JP2003129212A - 溶射方法 - Google Patents

溶射方法

Info

Publication number
JP2003129212A
JP2003129212A JP2001317497A JP2001317497A JP2003129212A JP 2003129212 A JP2003129212 A JP 2003129212A JP 2001317497 A JP2001317497 A JP 2001317497A JP 2001317497 A JP2001317497 A JP 2001317497A JP 2003129212 A JP2003129212 A JP 2003129212A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder material
feed nozzle
thermal
feeder
thermal spray
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001317497A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Itsukaichi
剛 五日市
Satoru Osawa
悟 大澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujimi Inc
Original Assignee
Fujimi Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujimi Inc filed Critical Fujimi Inc
Priority to JP2001317497A priority Critical patent/JP2003129212A/ja
Priority to PCT/JP2002/010685 priority patent/WO2003033756A1/ja
Priority to US10/492,824 priority patent/US20050000424A1/en
Priority to EP02801574A priority patent/EP1445343A4/en
Publication of JP2003129212A publication Critical patent/JP2003129212A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/129Flame spraying

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 緻密で表面粗さの小さい溶射皮膜を形成する
ことができる溶射方法を提供する。 【解決手段】 溶射は、供給機から搬送チューブ16を
経由して供給される粉末材料を溶射ガン11において加
熱して軟化又は溶融させて吐出することにより行われ
る。このとき溶射ガン11においては、加熱して軟化又
は溶融された粉末材料が、噴出口18から噴出される圧
縮ガスによる筒状の気流20の内側を通過して吐出され
る。また供給機においては、フィードノズルの上流側端
部近傍の雰囲気に比べてフィードノズル内の雰囲気を負
圧とすることでフィードノズル内に粉末材料が吸引され
る。なお粉末材料は、小粒子径側からの積算粒子体積が
全粒子体積の90%に相当する粒子径(D90%)が2
0μm以下のものが用いられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基材上に溶射皮膜
を形成するための溶射方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】溶射皮膜は、溶射材料を加熱して軟化又
は溶融させたものを基材に吹き付けて形成されるので、
本質的にその表面は平滑でなく粗面である。また同じ理
由から溶射皮膜は、本質的にポーラスな構造であって、
貫通気孔(溶射皮膜を貫通して基材から溶射皮膜の表面
に達する気孔)を含むことがある。
【0003】このように溶射皮膜の表面が粗面であるこ
とから、例えば製紙ロールなど表面に平滑性が要求され
る用途では、目的の表面粗さを得るべく溶射施工の後に
研磨加工が行われている。ところが、溶射皮膜は一般に
硬度が高いものが多く、その研磨加工は困難な場合があ
る。特に溶射材料としてサーメットを用いた場合には、
研磨加工にダイヤモンド砥粒を使用する必要があってコ
ストも非常にかかる。従って、溶射施工後の研磨加工を
省略又は簡易化できるような表面粗さの小さい溶射皮膜
を形成するための手段が求められている。
【0004】また、メッキの代替技術として溶射を用い
る場合など用途によっては貫通気孔のない溶射皮膜が要
求されることがあるが、従来はそうした場合、溶射皮膜
にある程度の厚み(数百μm)を持たせることで貫通気
孔を防ぐようにしていた。ところが、基本的に厚みを増
すほどコストが嵩むので、できるだけ薄膜であることが
望ましい。従って、薄膜であっても貫通気孔を含まない
ような溶射皮膜を形成するための手段も求められてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】こうした期待に応える
手段の一つに、溶射材料とされる粉末材料の細粒化が考
えられる。すなわち、細粒の粉末材料を溶射すること
で、得られる溶射皮膜の表面粗さを小さくするととも
に、皮膜の緻密化により貫通気孔を防ぐというものであ
る。しかし、溶射材料が細粒の粉末材料の場合には以下
のような問題が新たに生じる。
【0006】まず、溶射機において、スピッティングと
呼ばれる現象が起こることがある。スピッティングと
は、溶融した粉末材料が溶射機の噴射ノズル内に付着・
堆積し、時にはその付着物が脱落して皮膜内部に取り込
まれてしまうことをいう。スピッティングは、溶射皮膜
の品質低下の原因になるだけでなく、溶射皮膜の形成そ
のものの妨げにもなる。溶射材料が細粒の粉末材料であ
るときにスピッティングが起こりやすいのは、細粒の場
合、粉末材料が過溶融して噴射ノズルに対して付着しや
すくなるためである。
【0007】また、供給機では、細粒化に伴う粉末材料
の流動性の低下が原因となって、脈動やブリッジ(架
橋)などの問題が生じる。供給機から溶射機への粉末材
料の供給が脈動により安定しないと、溶射皮膜の品質は
大きく低下する。また、粉末材料がブリッジを形成する
と溶射機への粉末材料の円滑な供給が不可能となり、最
悪の場合供給が停止してしまう。
【0008】従って、従来は緻密で表面粗さの小さい溶
射皮膜を形成することは極めて困難であった。本発明
は、上記のような従来技術に存在する問題点に着目して
なされたものである。その目的とするところは、緻密で
表面粗さの小さい溶射皮膜を形成することができる溶射
方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項1に記載の発明は、供給機から連結配管を
経由して供給される粉末材料を溶射機において加熱して
軟化又は溶融させて吐出する溶射方法であって、小粒子
径側からの積算粒子体積が全粒子体積の90%に相当す
る粒子径(D90%)が20μm以下である粉末材料を
使用するとともに、貯留槽に貯留される粉末材料の表面
近傍に前記連結配管に接続されたフィードノズルの上流
側端部を配置し、そのフィードノズルの上流側端部近傍
の雰囲気に比べてフィードノズル内の雰囲気を負圧とす
ることでフィードノズル内に粉末材料を吸引する機構を
有した供給機を使用し、加熱して軟化又は溶融された粉
末材料を、噴出口から噴出される圧縮ガスによる筒状の
気流の内側を通過させて吐出する機構を有した溶射機を
使用することを要旨とする。
【0010】請求項2に記載の発明は、供給機から連結
配管を経由して供給される粉末材料を溶射機において加
熱して軟化又は溶融させて吐出する溶射方法であって、
小粒子径側からの積算粒子体積が全粒子体積の90%に
相当する粒子径(D90%)が20μm以下である粉末
材料を使用するとともに、貯留槽に貯留される粉末材料
の表面近傍に前記連結配管に接続されたフィードノズル
の上流側端部を配置し、そのフィードノズルの上流側端
部近傍の雰囲気に比べてフィードノズル内の雰囲気を負
圧とすることでフィードノズル内に粉末材料を吸引する
機構を有した供給機を使用し、噴射ノズル内で燃料及び
酸素を燃焼させ、そのときに生じる燃焼ガスによって同
噴射ノズル内で粉末材料を加熱して軟化又は溶融させて
加速し、同噴射ノズルから直接外部に吐出する機構を有
した溶射機を使用することを要旨とする。
【0011】請求項3に記載の発明は、供給機から連結
配管を経由して供給される粉末材料を溶射機において加
熱して軟化又は溶融させて吐出する溶射方法であって、
小粒子径側からの積算粒子体積が全粒子体積の90%に
相当する粒子径(D90%)が20μm以下である粉末
材料を使用するとともに、貯留槽に貯留される粉末材料
の表面近傍に前記連結配管に接続されたフィードノズル
の上流側端部を配置し、そのフィードノズルの上流側端
部近傍の雰囲気に比べてフィードノズル内の雰囲気を負
圧とすることでフィードノズル内に粉末材料を吸引する
機構を有した供給機を使用し、加熱して軟化又は溶融さ
れた粉末材料を、8センチメートル以下の長さの噴射ノ
ズルを通過して吐出する機構を有した溶射機を使用する
ことを要旨とする。
【0012】請求項4に記載の発明は、供給機から連結
配管を経由して供給される粉末材料を溶射機において加
熱して軟化又は溶融させて吐出する溶射方法であって、
小粒子径側からの積算粒子体積が全粒子体積の90%に
相当する粒子径(D90%)が20μm以下である粉末
材料を使用するとともに、貯留槽に貯留される粉末材料
の表面近傍に前記連結配管に接続されたフィードノズル
の上流側端部を配置し、そのフィードノズルの上流側端
部近傍の雰囲気に比べてフィードノズル内の雰囲気を負
圧とすることでフィードノズル内に粉末材料を吸引する
機構を有した供給機を使用し、吐出口の外部で粉末材料
を加熱して軟化又は溶融させて加速する機構を有したプ
ラズマ溶射機を使用することを要旨とする。
【0013】
【発明の実施の形態】(第1の実施形態)以下、本発明
を具体化した第1の実施形態について図面に基づき説明
する。
【0014】本実施形態における溶射システムは、図1
に示す溶射機としての高速フレーム溶射ガン11(以
下、溶射ガン11ともいう。)と図2に示す供給機12
を備えている。
【0015】まず、図1に基づいて溶射ガン11につい
て説明する。溶射ガン11は溶射材料としての粉末材料
を燃焼ガスで加熱して軟化又は溶融させて吐出するため
のものである。溶射ガン11の内部には燃焼室13が形
成されている。その燃焼室13に連通し、溶射ガン11
の後端(図1(a)では左側)で外部に開口する第1の
空孔14は、燃焼室13内に導入される燃料及び酸素の
流路となる。また、同じく燃焼室13に連通し、溶射ガ
ン11の前端(図1(a)では右側)で外部に開口する
第2の空孔15は、燃焼室13内で燃料及び空気が燃焼
したときに生じる高温高圧の燃焼ガスの流路となる。
【0016】溶射ガン11の前端には、供給機12(図
2参照)から延びる連結配管としての搬送チューブ16
が接続されている。この搬送チューブ16は、第2の空
孔15の前側の開口(下流側の開口)に近接する位置で
第2の空孔15内に連通している。このため、搬送チュ
ーブ16を経由して供給機12から溶射ガン11へと搬
送される粉末材料は、第2の空孔15の前側の開口(下
流側の開口)に近接する位置において溶射ガン11に供
給されるようになっている。
【0017】第2の空孔15の中途には、前向きの(第
2の空孔15の下流側開口の方向に向いた)段差面17
が形成されている。この段差面17は、前記搬送チュー
ブ16の先端開口よりも後側(上流側)に位置してい
る。段差面17には圧縮空気(圧縮ガス)の噴出口18
が形成されており、図示しない圧縮空気の供給源から溶
射ガン11に供給される圧縮空気が導入路19を経て噴
出口18から噴出されるようになっている。また前記噴
出口18は段差面17に円環状に複数形成され、噴出口
18から噴出される圧縮空気は、第2の空孔15の壁部
に沿って前方へと流れるようになっている。このため、
噴出口18の前方には、噴出口から噴出される圧縮空気
により筒状の気流20が形成されることになる。
【0018】また、燃焼室13の外側には、燃焼室13
を冷却するための冷却媒体の流路21が形成されてい
る。冷却媒体は、図示しない冷却媒体の供給源から溶射
ガン11に供給され、導入路22を経て前記流路21へ
と導入された後、導出路23から溶射ガン11の外に排
出されるようになっている。
【0019】次に、図2に基づいて供給機12について
説明する。供給機12は、溶射材料としての粉末材料を
前記溶射ガン11に供給するためのものである。供給機
12には、粉末材料を貯留する貯留槽24が備えられて
いる。この貯留槽24は密閉容器25内に収容されてい
る。また貯留槽24には、フィードノズル26が配設さ
れている。このフィードノズル26の下端(上流側端
部)は、貯留槽24に貯留された粉末材料の表面近傍に
位置し、上端(下流側端部)は前記搬送チューブ16
(図1参照)に接続されて密閉容器25の外側に導出さ
れている。なお、「フィードノズル26の下端が、貯留
槽24に貯留された粉末材料の表面近傍に位置」すると
いうのは、フィードノズル26の下端と粉末材料の表面
との間に若干の隙間がある状態はもちろん、フィードノ
ズル26の下端が粉末材料の表面に接した状態、及びフ
ィードノズル26の下端が粉末材料内に若干埋没された
状態も含むものである。
【0020】前記密閉容器25には、同容器25内にキ
ャリアガス(例えば窒素ガス)を導入するための導入口
27が形成されている。この導入口27から密閉容器2
5内にキャリアガスを送り込むと、フィードノズル26
の下端近傍の雰囲気に比べてフィードノズル26内の雰
囲気が負圧となるので、粉末材料がキャリアガスと一緒
にフィードノズル26内に吸引される。フィードノズル
26内に吸引された粉末材料は、キャリアガスとともに
搬送チューブ16を経由して溶射ガン11へと搬送され
る。
【0021】なお、フィードノズル26はステッピング
モータ28によりギヤ機構29を介して上下動可能な構
成となっている。ステッピングモータ28の駆動は、レ
ーザ式センサ30によって検出される貯留槽24内の粉
末材料の表面の位置情報に基づいてフィードノズルコン
トローラ31によって制御されるようになっている。ま
たフィーダーコントローラ32は、重量センサ33によ
って検出される粉末材料の供給速度の情報に基づいてフ
ィードノズルコントローラ31をフィードバック制御で
きるようになっている。これらの機構により、供給機1
2から溶射ガン11への粉末材料の供給速度を任意に設
定することが可能となっている。さらに前記貯留槽24
は、モータ34で回転駆動されるようになっており、な
らし部材(図示略)により粉末材料の表面をならすこと
ができるようになっている。
【0022】上記の溶射ガン11と供給機12を備えた
溶射システム及びその溶射システムを用いた溶射方法で
溶射材料として用いられる粉末材料は、小粒子径側から
の積算粒子体積が全粒子体積の90%に相当する粒子径
(D90%)が20μm以下であることが必須である。
D90%が20μmを超えると、緻密で表面粗さの小さ
い溶射皮膜を形成することができないからである。
【0023】次に、上記のように構成された溶射システ
ムの作用を説明する。供給機12から搬送チューブ16
を経て溶射ガン11へと搬送された粉末材料は、第2の
空孔15の前側の開口(下流側の開口)に近接する位置
において溶射ガン11に供給される。このとき、燃焼室
13で燃料及び酸素を燃焼させると同時に噴出口18か
ら圧縮空気を噴出させると、粉末材料が、第2の空孔1
5を通過する燃焼ガスによって加熱されて軟化又は溶融
するとともに第2の空孔15の下流側の開口方向に加速
される。そして、軟化状態又は溶融状態の粉末材料は、
噴出口18から噴出される圧縮空気による筒状の気流2
0の内側を通過して第2の空孔15の下流側の開口から
吐出される。
【0024】本実施形態によって得られる効果につい
て、以下に記載する。 ・ 溶射ガン11に搬送された粉末材料は、噴出口18
から噴出される圧縮空気による筒状の気流20の内側で
軟化又は溶融され、同筒状の気流20の内側を通過して
第2の空孔15の下流側の開口から吐出される。このた
め、細粒の粉末材料を使用した場合であっても、軟化又
は溶融された粉末材料が第2の空孔15内に付着・堆積
することがなく、スピッティングの発生を効果的に抑制
することができる。
【0025】・ フィードノズル26の下端近傍の雰囲
気に比べてフィードノズル26内の雰囲気を負圧とする
ことで、粉末材料がキャリアガスと一緒にフィードノズ
ル26内に吸引される構成であるので、粉末材料のフィ
ードノズル26への取り込みは粉末材料の流動性に依存
しない。従って、細粒の粉末材料を使用した場合であっ
てもブリッジ及び脈動の発生を効果的に抑制することが
できる。
【0026】・ 溶射ガン11におけるスピッティング
並びに供給機12におけるブリッジ及び脈動を効果的に
抑制することができるので、細粒の粉末材料であっても
安定して供給及び溶射を行うことができる。よって、緻
密で表面粗さの小さい溶射皮膜を形成することができ
る。
【0027】(第2の実施形態)以下、本発明を具体化
した第2の実施形態について図面に基づき説明する。本
実施形態における溶射システムは、溶射機として、前記
第1実施形態における溶射ガン11に代えて、図3に示
す高速フレーム溶射ガン41(以下、溶射ガン41とも
いう。)を使用したものである。従って、供給機12及
び粉末材料については前記第1実施形態のものと同一で
あるので、その説明は省略する。
【0028】図3に基づいて溶射ガン41について説明
する。溶射ガン41は、前記第1実施形態の溶射ガン1
1と同じく、粉末材料を燃焼ガスで加熱して軟化又は溶
融させて吐出するためのものである。溶射ガン41は噴
射ノズル42を備えている。この噴射ノズル42は溶射
ガン41の前端(図3では右側)で直接外部に開口して
いる。また、前記噴射ノズル42に連通し、溶射ガン4
1の後端(図3では左下方)で外部に開口する第1の空
孔43,44は、噴射ノズル42内に燃料及び酸素を導
入するための流路となる。すなわち、燃料及び酸素は、
第1の空孔43,44を経由して噴射ノズル42内に直
接導入され、同噴射ノズル42内で燃焼されるようにな
っている。
【0029】さらに、同じく噴射ノズル42に連通し、
溶射ガン41の後端(図3では左側)で外部に開口する
第2の空孔45は、供給機12(図2参照)から延びる
搬送チューブ16(図3には示さず)に連通接続されて
いる。このため、搬送チューブ16を経由して供給機1
2から溶射ガン41へと搬送される粉末材料は、噴射ノ
ズル42内において溶射ガン41に供給されるようにな
っている。一方、噴射ノズル42の外側には、噴射ノズ
ル42を冷却するための冷却媒体(エア)の流路46が
形成されている。冷却媒体は、図示しない冷却媒体の供
給源から溶射ガン41に供給されて前記流路46へと導
入されるようになっている。
【0030】次に、上記のように構成された溶射システ
ムの作用を説明する。供給機12から搬送チューブ16
を経て溶射ガン41へと搬送された粉末材料は、噴射ノ
ズル42内において溶射ガン41に供給される。このと
き、噴射ノズル2で燃料及び酸素を燃焼させると、噴射
ノズル42内において粉末材料が燃焼ガスによって加熱
されて軟化又は溶融する。そして、軟化状態又は溶融状
態の粉末材料は、噴射ノズル42内を溶射ガン41の前
端(図3では右側)側の開口方向に加速され、同開口か
ら外部に吐出される。
【0031】本実施形態によれば、噴射ノズル42内で
燃料及び酸素を燃焼させ、そのときに生じる燃焼ガスに
よって同噴射ノズル42内で粉末材料を加熱して軟化又
は溶融させて加速し、同噴射ノズル42から直接外部に
吐出する。このため、細粒の粉末材料を使用した場合で
あっても、軟化又は溶融された粉末材料が付着・堆積す
ることがなく、スピッティングの発生を効果的に抑制す
ることができる。よって、緻密で表面粗さの小さい溶射
皮膜を形成することができる。
【0032】なお、本実施形態における溶射ガン41は
燃焼室を備えていないので、燃焼室を備えた従来の高速
フレーム溶射機に比べて粉末材料の飛行速度が遅く、得
られる溶射皮膜は気孔を多く含んだものになるおそれが
ある。しかし、本実施形態で使用される溶射材料はD9
0%が20μm以下と細粒の粉末材料であるので、軟化
又は溶融しやすい。しかも、溶射ガン41は、一般に燃
料としてプロピレンと酸素を使用するので、噴射ノズル
で発生する燃焼ガスの温度が高く、従来の高速フレーム
溶射機に比べて粉末材料をより軟化又は溶融させた状態
とすることができる。このため、粉末材料の飛行速度が
遅くても溶射皮膜を緻密化することができる。ここで本
明細書中における噴射ノズルとは、軟化又は溶融状態の
粉末材料が外部に吐出されるときの流路となるもので、
燃焼室を備えている場合は燃焼室から小径に絞りこまれ
た部分をいう。
【0033】(第3の実施形態)以下、本発明を具体化
した第3の実施形態について図面に基づき説明する。本
実施形態における溶射システムは、溶射機として、前記
第1実施形態における溶射ガン11に代えて、図4に示
す高速フレーム溶射ガン51(以下、溶射ガン51とも
いう。)を使用したものである。従って、供給機12及
び粉末材料については前記第1実施形態のものと同一で
あるので、その説明は省略する。
【0034】図4に基づいて溶射ガン51について説明
する。溶射ガン51は、前記第1実施形態の溶射ガン1
1と同じく粉末材料を燃焼ガスで加熱して軟化又は溶融
させて吐出するためのものである。溶射ガン51の内部
には燃焼室52が形成されている。その燃焼室52に連
通し、溶射ガン51の後端(図4では左側)で外部に開
口する第1の空孔53,54は、燃焼室52内に導入さ
れる燃料及び酸素の流路となる。また、同じく燃焼室5
2に連通し、溶射ガン51の前端(図4では右側)で外
部に開口する第2の空孔55は、燃焼室52内で燃料及
び酸素が燃焼したときに生じる高温高圧の燃焼ガスの流
路となる。前記第2の空孔55には、供給機12(図2
参照)から延びる搬送チューブ16が連通接続されてい
る。このため、搬送チューブ16を経由して供給機12
から溶射ガン51へと搬送される粉末材料は、第2の空
孔55内において溶射ガン51に供給されるようになっ
ている。一方、燃焼室52の外側には、燃焼室52を冷
却するための冷却媒体(冷却水)の流路56が形成され
ている。冷却媒体は、図示しない冷却媒体の供給源から
溶射ガン51に供給されて前記流路56へと導入される
ようになっている。
【0035】次に、上記のように構成された溶射システ
ムの作用を説明する。供給機12から搬送チューブ16
を経て溶射ガン51へと搬送された粉末材料は、第2の
空孔55内において溶射ガン51に供給される。このと
き、燃焼室52で燃料及び酸素を燃焼させると、粉末材
料が、第2の空孔55を通過する燃焼ガスによって加熱
されて軟化又は溶融する。そして、軟化状態又は溶融状
態の粉末材料は、第2の空孔55内を下流側の開口方向
に加速され、同開口から吐出される。
【0036】前述したように、噴射ノズルとは、軟化又
は溶融状態の粉末材料が外部に吐出されるときの流路と
なるもので、燃焼室から小径に絞りこまれた部分をい
う。本実施形態の場合、第2の空孔55のうち搬送チュ
ーブ16の接続部分から前方の部分が、噴射ノズルに相
当する。本実施形態では、この噴射ノズルの長さLは8
センチメートル以下、好ましくは6.5センチメートル
以下である。この噴射ノズルの長さLが8センチメート
ルを超えるとスピッティングが発生する。このため、噴
射ノズルの長さLを8センチメートル以下とすること
で、スピッティングの発生を抑制することができ、6.
5センチメートル以下とすれば、その効果を一段と高め
ることができる。よって、本実施形態の場合も、緻密で
表面粗さの小さい溶射皮膜を形成することができる。
【0037】なお、本実施形態における溶射ガン51
は、従来の高速フレーム溶射機に比べて噴射ノズルが短
いので、粉末材料の飛行速度が遅く、得られる溶射皮膜
は気孔を多く含んだものになるおそれがある。しかし、
本実施形態で使用される溶射材料はD90%が20μm
以下と細粒の粉末材料であるので、軟化又は溶融しやす
い。しかも、溶射ガン51は、従来の高速フレーム溶射
機に比べてノズルの内径が絞り込まれているため、粉末
材料の飛行速度を上げることができる。このため、溶射
皮膜を緻密化することができる。
【0038】(第4の実施形態)以下、本発明を具体化
した第4の実施形態について図面に基づき説明する。本
実施形態における溶射システムは、溶射機として、前記
第1実施形態における溶射ガン11に代えて、図5に示
すプラズマ溶射ガン61(以下、溶射ガン61ともい
う。)を使用したものである。従って、供給機12及び
粉末材料については前記第1実施形態のものと同一であ
るので、その説明は省略する。
【0039】図5に基づいて溶射ガン61について説明
する。溶射ガン61は、粉末材料をプラズマジェットで
加熱して軟化又は溶融させて吐出するためのものであ
る。溶射ガン61はカソード62とアノード63を備
え、両電極62,63間に点弧したアーク放電によって
高温高圧のプラズマジェットが形成されるようになって
いる。また溶射ガン61は、プラズマ作動ガス(アルゴ
ン、ヘリウムなど)の導入路64を備えている。プラズ
マ作動ガスは、図示しない供給源から前記導入路64を
経て前記電極62,63の近傍に供給されるようになっ
ている。さらに、電極62,63の周囲には、電極6
2,63を冷却するための冷却媒体(冷却水)の流路6
5が形成されている。冷却媒体は、図示しない供給源か
ら溶射ガン61に供給され、導入路66を経て前記流路
65へと導入された後、導出路67から溶射ガン61の
外に排出されるようになっている。
【0040】一方、プラズマジェットが吐出される溶射
ガン61の前端(図5では右側)開口(吐出口)のさら
に前方には、供給機12(図2参照)から延びる搬送チ
ューブ16が配置されている。このため、搬送チューブ
16を経由して供給機12から溶射ガン61へと搬送さ
れる粉末材料は、溶射ガン61の内部でなく外部におい
て溶射ガン61に供給されるようになっている。
【0041】次に、上記のように構成された溶射システ
ムの作用を説明する。供給機12から搬送チューブ16
を経て溶射ガン61へと搬送された粉末材料は、溶射ガ
ン61の前端開口のさらに前方位置において溶射ガン6
1に供給される。このとき、電極62,63に通電して
プラズマジェットを形成させると、粉末材料が、溶射ガ
ン61の前端開口から吐出されるプラズマジェットによ
って加熱されて軟化又は溶融するとともに加速される。
【0042】本実施形態によれば、従来の溶射機のよう
に粉末材料を溶射ガン61の内部で加熱して軟化又は溶
融するのでなく、溶射ガン61の外部で加熱して軟化又
は溶融するようになっている。このため、細粒の粉末材
料を使用した場合であってもスピッティングの発生を回
避することができる。よって、緻密で表面粗さの小さい
溶射皮膜を形成することができる。
【0043】なお、前記実施形態を次のように変更して
構成することもできる。 ・ 前記第1〜第3実施形態では溶射機として高速フレ
ーム溶射ガン11,41,51を用いたが、その他のガ
ス式溶射機で具体化してもよいし、プラズマ溶射機など
の電気式溶射機で具体化してもよい。
【0044】・ 前記第1実施形態では噴出口18を円
孔としたが、円孤状の長孔であってもよい。 ・ 前記第1実施形態では噴出口18を円環状に並べて
形成したが、環状であれば四角環状などであってもよ
い。
【0045】・ 前記第1実施形態では溶射ガン11に
接続される搬送チューブ16の本数を2本としたが、1
本又は3本以上としてもよい。また、前記第4実施形態
では溶射ガン61に接続される搬送チューブ16の本数
を1本としたが、2本以上としてもよい。
【0046】
【実施例】次に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさ
らに具体的に説明する。実施例1〜6及び比較例1〜1
5ではそれぞれ、下記表1に示す溶射機と供給機を組み
合わせた溶射システムを用いて、同表1に示す組成及び
粒度分布を有する粉末材料を基材(SS400鋼板)上
に下記の溶射条件で溶射した。基材上に溶射皮膜を形成
できたものについては、溶射皮膜の表面粗さRa及び緻
密さを下記のようにして評価した。その結果を表1に示
す。なお、表1中の皮膜形成の欄の評価は、溶射皮膜が
形成できたものを○、溶射機でスピッティングが発生し
て溶射皮膜が形成できなかったものを×、供給機から溶
射機へ粉末材料を供給できず溶射皮膜が形成できなかっ
たものを××として評価した。また、表1中の供給機の
欄の「AM−30」及び「PL−25」はテクノサーブ
社製の供給機の商品名、「1264」はPRAXAIR
社製の供給機の商品名である。
【0047】<溶射条件> (実施例1〜4、比較例1,6〜9) 溶射機:ウィティコジャパン社製θ−Gun、酸素流
量:1900scfh、灯油流量:5.1gph、溶射
距離:250mm、膜厚:200μm (実施例5、比較例10,11) 溶射機:PRAXAIR社製SG−100、電流:70
0A、Ar:50psi、He:90psi、粉末供給
ユニット:外部供給タイプ、膜厚:200μm (実施例6) 溶射機:SULZER METCO社製ダイヤモンドジ
ェット・スタンダードタイプ(DJ−STD)、酸素流
量:40(目盛)、プロピレン流量:38(目盛)、a
ir:47(目盛)、溶射距離:200mm、膜厚:2
00μm (比較例2〜4,12〜15) 溶射機:PRAXAIR/TAFA社製HVOF溶射機
JP−5000、バレル(噴射ノズルの長さ):10.
16センチメートル(=4インチ)、酸素流量:190
0scfh、灯油流量:5.1gph、溶射距離:38
0mm、膜厚:200μm (比較例5) 溶射機:DELORO STEELITE COATI
NG社製JET−KOTE、酸素流量:1000(目
盛)、プロピレン流量:63(目盛)、パイロットガス
2:10(目盛)、パイロットガスO2:10(目
盛)、溶射距離:200mm、膜厚:200μm <表面粗さRaの評価> 溶射皮膜の表面粗さRaを下記の条件で測定し、Raが
1.0μm未満のものを◎、1.0μm以上2.0μm
未満のものを○、2.0μm以上3.0μm未満のもの
を△、3.0μm以上のものを×と評価した。
【0048】表面粗さRaの測定条件 装置:表面粗さ測定機(サーフコム1400D−12;
株式会社東京精密製)、測定長さ:10.0mm、カッ
トオフ波長:0.8mm、測定速度:0.30mm/s
ec、先端子:r=5μm <緻密さの評価>実施例1〜6及び比較例1〜15の全
てについて、前記溶射条件のうち膜厚を30μmに変更
し、膜厚30μmの溶射皮膜で被覆された基材に対し、
塩水噴霧試験(JIS Z 2371)を行った。溶射
皮膜で被覆された基材の表面に塩水を噴霧し、24時間
経過後に赤錆が認められたものを×、24時間経過後に
赤錆が認められなかったものを○と評価した。
【0049】
【表1】 表1に示すように、実施例1〜6で得られた溶射皮膜は
いずれも、表面粗さRaに関する評価が良好(◎又は
○)であり、緻密さに関する評価も良好(○)であっ
た。それに対し、比較例1〜15の場合は、比較例1,
比較例13及び比較例15を除いて、溶射皮膜を形成す
ることができず、形成できた場合でも表面粗さRa及び
緻密さに関する評価が不良(×)であった。
【0050】次に、前記実施形態から把握できる技術的
思想について以下に記載する。 ・ 前記溶射機が高速フレーム溶射ガンであることを特
徴とする請求項1に記載の溶射方法。高速フレーム溶射
の場合、他の溶射法の場合に比べて溶射用粉末が大きく
加速され基材に対し強く衝突する。このため、より確実
に緻密で表面粗さの小さい溶射皮膜を形成することがで
きる。
【0051】・ 粉末材料を加熱して軟化又は溶融させ
て吐出する溶射機と、その溶射機に対し連結配管を介し
て連結されて該連結配管を経由して前記溶射機に粉末材
料を供給する供給機とを備えた溶射システムであって、
前記粉末材料が、小粒子径側からの積算粒子体積が全粒
子体積の90%に相当する粒子径(D90%)が20μ
m以下であるとともに、前記供給機にあっては、貯留槽
に貯留される粉末材料の表面近傍に前記連結配管に接続
されたフィードノズルの上流側端部を配置し、そのフィ
ードノズルの上流側端部近傍の雰囲気に比べてフィード
ノズル内の雰囲気を負圧とすることでフィードノズル内
に粉末材料が吸引されるように構成し、前記溶射機にあ
っては、加熱して軟化又は溶融された粉末材料が、噴出
口から噴出される圧縮ガスによる筒状の気流の内側を通
過して吐出されるように構成したことを特徴とする溶射
システム。本溶射システムの場合、他のシステムに比べ
て粉末材料が安定して溶射機に供給され、スピッティン
グが発生することなく安定した溶射施工が可能になる。
このため、より確実に緻密で表面粗さの小さい溶射皮膜
を形成することができる。
【0052】
【発明の効果】本発明は、以上のように構成されている
ため、次のような効果を奏する。請求項1から請求項4
に記載の発明によれば、緻密で表面粗さの小さい溶射皮
膜を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 (a)は第1実施形態における溶射機を示す
側断面図、(b)は同正面図、(c)は同背面図。
【図2】 第1実施形態における供給機を示す模式図。
【図3】 第2実施形態における溶射機を示す模式図。
【図4】 第3実施形態における溶射機を示す模式図。
【図5】 第4実施形態における溶射機を示す側断面
図。
【符号の説明】
11…溶射機としての溶射ガン、12…供給機、16…
連結配管としての搬送チューブ、18…噴出口、20…
気流、24…貯留槽、26…フィードノズル、L…噴射
ノズルの長さ。
フロントページの続き (72)発明者 大澤 悟 愛知県西春日井郡西枇杷島町地領2丁目1 番地の1 株式会社フジミインコーポレー テッド内 Fターム(参考) 4D075 AA18 BB29X BB56X CA48 DA06 DA23 DB01 EA15 EB01 4K031 CB18 DA01 DA04 EA07

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 供給機から連結配管を経由して供給され
    る粉末材料を溶射機において加熱して軟化又は溶融させ
    て吐出する溶射方法であって、 小粒子径側からの積算粒子体積が全粒子体積の90%に
    相当する粒子径(D90%)が20μm以下である粉末
    材料を使用するとともに、 貯留槽に貯留される粉末材料の表面近傍に前記連結配管
    に接続されたフィードノズルの上流側端部を配置し、そ
    のフィードノズルの上流側端部近傍の雰囲気に比べてフ
    ィードノズル内の雰囲気を負圧とすることでフィードノ
    ズル内に粉末材料を吸引する機構を有した供給機を使用
    し、 加熱して軟化又は溶融された粉末材料を、噴出口から噴
    出される圧縮ガスによる筒状の気流の内側を通過させて
    吐出する機構を有した溶射機を使用することを特徴とす
    る溶射方法。
  2. 【請求項2】 供給機から連結配管を経由して供給され
    る粉末材料を溶射機において加熱して軟化又は溶融させ
    て吐出する溶射方法であって、 小粒子径側からの積算粒子体積が全粒子体積の90%に
    相当する粒子径(D90%)が20μm以下である粉末
    材料を使用するとともに、 貯留槽に貯留される粉末材料の表面近傍に前記連結配管
    に接続されたフィードノズルの上流側端部を配置し、そ
    のフィードノズルの上流側端部近傍の雰囲気に比べてフ
    ィードノズル内の雰囲気を負圧とすることでフィードノ
    ズル内に粉末材料を吸引する機構を有した供給機を使用
    し、 噴射ノズル内で燃料及び酸素を燃焼させ、そのときに生
    じる燃焼ガスによって同噴射ノズル内で粉末材料を加熱
    して軟化又は溶融させて加速し、同噴射ノズルから直接
    外部に吐出する機構を有した溶射機を使用することを特
    徴とする溶射方法。
  3. 【請求項3】 供給機から連結配管を経由して供給され
    る粉末材料を溶射機において加熱して軟化又は溶融させ
    て吐出する溶射方法であって、 小粒子径側からの積算粒子体積が全粒子体積の90%に
    相当する粒子径(D90%)が20μm以下である粉末
    材料を使用するとともに、 貯留槽に貯留される粉末材料の表面近傍に前記連結配管
    に接続されたフィードノズルの上流側端部を配置し、そ
    のフィードノズルの上流側端部近傍の雰囲気に比べてフ
    ィードノズル内の雰囲気を負圧とすることでフィードノ
    ズル内に粉末材料を吸引する機構を有した供給機を使用
    し、 加熱して軟化又は溶融された粉末材料を、8センチメー
    トル以下の長さの噴射ノズルを通過して吐出する機構を
    有した溶射機を使用することを特徴とする溶射方法。
  4. 【請求項4】 供給機から連結配管を経由して供給され
    る粉末材料を溶射機において加熱して軟化又は溶融させ
    て吐出する溶射方法であって、 小粒子径側からの積算粒子体積が全粒子体積の90%に
    相当する粒子径(D90%)が20μm以下である粉末
    材料を使用するとともに、 貯留槽に貯留される粉末材料の表面近傍に前記連結配管
    に接続されたフィードノズルの上流側端部を配置し、そ
    のフィードノズルの上流側端部近傍の雰囲気に比べてフ
    ィードノズル内の雰囲気を負圧とすることでフィードノ
    ズル内に粉末材料を吸引する機構を有した供給機を使用
    し、 吐出口の外部で粉末材料を加熱して軟化又は溶融させて
    加速する機構を有したプラズマ溶射機を使用することを
    特徴とする溶射方法。
JP2001317497A 2001-10-15 2001-10-15 溶射方法 Pending JP2003129212A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001317497A JP2003129212A (ja) 2001-10-15 2001-10-15 溶射方法
PCT/JP2002/010685 WO2003033756A1 (fr) 2001-10-15 2002-10-15 Procede et systeme de pulverisation thermique
US10/492,824 US20050000424A1 (en) 2001-10-15 2002-10-15 Method and system for thermal spraying
EP02801574A EP1445343A4 (en) 2001-10-15 2002-10-15 METHOD AND SYSTEM FOR THERMAL SPRAYING

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001317497A JP2003129212A (ja) 2001-10-15 2001-10-15 溶射方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003129212A true JP2003129212A (ja) 2003-05-08

Family

ID=19135358

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001317497A Pending JP2003129212A (ja) 2001-10-15 2001-10-15 溶射方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20050000424A1 (ja)
EP (1) EP1445343A4 (ja)
JP (1) JP2003129212A (ja)
WO (1) WO2003033756A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1674589A2 (en) 2004-12-21 2006-06-28 Fujimi Incorporated Thermal spraying powder, thermal spraying method, and method for forming thermal spray coating
JP2009179846A (ja) * 2008-01-30 2009-08-13 Nippon Steel Hardfacing Co Ltd 溶射装置及び噴射口部材
KR100924821B1 (ko) 2009-06-16 2009-11-03 주식회사 봉화라이너 용사장치
US8066795B2 (en) 2006-09-12 2011-11-29 Fujimi Incorporated Thermal spray powder and thermal spray coating

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1510593A1 (en) * 2003-08-28 2005-03-02 Siemens Aktiengesellschaft Process for coating a component, component and powder
US20070210182A1 (en) * 2005-04-26 2007-09-13 Spraying Systems Co. System and Method for Monitoring Performance of a Spraying Device
US20060237556A1 (en) * 2005-04-26 2006-10-26 Spraying Systems Co. System and method for monitoring performance of a spraying device
WO2007002071A1 (en) 2005-06-21 2007-01-04 Ams Research Corporation Apparatus for securing a urethral sling to pubic bone
EP1988185A1 (de) * 2007-04-25 2008-11-05 Sulzer Metco AG Computergestütztes Verfahren zum Einstellen partikelspezifischer Parameter in einem thermischen Spritzprozess

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH127548A (de) * 1927-06-14 1928-09-01 Schoop Max Dr Ulrich Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von homogenen und glatten Metallüberzügen, insbesondere für graphische Zwecke.
US2786779A (en) * 1953-02-09 1957-03-26 Dewrance & Co Method and apparatus for powdered metal deposition by oxy-fuel gas flame
GB757711A (en) * 1953-05-27 1956-09-26 Dewrance & Co Improvements in or relating to torches for forming flames from combustible gases such as oxygen and acetylene and supplying metal powder to the flames
US2800419A (en) * 1953-11-27 1957-07-23 Coast Metals Inc Method and apparatus for hard surfacing metals
US2876732A (en) * 1954-01-13 1959-03-10 Dewrance & Co Apparatus for depositing an annular metal coating upon a work-piece
LU34348A1 (ja) * 1955-05-02
DE1571153A1 (de) * 1962-08-25 1970-08-13 Siemens Ag Plasmaspritzpistole
GB1520301A (en) * 1975-06-25 1978-08-09 Zachry Co H B Coating system using tape encapsulated particulate coating material
NL7600738A (nl) * 1976-01-23 1977-07-26 Plasmainvent Ag Inrichting voor het plasma-spuiten.
DE3006558A1 (de) * 1979-02-21 1980-09-04 Nippon Oxygen Co Ltd Brenner zur pulverspruehbeschichtung
JPS55111859A (en) * 1979-02-21 1980-08-28 Nippon Sanso Kk Supplying method of pulverized material to be flame-sprayed
JPS5811261B2 (ja) * 1980-04-11 1983-03-02 新日本製鐵株式会社 固体潤滑剤を含有する溶射皮膜の形成法
US4546902A (en) * 1981-11-02 1985-10-15 Anderson James Y Apparatus for controlling the rate of fluent material
EP0163776A3 (en) * 1984-01-18 1986-12-30 James A. Browning Highly concentrated supersonic flame spray method and apparatus with improved material feed
JPS61210170A (ja) * 1985-03-14 1986-09-18 Hitachi Zosen Corp セラミツク粉体の溶射方法
US4696855A (en) * 1986-04-28 1987-09-29 United Technologies Corporation Multiple port plasma spray apparatus and method for providing sprayed abradable coatings
US4869936A (en) * 1987-12-28 1989-09-26 Amoco Corporation Apparatus and process for producing high density thermal spray coatings
WO1989007016A1 (en) * 1988-02-01 1989-08-10 Nova-Werke Ag Device for producing an inert gas envelope for plasma spraying
JP2770968B2 (ja) * 1988-12-12 1998-07-02 バブコツク日立株式会社 高エネルギー溶射用クロム炭化物−メタル複合粉末
DE3927168A1 (de) * 1989-08-17 1991-02-21 Hoechst Ag Verfahren zum thermischen spritzen von oxidkeramischen supraleitenden materialien
US5013883A (en) * 1990-05-18 1991-05-07 The Perkin-Elmer Corporation Plasma spray device with external powder feed
DE4210900A1 (de) * 1992-04-02 1993-10-14 Hoechst Ag Verfahren zur Herstellung eines haftfesten Verbundes zwischen Kupferschichten und Keramik
DE19838275A1 (de) * 1998-08-22 2000-02-24 Itw Gema Ag Manuelle Sprühbeschichtungspistole
JP2001181817A (ja) * 1999-12-22 2001-07-03 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 溶射方法及び溶射装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1674589A2 (en) 2004-12-21 2006-06-28 Fujimi Incorporated Thermal spraying powder, thermal spraying method, and method for forming thermal spray coating
JP2006176818A (ja) * 2004-12-21 2006-07-06 Fujimi Inc 溶射用粉末
US8066795B2 (en) 2006-09-12 2011-11-29 Fujimi Incorporated Thermal spray powder and thermal spray coating
DE102007043138B4 (de) * 2006-09-12 2015-09-24 Fujimi Incorporated Thermisches Spritzpulver und thermische Spritzbeschichtung
JP2009179846A (ja) * 2008-01-30 2009-08-13 Nippon Steel Hardfacing Co Ltd 溶射装置及び噴射口部材
KR100924821B1 (ko) 2009-06-16 2009-11-03 주식회사 봉화라이너 용사장치

Also Published As

Publication number Publication date
EP1445343A1 (en) 2004-08-11
EP1445343A4 (en) 2004-11-24
WO2003033756A1 (fr) 2003-04-24
US20050000424A1 (en) 2005-01-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1407824B1 (en) High-velocity flame spray gun and spray method using the same
US20200331012A1 (en) Plasma transfer wire arc thermal spray system
US9932673B2 (en) Microwave plasma apparatus and method for materials processing
US5043548A (en) Axial flow laser plasma spraying
WO1997036692A1 (en) Thermal spray systems
US20060289405A1 (en) Method and apparatus for fine particle liquid suspension feed for thermal spray system and coatings formed therefrom
EP0379119A1 (en) Shrouded thermal spray gun and method
US6372298B1 (en) High deposition rate thermal spray using plasma transferred wire arc
JP2003129212A (ja) 溶射方法
CN104941833A (zh) 一种等离子喷嘴、喷枪以及喷涂方法
JPH06312149A (ja) 溶射による高密度酸素コーティング
WO2013105613A1 (ja) アモルファス皮膜の形成装置および形成方法
JP2005002446A (ja) スラリー状微粉末供給方法及び装置
JPH0551722A (ja) プラズマ溶射方法とその装置及びその方法によつて得られる溶射膜
JP2009120913A (ja) 成膜用ノズルおよび成膜方法ならびに成膜部材
JP2016156058A (ja) プラズマ溶射装置及びプラズマ溶射方法
JP4164610B2 (ja) プラズマ溶射装置
KR101986306B1 (ko) 진공 서스펜션 플라즈마 용사장치 및 진공 서스펜션 플라즈마 용사방법
JP2021141003A (ja) 2次電池の製造方法または2次電池
JP2020514534A (ja) ノズル構造
CN113088864B (zh) 一种电场辅助电弧喷涂装置及方法
JP2005185976A (ja) 高速フレーム溶射装置及び高速フレーム溶射方法
WO2023171751A1 (ja) 石英部材の製造方法、及びシリカ粉の溶射コーティング方法
JP3265359B2 (ja) コーティング方法
JP2012162777A (ja) プラズマ溶射方法及びプラズマ溶射装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041012

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070515

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070925