JP2003129230A - 真空蒸着装置及び真空蒸着方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被蒸着体を自重で変形しない状態でセットす
ることができ、均一な膜厚で被蒸着体に蒸着を行なうこ
とができる蒸着装置及び蒸着方法を提供する。 【解決手段】 真空チャンバー１内に蒸発源２と被蒸着
体３を配置すると共に蒸発源２と被蒸着体３の間の空間
を蒸発源２の物質が気化される温度で加熱された筒状体
４で囲み、蒸発源２から気化した物質を筒状体４内を通
して被蒸着体３の表面に到達させて蒸着させるようにし
た真空蒸着装置に関する。筒状体４を略直角に屈曲した
形状に形成して筒状体４の一端の開口部５を略水平方向
に開口させ、被蒸着体３をこの開口部５に対面させて配
置する。被蒸着体３を鉛直姿勢で配置することができ、
重力の作用で被蒸着体３が変形することを防ぐことがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空雰囲気中で蒸
発源を蒸発させると共に被蒸着体に蒸発物質を蒸着させ
るようにした真空蒸着装置及び真空蒸着方法に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】真空蒸着装置は、真空チャンバー内に蒸
発源と被蒸着体とを配置し、真空チャンバー内を減圧し
た状態で、蒸発源を加熱して、蒸発源を溶融させて蒸発
させるか、もしくは蒸発源を昇華させるかして、気化さ
せ、この気化させた物質を被蒸着体の表面に堆積させて
蒸着するようにしたものである。そして加熱されて蒸発
源から発生する気化物質は蒸発源から法線方向に直進的
に放出されるが、放出空間は真空に保たれているため気
化物質は直進し、蒸発源と対向して配置される被蒸着体
の表面に付着して蒸着されるものである。

【０００３】このように気化物質は蒸発源から法線方向
に直進的に放出されるので、気化物質は四方八方へ飛散
する方向に直進することになるが、蒸発源からの距離が
被蒸着体の中央部と端部とでは異なるので、被蒸着体の
中央部と端部とでは蒸着物質の堆積量が異なり、蒸着の
膜厚が不均一になり易いという問題があった。またこの
ように蒸発源から気化物質が飛散する方向に直進するた
めに、被蒸着体へ向かって進行しない気化物質が多く、
この気化物質は被蒸着体の表面に付着しないので、蒸発
源の歩留まりが低くなると共に被蒸着体の表面への蒸着
速度が遅くなるという問題もあった。

【０００４】そこで、特開平４−４５２５９号公報や特
開平９−２７２７０３号公報などに開示されているよう
に、真空チャンバー内に配置した蒸発源と被蒸着体が対
向する空間を筒状体で囲むと共に筒状体を蒸発源の物質
が気化される温度で加熱し、蒸発源から気化した物質を
筒状体内を通して被蒸着体の表面に蒸着させるようにし
た真空蒸着装置が提案されている。

【０００５】図５はその一例を示すものであり、真空チ
ャンバー１内に上下に開口する筒状体４が配設してあ
り、筒状体４にはヒーター１１が巻いてあって筒状体４
を加熱できるようにしてある。この筒状体４の下端の開
口部１２に面して蒸発源２が配置してあり、ヒーター１
３で加熱して蒸発源２を気化させることができるように
してある。筒状体４の上端の開口部１４の上方には被蒸
着体３が配置してあり、この開口部１４はシャッター１
５によって開閉できるようにしてある。１６は被蒸着体
３を加熱するためのヒーターである。

【０００６】このものにあって、真空チャンバー１内を
減圧すると共に蒸発源２を加熱して気化させ、そしてシ
ャッター１５を開くと、蒸発源２から気化した物質が筒
状体４内を飛翔して通過し、筒状体４の上端の開口部１
４を通って被蒸着体３の表面に付着し、被蒸着体３にこ
の気化物質を堆積させて蒸着を行なうことができるもの
である。そしてこのものでは、蒸発源２と被蒸着体３が
対向する空間が筒状体４で囲まれているので、蒸発源２
から発生する気化物質を筒状体４内に囲った状態で、こ
の気化物質を筒状体４の内面で反射させながら被蒸着体
３の方向へ進ませることができ、蒸発源２から発生する
気化物質の多くを被蒸着体３の表面に到達させることが
できるものであり、被蒸着体３に付着せずに逃げる量を
少なくして歩留まり高く蒸着を行なうことができるもの
である。また筒状体４はヒーター１１で加熱されてお
り、気化物質が筒状体４の内面に付着しても再加熱され
て再気化し、この再気化した物質は被蒸着体３に到達し
て蒸着層を形成するものであり、筒状体４に気化物質が
堆積して歩留まりを低下させるようなことはないもので
ある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、蒸発源
２と被蒸着体３の間の空間を加熱された筒状体４で囲む
ことによって、歩留まり高く蒸着を行なうことができる
ものであるが、筒状体４は蒸発源２の直上の位置に配設
されており、被蒸着体３は筒状体４の直上に配置され、
被蒸着体３の下面に蒸着が行なわれるようになってい
る。従って、被蒸着体３は水平に配置した姿勢でセット
されることになる。

【０００８】しかしこのように被蒸着体３を水平に配置
した姿勢でセットすると、被蒸着体３の下面は蒸着を施
す面であるので支えることができないために、被蒸着体
３の下面は重力の作用で図５に鎖線で示すように中央部
が自重で撓んで変形するおそれがある。被蒸着体３とし
て薄い板状のものを用いる場合は、中央部が自重で撓ん
で下方へ凸に屈曲する変形が発生し易く、特にサイズが
大きい板状のものはこのような変形が特に大きく発生し
易い。

【０００９】そしてこのように自重で撓んで変形した被
蒸着体３に蒸着を行なうと、被蒸着体３の表面のうち蒸
発源２の側に凸になっている部分に気化物質が付着し易
くなるので、被蒸着体３の表面に蒸着される膜厚が不均
一になり、蒸着の品質が不安定になるという問題を生じ
るものであった。

【００１０】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、被蒸着体を自重で変形しない状態でセットするこ
とができ、均一な膜厚で被蒸着体に蒸着を行なうことが
できる蒸着装置及び蒸着方法を提供することを目的とす
るものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に係る
蒸着装置は、真空チャンバー１内に蒸発源２と被蒸着体
３を配置すると共に蒸発源２と被蒸着体３の間の空間を
蒸発源２の物質が気化される温度で加熱された筒状体４
で囲み、蒸発源２から気化した物質を筒状体４内を通し
て被蒸着体３の表面に到達させて蒸着させるようにした
真空蒸着装置において、筒状体４を略直角に屈曲した形
状に形成して筒状体４の一端の開口部５を略水平方向に
開口させ、被蒸着体３をこの開口部５に対面させて配置
して成ることを特徴とするものである。

【００１２】また請求項２の発明は、請求項１におい
て、略直角に屈曲した一対の筒状体４，４をその一端の
開口部５，５同士を対向させて配設し、被蒸着体３をこ
の対向する開口部５，５間に配置して成ることを特徴と
するものである。

【００１３】また、本発明の請求項３に係る蒸着装置
は、真空チャンバー１内に蒸発源２と被蒸着体３を配置
すると共に蒸発源２と被蒸着体３の間の空間を蒸発源２
の物質が気化される温度で加熱された筒状体４で囲み、
蒸発源２から気化した物質を筒状体４内を通して被蒸着
体３の表面に到達させて蒸着させるようにした真空蒸着
装置において、筒状体４を略１８０度の角度で屈曲した
形状に形成して一端の開口部５を下方に開口させ、被蒸
着体３をこの開口部５に対面させて配置して成ることを
特徴とするものである。

【００１４】また請求項４の発明は、請求項１乃至３の
いずれかにおいて、被蒸着体３として凹部６を有するも
のを用い、筒状体４の一端の開口部１４をこの凹部６に
差し込まれる形状に形成して成ることを特徴とするもの
である。

【００１５】本発明の請求項５に係る蒸着方法は、請求
項１に記載の真空蒸着装置を用い、被蒸着体３を鉛直姿
勢で筒状体４の開口部５に対面させて配置し、蒸発源２
から気化した物質を筒状体４内を通して開口部５から被
蒸着体３の表面に到達させることによって、被蒸着体３
の表面に蒸着を行なうことを特徴とするものである。

【００１６】また本発明の請求項６に係る蒸着方法は、
請求項２に記載の真空蒸着装置を用い、被蒸着体３を鉛
直姿勢で一対の筒状体４，４の開口部５，５間に配置
し、蒸発源２から気化した物質を筒状体４内を通して開
口部５から被蒸着体３の両側の表面に到達させることに
よって、被蒸着体３の両側の表面に蒸着を行なうことを
特徴とするものである。

【００１７】また本発明の請求項７に係る蒸着方法は、
請求項３に記載の真空蒸着装置を用い、被蒸着体３を水
平姿勢で下面側から支えて筒状体４の開口部５の下側に
対面させて配置し、蒸発源２から気化した物質を筒状体
４内を通して開口部５から被蒸着体３の上面に到達させ
ることによって、被蒸着体３の上面に蒸着を行なうこと
を特徴とするものである。

【００１８】また本発明の請求項８に係る蒸着方法は、
請求項４に記載の真空蒸着装置を用い、凹部６内に筒状
体４の開口部５を被挿した状態で被蒸着体３を配置し、
蒸発源２から気化した物質を筒状体４内を通して開口部
５から被蒸着体３の凹部６内に到達させることによっ
て、被蒸着体３の凹部６内に蒸着を行なうことを特徴と
するものである。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。

【００２０】図１は本発明の実施の形態の一例を示すも
のであり、真空チャンバー１の側面に設けた排気口１８
にゲートバルブ１９を介して真空ポンプ２０が接続して
ある。真空チャンバー１内には筒状体４が配設してあ
る。筒状体４の外周にはシーズヒーターなどのヒーター
２１が巻き付けてあり、ヒーター２１に接続した電源２
２から給電してヒーター２１を発熱させることによっ
て、筒状体４を加熱することができるようにしてある。

【００２１】また真空チャンバー１の下部内において、
筒状体４の下側に蒸発源加熱具２３が配設してある。蒸
発源加熱具２３内にはヒーター２４と温度センサー２５
が設けてあり、ヒーター２４に接続した電源２６から給
電してヒーター２４を発熱させることによって蒸発源加
熱具２３を加熱すると共に、温度センサー２５で検出さ
れる温度によってヒーター２４の発熱を制御することが
できるようにしてある。

【００２２】上記の筒状体４は円筒形や角筒形など任意
の断面形状に形成されるが、図１の実施の形態では、筒
状体４を直角に屈曲してＬ形筒として形成してある。こ
のＬ形に屈曲して形成される筒状体４は下部が鉛直方向
を、上部が水平方向を向くように配設されるものであ
り、筒状体４の下端の開口部７は下方に開口し、筒状体
４の上端の開口部５は水平方向に開口するようにしてあ
る。筒状体４の下端の内周には鍔片２７が延出してあっ
てその内縁に開口部７が小さい径で開口するように形成
してあり、この開口部７の直下の位置において蒸発源加
熱具２３に蒸発源２がセットされるようにしてある。ま
た筒状体４の上端の開口部５は筒状体４の内周全面に亘
って大きく開口するようにしてあり、開口端面は鉛直面
となっている。そして被蒸着体３はその表面をこの開口
部５に平行に対面させて配置してセットされるものであ
り、被蒸着体３として板状の基板を用いる場合には、被
蒸着体３は鉛直に立てた姿勢で配置されるものである。
図１の実施の形態では、被蒸着体３の上端縁と下端縁
（あるいは四周端縁）を支持体２８で保持することによ
って、被蒸着体３を鉛直状態に支持するようにしてあ
る。

【００２３】本発明において蒸発源２としては任意のも
のを用いることができるものであり、例えば有機エレク
トロルミネッセンス材料などの有機材料を用いることが
できる。そして蒸着を行なうにあたっては、蒸発源２を
蒸発源加熱具２３の上に充填して筒状体４の下端の開口
部７の直下位置にセットすると共に、被蒸着体３を上記
のように筒状体４の上端の開口部７に対面させてセット
する。次に、真空ポンプ２０を作動させて真空チャンバ
ー１内を真空状態に減圧し、ヒーター２４を発熱させて
蒸発源２を加熱すると共にヒーター２１によって筒状体
４を加熱する。筒状体４の加熱温度は、蒸発源２から気
化した物質が筒状体４に付着しても再度蒸発して気化
し、筒状体４の表面に堆積しない温度に設定されるもの
である。

【００２４】上記のように真空チャンバー１内を減圧し
て蒸発源２を加熱すると、蒸発源２は溶融・蒸発、ある
いは昇華して気化し、蒸発源２から発生するこの気化物
質３１は下端の開口部７から筒状体４に導入され、筒状
体４内を直進する。気化物質３１が進む蒸発源２と被蒸
着体３の間の空間は筒状体４で囲まれており、気化物質
３１は筒状体４内に閉じ込められた状態にあるので、図
１に示すように気化物質３１は筒状体４の内面で反射し
て上端の開口部５へ向けて進み、開口部５に対面して配
置された被蒸着体３の表面に気化物質３１が到達して堆
積し、被蒸着体３の表面に蒸着させることができるもの
である。このように蒸発源２から発生した気化物質３１
は筒状体４内で規制された状態で開口部５へ進み、四方
八方へ飛散することを防ぐことができるものであり、蒸
発源２から発生する気化物質３１の多くを被蒸着体３の
表面に到達させて付着させることができるものである。
従って蒸発源２から発生する気化物質３１の多くが被蒸
着体３の表面に付着して成膜に寄与することになって無
効材料が少なくなり、蒸発源２の材料利用効率が高くな
って歩留まりの高い蒸着が可能になると共に、被蒸着体
３の表面の成膜速度を速くすることができるものであ
る。また気化物質３１は筒状体４の内面で反射しながら
開口部５へ進むものであり、色んな方向から被蒸着体３
の表面の各部に付着するものであり、被蒸着体３の表面
の各部への堆積量が均一化され、均一な膜厚で成膜する
ことができるものである。

【００２５】また、筒状体４は加熱されていてホットウ
ォールになっているために、気化物質３１が筒状体４の
表面に付着しても、付着物は筒状体４で再加熱されて気
化し、このように再気化した気化物質３１は上記と同様
にして被蒸着体３の表面に蒸着されるものである。従っ
て筒状体４に気化物質３１が堆積して蒸着に使用されな
くなることを防ぐことができ、蒸着の歩留まりが低下す
るようなことはないものである。

【００２６】ここで、上記のように蒸着を行なうにあた
って、被蒸着体３は鉛直姿勢で配置されているので、重
力の作用で被蒸着体３が変形することがなくなるもので
あり、筒状体４の開口部５に対面する被蒸着体３の表面
が変形することを防ぐことができる。従って、被蒸着体
３の表面の変形による蒸着の偏りを防いで、被蒸着体３
の表面に蒸着される膜厚を均一化することが容易にな
り、蒸着の品質が安定化するものである。

【００２７】図２は本発明の実施の形態の他の一例を示
すものであり、上記のように直角に屈曲してＬ形筒とし
て形成した筒状体４を一対用い、この一対の筒状体４，
４をそれぞれ上端の開口部５，５を所定間隔を隔てて対
向させてあり、この状態で一対の筒状体４，４を真空チ
ャンバー１内に配設するようにしてある。その他の構成
は図１のものと同じであり、一対の各筒状体４，４の直
下にはそれぞれ蒸発源加熱具２３が配設してある。そし
て、被蒸着体３はその両側の表面が各筒状体４，４の開
口部５，５に平行に対面するように、筒状体４，４の開
口部５，５間に配置してセットされるものである。被蒸
着体３として板状の基板を用いる場合には、被蒸着体３
は鉛直に立てた姿勢で配置されるものであり、被蒸着体
３の上端縁と下端縁（あるいは四周端縁）を支持体２８
で保持することによって、被蒸着体３を鉛直状態に支持
するようにしてある。

【００２８】この実施の形態のものにあって、一対の各
筒状体４，４の直下に配設した各蒸発源加熱具２３にそ
れぞれ蒸発源２をセットし、真空チャンバー１内を減圧
して各蒸発源２を加熱すると、蒸発源２から発生する気
化物質３１は下端の開口部７，７から各筒状体４，４に
導入され、さらに各筒状体４，４内をその内面で反射し
ながら通過した後に上端の各開口部５，５から被蒸着体
３の両側の表面にそれぞれ到達して、被蒸着体３の両面
に同時に蒸着を行なうことができるものである。従って
蒸着処理の生産性を高めることができるものであり、ま
た一対の各筒状体４，４にセットされる蒸発源２として
異なるものを用いることによって、被蒸着体３の両面に
異なる蒸着皮膜を形成することが可能になるものであ
る。尚、被蒸着体３として２枚の基板を重ねたものを用
いると、２枚の各基板の表面に同時に蒸着を行なうこと
ができるものである。

【００２９】図３は本発明の実施の形態の他の一例を示
すものであり、筒状体４として１８０度の角度で逆Ｕ形
に屈曲したＵ形筒を用いるようにしてある。この逆Ｕ形
に屈曲して形成される筒状体４は両端の開口部５，７が
それぞれ下方を向いて開口するように真空チャンバー１
内に配設されるものである。筒状体４の一端の内周には
鍔片２７が延出してあってその内縁に開口部７が小さい
径で開口するように形成してあり、この開口部７の直下
の位置において蒸発源加熱具２３に蒸発源２がセットさ
れるようにしてある。また筒状体４の他端の開口部５は
筒状体４の内周全面に亘って大きく開口するようにして
あって、その開口端面は水平面となっており、この開口
部５は他端の開口部７よりも下方に位置するように形成
してある。そして被蒸着体３はその上面をこの開口部５
に平行に対面させて配置してセットされるものであり、
被蒸着体３として板状の基板を用いる場合には、被蒸着
体３は水平に寝かせた姿勢で配置されるものである。こ
のように蒸着を行なう面を上面にして被蒸着体３を水平
姿勢で配置することができるので、被蒸着体３はその下
面を支持体２８で保持した状態で支持することができる
ものである。その他の構成は図１のものと同じである。

【００３０】この実施の形態のものにあって、真空チャ
ンバー１内を減圧して蒸発源２を加熱すると、蒸発源２
から発生する気化物質３１は下端の開口部７から筒状体
４に導入され、さらに筒状体４内をその内面で反射しな
がら通過した後に、開口部５から被蒸着体３の上面に到
達し、被蒸着体３の上面に蒸着を行なうことができるも
のである。ここで、被蒸着体３は下面の全面を支持した
状態で水平に配置されているので、重力の作用で被蒸着
体３が変形することがなくなるものであり、筒状体４の
開口部５に対面する被蒸着体３の表面が変形することを
防ぐことができる。従って、被蒸着体３の表面の変形に
よる蒸着の偏りを防いで、被蒸着体３の表面に蒸着され
る膜厚を均一化することが容易になり、蒸着の品質が安
定化するものである。またこのものでは、蒸発源２のセ
ット位置と被蒸着体３のセット位置を相互に近い場所に
設定することができ、蒸発源２の供給作業と被蒸着体３
の取換え作業を同時に行なうことが可能になるものであ
る。

【００３１】図４は本発明の実施の形態の他の一例を示
すものであり、このものでは、被蒸着体３として凹部６
を有するものを用い、この凹部６内に蒸着を行なうこと
ができるようにしてある。すなわち、筒状体４の先端の
開口部５をこの被蒸着体３の凹部６に差し込むのに適し
た形状に形成してあり、開口部５をこのように形成した
筒状体４を真空チャンバー１内に配設するようにしてあ
る。図４の実施の形態では、筒状体４として図１のよう
に直角に屈曲してＬ形筒として形成したものを用い、筒
状体４の先部を絞って開口部５の径を小さくし、被蒸着
体３の凹部６に差し込むことのできる径に開口部５を形
成してある。その他の構成は図１のものと同じである。

【００３２】この実施の形態のものにあって、凹部６に
筒状体４の開口部５を被挿した状態で被蒸着体３をセッ
トし、真空チャンバー１内を減圧して蒸発源２を加熱す
ると、蒸発源２から発生する気化物質３１は下端の開口
部７から筒状体４に導入され、さらに筒状体４内をその
内面で反射しながら通過した後に、開口部５から放出さ
れ、被蒸着体３の凹部６の内面に到達するものであり、
被蒸着体３の凹部６という蒸着が非常に困難な部位の内
面に蒸着を行なうことができるものである。

【００３３】

【発明の効果】上記のように本発明の請求項１に係る真
空蒸着装置は、真空チャンバー内に蒸発源と被蒸着体を
配置すると共に蒸発源と被蒸着体の間の空間を蒸発源の
物質が気化される温度で加熱された筒状体で囲み、蒸発
源から気化した物質を筒状体内を通して被蒸着体の表面
に到達させて蒸着させるようにした真空蒸着装置におい
て、筒状体を略直角に屈曲した形状に形成して筒状体の
一端の開口部を略水平方向に開口させ、被蒸着体をこの
開口部に対面させて配置するようにしたので、筒状体の
開口部に被蒸着体を対面させて蒸着を行なうにあたっ
て、被蒸着体を鉛直に配置することができ、重力の作用
で被蒸着体が変形することを防ぐことができるものであ
り、被蒸着体の変形による蒸着の偏りを低減して、被蒸
着体の表面に均一な膜厚で蒸着を行なうことができるも
のである。

【００３４】また請求項２の発明は、請求項１におい
て、略直角に屈曲した一対の筒状体をその一端の開口部
同士を対向させて配設し、被蒸着体をこの対向する開口
部間に配置するようにしたので、一対の筒状体の各開口
部から被蒸着体の両側の表面に同時に蒸着を行なうこと
ができるものであり、蒸着処理の生産性を高めることが
できるものである。

【００３５】本発明の請求項３に係る真空蒸着装置は、
真空チャンバー内に蒸発源と被蒸着体を配置すると共に
蒸発源と被蒸着体の間の空間を蒸発源の物質が気化され
る温度で加熱された筒状体で囲み、蒸発源から気化した
物質を筒状体内を通して被蒸着体の表面に到達させて蒸
着させるようにした真空蒸着装置において、筒状体を略
１８０度の角度で屈曲した形状に形成して一端の開口部
を下方に開口させ、被蒸着体をこの開口部に対面させて
配置するようにしたので、筒状体の開口部に被蒸着体を
対面させて蒸着を行なうにあたって、被蒸着体を下面を
支持した状態で水平に配置することができ、重力の作用
で被蒸着体が変形することを防ぐことができるものであ
り、被蒸着体の変形による蒸着の偏りを低減して、被蒸
着体の表面に均一な膜厚で蒸着を行なうことができるも
のである。

【００３６】また請求項４の発明は、請求項１乃至３の
いずれかにおいて、被蒸着体として凹部を有するものを
用い、筒状体の一端の開口部をこの凹部に差し込まれる
形状に形成したので、凹部に筒状体の開口部を差し込ん
だ状態で被蒸着体をセットして蒸着を行なうことによっ
て、被蒸着体の凹部という蒸着が非常に困難な部位の内
面に蒸着を容易に行なうことができるものである。

【００３７】本発明の請求項５に係る真空蒸着方法は、
請求項１に記載の真空蒸着装置を用い、被蒸着体を鉛直
姿勢で筒状体の開口部に対面させて配置し、蒸発源から
気化した物質を筒状体内を通して開口部から被蒸着体の
表面に到達させることによって、被蒸着体の表面に蒸着
を行なうようにしたので、鉛直姿勢で配置される被蒸着
体には重力の作用による変形が生じ難いものであり、被
蒸着体の変形による蒸着の偏りを低減して、被蒸着体の
表面に均一な膜厚で蒸着を行なうことができるものであ
る。

【００３８】本発明の請求項６に係る真空蒸着方法は、
請求項２に記載の真空蒸着装置を用い、被蒸着体を鉛直
姿勢で一対の筒状体の開口部間に配置し、蒸発源から気
化した物質を筒状体内を通して開口部から被蒸着体の両
側の表面に到達させることによって、被蒸着体の両側の
表面に蒸着を行なうようにしたので、鉛直姿勢で配置さ
れる被蒸着体に均一な膜厚で蒸着を行なうことができる
と共に、被蒸着体の両側の表面に同時に蒸着を行なうこ
とができ、蒸着処理の生産性を高めることができるもの
である。

【００３９】本発明の請求項７に係る真空蒸着方法は、
請求項３に記載の真空蒸着装置を用い、被蒸着体を水平
姿勢で下面側から支えて筒状体の開口部の下側に対面さ
せて配置し、蒸発源から気化した物質を筒状体内を通し
て開口部から被蒸着体の上面に到達させることによっ
て、被蒸着体の上面に蒸着を行なうようにしたので、下
面側から支えて水平に配置した被蒸着体には重力の作用
による変形が生じ難いものであり、被蒸着体の変形によ
る蒸着の偏りを低減して、被蒸着体の表面に均一な膜厚
で蒸着を行なうことができるものである。

【００４０】また請求項８に係る真空蒸着方法は、請求
項４に記載の真空蒸着装置を用い、凹部内に筒状体の開
口部を被挿した状態で被蒸着体を配置し、蒸発源から気
化した物質を筒状体内を通して開口部から被蒸着体の凹
部内に到達させることによって、被蒸着体の凹部内に蒸
着を行なうようにしたので、被蒸着体の凹部という蒸着
が非常に困難な部位の内面に、蒸着を容易に行なうこと
ができるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態の一例を示す断面図であ
る。

【図２】本発明の実施の形態の他の一例を示す一部の断
面図である。

【図３】本発明の実施の形態の他の一例を示す一部の断
面図である。

【図４】本発明の実施の形態の他の一例を示す一部の断
面図である。

【図５】従来例を示す断面図である。

【符号の説明】

１ 真空チャンバー ２ 蒸発源 ３ 被蒸着体 ４ 筒状体 ５ 開口部 ６ 凹部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西森 泰輔 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (72)発明者 岸 泰生 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (72)発明者 近藤 行廣 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (72)発明者 中川 照雄 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 (72)発明者 城戸 淳二 山形県米沢市中央２丁目６番６号 サンロ ード米沢中央408 (72)発明者 柳 雄二 新潟県長岡市東高見２丁目２番31号 トッ キ株式会社長岡工場内 (72)発明者 松本 栄一 新潟県長岡市東高見２丁目２番31号 トッ キ株式会社長岡工場内 Ｆターム(参考） 4K029 AA24 BA62 CA01 DA10 DB00 JA00

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空チャンバー内に蒸発源と被蒸着体を
   配置すると共に蒸発源と被蒸着体の間の空間を蒸発源の
   物質が気化される温度で加熱された筒状体で囲み、蒸発
   源から気化した物質を筒状体内を通して被蒸着体の表面
   に到達させて蒸着させるようにした真空蒸着装置におい
   て、筒状体を略直角に屈曲した形状に形成して筒状体の
   一端の開口部を略水平方向に開口させ、被蒸着体をこの
   開口部に対面させて配置して成ることを特徴とする真空
   蒸着装置。
2. 【請求項２】 略直角に屈曲した一対の筒状体をその一
   端の開口部同士を対向させて配設し、被蒸着体をこの対
   向する開口部間に配置して成ることを特徴とする請求項
   １に記載の真空蒸着装置。
3. 【請求項３】 真空チャンバー内に蒸発源と被蒸着体を
   配置すると共に蒸発源と被蒸着体の間の空間を蒸発源の
   物質が気化される温度で加熱された筒状体で囲み、蒸発
   源から気化した物質を筒状体内を通して被蒸着体の表面
   に到達させて蒸着させるようにした真空蒸着装置におい
   て、筒状体を略１８０度の角度で屈曲した形状に形成し
   て一端の開口部を下方に開口させ、被蒸着体をこの開口
   部に対面させて配置して成ることを特徴とする真空蒸着
   装置。
4. 【請求項４】 被蒸着体として凹部を有するものを用
   い、筒状体の一端の開口部をこの凹部に差し込まれる形
   状に形成して成ることを特徴とする請求項１乃至３のい
   ずれかに記載の真空蒸着装置。
5. 【請求項５】 請求項１に記載の真空蒸着装置を用い、
   被蒸着体を鉛直姿勢で筒状体の開口部に対面させて配置
   し、蒸発源から気化した物質を筒状体内を通して開口部
   から被蒸着体の表面に到達させることによって、被蒸着
   体の表面に蒸着を行なうことを特徴とする真空蒸着方
   法。
6. 【請求項６】 請求項２に記載の真空蒸着装置を用い、
   被蒸着体を鉛直姿勢で一対の筒状体の開口部間に配置
   し、蒸発源から気化した物質を筒状体内を通して開口部
   から被蒸着体の両側の表面に到達させることによって、
   被蒸着体の両側の表面に蒸着を行なうことを特徴とする
   真空蒸着方法。
7. 【請求項７】 請求項３に記載の真空蒸着装置を用い、
   被蒸着体を水平姿勢で下面側から支えて筒状体の開口部
   の下側に対面させて配置し、蒸発源から気化した物質を
   筒状体内を通して開口部から被蒸着体の上面に到達させ
   ることによって、被蒸着体の上面に蒸着を行なうことを
   特徴とする真空蒸着方法。
8. 【請求項８】 請求項４に記載の真空蒸着装置を用い、
   凹部内に筒状体の開口部を被挿した状態で被蒸着体を配
   置し、蒸発源から気化した物質を筒状体内を通して開口
   部から被蒸着体の凹部内に到達させることによって、被
   蒸着体の凹部内に蒸着を行なうことを特徴とする真空蒸
   着方法。