分をイメージセンサ４
１９に集光させることができる。
形態の基本構成例及び変形例に係る偏芯測定装置（図１
５及び図１６参照）においては、前述した第１実施形態
の第３変形例に係る偏芯測定装置（図３参照）のよう
に、光透過反射手段４１３として偏向ビームスプリッタ
（ＰＢＳ）を用いるとともに、この光透過反射手段（偏
光ビームスプリッタ）４１３と集光手段４１４との間に
１／４波長板を設けるようにする。この場合、光透過反
射手段（偏光ビームスプリッタ）４１３の半透膜４１３
ａを下方に透過する光はＰ偏光であり、被検レンズ表面
１ａ又はフィゾー面４１４ａ（或いは４１６ａ）におい
て反射し、光透過反射手段（偏光ビームスプリッタ）４
１３に再び戻ってくるまでの間に１／４波長板を２回透
過するのでＳ偏光となり、これら光の殆どが光透過反射
手段（偏光ビームスプリッタ）４１３の半透膜４１３ａ
において右方に反射するようになる。このような構成で
は被検レンズ表面１ａ又はフィゾー面４１４ａ（或いは
４１６ａ）において反射して戻ってきた光（測定光４９
１ａ及び参照光４９１ｂ）の大部分をイメージセンサ４
１９に集光させることができる。
【００８６】更に、本第４実施形態の基本構成例及び変
形例に係る偏芯測定装置（図１５及び図１６参照）にお
いては、前述した第１実施形態の第２変形例に係る偏芯
測定装置（図４参照）のように、光源４１１から集光手
段４１４に至るまでの光学系の全体を紙面に垂直な軸ま
わりに揺動可能とし、測定光４９１ａの光軸方向をその
測定光４９１ａが至る被検レンズ表面１ａにおける曲率
半径方向に一致させることができるようにしてもよい。
形例に係る偏芯測定装置（図１５及び図１６参照）にお
いては、前述した第１実施形態の第２変形例に係る偏芯
測定装置（図４参照）のように、光源４１１から集光手
段４１４に至るまでの光学系の全体を紙面に垂直な軸ま
わりに揺動可能とし、測定光４９１ａの光軸方向をその
測定光４９１ａが至る被検レンズ表面１ａにおける曲率
半径方向に一致させることができるようにしてもよい。
【００８７】図１７は本発明に係る偏芯測定装置の第５
実施形態（第２の本発明に係る偏芯測定装置及び偏芯測
定方法に対応）の基本構成例を示すものであり、上記第
１〜第４実施形態に係る偏芯測定装置とは異なり、被検
レンズ１の基準軸に対する偏芯を透過偏芯測定により測
定するものである。なお、ここでも被検レンズ１は複数
のレンズからなるレンズ系のうちの一つであるものと
し、被検レンズ１の基準軸とは、このレンズ系全体の光
軸Ｌをいうものとする。
実施形態（第２の本発明に係る偏芯測定装置及び偏芯測
定方法に対応）の基本構成例を示すものであり、上記第
１〜第４実施形態に係る偏芯測定装置とは異なり、被検
レンズ１の基準軸に対する偏芯を透過偏芯測定により測
定するものである。なお、ここでも被検レンズ１は複数
のレンズからなるレンズ系のうちの一つであるものと
し、被検レンズ１の基準軸とは、このレンズ系全体の光
軸Ｌをいうものとする。
【００８８】本第５実施形態に係る偏芯測定装置では、
光源（例えばレーザー光源）５１１より射出された可干
渉光５９１がレンズ５１２ａ，５１２ｂ及びピンホール
５１２ｃからなるビーム拡大器５１２により或る程度広
がりのある平行光にされた後、光透過反射手段（例えば
ハーフミラー）５１３の半透膜５１３ａを下方に透過
し、集光手段（例えば集光レンズゾーンプレートなどで
もよい。）５１４により集光される。集光手段５１４の
下方には上下に並んで２つの光透過反射手段５１５，５
１６が設けられており、集光手段５１４により集光され
た光５９１は上側の光透過反射手段５１５を下方に透過
した後、下側の光透過反射手段５１６を下方に透過する
測定光５９１ａと、この光透過手段５１６において上方
に反射する参照光５９１ｂとに分割される。
光源（例えばレーザー光源）５１１より射出された可干
渉光５９１がレンズ５１２ａ，５１２ｂ及びピンホール
５１２ｃからなるビーム拡大器５１２により或る程度広
がりのある平行光にされた後、光透過反射手段（例えば
ハーフミラー）５１３の半透膜５１３ａを下方に透過
し、集光手段（例えば集光レンズゾーンプレートなどで
もよい。）５１４により集光される。集光手段５１４の
下方には上下に並んで２つの光透過反射手段５１５，５
１６が設けられており、集光手段５１４により集光され
た光５９１は上側の光透過反射手段５１５を下方に透過
した後、下側の光透過反射手段５１６を下方に透過する
測定光５９１ａと、この光透過手段５１６において上方
に反射する参照光５９１ｂとに分割される。
【００８９】光透過反射手段５１６を下方に透過した測
定光５９１ａは更に被検レンズ１を下方に透過し、被検
レンズ１の裏面側（下方）に設置された反射手段５１７
の上面である反射面５１７ａ上の微小領域に集光され
る。ここで、測定光５９１ａの集光点が反射面５１７ａ
上の微小領域に位置するようにする調節は、集光手段５
１４と光透過反射手段５１５，５１６のいずれか一方を
図の上下方向に移動させることにより行う。なお、この
測定光５９１ａの光軸は、被検レンズ１を含んでなるレ
ンズ系全体の光軸Ｌと一致しないようにする必要があ
る。また、反射手段５１７はその反射面５１７ａが測定
光５９１ａの光軸と直交するように設けられる。
定光５９１ａは更に被検レンズ１を下方に透過し、被検
レンズ１の裏面側（下方）に設置された反射手段５１７
の上面である反射面５１７ａ上の微小領域に集光され
る。ここで、測定光５９１ａの集光点が反射面５１７ａ
上の微小領域に位置するようにする調節は、集光手段５
１４と光透過反射手段５１５，５１６のいずれか一方を
図の上下方向に移動させることにより行う。なお、この
測定光５９１ａの光軸は、被検レンズ１を含んでなるレ
ンズ系全体の光軸Ｌと一致しないようにする必要があ
る。また、反射手段５１７はその反射面５１７ａが測定
光５９１ａの光軸と直交するように設けられる。
【００９０】このように反射面５１７ａ上の微小領域に
集光された測定光５９１ａはその反射面５１７ａにおい
てキャッツアイ反射して被検レンズ１、光透過反射手段
５１６，５１５を上方に透過した後、更に集光手段５１
４を上方に透過して光透過反射手段５１３に至る。一
方、光透過反射手段５１６において上方に反射した参照
光５９１ｂは光透過反射手段５１５においてキャッツア
イ反射して光透過反射手段５１６において上方に反射
し、光透過反射手段５１５及び集光手段５１４を上方に
透過した後、光透過反射手段５１３に至る。
集光された測定光５９１ａはその反射面５１７ａにおい
てキャッツアイ反射して被検レンズ１、光透過反射手段
５１６，５１５を上方に透過した後、更に集光手段５１
４を上方に透過して光透過反射手段５１３に至る。一
方、光透過反射手段５１６において上方に反射した参照
光５９１ｂは光透過反射手段５１５においてキャッツア
イ反射して光透過反射手段５１６において上方に反射
し、光透過反射手段５１５及び集光手段５１４を上方に
透過した後、光透過反射手段５１３に至る。
【００９１】このように被検レンズ１をその表面側から
下方に透過した後、被検レンズ１の裏面側（下方）に設
置された反射手段５１７（反射面５１７ａ）においてキ
ャッツアイ反射して光透過反射手段５１３に戻った測定
光５９１ａと、被検レンズ１には至らずに光透過反射手
段５１５においてキャッツアイ反射して光透過反射手段
５１３に戻った参照光５９１ｂとは再び重ね合わされて
干渉し、光透過反射手段５１３の半透膜５１３ａにおい
て右方に反射した後、集光手段（例えば集光レンズ。ゾ
ーンプレートなどでもよい）５１８により集光されてイ
メージセンサ（光量センサでもよい）５１９の受光面上
に至り、干渉縞を形成する。イメージセンサ５１９はこ
の測定光５９１ａと参照光５９１ｂとにより形成された
干渉縞を検出し、ディジタル信号に変換して演算装置５
２１に出力する。
下方に透過した後、被検レンズ１の裏面側（下方）に設
置された反射手段５１７（反射面５１７ａ）においてキ
ャッツアイ反射して光透過反射手段５１３に戻った測定
光５９１ａと、被検レンズ１には至らずに光透過反射手
段５１５においてキャッツアイ反射して光透過反射手段
５１３に戻った参照光５９１ｂとは再び重ね合わされて
干渉し、光透過反射手段５１３の半透膜５１３ａにおい
て右方に反射した後、集光手段（例えば集光レンズ。ゾ
ーンプレートなどでもよい）５１８により集光されてイ
メージセンサ（光量センサでもよい）５１９の受光面上
に至り、干渉縞を形成する。イメージセンサ５１９はこ
の測定光５９１ａと参照光５９１ｂとにより形成された
干渉縞を検出し、ディジタル信号に変換して演算装置５
２１に出力する。
【００９２】被検レンズ１は図示しない回転台により基
準軸（ここでは、被検レンズ１を含んでなるレンズ系全
体の光軸Ｌ）まわりに回転されるようになっており、被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）まわりの方位角は回転台
の近傍に設けられた方位角センサ５２０により検出され
るようになっている。この方位角センサ５２０も上記演
算装置５２１に繋がっており、演算装置５２１は被検レ
ンズ１を基準軸（光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生
じる干渉縞の変動を方位角センサ５２０により検出され
る被検レンズ１の方位角の情報をもとに解析し、被検レ
ンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求める。
準軸（ここでは、被検レンズ１を含んでなるレンズ系全
体の光軸Ｌ）まわりに回転されるようになっており、被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）まわりの方位角は回転台
の近傍に設けられた方位角センサ５２０により検出され
るようになっている。この方位角センサ５２０も上記演
算装置５２１に繋がっており、演算装置５２１は被検レ
ンズ１を基準軸（光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生
じる干渉縞の変動を方位角センサ５２０により検出され
る被検レンズ１の方位角の情報をもとに解析し、被検レ
ンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求める。
【００９３】ここで、被検レンズ１の回転に応じて干渉
縞に明暗の変化が生じない場合には被検レンズ表面１ａ
の曲率中心Ｏ（図２参照）は基準軸（光軸Ｌ）上に位置
していることとなり、被検レンズ１は基準軸（光軸Ｌ）
に対して偏芯していないことが分かる。一方、被検レン
ズ１の回転に応じて干渉縞に明暗の変化が生じた場合に
は被検レンズ表面１ａの曲率中心Ｏは基準軸（光軸Ｌ）
上に位置していないこととなり、被検レンズ１は基準軸
（光軸Ｌ）に対して偏芯していることが分かる。被検レ
ンズ１が偏芯している場合、被検レンズ１が基準軸（光
軸Ｌ）まわりに１回転する間に集光手段５１４と反射手
段５１７（反射面５１７ａ）との間の距離は変化しない
が、被検レンズ１を透過する間の測定光５９１ａの光路
長が変化することになるので、測定光５９１ａと参照光
５９１ｂとが干渉して形成される干渉縞はイメージセン
サ５１９上で変動することになる（イメージセンサ５１
９の替わりに光量センサが用いられているのであれば明
るさが変動することになる）。
縞に明暗の変化が生じない場合には被検レンズ表面１ａ
の曲率中心Ｏ（図２参照）は基準軸（光軸Ｌ）上に位置
していることとなり、被検レンズ１は基準軸（光軸Ｌ）
に対して偏芯していないことが分かる。一方、被検レン
ズ１の回転に応じて干渉縞に明暗の変化が生じた場合に
は被検レンズ表面１ａの曲率中心Ｏは基準軸（光軸Ｌ）
上に位置していないこととなり、被検レンズ１は基準軸
（光軸Ｌ）に対して偏芯していることが分かる。被検レ
ンズ１が偏芯している場合、被検レンズ１が基準軸（光
軸Ｌ）まわりに１回転する間に集光手段５１４と反射手
段５１７（反射面５１７ａ）との間の距離は変化しない
が、被検レンズ１を透過する間の測定光５９１ａの光路
長が変化することになるので、測定光５９１ａと参照光
５９１ｂとが干渉して形成される干渉縞はイメージセン
サ５１９上で変動することになる（イメージセンサ５１
９の替わりに光量センサが用いられているのであれば明
るさが変動することになる）。
【００９４】ここで、被検レンズ１を１８０度回転させ
る前後における干渉縞の位相変化をΨ、被検レンズ表面
１ａに当たる測定光５９１ａの位置と基準軸（レンズ系
全体の光軸Ｌ）との間の距離をｄ（図２参照）、光源５
１１の波長をλとすると、被検レンズ１の基準軸（光軸
Ｌ）に対する透過偏芯量εは近似的に下式（３）のよう
に表すことができる。
る前後における干渉縞の位相変化をΨ、被検レンズ表面
１ａに当たる測定光５９１ａの位置と基準軸（レンズ系
全体の光軸Ｌ）との間の距離をｄ（図２参照）、光源５
１１の波長をλとすると、被検レンズ１の基準軸（光軸
Ｌ）に対する透過偏芯量εは近似的に下式（３）のよう
に表すことができる。
【００９５】
【数３】
ε＝（λ／４π）（１／ｄ）Ψ ……（３）
【００９６】被検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する
偏芯は上記式（３）を用いて求めることができるが、偏
芯測定の対象となっている被検レンズ１がレンズ系の最
も手前側（ここでは集光手段５１４、光透過反射手段５
１５，５１６等がある側）に位置するものでないときに
は、得られた被検レンズ１についての偏芯情報（透過偏
芯量）を、その被検レンズ１の手前側にあるレンズの偏
芯情報を用いて補正することにより、偏芯測定の対象と
なっている被検レンズ１の正確な偏芯情報を得ることが
できる。
偏芯は上記式（３）を用いて求めることができるが、偏
芯測定の対象となっている被検レンズ１がレンズ系の最
も手前側（ここでは集光手段５１４、光透過反射手段５
１５，５１６等がある側）に位置するものでないときに
は、得られた被検レンズ１についての偏芯情報（透過偏
芯量）を、その被検レンズ１の手前側にあるレンズの偏
芯情報を用いて補正することにより、偏芯測定の対象と
なっている被検レンズ１の正確な偏芯情報を得ることが
できる。
【００９７】このように本実施形態に係る偏芯測定装置
（第２の本発明に係る偏芯測定装置及び偏芯測定方法）
では、光源５１１より射出された可干渉光５９１を測定
光５９１ａと参照光５９１ｂとに分割し、測定光５９１
ａを被検レンズ１の表面側から入射させて被検レンズ１
の裏面側に設置した第１の反射手段（ここでは反射手段
５１７）においてキャッツアイ反射させる一方で、参照
光５９１ｂを被検レンズ１に至らせることなく第２の反
射手段（ここでは光透過反射手段５１５）においてキャ
ッツアイ反射させ、第１の反射手段においてキャッツア
イ反射して被検レンズ１の表面側に戻ってきた測定光５
９１ａと第２の反射手段においてキャッツアイ反射した
参照光５９１ｂとを重ね合わせて干渉縞を形成させ、被
検レンズ１を基準軸（ここではレンズ系全体の光軸Ｌ）
まわりに回転させたときに生ずる上記干渉縞の変動に基
づいて被検レンズ１の基準軸に対する偏芯を求めるよう
になっている。
（第２の本発明に係る偏芯測定装置及び偏芯測定方法）
では、光源５１１より射出された可干渉光５９１を測定
光５９１ａと参照光５９１ｂとに分割し、測定光５９１
ａを被検レンズ１の表面側から入射させて被検レンズ１
の裏面側に設置した第１の反射手段（ここでは反射手段
５１７）においてキャッツアイ反射させる一方で、参照
光５９１ｂを被検レンズ１に至らせることなく第２の反
射手段（ここでは光透過反射手段５１５）においてキャ
ッツアイ反射させ、第１の反射手段においてキャッツア
イ反射して被検レンズ１の表面側に戻ってきた測定光５
９１ａと第２の反射手段においてキャッツアイ反射した
参照光５９１ｂとを重ね合わせて干渉縞を形成させ、被
検レンズ１を基準軸（ここではレンズ系全体の光軸Ｌ）
まわりに回転させたときに生ずる上記干渉縞の変動に基
づいて被検レンズ１の基準軸に対する偏芯を求めるよう
になっている。
【００９８】このため、従来のように干渉縞を形成する
２光が被検レンズ表面の曲率中心を通る（曲率中心にお
いて交叉する）ようにする必要がなく、光源５１１より
射出された可干渉光５９１を被検レンズ１に極めて近い
位置で分割して干渉縞を形成させる２光（測定光５９１
ａと参照光５９１ｂ）を得ることができる。したがっ
て、干渉縞を形成するこれら２光（測定光５９１ａと参
照光５９１ｂ）の共通光路を多く（非共通光路を少な
く）することができ、大気の揺らぎ（擾乱）や振動等に
よる外乱の影響を小さくして高精度な偏芯測定を行うこ
とが可能となる。また、測定光５９１ａはその集光点を
第１の反射手段（ここでは反射手段５１７）上に位置さ
せる（キャッツアイ反射させる）だけでよく、その光軸
方向が被検レンズ表面１ａの曲率中心を通るようにする
必要がないので、従来被検レンズ１の曲率半径が異なる
ごとに行っていた光の方向調整は不要になり、測定が簡
易になる。
２光が被検レンズ表面の曲率中心を通る（曲率中心にお
いて交叉する）ようにする必要がなく、光源５１１より
射出された可干渉光５９１を被検レンズ１に極めて近い
位置で分割して干渉縞を形成させる２光（測定光５９１
ａと参照光５９１ｂ）を得ることができる。したがっ
て、干渉縞を形成するこれら２光（測定光５９１ａと参
照光５９１ｂ）の共通光路を多く（非共通光路を少な
く）することができ、大気の揺らぎ（擾乱）や振動等に
よる外乱の影響を小さくして高精度な偏芯測定を行うこ
とが可能となる。また、測定光５９１ａはその集光点を
第１の反射手段（ここでは反射手段５１７）上に位置さ
せる（キャッツアイ反射させる）だけでよく、その光軸
方向が被検レンズ表面１ａの曲率中心を通るようにする
必要がないので、従来被検レンズ１の曲率半径が異なる
ごとに行っていた光の方向調整は不要になり、測定が簡
易になる。
【００９９】また、可干渉光５９１のコヒーレント長を
調整し（具体的にはコヒーレント長が短い可干渉光を射
出する光源５１１を用い）、干渉縞が被検レンズ１の裏
面側に設置された反射手段５１７においてキャッツアイ
反射した測定光５９１ａと反射手段（光透過反射手段５
１５）においてキャッツアイ反射した参照光５９１ｂの
みにより形成されるように（換言すると、測定光が参照
光以外の光と干渉を起こすことがないように）してもよ
いのは、上述の第１から第４実施形態に係る偏芯測定装
置の場合と同様である。
調整し（具体的にはコヒーレント長が短い可干渉光を射
出する光源５１１を用い）、干渉縞が被検レンズ１の裏
面側に設置された反射手段５１７においてキャッツアイ
反射した測定光５９１ａと反射手段（光透過反射手段５
１５）においてキャッツアイ反射した参照光５９１ｂの
みにより形成されるように（換言すると、測定光が参照
光以外の光と干渉を起こすことがないように）してもよ
いのは、上述の第１から第４実施形態に係る偏芯測定装
置の場合と同様である。
【０１００】また、上記２つの光透過反射手段５１５，
５１６のうち、上側の光透過反射手段５１５を参照光５
９１ｂの光軸方向に移動可能な構成として縞走査を行う
ようにしてもよい。このような縞走査干渉法によれば、
より高精度な偏芯測定結果を得ることができる。なお、
ここでは２つの光透過反射手段５１５，５１６のうち、
上側の光透過反射手段５１５を参照光５９１ｂの光軸方
向に移動させる場合を例に説明したが、参照光５９１ｂ
の光軸方向に移動させるのは下側の光透過反射手段５１
６であってもよく、或いはこれら光透過反射手段５１
５，５１６の両方であってもよい。
５１６のうち、上側の光透過反射手段５１５を参照光５
９１ｂの光軸方向に移動可能な構成として縞走査を行う
ようにしてもよい。このような縞走査干渉法によれば、
より高精度な偏芯測定結果を得ることができる。なお、
ここでは２つの光透過反射手段５１５，５１６のうち、
上側の光透過反射手段５１５を参照光５９１ｂの光軸方
向に移動させる場合を例に説明したが、参照光５９１ｂ
の光軸方向に移動させるのは下側の光透過反射手段５１
６であってもよく、或いはこれら光透過反射手段５１
５，５１６の両方であってもよい。
【０１０１】また、本第５実施形態の基本構成例に係る
偏芯測定装置においては、光透過反射手段５１５又は反
射手段５１７が紙面に垂直な軸まわりに傾動可能な構成
となっていてもよい。
偏芯測定装置においては、光透過反射手段５１５又は反
射手段５１７が紙面に垂直な軸まわりに傾動可能な構成
となっていてもよい。
【０１０２】図１８は本第５実施形態に係る偏芯測定装
置の第１変形例を示している。本変形例に係る偏芯測定
装置では、上記第５実施形態の基本構成例に係る偏芯測
定装置（図１７参照）と同様、光源５１１からの光を、
測定光と参照光とが同じ光軸上を進むように分割する構
成を有する。
置の第１変形例を示している。本変形例に係る偏芯測定
装置では、上記第５実施形態の基本構成例に係る偏芯測
定装置（図１７参照）と同様、光源５１１からの光を、
測定光と参照光とが同じ光軸上を進むように分割する構
成を有する。
【０１０３】この第１変形例に係る偏芯測定装置では、
光源５１１（図１７参照）より射出された光５９２が光
透過反射手段５１３の半透膜５１３ａを下方に透過し、
フィゾーレンズ５１４のフィゾー面５１４ａを下方に透
過する測定光５９２ａと、フィゾー面５１４ａにおいて
上方に反射する参照光５９２ｂとに分割される。
光源５１１（図１７参照）より射出された光５９２が光
透過反射手段５１３の半透膜５１３ａを下方に透過し、
フィゾーレンズ５１４のフィゾー面５１４ａを下方に透
過する測定光５９２ａと、フィゾー面５１４ａにおいて
上方に反射する参照光５９２ｂとに分割される。
【０１０４】フィゾーレンズ５１４のフィゾー面５１４
ａを下方に透過した測定光５９２ａは更に被検レンズ１
を下方に透過し、被検レンズ１の裏面側（下方）に設置
された反射手段５１７の上面である反射面５１７ａ上の
微小領域に集光される。ここで、測定光５９２ａの集光
点が反射面５１７ａ上の微小領域に位置するようにする
調節は、反射手段５１７或いはフィゾーレンズ５１４を
図の上下方向に移動させることにより行う。なお、この
測定光５９２ａの光軸は、被検レンズ１を含んでなるレ
ンズ系全体の光軸Ｌと一致しないようにする必要があ
る。また、反射手段５１７はその反射面５１７ａが被検
レンズ１を透過後の測定光５９２ａの光軸と直交するよ
うに設けられるのがよい。
ａを下方に透過した測定光５９２ａは更に被検レンズ１
を下方に透過し、被検レンズ１の裏面側（下方）に設置
された反射手段５１７の上面である反射面５１７ａ上の
微小領域に集光される。ここで、測定光５９２ａの集光
点が反射面５１７ａ上の微小領域に位置するようにする
調節は、反射手段５１７或いはフィゾーレンズ５１４を
図の上下方向に移動させることにより行う。なお、この
測定光５９２ａの光軸は、被検レンズ１を含んでなるレ
ンズ系全体の光軸Ｌと一致しないようにする必要があ
る。また、反射手段５１７はその反射面５１７ａが被検
レンズ１を透過後の測定光５９２ａの光軸と直交するよ
うに設けられるのがよい。
【０１０５】このように反射面５１７ａ上の微小領域に
集光された測定光５９２ａはその反射面５１７ａにおい
てキャッツアイ反射して被検レンズ１、フィゾーレンズ
５１４を上方に透過し、光透過反射手段５１３に至る。
一方、フィゾーレンズ５１４のフィゾー面５１４ａにお
いて上方に反射した参照光５９２ｂは光透過反射手段５
１３に戻る。
集光された測定光５９２ａはその反射面５１７ａにおい
てキャッツアイ反射して被検レンズ１、フィゾーレンズ
５１４を上方に透過し、光透過反射手段５１３に至る。
一方、フィゾーレンズ５１４のフィゾー面５１４ａにお
いて上方に反射した参照光５９２ｂは光透過反射手段５
１３に戻る。
【０１０６】このように被検レンズ１をその表面側から
下方に透過した後、被検レンズ１の裏面側（下方）に設
置された反射手段５１７（反射面５１７ａ）においてキ
ャッツアイ反射して光透過反射手段５１３に戻った測定
光５９２ａと、被検レンズ１には至らずにフィゾーレン
ズ５１４のフィゾー面５１４ａにおいて反射して光透過
反射手段５１３に戻った参照光５９２ｂとは再び重ね合
わされて干渉し、光透過反射手段５１３の半透膜５１３
ａにおいて右方に反射された後、集光手段５１８により
集光されてイメージセンサ５１９の受光面上に至る。
下方に透過した後、被検レンズ１の裏面側（下方）に設
置された反射手段５１７（反射面５１７ａ）においてキ
ャッツアイ反射して光透過反射手段５１３に戻った測定
光５９２ａと、被検レンズ１には至らずにフィゾーレン
ズ５１４のフィゾー面５１４ａにおいて反射して光透過
反射手段５１３に戻った参照光５９２ｂとは再び重ね合
わされて干渉し、光透過反射手段５１３の半透膜５１３
ａにおいて右方に反射された後、集光手段５１８により
集光されてイメージセンサ５１９の受光面上に至る。
【０１０７】被検レンズ１の偏芯を求める具体的手順に
ついては、上述の本第５実施形態の基本構成例に係る偏
芯測定装置の場合と同様であり、前述の式（３）により
被検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する透過偏芯量ε
を求めることができる。このため本第１変形例に係る偏
芯測定装置においても、上述の第５実施形態の基本構成
例に係る偏芯測定装置と同様の効果が得られる。また、
偏芯測定の対象となっている被検レンズ１がレンズ系の
最も手前側（ここでは集光手段５１４、フィゾーレンズ
５２４等がある側）に位置するものでないときには、得
られた被検レンズ１についての偏芯情報（透過偏芯量）
を、その被検レンズ１の手前側にあるレンズ全ての偏芯
情報を用いて補正することにより、偏芯測定の対象とな
っている被検レンズ１の正確な偏芯情報を得ることがで
きる。
ついては、上述の本第５実施形態の基本構成例に係る偏
芯測定装置の場合と同様であり、前述の式（３）により
被検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する透過偏芯量ε
を求めることができる。このため本第１変形例に係る偏
芯測定装置においても、上述の第５実施形態の基本構成
例に係る偏芯測定装置と同様の効果が得られる。また、
偏芯測定の対象となっている被検レンズ１がレンズ系の
最も手前側（ここでは集光手段５１４、フィゾーレンズ
５２４等がある側）に位置するものでないときには、得
られた被検レンズ１についての偏芯情報（透過偏芯量）
を、その被検レンズ１の手前側にあるレンズ全ての偏芯
情報を用いて補正することにより、偏芯測定の対象とな
っている被検レンズ１の正確な偏芯情報を得ることがで
きる。
【０１０８】また、本第１変形例に係る偏芯測定装置に
おいても、コヒーレント長が短い可干渉光を射出する光
源５１１を用いることにより、干渉縞が被検レンズ１の
裏面側に設置された反射手段５１７においてキャッツア
イ反射した測定光５９２ａとフィゾーレンズ５１４のフ
ィゾー面５１４ａにおいて反射した参照光５９２ｂのみ
により形成されるように（測定光５９２ａが参照光５９
２ｂ以外の光と干渉を起こすことがないように）しても
よい。但し、図１４のような光路長補正機構が必要であ
る。
おいても、コヒーレント長が短い可干渉光を射出する光
源５１１を用いることにより、干渉縞が被検レンズ１の
裏面側に設置された反射手段５１７においてキャッツア
イ反射した測定光５９２ａとフィゾーレンズ５１４のフ
ィゾー面５１４ａにおいて反射した参照光５９２ｂのみ
により形成されるように（測定光５９２ａが参照光５９
２ｂ以外の光と干渉を起こすことがないように）しても
よい。但し、図１４のような光路長補正機構が必要であ
る。
【０１０９】また、上記フィゾーレンズ５１４或いは反
射手段５１７を光軸方向に移動可能な構成として縞走査
を行うようにしてもよい。このような縞走査干渉法によ
れば、より高精度な偏芯測定結果を得ることができる。
射手段５１７を光軸方向に移動可能な構成として縞走査
を行うようにしてもよい。このような縞走査干渉法によ
れば、より高精度な偏芯測定結果を得ることができる。
【０１１０】また、本第５実施形態の第１変形例に係る
偏芯測定装置においては、フィゾーレンズ５１４を紙面
に垂直な軸まわりに傾動可能として光軸が被検レンズ１
の前方焦点を通るようにしてもよい。
偏芯測定装置においては、フィゾーレンズ５１４を紙面
に垂直な軸まわりに傾動可能として光軸が被検レンズ１
の前方焦点を通るようにしてもよい。
【０１１１】図１９は本第５実施形態に係る偏芯測定装
置の第２変形例を示している。上記第５実施形態の基本
構成例に係る偏芯測定装置（図１７参照）及びその第１
変形例に係る偏芯測定装置（図１８参照）では、測定光
と参照光とが同じ光軸上を進むように光源より射出され
た可干渉光を分割する構成であったが、本第２変形例に
係る偏芯測定装置では、測定光と参照光とが異なる光軸
上（直交する光軸上）を進むように光源からの光を分割
する構成を有する。
置の第２変形例を示している。上記第５実施形態の基本
構成例に係る偏芯測定装置（図１７参照）及びその第１
変形例に係る偏芯測定装置（図１８参照）では、測定光
と参照光とが同じ光軸上を進むように光源より射出され
た可干渉光を分割する構成であったが、本第２変形例に
係る偏芯測定装置では、測定光と参照光とが異なる光軸
上（直交する光軸上）を進むように光源からの光を分割
する構成を有する。
【０１１２】この第２変形例に係る偏芯測定装置では、
光源５１１（図１７参照）から射出されて光透過反射手
段５１３に入射した光５９３がその半透膜５１３ａを下
方に透過する測定光５９３ａと、半透膜５１３ａにおい
て左方に反射する参照光５９３ｂとに分割される。光透
過反射手段５１３の半透膜５１３ａを下方に透過した測
定光５９３ａは光透過反射手段５１３の下方に設置され
た集光手段５３４（例えば集光レンズ。ゾーンプレート
などでもよい）により集光され、被検レンズ１を下方に
透過した後、被検レンズ１の裏面側に設置された反射手
段５１７の上面である反射面５１７ａ上の微小領域に集
光される。ここで、測定光５９３ａが反射面５１７ａ上
の微小領域に位置するようにする調節は、集光手段５３
４又は反射手段５１７を光軸方向に移動させることによ
り行う。なお、この測定光５９３ａの光軸は、被検レン
ズ１を含んでなるレンズ系全体の光軸Ｌと一致しないよ
うにする必要がある。また、反射手段５１７はその反射
面５１７ａが測定光５９３ａの光軸と直交するように設
けられる。
光源５１１（図１７参照）から射出されて光透過反射手
段５１３に入射した光５９３がその半透膜５１３ａを下
方に透過する測定光５９３ａと、半透膜５１３ａにおい
て左方に反射する参照光５９３ｂとに分割される。光透
過反射手段５１３の半透膜５１３ａを下方に透過した測
定光５９３ａは光透過反射手段５１３の下方に設置され
た集光手段５３４（例えば集光レンズ。ゾーンプレート
などでもよい）により集光され、被検レンズ１を下方に
透過した後、被検レンズ１の裏面側に設置された反射手
段５１７の上面である反射面５１７ａ上の微小領域に集
光される。ここで、測定光５９３ａが反射面５１７ａ上
の微小領域に位置するようにする調節は、集光手段５３
４又は反射手段５１７を光軸方向に移動させることによ
り行う。なお、この測定光５９３ａの光軸は、被検レン
ズ１を含んでなるレンズ系全体の光軸Ｌと一致しないよ
うにする必要がある。また、反射手段５１７はその反射
面５１７ａが測定光５９３ａの光軸と直交するように設
けられる。
【０１１３】このように反射面５１７ａ上の微小領域に
集光された測定光５９３ａはその反射面５１７ａにおい
てキャッツアイ反射し、被検レンズ１及び集光手段５３
４を上方に透過して光透過反射手段５１３に至る。一
方、光透過反射手段５１３の半透膜５１３ａにおいて左
方に反射した参照光５９３ｂは、光透過反射手段５１３
の左方に設置された集光手段（例えば集光レンズ。ゾー
ンプレートなどでもよい）５３５により集光された後、
この集光手段５３５の左方に設置された反射手段（例え
ばミラー）５３６においてキャッツアイ反射し、反射の
前後で同じ（或いは平行な）光路を戻って集光手段５３
５を右方に透過し、光透過反射手段５１３に至る。ここ
で、集光手段５３５及び反射手段５３６に代えて、コー
ナーキューブ、平面位相共役反射手段等を設置してもよ
い。
集光された測定光５９３ａはその反射面５１７ａにおい
てキャッツアイ反射し、被検レンズ１及び集光手段５３
４を上方に透過して光透過反射手段５１３に至る。一
方、光透過反射手段５１３の半透膜５１３ａにおいて左
方に反射した参照光５９３ｂは、光透過反射手段５１３
の左方に設置された集光手段（例えば集光レンズ。ゾー
ンプレートなどでもよい）５３５により集光された後、
この集光手段５３５の左方に設置された反射手段（例え
ばミラー）５３６においてキャッツアイ反射し、反射の
前後で同じ（或いは平行な）光路を戻って集光手段５３
５を右方に透過し、光透過反射手段５１３に至る。ここ
で、集光手段５３５及び反射手段５３６に代えて、コー
ナーキューブ、平面位相共役反射手段等を設置してもよ
い。
【０１１４】光透過反射手段５１３に下方から入射した
測定光５９３ａはその半透膜５１３ａにおいて右方に反
射し、光透過反射手段５１３に左方から入射した参照光
５９３ｂはその半透膜５１３ａを右方に透過するので、
これら測定光５９３ａと参照光５９３ｂは再び重ね合わ
されて干渉し、集光手段５１８により集光されてイメー
ジセンサ５１９の受光面上に干渉縞を形成する。
測定光５９３ａはその半透膜５１３ａにおいて右方に反
射し、光透過反射手段５１３に左方から入射した参照光
５９３ｂはその半透膜５１３ａを右方に透過するので、
これら測定光５９３ａと参照光５９３ｂは再び重ね合わ
されて干渉し、集光手段５１８により集光されてイメー
ジセンサ５１９の受光面上に干渉縞を形成する。
【０１１５】被検レンズ１の偏芯を求める具体的手順に
ついては、上述の本第５実施形態の基本構成例に係る偏
芯測定装置の場合と同様であり、前述の式（３）により
被検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する透過偏芯量ε
を求めることができる。このため本第２変形例に係る偏
芯測定装置においても、上述の第５実施形態の基本構成
例に係る偏芯測定装置と同様の効果が得られる。また、
偏芯測定の対象となっている被検レンズ１がレンズ系の
最も手前側（ここでは集光手段５３４等がある側）に位
置するものでないときには、得られた被検レンズ１につ
いての偏芯情報（透過偏芯量）を、その被検レンズ１の
手前側にあるレンズ全ての偏芯情報を用いて補正するこ
とにより、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１の
正確な偏芯情報を得ることができる。
ついては、上述の本第５実施形態の基本構成例に係る偏
芯測定装置の場合と同様であり、前述の式（３）により
被検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する透過偏芯量ε
を求めることができる。このため本第２変形例に係る偏
芯測定装置においても、上述の第５実施形態の基本構成
例に係る偏芯測定装置と同様の効果が得られる。また、
偏芯測定の対象となっている被検レンズ１がレンズ系の
最も手前側（ここでは集光手段５３４等がある側）に位
置するものでないときには、得られた被検レンズ１につ
いての偏芯情報（透過偏芯量）を、その被検レンズ１の
手前側にあるレンズ全ての偏芯情報を用いて補正するこ
とにより、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１の
正確な偏芯情報を得ることができる。
【０１１６】また、本第２変形例に係る偏芯測定装置に
おいても、コヒーレント長が短い可干渉光を射出する光
源５１１を用いることができる。この場合、干渉縞が被
検レンズ１の裏面側に設置された反射手段５１７におい
てキャッツアイ反射した測定光５９３ａと反射手段５３
６においてキャッツアイ反射した参照光５９３ｂのみに
より形成されるように（測定光５９３ａが参照光５９３
ｂ以外の光と干渉を起こすことがないように）してもよ
い。
おいても、コヒーレント長が短い可干渉光を射出する光
源５１１を用いることができる。この場合、干渉縞が被
検レンズ１の裏面側に設置された反射手段５１７におい
てキャッツアイ反射した測定光５９３ａと反射手段５３
６においてキャッツアイ反射した参照光５９３ｂのみに
より形成されるように（測定光５９３ａが参照光５９３
ｂ以外の光と干渉を起こすことがないように）してもよ
い。
【０１１７】また、上記反射手段５３６を参照光５９３
ｂの光軸方向に移動可能な構成として縞走査を行うよう
にしてもよい。このような縞走査干渉法によれば、より
高精度な偏芯測定結果を得ることができる。
ｂの光軸方向に移動可能な構成として縞走査を行うよう
にしてもよい。このような縞走査干渉法によれば、より
高精度な偏芯測定結果を得ることができる。
【０１１８】なお、本第５実施形態の第２変形例に係る
偏芯測定装置においては、反射手段５１７が紙面に垂直
な軸まわりに傾動可能と構成となっていてもよい。
偏芯測定装置においては、反射手段５１７が紙面に垂直
な軸まわりに傾動可能と構成となっていてもよい。
【０１１９】図２０は本第５実施形態に係る偏芯測定装
置の第３変形例を示している。本第３変形例に係る偏芯
測定装置では、上記第５実施形態の基本構成例に係る偏
芯測定装置（図１７参照）、及びその第１変形例に係る
偏芯測定装置（図１８参照）と同様、光源５１１からの
光を、測定光と参照光とが同じ光軸上を進むように分割
する構成を有する。
置の第３変形例を示している。本第３変形例に係る偏芯
測定装置では、上記第５実施形態の基本構成例に係る偏
芯測定装置（図１７参照）、及びその第１変形例に係る
偏芯測定装置（図１８参照）と同様、光源５１１からの
光を、測定光と参照光とが同じ光軸上を進むように分割
する構成を有する。
【０１２０】この第３変形例に係る偏芯測定装置では、
光源５１１（図１７参照）より射出された可干渉光５９
４が光透過反射手段５１３の半透膜５１３ａを下方に透
過し、集光手段（例えば集光レンズ。ゾーンプレートな
どでもよい）５４４により集光される。この集光手段５
４４の下方焦点位置には光透過反射手段（例えばハーフ
ミラー）５４５が設けられており、集光手段５４４によ
り集光された光５９４はこの光透過反射手段５４５を下
方に透過する測定光５９４ａと、この光透過反射手段５
４５において上方にキャッツアイ反射する参照光５９４
ｂとに分割される。
光源５１１（図１７参照）より射出された可干渉光５９
４が光透過反射手段５１３の半透膜５１３ａを下方に透
過し、集光手段（例えば集光レンズ。ゾーンプレートな
どでもよい）５４４により集光される。この集光手段５
４４の下方焦点位置には光透過反射手段（例えばハーフ
ミラー）５４５が設けられており、集光手段５４４によ
り集光された光５９４はこの光透過反射手段５４５を下
方に透過する測定光５９４ａと、この光透過反射手段５
４５において上方にキャッツアイ反射する参照光５９４
ｂとに分割される。
【０１２１】光透過反射手段５４５を下方に透過した測
定光５９４ａは、この光透過反射手段５４５の下方に設
けられた集光手段（例えば集光レンズ。ゾーンプレート
などでもよい）５４６により、被検レンズ１を下方に透
過した後、被検レンズ１の裏面側に設置された反射手段
５１７の上面である反射面５１７ａ上の微小領域に集光
される。ここで、測定光５９４ａの集光点が反射手段５
１７（反射面５１７ａ）上の微小領域に位置するように
する調節は、光源５１１から集光手段５４６に至る光学
系の全体を図の上下方向に移動させることにより行う。
なお、この測定光５９４ａの光軸は、被検レンズ１を含
んでなるレンズ系全体の光軸Ｌと一致しないようにする
必要がある。また、反射手段５１７はその反射面５１７
ａが測定光５９４ａの光軸と直交するように設けてもよ
い。
定光５９４ａは、この光透過反射手段５４５の下方に設
けられた集光手段（例えば集光レンズ。ゾーンプレート
などでもよい）５４６により、被検レンズ１を下方に透
過した後、被検レンズ１の裏面側に設置された反射手段
５１７の上面である反射面５１７ａ上の微小領域に集光
される。ここで、測定光５９４ａの集光点が反射手段５
１７（反射面５１７ａ）上の微小領域に位置するように
する調節は、光源５１１から集光手段５４６に至る光学
系の全体を図の上下方向に移動させることにより行う。
なお、この測定光５９４ａの光軸は、被検レンズ１を含
んでなるレンズ系全体の光軸Ｌと一致しないようにする
必要がある。また、反射手段５１７はその反射面５１７
ａが測定光５９４ａの光軸と直交するように設けてもよ
い。
【０１２２】このように反射面５１７ａ上の微小領域に
集光された測定光５９４ａはその反射面５１７ａにおい
てキャッツアイ反射して被検レンズ１、集光手段５４
６、光透過反射手段５４５及び集光手段５４４を上方に
透過し、光透過反射手段５１３に至る。一方、光透過反
射手段５４５において上方にキャッツアイ反射した参照
光５９４ｂは集光手段５４４を上方に透過して光透過反
射手段５１３に戻る。
集光された測定光５９４ａはその反射面５１７ａにおい
てキャッツアイ反射して被検レンズ１、集光手段５４
６、光透過反射手段５４５及び集光手段５４４を上方に
透過し、光透過反射手段５１３に至る。一方、光透過反
射手段５４５において上方にキャッツアイ反射した参照
光５９４ｂは集光手段５４４を上方に透過して光透過反
射手段５１３に戻る。
【０１２３】このように被検レンズ１をその表面側から
下方に透過した後、被検レンズ１の裏面側（下方）に設
置された反射手段５１７の反射面５１７ａにおいてキャ
ッツアイ反射して光透過反射手段５１３に戻った測定光
５９４ａと、被検レンズ１には至らずに光透過反射手段
５４５においてキャッツアイ反射して光透過反射手段５
１３に戻った参照光５９４ｂとは重ね合わされて干渉
し、光透過反射手段５１３の半透膜５１３ａにおいて右
方に反射した後、集光手段５１８により集光されてイメ
ージセンサ５１９の受光面上に干渉縞を形成する。
下方に透過した後、被検レンズ１の裏面側（下方）に設
置された反射手段５１７の反射面５１７ａにおいてキャ
ッツアイ反射して光透過反射手段５１３に戻った測定光
５９４ａと、被検レンズ１には至らずに光透過反射手段
５４５においてキャッツアイ反射して光透過反射手段５
１３に戻った参照光５９４ｂとは重ね合わされて干渉
し、光透過反射手段５１３の半透膜５１３ａにおいて右
方に反射した後、集光手段５１８により集光されてイメ
ージセンサ５１９の受光面上に干渉縞を形成する。
【０１２４】被検レンズ１の偏芯を求める具体的手順に
ついては、上述の本第５実施形態の基本構成例に係る偏
芯測定装置の場合と同様であり、前述の式（３）により
被検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する透過偏芯量ε
を求めることができる。このため本第３変形例に係る偏
芯測定装置においても、上述の第５実施形態の基本構成
例に係る偏芯測定装置と同様の効果が得られる。また、
偏芯測定の対象となっている被検レンズ１がレンズ系の
最も手前側（ここでは集光手段５４６等がある側）に位
置するものでないときには、得られた被検レンズ１につ
いての偏芯情報（透過偏芯量）を、その被検レンズ１の
手前側にあるレンズ全ての偏芯情報を用いて補正するこ
とにより、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１の
正確な偏芯情報を得ることができる。
ついては、上述の本第５実施形態の基本構成例に係る偏
芯測定装置の場合と同様であり、前述の式（３）により
被検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する透過偏芯量ε
を求めることができる。このため本第３変形例に係る偏
芯測定装置においても、上述の第５実施形態の基本構成
例に係る偏芯測定装置と同様の効果が得られる。また、
偏芯測定の対象となっている被検レンズ１がレンズ系の
最も手前側（ここでは集光手段５４６等がある側）に位
置するものでないときには、得られた被検レンズ１につ
いての偏芯情報（透過偏芯量）を、その被検レンズ１の
手前側にあるレンズ全ての偏芯情報を用いて補正するこ
とにより、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１の
正確な偏芯情報を得ることができる。
【０１２５】また、本第３変形例に係る偏芯測定装置に
おいても、コヒーレント長が短い可干渉光を射出する光
源５１１を用いることにより、干渉縞が被検レンズ１の
裏面側に設置された反射手段５１７においてキャッツア
イ反射した測定光５９４ａと光透過反射手段５４５にお
いてキャッツアイ反射した参照光５９４ｂのみにより形
成されるように（測定光５９４ａが参照光５９４ｂ以外
の光と干渉を起こすことがないように）してもよい。但
し、図１４のような光路長補正機構が必要である。
おいても、コヒーレント長が短い可干渉光を射出する光
源５１１を用いることにより、干渉縞が被検レンズ１の
裏面側に設置された反射手段５１７においてキャッツア
イ反射した測定光５９４ａと光透過反射手段５４５にお
いてキャッツアイ反射した参照光５９４ｂのみにより形
成されるように（測定光５９４ａが参照光５９４ｂ以外
の光と干渉を起こすことがないように）してもよい。但
し、図１４のような光路長補正機構が必要である。
【０１２６】また、上記光透過反射手段５４５又は反射
手段５１７を光軸方向に移動可能な構成として縞走査を
行うようにしてもよい。このような縞走査干渉法によれ
ば、より高精度な偏芯測定結果を得ることができる。
手段５１７を光軸方向に移動可能な構成として縞走査を
行うようにしてもよい。このような縞走査干渉法によれ
ば、より高精度な偏芯測定結果を得ることができる。
【０１２７】なお、本第５実施形態の第３変形例に係る
偏芯測定装置においては、光透過反射手段５４５が紙面
に垂直な軸まわりに傾動可能となっていてもよい。
偏芯測定装置においては、光透過反射手段５４５が紙面
に垂直な軸まわりに傾動可能となっていてもよい。
【０１２８】また、ここでは図示しないが、本第５実施
形態の基本構成例及び第１〜第３変形例に係る偏芯測定
装置（図１７〜図２０参照）においては、前述した第１
実施形態の第３変形例に係る偏芯測定装置（図３参照）
のように、光透過反射手段５１３として偏向ビームスプ
リッタ（ＰＢＳ）を用いるとともに、この光透過反射手
段（偏光ビームスプリッタ）５１３と集光手段５１４
（或いは５３４，５４４）との間に１／４波長板を設け
る。これらの場合、測定光５９１ａ（或いは５９２ａ，
５９３ａ，５９４ａ）及び参照光５９１ｂ（或いは５９
２ｂ，５９３ｂ，５９４ｂ）の大部分をイメージセンサ
５１９に集光させることができる。
形態の基本構成例及び第１〜第３変形例に係る偏芯測定
装置（図１７〜図２０参照）においては、前述した第１
実施形態の第３変形例に係る偏芯測定装置（図３参照）
のように、光透過反射手段５１３として偏向ビームスプ
リッタ（ＰＢＳ）を用いるとともに、この光透過反射手
段（偏光ビームスプリッタ）５１３と集光手段５１４
（或いは５３４，５４４）との間に１／４波長板を設け
る。これらの場合、測定光５９１ａ（或いは５９２ａ，
５９３ａ，５９４ａ）及び参照光５９１ｂ（或いは５９
２ｂ，５９３ｂ，５９４ｂ）の大部分をイメージセンサ
５１９に集光させることができる。
【０１２９】なお、本第５実施形態の基本構成例及び第
１〜第３変形例に係る偏芯測定装置（図１７〜図２０参
照）においては、前述した第１実施形態の第２変形例に
係る偏芯測定装置（図４参照）のように、光源５１１か
ら光透過反射手段５１６（或いはフィゾーレンズ５２
４、集光手段５３４、集光手段５４６）に至るまでの光
学系全体を紙面に垂直な軸まわりに揺動可能にして光軸
が被検レンズ１の前方焦点を通るようにし、測定光５９
１ａ（或いは５９２ａ，５９３ａ，５９４ａ）の光軸方
向をその測定光５９１ａ（或いは５９２ａ，５９３ａ，
５９４ａ）が至る被検レンズ表面１ａにおける曲率半径
方向に一致させるようにしてもよい。
１〜第３変形例に係る偏芯測定装置（図１７〜図２０参
照）においては、前述した第１実施形態の第２変形例に
係る偏芯測定装置（図４参照）のように、光源５１１か
ら光透過反射手段５１６（或いはフィゾーレンズ５２
４、集光手段５３４、集光手段５４６）に至るまでの光
学系全体を紙面に垂直な軸まわりに揺動可能にして光軸
が被検レンズ１の前方焦点を通るようにし、測定光５９
１ａ（或いは５９２ａ，５９３ａ，５９４ａ）の光軸方
向をその測定光５９１ａ（或いは５９２ａ，５９３ａ，
５９４ａ）が至る被検レンズ表面１ａにおける曲率半径
方向に一致させるようにしてもよい。
【０１３０】図２１は本発明に係る偏芯測定装置の第６
実施形態（第１の本発明に係る偏芯測定装置及び偏芯測
定方法に対応）の基本構成例を示すものであり、上記第
１〜第４実施形態に係る偏芯測定装置と同様、被検レン
ズ１の基準軸に対する偏芯を反射偏芯測定により測定す
るものである。なお、ここでも被検レンズ１は複数のレ
ンズからなるレンズ系のうちの一つであるとし、被検レ
ンズ１の基準軸とは、このレンズ系全体の光軸Ｌをいう
ものとする。
実施形態（第１の本発明に係る偏芯測定装置及び偏芯測
定方法に対応）の基本構成例を示すものであり、上記第
１〜第４実施形態に係る偏芯測定装置と同様、被検レン
ズ１の基準軸に対する偏芯を反射偏芯測定により測定す
るものである。なお、ここでも被検レンズ１は複数のレ
ンズからなるレンズ系のうちの一つであるとし、被検レ
ンズ１の基準軸とは、このレンズ系全体の光軸Ｌをいう
ものとする。
【０１３１】本第６実施形態に係る偏芯測定装置におい
ては、図２１に示すように、光源（例えばレーザー光
源）６１１、ビーム拡大器６１２、集光手段（例えば集
光レンズ。ゾーンプレートなどでもよい）６１８及びイ
メージセンサ６１９が１つのケースＣ１内に収められて
ベース部Ｂを構成しており、偏光ビームスプリッタ６１
３、この偏光ビームスプリッタ６１３の下方に設けられ
た１／４波長板６１７、集光手段（例えば集光レンズ。
ゾーンプレートなどでもよい）６１４及びその下方に上
下に平行に並べて設けられた２つの光透過反射手段（例
えばハーフミラー）６１５，６１６がこれとは別のケー
スＣ２内に収められてヘッド部Ｈを構成している。
ては、図２１に示すように、光源（例えばレーザー光
源）６１１、ビーム拡大器６１２、集光手段（例えば集
光レンズ。ゾーンプレートなどでもよい）６１８及びイ
メージセンサ６１９が１つのケースＣ１内に収められて
ベース部Ｂを構成しており、偏光ビームスプリッタ６１
３、この偏光ビームスプリッタ６１３の下方に設けられ
た１／４波長板６１７、集光手段（例えば集光レンズ。
ゾーンプレートなどでもよい）６１４及びその下方に上
下に平行に並べて設けられた２つの光透過反射手段（例
えばハーフミラー）６１５，６１６がこれとは別のケー
スＣ２内に収められてヘッド部Ｈを構成している。
【０１３２】本偏芯測定装置では、光源６１１より射出
された可干渉光６９１がレンズ６１２ａ，６１２ｂ及び
ピンホール６１２ｃからなるビーム拡大器６１２により
或る程度広がりのある平行光にされた後、その光６９１
のＰ偏光成分は偏向ビームスプリッタ６１３の半透膜６
１３ａを下方に透過し、更に１／４波長板６１７を下方
に透過した後、集光手段６１４により集光される。集光
手段６１４の下方には上下に平行に並べられた２つの光
透過反射手段（例えばハーフミラー）６１５，６１６が
設けられており、集光手段６１４により集光された光６
９１は上側の光透過反射手段６１５を下方に透過した
後、下側の光透過反射手段６１６を下方に透過する測定
光６９１ａと、この光透過反射手段６１６において上方
に反射しる参照光６９１ｂとに分割される。
された可干渉光６９１がレンズ６１２ａ，６１２ｂ及び
ピンホール６１２ｃからなるビーム拡大器６１２により
或る程度広がりのある平行光にされた後、その光６９１
のＰ偏光成分は偏向ビームスプリッタ６１３の半透膜６
１３ａを下方に透過し、更に１／４波長板６１７を下方
に透過した後、集光手段６１４により集光される。集光
手段６１４の下方には上下に平行に並べられた２つの光
透過反射手段（例えばハーフミラー）６１５，６１６が
設けられており、集光手段６１４により集光された光６
９１は上側の光透過反射手段６１５を下方に透過した
後、下側の光透過反射手段６１６を下方に透過する測定
光６９１ａと、この光透過反射手段６１６において上方
に反射しる参照光６９１ｂとに分割される。
【０１３３】光透過反射手段６１６を下方に透過した測
定光６９１ａは、被検レンズ表面１ａ上の微小領域に集
光される。ここで、測定光６９１ａの集光点が被検レン
ズ表面１ａ上の微小領域に位置するようにする調節は、
ヘッド部Ｈのみを図の上下方向に移動させることにより
行う。なお、この測定光６９１ａの光軸は、被検レンズ
１を含んでなるレンズ系全体の光軸Ｌと一致しないよう
にする必要がある。
定光６９１ａは、被検レンズ表面１ａ上の微小領域に集
光される。ここで、測定光６９１ａの集光点が被検レン
ズ表面１ａ上の微小領域に位置するようにする調節は、
ヘッド部Ｈのみを図の上下方向に移動させることにより
行う。なお、この測定光６９１ａの光軸は、被検レンズ
１を含んでなるレンズ系全体の光軸Ｌと一致しないよう
にする必要がある。
【０１３４】このように被検レンズ表面１ａ上の微小領
域に集光された測定光６９１ａは被検レンズ表面１ａに
おいてキャッツアイ反射して両光透過反射手段６１６，
６１５、集光手段６１４及び１／４波長板６１７を上方
に透過し、Ｓ偏光となって偏光ビームスプリッタ６１３
に至る。一方、光透過反射手段６１６において上方に反
射した参照光６９１ｂは光透過反射手段６１５において
キャッツアイ反射した後、再び光透過反射手段６１６に
おいて上方に反射し、光透過反射手段６１５、集光手段
６１４及び１／４波長板６１７を上方に透過し、Ｓ偏光
となって偏光ビームスプリッタ６１３に戻る。
域に集光された測定光６９１ａは被検レンズ表面１ａに
おいてキャッツアイ反射して両光透過反射手段６１６，
６１５、集光手段６１４及び１／４波長板６１７を上方
に透過し、Ｓ偏光となって偏光ビームスプリッタ６１３
に至る。一方、光透過反射手段６１６において上方に反
射した参照光６９１ｂは光透過反射手段６１５において
キャッツアイ反射した後、再び光透過反射手段６１６に
おいて上方に反射し、光透過反射手段６１５、集光手段
６１４及び１／４波長板６１７を上方に透過し、Ｓ偏光
となって偏光ビームスプリッタ６１３に戻る。
【０１３５】このように被検レンズ表面１ａにおいてキ
ャッツアイ反射して偏光ビームスプリッタ６１３に戻っ
た測定光６９１ａと、被検レンズ１には至らずに光透過
反射手段６１５においてキャッツアイ反射して偏光ビー
ムスプリッタ６１３に戻った参照光６９１ｂとは再び重
ね合わされて干渉し、偏光ビームスプリッタ６１３の半
透膜６１３ａにおいて右方に反射した後、更に偏向ビー
ムスプリッタ６１３の反射面６１３ｂにおいて上方に反
射する。そして、これら両光６９１ａ，６９１ｂはベー
ス部Ｂ内の集光手段６１８により集光されてイメージセ
ンサ６１９の受光面上に干渉縞を形成する。イメージセ
ンサ６１９はこの測定光６９１ａと参照光６９１ｂとに
より形成された干渉縞を検出し、ディジタル信号に変換
して演算装置６２１に出力する。
ャッツアイ反射して偏光ビームスプリッタ６１３に戻っ
た測定光６９１ａと、被検レンズ１には至らずに光透過
反射手段６１５においてキャッツアイ反射して偏光ビー
ムスプリッタ６１３に戻った参照光６９１ｂとは再び重
ね合わされて干渉し、偏光ビームスプリッタ６１３の半
透膜６１３ａにおいて右方に反射した後、更に偏向ビー
ムスプリッタ６１３の反射面６１３ｂにおいて上方に反
射する。そして、これら両光６９１ａ，６９１ｂはベー
ス部Ｂ内の集光手段６１８により集光されてイメージセ
ンサ６１９の受光面上に干渉縞を形成する。イメージセ
ンサ６１９はこの測定光６９１ａと参照光６９１ｂとに
より形成された干渉縞を検出し、ディジタル信号に変換
して演算装置６２１に出力する。
【０１３６】被検レンズ１は図示しない回転台により基
準軸（ここでは、被検レンズ１を含んでなるレンズ系全
体の光軸Ｌ）まわりに回転されるようになっており、被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）まわりの方位角は回転台
の近傍に設けられた方位角センサ６２０により検出され
るようになっている。この方位角センサ６２０も上記演
算装置６２１に繋がっており、演算装置６２１は被検レ
ンズ１を基準軸（光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生
じる干渉縞の変動を方位角センサ６２０により検出され
る被検レンズ１の方位角の情報をもとにして解析し、被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求める。
準軸（ここでは、被検レンズ１を含んでなるレンズ系全
体の光軸Ｌ）まわりに回転されるようになっており、被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）まわりの方位角は回転台
の近傍に設けられた方位角センサ６２０により検出され
るようになっている。この方位角センサ６２０も上記演
算装置６２１に繋がっており、演算装置６２１は被検レ
ンズ１を基準軸（光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生
じる干渉縞の変動を方位角センサ６２０により検出され
る被検レンズ１の方位角の情報をもとにして解析し、被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求める。
【０１３７】ここで、その偏芯を求める具体的手順につ
いては、上述の第１〜第４実施形態に係る偏芯測定装置
の場合と同様であり、前述の式（１），（２）により被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対するシフト量（ｓ）
又はチルト量（ｔ）を求めることができる。このため本
第６実施形態に係る偏芯測定装置においても、上述の第
１〜４実施形態に係る偏芯測定装置と同様の効果が得ら
れる。また、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１
がレンズ系の最も手前側（ここでは集光手段６１４、光
透過反射手段６１５，６１６等がある側）に位置するも
のでないときには、得られた被検レンズ１についての偏
芯情報（シフト量及びチルト量）を、その被検レンズ１
の手前側にあるレンズ全ての偏芯情報を用いて補正する
ことにより、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１
の正確な偏芯情報を得ることができる。
いては、上述の第１〜第４実施形態に係る偏芯測定装置
の場合と同様であり、前述の式（１），（２）により被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対するシフト量（ｓ）
又はチルト量（ｔ）を求めることができる。このため本
第６実施形態に係る偏芯測定装置においても、上述の第
１〜４実施形態に係る偏芯測定装置と同様の効果が得ら
れる。また、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１
がレンズ系の最も手前側（ここでは集光手段６１４、光
透過反射手段６１５，６１６等がある側）に位置するも
のでないときには、得られた被検レンズ１についての偏
芯情報（シフト量及びチルト量）を、その被検レンズ１
の手前側にあるレンズ全ての偏芯情報を用いて補正する
ことにより、偏芯測定の対象となっている被検レンズ１
の正確な偏芯情報を得ることができる。
【０１３８】また、本第２実施形態形態に係る偏芯測定
装置においては、コヒーレント長が短い可干渉光を射出
する光源６１１を用いて被検レンズ１の表面でキャッツ
アイ反射した測定光６９１ａが光透過反射手段６１５で
キャッツアイ反射した参照光６９１ｂ以外の光と干渉を
起こさないようにし、干渉縞が測定光６９１ａと参照光
６９１ｂのみとにより形成されるようにしていもよいの
は上述の第１〜第４実施形態に係る偏芯測定装置の場合
と同様である。
装置においては、コヒーレント長が短い可干渉光を射出
する光源６１１を用いて被検レンズ１の表面でキャッツ
アイ反射した測定光６９１ａが光透過反射手段６１５で
キャッツアイ反射した参照光６９１ｂ以外の光と干渉を
起こさないようにし、干渉縞が測定光６９１ａと参照光
６９１ｂのみとにより形成されるようにしていもよいの
は上述の第１〜第４実施形態に係る偏芯測定装置の場合
と同様である。
【０１３９】また、上記２つの光透過反射手段６１５，
６１６のうち、上側の光透過反射手段６１５を参照光６
９１ｂの光軸方向に移動可能な構成として縞走査を行う
ようにしてもよい。このような縞走査干渉法によれば、
より高精度な偏芯測定結果を得ることができる。なお、
この場合、光透過反射手段６１５を参照光６９１ｂの光
軸方向に移動させる機構（図示せず）はヘッド部Ｈ内に
設けておいてもよい。そして、ヘッド部Ｈを光軸方向に
シフトするようにしてもよい。ここでは２つの光透過反
射手段６１５，６１６のうち、上側の光透過反射手段６
１５を参照光６９１ｂの光軸方向に移動させる場合を例
に説明したが、参照光６９１ｂの光軸方向に移動させる
のは下側の光透過反射手段６１６であってもよく、更に
はこれら光透過反射手段６１５，６１６の両方であって
もよい。
６１６のうち、上側の光透過反射手段６１５を参照光６
９１ｂの光軸方向に移動可能な構成として縞走査を行う
ようにしてもよい。このような縞走査干渉法によれば、
より高精度な偏芯測定結果を得ることができる。なお、
この場合、光透過反射手段６１５を参照光６９１ｂの光
軸方向に移動させる機構（図示せず）はヘッド部Ｈ内に
設けておいてもよい。そして、ヘッド部Ｈを光軸方向に
シフトするようにしてもよい。ここでは２つの光透過反
射手段６１５，６１６のうち、上側の光透過反射手段６
１５を参照光６９１ｂの光軸方向に移動させる場合を例
に説明したが、参照光６９１ｂの光軸方向に移動させる
のは下側の光透過反射手段６１６であってもよく、更に
はこれら光透過反射手段６１５，６１６の両方であって
もよい。
【０１４０】この第６実施形態に係る偏芯測定装置で
は、前述のように、光源６１１、ビーム拡大器６１２、
集光手段６１８及びイメージセンサ６１９が１つのケー
スＣ１内に収められてなるベース部Ｂと、偏光ビームス
プリッタ６１３、１／４波長板６１７、集光手段６１
４、２つの光透過反射手段６１５，６１６がこれとは別
のケースＣ２内に収められてなるヘッド部Ｈが互いに独
立しており、測定光６９１ａの集光点を被検レンズ表面
１ａ上に位置させる集光点位置の調整時には、ベース部
Ｂを含む装置全体ではなくヘッド部Ｈのみを上下させれ
ばよいので、精度の良い集光点位置調整を行うことがで
きる。
は、前述のように、光源６１１、ビーム拡大器６１２、
集光手段６１８及びイメージセンサ６１９が１つのケー
スＣ１内に収められてなるベース部Ｂと、偏光ビームス
プリッタ６１３、１／４波長板６１７、集光手段６１
４、２つの光透過反射手段６１５，６１６がこれとは別
のケースＣ２内に収められてなるヘッド部Ｈが互いに独
立しており、測定光６９１ａの集光点を被検レンズ表面
１ａ上に位置させる集光点位置の調整時には、ベース部
Ｂを含む装置全体ではなくヘッド部Ｈのみを上下させれ
ばよいので、精度の良い集光点位置調整を行うことがで
きる。
【０１４１】なお、本第６実施形態の基本構成例に係る
偏芯測定装置においては、光透過反射手段６１５を紙面
に垂直な軸まわりに傾動可能な構成としてもよい。
偏芯測定装置においては、光透過反射手段６１５を紙面
に垂直な軸まわりに傾動可能な構成としてもよい。
【０１４２】図２２は本第６実施形態に係る偏芯測定装
置の変形例を示している。上記第６実施形態の基本構成
例に係る偏芯測定装置（図２１参照）では、測定光と参
照光とが同じ光軸上を進むように光源より射出された可
干渉光を分割する構成であったが、本変形例に係る偏芯
測定装置では、測定光と参照光とが異なる光軸上（直交
する光軸上）を進むように光源からの光を分割する構成
を有する。
置の変形例を示している。上記第６実施形態の基本構成
例に係る偏芯測定装置（図２１参照）では、測定光と参
照光とが同じ光軸上を進むように光源より射出された可
干渉光を分割する構成であったが、本変形例に係る偏芯
測定装置では、測定光と参照光とが異なる光軸上（直交
する光軸上）を進むように光源からの光を分割する構成
を有する。
【０１４３】本変形例に係る偏芯測定装置においては、
光源６１１、ビーム拡大器６１２、集光手段６１８及び
イメージセンサ６１９が１つのケースＣ１内に収められ
てベース部Ｂを構成しており、偏光ビームスプリッタ６
１３、この偏光ビームスプリッタ６１３の下方に設けら
れた１／４波長板６１７及び集光手段６１４、偏光ビー
ムスプリッタ６１３の右方に設けられた１／４波長板６
２７、集光手段（例えば集光レンズ。ゾーンプレートな
どでもよい）６２５及び反射手段（例えばミラー）６２
６がこれとは別のケースＣ２内に収められてヘッド部Ｈ
を構成している。
光源６１１、ビーム拡大器６１２、集光手段６１８及び
イメージセンサ６１９が１つのケースＣ１内に収められ
てベース部Ｂを構成しており、偏光ビームスプリッタ６
１３、この偏光ビームスプリッタ６１３の下方に設けら
れた１／４波長板６１７及び集光手段６１４、偏光ビー
ムスプリッタ６１３の右方に設けられた１／４波長板６
２７、集光手段（例えば集光レンズ。ゾーンプレートな
どでもよい）６２５及び反射手段（例えばミラー）６２
６がこれとは別のケースＣ２内に収められてヘッド部Ｈ
を構成している。
【０１４４】本変形例に係る偏芯測定装置では、光源６
１１より射出された可干渉光６９１がレンズ６１２ａ，
６１２ｂ及びピンホール６１２ｃからなるビーム拡大器
６１２により或る程度広がりのある平行光にされた後、
偏光ビームスプリッタ６１３の半透膜６１３ａを下方に
透過するＰ偏光成分と、この半透膜６１３ａにおいて左
方に反射するＳ偏光成分とに分割される。
１１より射出された可干渉光６９１がレンズ６１２ａ，
６１２ｂ及びピンホール６１２ｃからなるビーム拡大器
６１２により或る程度広がりのある平行光にされた後、
偏光ビームスプリッタ６１３の半透膜６１３ａを下方に
透過するＰ偏光成分と、この半透膜６１３ａにおいて左
方に反射するＳ偏光成分とに分割される。
【０１４５】光透過反射手段６１３の半透膜６１３ａを
下方に透過した測定光６９２ａ（Ｐ偏光）は、光透過反
射手段６１３の下方に設置された１／４波長板６１７を
下方に透過した後、集光手段６１４により集光されて被
検レンズ表面１ａ上の微小領域に集光される。ここで、
測定光６９２ａの集光点が被検レンズ表面１ａ上の微小
領域に位置するようにする調節は、ヘッド部Ｈのみを図
の上下方向に移動させることにより行う。なお、この測
定光６９１ａの光軸は、被検レンズ１を含んでなるレン
ズ系全体の光軸Ｌと一致しないようにする必要がある。
下方に透過した測定光６９２ａ（Ｐ偏光）は、光透過反
射手段６１３の下方に設置された１／４波長板６１７を
下方に透過した後、集光手段６１４により集光されて被
検レンズ表面１ａ上の微小領域に集光される。ここで、
測定光６９２ａの集光点が被検レンズ表面１ａ上の微小
領域に位置するようにする調節は、ヘッド部Ｈのみを図
の上下方向に移動させることにより行う。なお、この測
定光６９１ａの光軸は、被検レンズ１を含んでなるレン
ズ系全体の光軸Ｌと一致しないようにする必要がある。
【０１４６】このように被検レンズ表面１ａ上の微小領
域に集光された測定光６９２ａは被検レンズ表面１ａに
おいてキャッツアイ反射し、反射の前後で同じ（或いは
平行な）光路を戻って集光手段６１４及び１／４波長板
６１７を上方に透過し、Ｓ偏光となって偏光ビームスプ
リッタ６１３に至る。一方、光透過反射手段６１３の半
透膜６１３ａにおいて左方に反射した参照光６９２ｂ
（Ｓ偏光）は光透過反射手段６１３の左方に設置された
１／４波長板６２７を左方に透過した後、集光手段６２
５により集光され、１／４波長板６２７の左方に設置さ
れた反射手段６２６においてキャッツアイ反射した後、
反射の前後で同じ（或いは平行な）光路を戻って集光手
段６２５及び１／４波長板６２７を右方に透過し、Ｐ偏
光となって光透過反射手段６１３に戻る。
域に集光された測定光６９２ａは被検レンズ表面１ａに
おいてキャッツアイ反射し、反射の前後で同じ（或いは
平行な）光路を戻って集光手段６１４及び１／４波長板
６１７を上方に透過し、Ｓ偏光となって偏光ビームスプ
リッタ６１３に至る。一方、光透過反射手段６１３の半
透膜６１３ａにおいて左方に反射した参照光６９２ｂ
（Ｓ偏光）は光透過反射手段６１３の左方に設置された
１／４波長板６２７を左方に透過した後、集光手段６２
５により集光され、１／４波長板６２７の左方に設置さ
れた反射手段６２６においてキャッツアイ反射した後、
反射の前後で同じ（或いは平行な）光路を戻って集光手
段６２５及び１／４波長板６２７を右方に透過し、Ｐ偏
光となって光透過反射手段６１３に戻る。
【０１４７】このように被検レンズ表面１ａにおいてキ
ャッツアイ反射して偏光ビームスプリッタ６１３に戻っ
た測定光６９２ａと、被検レンズ１には至らずに反射手
段６２６においてキャッツアイ反射して偏光ビームスプ
リッタ６１３に戻った参照光６９２ｂとは再び重ね合わ
され、偏光ビームスプリッタ６１３の反射面６１３ｂに
おいて上方に反射した後、ベース部Ｂ内の検光子８００
経て集光手段６１８により集光されてイメージセンサ６
１９の受光面上に干渉縞を形成する。イメージセンサ６
１９はこの測定光６９２ａと参照光６９２ｂとにより形
成された干渉縞を検出し、ディジタル信号に変換して演
算装置６２１に出力する。
ャッツアイ反射して偏光ビームスプリッタ６１３に戻っ
た測定光６９２ａと、被検レンズ１には至らずに反射手
段６２６においてキャッツアイ反射して偏光ビームスプ
リッタ６１３に戻った参照光６９２ｂとは再び重ね合わ
され、偏光ビームスプリッタ６１３の反射面６１３ｂに
おいて上方に反射した後、ベース部Ｂ内の検光子８００
経て集光手段６１８により集光されてイメージセンサ６
１９の受光面上に干渉縞を形成する。イメージセンサ６
１９はこの測定光６９２ａと参照光６９２ｂとにより形
成された干渉縞を検出し、ディジタル信号に変換して演
算装置６２１に出力する。
【０１４８】被検レンズ１は図示しない回転台により基
準軸（ここでは、被検レンズ１を含んでなるレンズ系全
体の光軸Ｌ）まわりに回転されるようになっており、被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）まわりの方位角は回転台
の近傍に設けられた方位角センサ６２０により検出され
るようになっている。この方位角センサ６２０も上記演
算装置６２１に繋がっており、演算装置６２１は被検レ
ンズ１を基準軸（光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生
じる干渉縞の変動を方位角センサ６２０により検出され
る被検レンズ１の方位角の情報をもとにして解析し、被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求める。
準軸（ここでは、被検レンズ１を含んでなるレンズ系全
体の光軸Ｌ）まわりに回転されるようになっており、被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）まわりの方位角は回転台
の近傍に設けられた方位角センサ６２０により検出され
るようになっている。この方位角センサ６２０も上記演
算装置６２１に繋がっており、演算装置６２１は被検レ
ンズ１を基準軸（光軸Ｌ）まわりに回転させたときに生
じる干渉縞の変動を方位角センサ６２０により検出され
る被検レンズ１の方位角の情報をもとにして解析し、被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対する偏芯を求める。
【０１４９】ここで、その偏芯を求める具体的手順につ
いては、上述の第１〜第４実施形態に係る偏芯測定装置
の場合と同様であり、前述の式（１），（２）により被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対するシフト量（ｓ）
又はチルト量（ｔ）を求めることができる。このため本
変形例に係る偏芯測定装置においても、上述の第６実施
形態の基本構成例に係る偏芯測定装置と同様の効果が得
られる。また、偏芯測定の対象となっている被検レンズ
１がレンズ系の最も手前側（ここでは集光手段６１４等
がある側）に位置するものでないときには、得られた被
検レンズ１についての偏芯情報（シフト量及びチルト
量）を、その被検レンズ１の手前側にあるレンズ全ての
偏芯情報を用いて補正することにより、偏芯測定の対象
となっている被検レンズ１の正確な偏芯情報を得ること
ができる。
いては、上述の第１〜第４実施形態に係る偏芯測定装置
の場合と同様であり、前述の式（１），（２）により被
検レンズ１の基準軸（光軸Ｌ）に対するシフト量（ｓ）
又はチルト量（ｔ）を求めることができる。このため本
変形例に係る偏芯測定装置においても、上述の第６実施
形態の基本構成例に係る偏芯測定装置と同様の効果が得
られる。また、偏芯測定の対象となっている被検レンズ
１がレンズ系の最も手前側（ここでは集光手段６１４等
がある側）に位置するものでないときには、得られた被
検レンズ１についての偏芯情報（シフト量及びチルト
量）を、その被検レンズ１の手前側にあるレンズ全ての
偏芯情報を用いて補正することにより、偏芯測定の対象
となっている被検レンズ１の正確な偏芯情報を得ること
ができる。
【０１５０】また、本変形例に係る偏芯測定装置におい
ては、コヒーレント長が短い可干渉光を射出する光源６
１１を用いて被検レンズ１の表面でキャッツアイ反射し
た測定光６９２ａが反射手段６２６でキャッツアイ反射
した参照光６９２ｂ以外の光と干渉を起こさないように
し、干渉縞が測定光６９２ａと参照光６９２ｂのみとに
より形成されるようにしてもよいのは上述の第６実施形
態の基本構成例に係る偏芯測定装置の場合と同様であ
る。
ては、コヒーレント長が短い可干渉光を射出する光源６
１１を用いて被検レンズ１の表面でキャッツアイ反射し
た測定光６９２ａが反射手段６２６でキャッツアイ反射
した参照光６９２ｂ以外の光と干渉を起こさないように
し、干渉縞が測定光６９２ａと参照光６９２ｂのみとに
より形成されるようにしてもよいのは上述の第６実施形
態の基本構成例に係る偏芯測定装置の場合と同様であ
る。
【０１５１】また、上記反射手段６２６を参照光６９２
ｂの光軸方向に移動可能な構成、又はヘッド部Ｈを光軸
方向にシフト可能な構成として縞走査を行うようにして
もよい。このような縞走査干渉法によれば、より高精度
な偏芯測定結果を得ることができる。なお、この場合、
反射手段６２６を参照光６９２ｂの光軸方向に移動させ
る機構（図示せず）はヘッド部Ｈ内に設けておいてもよ
い。
ｂの光軸方向に移動可能な構成、又はヘッド部Ｈを光軸
方向にシフト可能な構成として縞走査を行うようにして
もよい。このような縞走査干渉法によれば、より高精度
な偏芯測定結果を得ることができる。なお、この場合、
反射手段６２６を参照光６９２ｂの光軸方向に移動させ
る機構（図示せず）はヘッド部Ｈ内に設けておいてもよ
い。
【０１５２】この第６実施形態の変形例に係る偏芯測定
装置においても、光源６１１、ビーム拡大器６１２、集
光手段６１８及びイメージセンサ６１９が１つのケース
Ｃ１内に収められてなるベース部Ｂと、偏光ビームスプ
リッタ６１３、２つの１／４波長板６１７，６２７、２
つの集光手段６１４，６２５及び反射手段６２６がこれ
とは別のケースＣ２内に収められてなるヘッド部Ｈが互
いに独立しているので、測定光６９２ａの集光点を被検
レンズ表面１ａ上に位置させる集光点位置の調整時に
は、ベース部Ｂを含む装置全体ではなくヘッド部Ｈのみ
を上下させればよく、精度の良い集光点位置調整を行う
ことができる。
装置においても、光源６１１、ビーム拡大器６１２、集
光手段６１８及びイメージセンサ６１９が１つのケース
Ｃ１内に収められてなるベース部Ｂと、偏光ビームスプ
リッタ６１３、２つの１／４波長板６１７，６２７、２
つの集光手段６１４，６２５及び反射手段６２６がこれ
とは別のケースＣ２内に収められてなるヘッド部Ｈが互
いに独立しているので、測定光６９２ａの集光点を被検
レンズ表面１ａ上に位置させる集光点位置の調整時に
は、ベース部Ｂを含む装置全体ではなくヘッド部Ｈのみ
を上下させればよく、精度の良い集光点位置調整を行う
ことができる。
【０１５３】このように、本第６実施形態に係る偏芯測
定装置では、光源６１１より射出された可干渉光を２つ
の光に分割する手段（基本構成例では光透過反射手段６
１６、変形例では光透過反射手段６１３）及びこれら両
光それぞれをキャッツアイ反射させる手段（基本構成例
では集光手段６１４及び光透過反射手段６１５、変形例
では両集光手段６１４，６２５及び反射手段６２６）を
まとめてヘッド部Ｈとするとともに、このヘッド部Ｈが
光源６１１を含んでなるベース部Ｂに対して独立して移
動可能な構成としており、このような構成を有する装置
では、ヘッド部Ｈがベース部Ｂから離れていても、これ
ら両部Ｈ，Ｂの間を進む両光（測定光６９１ａ，６９２
ａ及び参照光６９１ｂ，６９２ｂ）の光路は共通である
ため、偏芯測定時には、このヘッド部Ｈの被検レンズ１
に対する安定性が保たれるようにするのみで、精度の良
い偏芯測定を行うことができる。
定装置では、光源６１１より射出された可干渉光を２つ
の光に分割する手段（基本構成例では光透過反射手段６
１６、変形例では光透過反射手段６１３）及びこれら両
光それぞれをキャッツアイ反射させる手段（基本構成例
では集光手段６１４及び光透過反射手段６１５、変形例
では両集光手段６１４，６２５及び反射手段６２６）を
まとめてヘッド部Ｈとするとともに、このヘッド部Ｈが
光源６１１を含んでなるベース部Ｂに対して独立して移
動可能な構成としており、このような構成を有する装置
では、ヘッド部Ｈがベース部Ｂから離れていても、これ
ら両部Ｈ，Ｂの間を進む両光（測定光６９１ａ，６９２
ａ及び参照光６９１ｂ，６９２ｂ）の光路は共通である
ため、偏芯測定時には、このヘッド部Ｈの被検レンズ１
に対する安定性が保たれるようにするのみで、精度の良
い偏芯測定を行うことができる。
【０１５４】なお、本第６実施形態の変形例に係る偏芯
測定装置においては、反射手段６２６を紙面に垂直な軸
まわりに傾動可能な構成としてもよい。
測定装置においては、反射手段６２６を紙面に垂直な軸
まわりに傾動可能な構成としてもよい。
【０１５５】また、ここでは図示しないが、本第６実施
形態の基本構成例及び変形例に係る偏芯測定装置（図２
１及び図２２参照）においては、前述した第１実施形態
の第２変形例に係る偏芯測定装置（図４参照）のよう
に、光源６１１から光透過反射手段６１６（或いは集光
手段６１４）に至るまでの光学系全体を紙面に垂直な軸
まわりに揺動可能とし、測定光６９１ａ（或いは６９２
ａ）の光軸方向をその測定光６９１ａ（或いは６９２
ａ）が至る被検レンズ表面１ａにおける曲率半径方向に
一致させることができるようにしてもよい。
形態の基本構成例及び変形例に係る偏芯測定装置（図２
１及び図２２参照）においては、前述した第１実施形態
の第２変形例に係る偏芯測定装置（図４参照）のよう
に、光源６１１から光透過反射手段６１６（或いは集光
手段６１４）に至るまでの光学系全体を紙面に垂直な軸
まわりに揺動可能とし、測定光６９１ａ（或いは６９２
ａ）の光軸方向をその測定光６９１ａ（或いは６９２
ａ）が至る被検レンズ表面１ａにおける曲率半径方向に
一致させることができるようにしてもよい。
【０１５６】なお、上述した第６実施形態の基本構成例
及び変形例に係る偏芯測定装置は、被検レンズ１の反射
偏芯を測定する構成であったが、これらの装置に前述の
第５実施形態に係る偏芯測定装置の構成を応用すること
により、被検レンズ１の透過偏芯を測定できるようにす
ることも可能である。
及び変形例に係る偏芯測定装置は、被検レンズ１の反射
偏芯を測定する構成であったが、これらの装置に前述の
第５実施形態に係る偏芯測定装置の構成を応用すること
により、被検レンズ１の透過偏芯を測定できるようにす
ることも可能である。
【０１５７】これまで本発明の好ましい実施形態につい
て説明してきたが、本発明の範囲は上述のものに限定さ
れない。例えば、上述の実施形態においては、偏芯測定
の対象となる被検物はレンズ（凸レンズ）であったが、
これは一例に過ぎず、凹レンズや凹面鏡等であってもよ
い。また、上記各実施形態に係る測定装置を２つ（同種
でも異種でも良い）用意し、各測定光の被検レンズ表面
１ａ上の集光位置を異ならせて２箇所以上の干渉縞を同
時に得るとともに、両測定光の集光位置間の距離を正確
に計測しておくことにより、これら複数の干渉縞の変動
と両測定光の集光位置間の距離との関係により、より一
層正確な偏芯を求めることも可能である。
て説明してきたが、本発明の範囲は上述のものに限定さ
れない。例えば、上述の実施形態においては、偏芯測定
の対象となる被検物はレンズ（凸レンズ）であったが、
これは一例に過ぎず、凹レンズや凹面鏡等であってもよ
い。また、上記各実施形態に係る測定装置を２つ（同種
でも異種でも良い）用意し、各測定光の被検レンズ表面
１ａ上の集光位置を異ならせて２箇所以上の干渉縞を同
時に得るとともに、両測定光の集光位置間の距離を正確
に計測しておくことにより、これら複数の干渉縞の変動
と両測定光の集光位置間の距離との関係により、より一
層正確な偏芯を求めることも可能である。
【０１５８】
【発明の効果】以上説明したように、第１の本発明に係
る偏芯測定装置（或いは偏芯測定方法）においては、干
渉縞を形成するこれら２光の共通光路を多く（非共通光
路を少なく）することができ、大気の揺らぎ（擾乱）や
振動等による外乱の影響を小さくして高精度な偏芯測定
を行うことが可能となる。また、測定光はその集光点を
被検物上に位置させる（キャッツアイ反射させる）だけ
でよく、その光軸方向が被検物表面の曲率中心を通るよ
うにする必要がないので、従来被検物の曲率半径が異な
るごとに行っていた光の方向調整は不要になり、測定が
簡易になる。
る偏芯測定装置（或いは偏芯測定方法）においては、干
渉縞を形成するこれら２光の共通光路を多く（非共通光
路を少なく）することができ、大気の揺らぎ（擾乱）や
振動等による外乱の影響を小さくして高精度な偏芯測定
を行うことが可能となる。また、測定光はその集光点を
被検物上に位置させる（キャッツアイ反射させる）だけ
でよく、その光軸方向が被検物表面の曲率中心を通るよ
うにする必要がないので、従来被検物の曲率半径が異な
るごとに行っていた光の方向調整は不要になり、測定が
簡易になる。
【０１５９】また、第２の本発明に係る偏芯測定装置
（或いは偏芯測定方法）においては、従来のように干渉
縞を形成する２光が被検物表面の曲率中心を通る（曲率
中心において交叉する）ようにする必要がなく、光源よ
り射出された可干渉光を被検物に極めて近い位置で分割
して干渉縞を形成する２光（測定光と参照光）を得るこ
とができる。このため、干渉縞を形成するこれら２光の
共通光路を多く（非共通光路を少なく）することがで
き、大気の揺らぎ（擾乱）や振動等による外乱の影響を
小さくして高精度な偏芯測定を行うことが可能となる。
また、測定光はその集光点を第１の反射手段上に位置さ
せる（キャッツアイ反射させる）だけでよく、その光軸
方向が被検物表面の曲率中心を通るようにする必要がな
いので、従来被検物の曲率半径が異なるごとに行ってい
た光の方向調整は不要になり、測定が簡易になる。
（或いは偏芯測定方法）においては、従来のように干渉
縞を形成する２光が被検物表面の曲率中心を通る（曲率
中心において交叉する）ようにする必要がなく、光源よ
り射出された可干渉光を被検物に極めて近い位置で分割
して干渉縞を形成する２光（測定光と参照光）を得るこ
とができる。このため、干渉縞を形成するこれら２光の
共通光路を多く（非共通光路を少なく）することがで
き、大気の揺らぎ（擾乱）や振動等による外乱の影響を
小さくして高精度な偏芯測定を行うことが可能となる。
また、測定光はその集光点を第１の反射手段上に位置さ
せる（キャッツアイ反射させる）だけでよく、その光軸
方向が被検物表面の曲率中心を通るようにする必要がな
いので、従来被検物の曲率半径が異なるごとに行ってい
た光の方向調整は不要になり、測定が簡易になる。
【０１６０】また、上記第１及び第２の本発明に係る偏
芯測定装置では、光源からの光を測定光と参照光とに分
割する手段及びこれら両光を反射させる手段をまとめて
ヘッド部とするとともに、このヘッド部が光源を含んで
なるベース部に対して独立して移動可能な構成とするこ
とができる。このような構成を有する装置では、ヘッド
部がベース部から離れていても、これら両部の間を進む
両光の光路は共通であるため、偏芯測定時には、このヘ
ッド部の被検物に対する安定性が保たれるようにするの
みで、精度の良い偏芯測定を行うことができる。更に、
測定光軸が回転軸と一致しないので、被検レンズの中心
付近に凹凸等の欠陥があった場合でもその影響を受ける
ことがない。
芯測定装置では、光源からの光を測定光と参照光とに分
割する手段及びこれら両光を反射させる手段をまとめて
ヘッド部とするとともに、このヘッド部が光源を含んで
なるベース部に対して独立して移動可能な構成とするこ
とができる。このような構成を有する装置では、ヘッド
部がベース部から離れていても、これら両部の間を進む
両光の光路は共通であるため、偏芯測定時には、このヘ
ッド部の被検物に対する安定性が保たれるようにするの
みで、精度の良い偏芯測定を行うことができる。更に、
測定光軸が回転軸と一致しないので、被検レンズの中心
付近に凹凸等の欠陥があった場合でもその影響を受ける
ことがない。
【図１】本発明に係る偏芯測定装置の第１実施形態の基
本構成例を示す図である。
本構成例を示す図である。
【図２】集光手段と被検面との間の距離の変動を説明す
る図であり、実線で示す被検レンズは或る方位角におけ
るときのもの、破線で示す被検レンズはそれから１８０
度回転させたときのものを示している。
る図であり、実線で示す被検レンズは或る方位角におけ
るときのもの、破線で示す被検レンズはそれから１８０
度回転させたときのものを示している。
【図３】第１実施形態に係る偏芯測定装置の第１変形例
を示す図である。
を示す図である。
【図４】第１実施形態に係る偏芯測定装置の第２変形例
を示す図である。
を示す図である。
【図５】本発明に係る偏芯測定装置の第２実施形態の基
本構成例を示す図である。
本構成例を示す図である。
【図６】第２実施形態に係る偏芯測定装置の第１変形例
を示す図である。
を示す図である。
【図７】第２実施形態に係る偏芯測定装置の第２変形例
を示す図である。
を示す図である。
【図８】第２実施形態に係る偏芯測定装置の第３変形例
を示す図である。
を示す図である。
【図９】第２実施形態に係る偏芯測定装置の第４変形例
を示す図である。
を示す図である。
【図１０】第２実施形態に係る偏芯測定装置の第５変形
例を示す図である。
例を示す図である。
【図１１】本発明に係る偏芯測定装置の第３実施形態の
基本構成例を示す図である。
基本構成例を示す図である。
【図１２】第３実施形態に係る偏芯測定装置の第１変形
例を示す図である。
例を示す図である。
【図１３】第３実施形態の基本構成に係る偏芯測定装置
を用いて被検物の裏面における反射偏芯を測定する場合
の例を示す図である。
を用いて被検物の裏面における反射偏芯を測定する場合
の例を示す図である。
【図１４】第３実施形態に係る偏芯測定装置の第２変形
例を示す図である。
例を示す図である。
【図１５】本発明に係る偏芯測定装置の第４実施形態の
基本構成例を示す図である。
基本構成例を示す図である。
【図１６】第４実施形態に係る偏芯測定装置の変形例を
示す図である。
示す図である。
【図１７】本発明に係る偏芯測定装置の第５実施形態の
基本構成例を示す図である。
基本構成例を示す図である。
【図１８】第５実施形態に係る偏芯測定装置の第１変形
例を示す図である。
例を示す図である。
【図１９】第５実施形態に係る偏芯測定装置の第２変形
例を示す図である。
例を示す図である。
【図２０】第５実施形態に係る偏芯測定装置の第３変形
例を示す図である。
例を示す図である。
【図２１】本発明に係る偏芯測定装置の第６実施形態の
基本構成例を示す図である。
基本構成例を示す図である。
【図２２】第６実施形態に係る偏芯測定装置の変形例を
示す図である。
示す図である。
【図２３】従来の偏芯測定装置の一例を示す図である。
１ 被検レンズ
１ａ 被検レンズ表面
１１ 光源
１２ ビーム拡大器
１３ 光透過反射手段
１４ 集光手段
１５ 光透過反射手段
１６ 光透過反射手段
１７ 絞り
１８ 集光手段
１９ イメージセンサ
２０ 方位角センサ
２１ 演算装置
９１ 可干渉光
９１ａ 測定光
９１ｂ 参照光
Ｌ 光軸
Claims (6)
- 【請求項１】 光源より射出された可干渉光を測定光と
参照光とに分割し、前記測定光を被検物上においてキャ
ッツアイ反射させる一方で、前記参照光を前記被検物に
至らせることなく反射手段において反射させ、前記被検
物上においてキャッツアイ反射した前記測定光と前記反
射手段において反射した前記参照光とを重ね合わせて干
渉縞を形成させる干渉光学系と、 前記被検物を基準軸まわりに回転させる被検物回転手段
と、 前記被検物回転手段により前記被検物を前記基準軸まわ
りに回転させたときに生ずる前記干渉縞の変動に基づい
て前記被検物の前記基準軸に対する偏芯を求める演算手
段とを備えたことを特徴とする偏芯測定装置。 - 【請求項２】 光源より射出された可干渉光を測定光と
参照光とに分割し、前記測定光を被検物の一方の面側か
ら入射させて前記被検物の他方の面側に設置した第１の
反射手段においてキャッツアイ反射させる一方で、前記
参照光を前記被検物に至らせることなく第２の反射手段
において反射させ、前記第１の反射手段においてキャッ
ツアイ反射して前記被検物の前記一方の面側に戻ってき
た前記測定光と前記第２の反射手段において反射した前
記参照光とを重ね合わせて干渉縞を形成させる干渉光学
系と、 前記被検物を基準軸まわりに回転させる被検物回転手段
と、 前記被検物回転手段により前記被検物を前記基準軸まわ
りに回転させたときに生ずる前記干渉縞の変動に基づい
て前記被検物の前記基準軸に対する偏芯を求める演算手
段とを備えたことを特徴とする偏芯測定装置。 - 【請求項３】 前記可干渉光のコヒーレント長が短い光
源を備え、前記参照光と前記測定光の光路長差を調整す
る機構を備えていることを特徴とする請求項１又は２記
載の偏芯測定装置。 - 【請求項４】 光源より射出された可干渉光を測定光と
参照光とに分割し、前記測定光を被検物上においてキャ
ッツアイ反射させる一方で、前記参照光を前記被検物に
至らせることなく反射手段において反射させ、前記被検
物上においてキャッツアイ反射した前記測定光と前記反
射手段において反射した前記参照光とを重ね合わせて干
渉縞を形成させ、前記被検物を基準軸まわりに回転させ
たときに生ずる前記干渉縞の変動に基づいて前記被検物
の前記基準軸に対する偏芯を求めることを特徴とする偏
芯測定方法。 - 【請求項５】 光源より射出された可干渉光を測定光と
参照光とに分割し、前記測定光を被検物の一方の面側か
ら入射させて前記被検物の他方の面側に設置した第１の
反射手段においてキャッツアイ反射させる一方で、前記
参照光を前記被検物に至らせることなく第２の反射手段
において反射させ、前記第１の反射手段においてキャッ
ツアイ反射して前記被検物の前記一方の面側に戻ってき
た前記測定光と前記第２の反射手段において反射した前
記参照光とを重ね合わせて干渉縞を形成させ、前記被検
物を基準軸まわりに回転させたときに生ずる前記干渉縞
の変動に基づいて前記被検物の前記基準軸に対する偏芯
を求めることを特徴とする偏芯測定方法。 - 【請求項６】 前記可干渉光のコヒーレント長が短い光
源を備え、前記参照光と前記測定光の光路長差を調整す
る機構を備えていることを特徴とする請求項４又は５記
載の偏芯測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001256929A JP2003065895A (ja) | 2001-08-27 | 2001-08-27 | 偏芯測定装置及び偏芯測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001256929A JP2003065895A (ja) | 2001-08-27 | 2001-08-27 | 偏芯測定装置及び偏芯測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003065895A true JP2003065895A (ja) | 2003-03-05 |
Family
ID=19084678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001256929A Pending JP2003065895A (ja) | 2001-08-27 | 2001-08-27 | 偏芯測定装置及び偏芯測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003065895A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006112974A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Canon Inc | 位置検出装置及び方法 |
| JP2011242361A (ja) * | 2010-05-21 | 2011-12-01 | Nikon Corp | 偏芯測定装置 |
| CN109986440A (zh) * | 2019-04-30 | 2019-07-09 | 武汉楚星光纤应用技术有限公司 | 锥形光纤自动抛磨设备及抛磨方法 |
| CN114152219A (zh) * | 2021-11-30 | 2022-03-08 | 武汉华日精密激光股份有限公司 | 一种基于激光的电机偏心度放大测量的系统、方法 |
-
2001
- 2001-08-27 JP JP2001256929A patent/JP2003065895A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006112974A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Canon Inc | 位置検出装置及び方法 |
| JP4514209B2 (ja) * | 2004-10-15 | 2010-07-28 | キヤノン株式会社 | 位置検出装置及び方法 |
| JP2011242361A (ja) * | 2010-05-21 | 2011-12-01 | Nikon Corp | 偏芯測定装置 |
| CN109986440A (zh) * | 2019-04-30 | 2019-07-09 | 武汉楚星光纤应用技术有限公司 | 锥形光纤自动抛磨设备及抛磨方法 |
| CN109986440B (zh) * | 2019-04-30 | 2024-02-13 | 武汉楚星光纤应用技术有限公司 | 锥形光纤自动抛磨设备及抛磨方法 |
| CN114152219A (zh) * | 2021-11-30 | 2022-03-08 | 武汉华日精密激光股份有限公司 | 一种基于激光的电机偏心度放大测量的系统、方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3653827B2 (ja) | 干渉計 | |
| JP3237309B2 (ja) | システムエラー測定方法及びそれを用いた形状測定装置 | |
| US7355719B2 (en) | Interferometer for measuring perpendicular translations | |
| EP1992905A1 (en) | Optical sensor with tilt error correction | |
| JP5486379B2 (ja) | 面形状計測装置 | |
| JP2009300263A (ja) | ２波長レーザ干渉計および２波長レーザ干渉計の光軸調整方法 | |
| KR20070090033A (ko) | 두 측면 측정용 오버래핑 공통 광로 간섭계 | |
| JP2003065895A (ja) | 偏芯測定装置及び偏芯測定方法 | |
| CN113639677B (zh) | 基于波前校正的高频响二维光电自准直方法与装置 | |
| JP2001264036A (ja) | 面形状測定装置及び測定方法 | |
| JP2000097622A (ja) | 干渉計 | |
| JPH08334606A (ja) | レンズ | |
| JP3379186B2 (ja) | 干渉計 | |
| JPH095018A (ja) | 移動量測長装置 | |
| JP2002214070A (ja) | 偏芯測定装置、偏芯測定方法及びこれらを用いて偏芯が測定された光学素子を組み込んでなる投影レンズ | |
| JP2003004424A (ja) | 面形状測定方法および装置 | |
| JP2001056213A (ja) | 面形状測定装置および測定方法 | |
| JP2003065896A (ja) | 偏芯測定装置及び偏芯測定方法 | |
| JPS62127601A (ja) | 干渉装置 | |
| JPH116784A (ja) | 非球面形状測定装置および測定方法 | |
| US7030993B2 (en) | Athermal zero-shear interferometer | |
| JP2003106934A (ja) | 光路長測定装置及び方法、厚さ測定装置及び方法、屈折率分布傾斜成分測定装置及び方法 | |
| JP2003083846A (ja) | 干渉計及び該干渉計で製造された高精度投影レンズ | |
| JP2000088513A (ja) | 非球面波発生レンズ系組立調整装置 | |
| JP3495918B2 (ja) | 光学部品の偏心測定方法および偏心測定装置 |