JP2003121858A

JP2003121858A - 液晶表示装置

Info

Publication number: JP2003121858A
Application number: JP2001316287A
Authority: JP
Inventors: Ryutaro Oke; 隆太郎桶; Kikuo Ono; 記久雄小野; Takahiro Ochiai; 孝洋落合
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 2001-10-15
Filing date: 2001-10-15
Publication date: 2003-04-23

Abstract

(57)【要約】【課題】画素スペーサとブラックマトリクス（画素遮
光部）および周辺遮光部をフィルタ材料により所要の高
さに形成する。【解決手段】カラーフィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ３を形成
するフィルタ材料ＣＦ１，ＣＦ２，ＣＦ３を用い、それ
ぞれの部位を構成する当該フィルタ材料の膜厚を独立に
制御して画素スペーサＳＰとブラックマトリクスＢＭお
よび周辺遮光部ＢＭＳを所要の高さに形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
り、特に液晶を封止した一対の基板間の間隙を一定に保
つための新規な構成のスペーサを備えた液晶表示装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】ノート型コンピユータやコンピユータモ
ニター用の高精細かつカラー表示が可能な表示デバイス
として液晶表示装置が広く採用されている。この種の液
晶表示装置は、基本的には少なくとも一方が透明なガラ
ス等からなる少なくとも２枚の基板の対向間隙に液晶組
成物（以下、単に液晶、あるいは液晶層とも言う）を挟
持して構成した所謂液晶パネルと、上記液晶パネルの基
板に形成した電極類を通して画素電極に選択的に電圧を
印加して所定画素の点灯と消灯を行う形式（単純マトリ
クス型液晶表示装置）、上記各種電極と画素選択用のア
クティブ素子を形成してこのアクティブ素子を選択する
ことにより所定画素の点灯と消灯を行う形式（アクティ
ブマトリクス型液晶表示装置）とに大きく分類される。

【０００３】アクティブマトリクス型液晶表示装置は、
その液晶パネルを構成するアクティブ素子としては様々
な素子が用いられているが、その内でも薄膜トランジス
タ（ＴＦＴ）を用いたものが代表的である。それ故、こ
こではスイッチング素子を薄膜トランジスタとして説明
する。

【０００４】薄膜トランジスタを用いた液晶パネルを具
備する液晶表示装置は、薄い軽量かつブラウン管に匹敵
する高画質であるということから、ＯＡ機器の表示端末
用モニター等として広く普及している。

【０００５】この液晶表示装置の表示方式には、液晶パ
ネルの駆動方法の相違から大別して次の２通りがある。
その１つは、透明電極がそれぞれ形成された２枚の基板
で液晶組成物を挟み込み、透明電極に印加された電圧で
動作させ、透明電極を透過し液晶組成物の層に入射した
光を変調して表示する方式であり、現在普及している製
品の多くはこの方式を採用している。この方式の液晶表
示装置を縦電界型またはＴＮ型と略称している。

【０００６】また、もう１つは、同一基板上に構成した
２つの電極の間で基板面にほぼ平行に形成した電界によ
り動作させ、２つの電極の隙間から液晶組成物の層に入
射した光を変調して表示する方式の液晶パネルを用いた
ものであり、視野角が著しく広いという特徴を持ち、ア
クティブマトリクス型液晶表示装置として極めて高画質
な方式である。この方式の液晶表示装置を横電界型また
はＩＰＳ型と略称している。

【０００７】上記何れの形式の液晶表示装置において
も、液晶を挟持する２枚の基板の間隙（セルギャップ）
を所定値に維持するために表示領域にスペーサを設けて
いる。このスペーサには、無機系あるいはプラスチック
系の球状のスペーサ（ビーズ）を表示領域に分散配置し
たもの、あるいは一方の基板側（または、双方の基板
側）の表示領域に固定的に形成した柱状スペーサを配置
したものが知られている。

【０００８】また、表示領域の各画素を区画する、所謂
ブラックマトリクスをフィルタ材料の重ね合わせで形成
したり、表示領域を囲む周辺領域にもフィルタ材料を設
けて表示領域の外周の遮光を確保するものもある。ある
いは、画素部のスペーサとしてフィルタ材料を用いたも
のもある。

【０００９】なお、参考文献として、カラーフィルタを
形成した基板側の保護膜に柱状スペーサを基板に固定的
に形成し、あるいはカラーフィルタを構成するフィルタ
材料を積層して柱状スペーサを固定的に形成したものが
特開平９−７３０８８号公報に開示されている。この文
献に開示の発明は、球状のスペーサを用いた場合に当該
スペーサの周辺部からの光漏れによるコントラストの低
下やスペーサを基板上に散布する工程でスペーサが不均
一に配置されることによる表示不良の防止のため、柱状
スペーサを基板に固定的に形成するものである。また、
フィルタ材料を重ねて表示領域における画素部の間隙を
維持する柱状の画素スペーサあるいは表示領域の周辺部
の遮光を行う周辺遮光部を構成するもの、も多数提案さ
れている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】画素スペーサ、画素遮
光部（ブラックマトリクス）、周辺遮光部をカラーフィ
ルタと同様のフィルタ材料で形成することで液晶表示装
置の製造プロセスを簡略して低コスト化することができ
る。しかし、画素スペーサや画素遮光部、あるいは周辺
遮光部をフィルタ材料で形成しようとしても、それぞれ
のフィルタ材料の形成を従来のフォトマスクを用いた露
光方法を用いる限り、当該カラーフィルタとブラックマ
トリクス、画素スペーサおよび周辺遮光部の各部位のフ
ィルタ材料それぞれの膜厚を独立して制御することがで
きないため、基板方向の高さをそれぞれの部位に必要な
高さとすることができない。

【００１１】本発明の目的は、画素スペーサとブラック
マトリクスおよび周辺遮光部をフィルタ材料により所要
の高さに形成した液晶表示装置を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、カラーフィルタを形成するフィルタ材料
を用い、それぞれの部位を構成するフィルタ材料の膜厚
を独立に制御することで、画素スペーサとブラックマト
リクスおよび周辺遮光部を所要の高さに形成したことを
特徴とする。以下、本発明の代表的な構成を記述する。

【００１３】（１）、少なくとも一方が透明な第１の基
板と第２の基板の何れかの表示領域を含んで形成された
カラー表示のための画素毎に色の異なる３種類のフィル
タ材料からなるフィルタ素子で形成されたカラーフィル
タと、前記フィルタ素子毎に形成した画素電極と、前記
フィルタ素子を区画する画素遮光膜と、前記表示領域の
周囲に形成された周辺遮光膜と、前記第１の基板または
前記第２の基板の何れかに設けられて当該第１の基板と
第２の基板の間の間隔を規制する柱状スペーサと、前記
画素電極毎に設けられて当該画素電極を駆動するスイッ
チング素子と、前記スイッチング素子に駆動信号を供給
する電極群と、前記第１の基板と第２の基板の間に挟持
された液晶と、前記液晶と接して前記第１の基板と第２
の基板の双方に形成されて液晶の分子配列を所定の方向
に配列させるための配向層と、を有する液晶パネルと、
前記電極群に表示のための駆動電圧を印加するための駆
動手段を具備し、前記画素遮光膜と前記周辺遮光膜およ
び前記柱状スペーサの各部位を、膜厚が異なる前記フィ
ルタ材料で構成した。

【００１４】（２）、（１）において、前記画素遮光膜
と前記周辺遮光膜および前記柱状スペーサを、前記フィ
ルタ材料の一つで構成した。

【００１５】（３）、（１）において、前記画素遮光部
と前記周辺遮光部および前記柱状スペーサを、前記フィ
ルタ材料の２つの重ね合わせで構成した。

【００１６】（４）、（１）において、前記画素遮光部
と前記周辺遮光部および前記柱状スペーサを、前記フィ
ルタ材料の３つの重ね合わせで構成した。

【００１７】（５）、（１）〜（４）の何れかにおい
て、前記電極群は前記スイッチング素子が形成された前
記一方の基板上に有し、当該基板の一方向に所定の方向
に延在して平行配置された複数の信号線と、上記一方向
と交差する他方向に延在して平行配置された複数の走査
線を有し、前記柱状スペーサを上記信号線上に有する。

【００１８】（６）、（１）〜（４）の何れかにおい
て、前記電極群は前記一方の基板の一方向に所定の方向
に延在して平行配置された複数の信号線と、上記一方向
と交差する他方向に延在して平行配置された複数の走査
線を有し、前記柱状スペーサを前記他方の基板の上記走
査線上に有する。

【００１９】（７）、（５）または（６）の何れかにお
いて、前記カラーフィルタと前記画素遮光部および前記
周辺遮光部および前記柱状スペーサが前記基板の一方に
有する。

【００２０】（８）、（５）または（６）の何れかにお
いて、前記カラーフィルタと前記画素遮光部および前記
周辺遮光部および前記柱状スペーサが前記基板の他方に
有する。

【００２１】（９）、少なくとも一方が透明な第１の基
板と第２の基板の何れかの表示領域を含んで形成された
カラー表示のための画素毎に色の異なる３種類のフィル
タ材料からなるフィルタ素子で形成されたカラーフィル
タと、少なくとも前記フィルタ素子毎に形成した画素電
極と、前記表示領域の周囲に形成された周辺遮光膜と、
前記第１の基板または前記第２の基板の何れかに設けら
れて当該第１の基板と第２の基板の間の間隔を規制する
柱状スペーサと、前記画素電極毎に設けられて当該画素
電極を駆動するスイッチング素子と、前記スイッチング
素子に駆動信号を供給する電極群と、前記第１の基板と
第２の基板の間に挟持された液晶と、前記液晶と接して
前記第１の基板と第２の基板の双方に形成されて液晶の
分子配列を所定の方向に配列させるための配向層と、を
有する液晶パネルと、前記電極群に表示のための駆動電
圧を印加するための駆動手段とを具備し、前記カラーフ
ィルタの膜厚が１画素内で色純度の高い膜厚の厚い領域
と、透過率の高い膜厚の薄い領域を有する。

【００２２】なお、本発明は、上記の構成および後述す
る実施例の構成に限定されるものではなく、本発明の技
術思想を逸脱することなく種々の変更が可能であること
は言うまでもない。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、実施例の図面を参照して詳細に説明する。

【００２４】図１は本発明による液晶表示装置の第１実
施例を説明する液晶パネルの画素領域のコーナー部の要
部平面図、図２は図１の１−１’線の沿った断面図、図
３は図１の２−２’線の沿った断面図、図４は図１の３
−３’線の沿った断面図である。

【００２５】図１〜図４において、参照符号ＣＦ１は第
１色カラーフィルタ（フィルタ素子、以下同じ）を形成
する第１のフィルタ材料、ＣＦ２は第２色カラーフィル
タを形成する第２のフィルタ材料、ＣＦ３は第３色カラ
ーフィルタを形成する第３のフィルタ材料である。参照
符号ＢＭは画素遮光部（所謂、ブラックマトリクス）、
ＢＭＳは画素領域を囲む周辺遮光部、ＳＰは柱状スペー
サを示し、ここでは、当該柱状スペーサＳＰが形成され
る位置で示す。ＧＬはゲート線、ＤＬはドレイン線、Ｇ
Ｎはゲート絶縁層、ＰＡＳはパッシベーション層を示
す。

【００２６】本実施例は、スイッチング素子として薄膜
トランジスタを用い、第１の基板上に薄膜トランジスタ
を形成し、この第１の基板側にカラーフィルタを形成す
る。各色の画素は対応するカラーフィルタの上層に形成
された画素電極ＩＴＯを有し、ブラックマトリクスＢＭ
は各画素の周縁に位置する。こでは、例えば第１色カラ
ーフィルタＦ１は赤、第２色カラーフィルタＦ２は緑、
第３色カラーフィルタＦ３は青であり、それぞれ第１の
フィルタ材料ＣＦ１、第２のフィルタ材料ＣＦ２、第３
のフィルタ材料ＣＦ３で形成されている。薄膜トランジ
スタと信号線の一部は図示を省略してある。柱状スペー
サＳＰはドレイン線ＤＬ上に形成される。

【００２７】参照符号ＳＵＢ１は第１の基板であり、こ
の第１の基板ＳＵＢ１の上にゲート絶縁層ＧＮ、ゲート
線ＧＬ、パッシベーション層ＰＡＳが形成されている。
本実施例では、パッシベーション層ＰＡＳの上に第１の
フィルタ材料ＣＦ１で第１色カラーフィルタＦ１と柱状
スペーサＳＰおよび画素遮光部ＢＭと周辺遮光部ＢＭＳ
とが形成されている。第２のフィルタ材料ＣＦ２と第３
のフィルタ材料ＣＦ３はそれぞれ第２色のカラーフィル
タＦ２と第３色のカラーフィルタＦ３のみを形成してい
る。そして、画素電極ＩＴＯがそれぞれのカラーフィル
タ（Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３）の上に形成されている。

【００２８】第１のフィルタ材料ＣＦ１、第２のフィル
タ材料ＣＦ２および第３のフィルタ材料ＣＦ３の膜厚
は、それぞれのカラーフィルタ（Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３）部
位では同一であり、画素の色純度を決定する厚さとなっ
ている。第１色のフィルタ材料ＣＦ１の柱状スペーサＳ
Ｐの部位の膜厚は柱状スペーサＳＰに要する高さとなる
ような膜厚に形成され、また周辺遮光膜ＢＭＳの部位で
は当該周辺遮光膜ＢＭＳに要する高さとなる膜厚に形成
されている。

【００２９】このように、本実施例では、薄膜トランジ
スタとカラーフィルタを有する第１の基板ＳＵＢ１にフ
ィルタ材料を用いて柱状スペーサＳＰと画素遮光部ＢＭ
および周辺遮光部ＢＭＳを形成している。柱状スペーサ
ＳＰはドレイン線ＤＬ上に形成されている。そして、柱
状スペーサＳＰと画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭ
Ｓを第１のフィルタ材料ＣＦ１の単層で形成され、その
膜厚は厚い順に柱状スペーサＳＰ、画素遮光部ＢＭ、周
辺遮光部ＢＭＳである。次に、本実施例のカラーフィル
タＦ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサＳＰ、画素遮光部Ｂ
Ｍおよび周辺遮光部ＢＭＳの形成方法を説明する。

【００３０】図４１は本発明の第１実施例の液晶表示装
置の製造プロセスのうちのカラーフィルタ、柱状スペー
サＳＰ、画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳの形成
方法を説明する部分工程図、図４２は図４１に続く部分
工程図、図４３は図４２に続く部分工程図である。図４
１→図４２→図４３の各プロセス順で本実施例の工程を
説明する。先ず、薄膜トランジスタ形成工程を経た第１
の基板ＳＵＢ１上に第１のフィルタ材料ＣＦ１を成膜す
る（図４１（ａ））。なお、第１の基板ＳＵＢ１は図示
を省略した。ここでは、フィルタ材料の成膜は第１色カ
ラーの顔料を分散させた感光性スラリーを塗布し、乾燥
して得られる。他の成膜手段を用いてもよいことは言う
までもない。以下の実施例でも同様である。

【００３１】次に、第１の露光マスクＰＭ１を用いて成
膜した第１のフィルタ材料ＣＦ１を露光する（図４１
（ｂ））。この第１の露光マスクＰＭ１は第１の開口Ｈ
１と第２の開口Ｈ２および第３の開口Ｈ３を有してい
る。第１の開口Ｈ１は露光マスクを透過する露光光の強
度が高い第１レベル、第２の開口Ｈ２は中間の第２レベ
ル、第３の開口Ｈ３は低い第３レベルとなるように設定
されている。具体的には、第１の開口Ｈ１を完全開口と
し、第２の開口Ｈ２と第３の開口Ｈ３は開口に遮光ドッ
トを設け、通過する露光光の一部を遮断することで、露
光マスクを通過する露光光がそれぞれ中レベルと低レベ
ルになるようにしている。

【００３２】また、露光マスクを透過する露光光の強度
レベルの設定手段としては、上記の他に、例えば濃度調
整フィルタを所要の開口に設けてフィルタ材料に達する
露光光のレベルを調節したり、強度レベルが高い部分に
ついては、多数回露光を施して所要の露光レベルを得る
ようにすることもできる。

【００３３】露光マスクＰＭ１による露光を施した第１
のフィルタ材料ＣＦ１の層を現像し、未露光部分を除去
することで、所要の部分に露光量に応じたそれぞれの厚
さをもって残存する第１のフィルタ材料ＣＦ１のパター
ンが得られる（図４１（ｃ））。このパターンのうち、
露光マスクＰＭ１の第１の開口Ｈ１で露光された部分の
最も高さが高い部分は柱状スペーサＳＰに相当し、中間
の高さの部分は画素遮光部および周辺遮光部に相当す
る。そして、最も高さが低い部分は各画素のカラーフィ
ルタ部分に相当する。

【００３４】次に、第１のフィルタ材料ＣＦ１のパター
ンを覆って第２のフィルタ材料ＣＦ２を成膜し、第４の
開口Ｈ４を有する第２の露光マスクＰＭ２を介して露光
を行う（図４２（ｄ））。第４の開口Ｈ４は第１の露光
マスクに有する第１の開口Ｈ１と同様の露光光の強度レ
ベルを有し、かつその開口の幅が第２色カラーフィルタ
の領域となる。露光した第２のフィルタ材料ＣＦ２の層
を現像して未露光部分を除去することで露光部分に第２
のフィルタ材料ＣＦ２のパターンを残留させる（図４２
（ｅ））。

【００３５】そして、第１のフィルタ材料ＣＦ１と第２
のフィルタ材料ＣＦ２のパターンを覆って第３のフィル
タ材料ＣＦ３を成膜し、これを第３の露光マスクＰＭ３
を介して露光する（図４３（ｆ））。第３の露光マスク
ＰＭ３の開口Ｈ４は第２の露光マスクＰＭ２の開口と同
様で、第３色カラーフィルタの領域に相当する幅を有す
る。露光した第３のフィルタ材料ＣＦ３の層を現像して
未露光部分を除去することで露光部分に第３のフィルタ
材料ＣＦ３のパターンを残留させる（図４３（ｇ））。

【００３６】この一連のプロセスにより、図４３（ｇ）
に示したように、柱状スペーサＳＰ、画素遮光部ＢＭ
（および、図示しない周辺遮光部ＢＭＳ）と、３色のカ
ラーフィルタ（第１色カラーフィルタＦ１、第２色カラ
ーフィルタＦ２、第３色カラーフィルタＦ３）が形成さ
れる。なお、周辺遮光部ＢＭＳは図示していないが、そ
の高さは画素遮光部ＢＭと同じで表示領域の最外側の位
置に形成される。

【００３７】本実施例により、所定の色純度となるカラ
ーフィルタの膜厚、所定のギャップとなる柱状スペー
サ、所定の膜厚となる画素遮光部および周辺遮光部を同
一材料、同一プロセスで形成できるため、液晶表示装置
のあらゆる仕様に対応することができる。そして、柱状
スペーサの形成にフィルタ材料の重ね合わせが不要であ
り、加工プロセスの信頼性が高く、かつギャップの面内
均一性が向上する。

【００３８】図５は本発明による液晶表示装置の第２実
施例を説明する図１の１−１’線の沿った断面図、図６
は図１の２−２’線の沿った断面図、図７は図１の３−
３’線の沿った断面図である。図１〜図４と同一参照符
号は同一機能部分に対応する。本実施例も、前記第１実
施例と同様に、カラーフィルタは薄膜トランジスタを形
成した第１の基板ＳＵＢ１上に形成し、かつ柱状スペー
サＳＰはドレイン線ＤＬ上に形成する。

【００３９】本実施例では、柱状スペーサＳＰと画素遮
光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳは第１色〜第３色カラ
ーフィルタのフィルタ材料のうちの２層で形成する。カ
ラーフィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサＳＰ、遮
光部（画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳ）のそれ
ぞれの膜厚は液晶表示装置の仕様により決定する。図５
に示したように、第１の基板ＳＵＢ１上には、ゲート絶
縁層ＧＮを介してドレイン線ＤＬが形成されている。こ
の上をパッシベーション層ＰＡＳが覆っており、その上
層に第１色カラーフィルタＦ１、第２色カラーフィルタ
Ｆ２、第３色カラーフィルタＦ３、画素遮光部ＢＭ、周
辺遮光部ＢＭＳ、および柱状スペーサＳＰが形成されて
いる。

【００４０】画素遮光部ＢＭと周辺遮光部ＢＭＳおよび
柱状スペーサＳＰのそれぞれは、膜厚が異なる第１フィ
ルタ材料ＣＦ１と第２フィルタ材料ＣＦ２との重ね合わ
せで構成されている。以下、本実施例のカラーフィルタ
Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサＳＰ、画素遮光部ＢＭ
および周辺遮光部ＢＭＳの形成方法を説明する。

【００４１】図４４は本発明の第２実施例の液晶表示装
置の製造プロセスのうちのカラーフィルタ、柱状スペー
サＳＰ、画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳの形成
方法を説明する部分工程図、図４５は図４４に続く部分
工程図、図４６は図４５に続く部分工程図である。図４
４→図４５→図４６の各プロセス順で本実施例の工程を
説明する。先ず、薄膜トランジスタ形成工程を経た第１
の基板ＳＵＢ１上に第１のフィルタ材料ＣＦ１を成膜
し、第１の露光マスクＰＭ１１を用いて成膜した第１の
フィルタ材料ＣＦ１を露光する（図４４（ａ））。

【００４２】第１の露光マスクＰＭ１１は第１の開口Ｈ
１と第２の開口Ｈ２および第３の開口Ｈ３を有してい
る。前記した図４１〜図４３と同様に、第１の開口Ｈ１
は露光マスクを透過する露光光の強度が高い第１レベ
ル、第２の開口Ｈ２は中間の第２レベル、第３の開口Ｈ
３は低い第３レベルとなるように設定されている。

【００４３】露光マスクＰＭ１１による露光を施した第
１のフィルタ材料ＣＦ１の層を現像し、未露光部分を除
去することで、所要の部分に露光量に応じたそれぞれの
厚さをもって残存する第１のフィルタ材料ＣＦ１のパタ
ーンが得られる（図４４（ｂ））。このパターンのう
ち、露光マスクＰＭ１１の第１の開口Ｈ１で露光された
部分の最も高さが高い部分は柱状スペーサＳＰに相当
し、中間の高さの部分は画素遮光部および周辺遮光部に
相当する。

【００４４】次に、第１のフィルタ材料ＣＦ１のパター
ンを覆って第２のフィルタ材料ＣＦ２を成膜し（図４４
（ｃ））、第１の開口ＨＩ，第２の開口Ｈ２および第３
の開口Ｈ３を有する第２の露光マスクＰＭ１２を介して
露光を施す（図４５（ｄ））。露光後、現像して第２の
フィルタ材料ＣＦ２の未露光部分を除去し、露光部分に
第２のフィルタ材料ＣＦ２のパターンを残留させる（図
４５（ｅ））。

【００４５】そして、第１のフィルタ材料ＣＦ１と第２
のフィルタ材料ＣＦ２のパターンを覆って第３のフィル
タ材料ＣＦ３を成膜し（図４５（ｆ））、これを第３の
露光マスクＰＭ１３を介して露光する（図４６
（ｇ））。第３の露光マスクＰＭ１３の開口Ｈ１は第３
色カラーフィルタＦ３の領域に相当する幅を有する。露
光した第３のフィルタ材料ＣＦ３の層を現像して未露光
部分を除去することで露光部分に第３のフィルタ材料Ｃ
Ｆ３のパターンを残留させる（図４６（ｈ））。

【００４６】この一連のプロセスにより、図４６（ｈ）
に示したように、柱状スペーサＳＰ、第１のフィルタ材
料ＣＦ１と第２のフィルタ材料ＣＦ２の重なりで構成さ
れる画素遮光部ＢＭ（および、図示しない周辺遮光部Ｂ
ＭＳ）と、３色のカラーフィルタ（第１色カラーフィル
タＦ１、第２色カラーフィルタＦ２、第３色カラーフィ
ルタＦ３）が形成される。なお、周辺遮光部ＢＭＳは図
示していないが、その高さは画素遮光部ＢＭと同じで表
示領域の最外側の位置に形成される。

【００４７】本実施例により、所定の色純度となるカラ
ーフィルタの膜厚、所定のギャップとなる柱状スペー
サ、所定の膜厚となる画素遮光部および周辺遮光部を同
一材料、同一プロセスで形成できるため、液晶表示装置
のあらゆる仕様に対応することができる。そして、柱状
スペーサの形成にフィルタ材料の重ね合わせが不要であ
り、加工プロセスの信頼性が高く、かつギャップの面内
均一性が向上する。

【００４８】図８は本発明による液晶表示装置の第３実
施例を説明する図１の１−１’線の沿った断面図、図８
は図１の２−２’線の沿った断面図、図１０は図１の３
−３’線の沿った断面図である。図１〜図７と同一参照
符号は同一機能部分に対応する。本実施例も、前記第１
および第２実施例と同様に、カラーフィルタは薄膜トラ
ンジスタを形成した第１の基板ＳＵＢ１上に形成し、か
つ柱状スペーサＳＰはドレイン線ＤＬ上に形成する。

【００４９】本実施例では、柱状スペーサＳＰと画素遮
光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳは第１色〜第３色カラ
ーフィルタのフィルタ材料の３層で形成する。カラーフ
ィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサＳＰ、遮光部
（画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳ）のそれぞれ
の膜厚は液晶表示装置の仕様により決定する。図８に示
したように、第１の基板ＳＵＢ１上には、ゲート絶縁層
ＧＮを介してドレイン線ＤＬが形成されている。この上
をパッシベーション層ＰＡＳが覆っており、その上層に
第１色カラーフィルタＦ１、第２色カラーフィルタＦ
２、第３色カラーフィルタＦ３、画素遮光部ＢＭ、周辺
遮光部ＢＭＳ、および柱状スペーサＳＰが形成されてい
る。

【００５０】画素遮光部ＢＭと周辺遮光部ＢＭＳおよび
柱状スペーサＳＰのそれぞれは、膜厚が異なる第１フィ
ルタ材料ＣＦ１と第２フィルタ材料ＣＦ２および第３フ
ィルタ材料ＣＦ３の３層の重ね合わせで構成されてい
る。以下、本実施例のカラーフィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ
３、柱状スペーサＳＰ、画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光
部ＢＭＳの形成方法を説明する。

【００５１】図４７は本発明の第３実施例の液晶表示装
置の製造プロセスのうちのカラーフィルタ、柱状スペー
サＳＰ、画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳの形成
方法を説明する部分工程図、図４８は図４７に続く部分
工程図、図４９は図４８に続く部分工程図である。図４
７→図４８→図４９の各プロセス順で本実施例の工程を
説明する。先ず、薄膜トランジスタ形成工程を経た第１
の基板ＳＵＢ１上に第１のフィルタ材料ＣＦ１を成膜
し、第１の露光マスクＰＭ２１を用いて成膜した第１の
フィルタ材料ＣＦ１を露光する（図４７（ａ））。

【００５２】第１の露光マスクＰＭ２１は第１の開口Ｈ
１と第２の開口Ｈ２および第３の開口Ｈ３を有してい
る。前記した図４１〜図４６と同様に、第１の開口Ｈ１
は露光マスクを透過する露光光の強度が高い第１レベ
ル、第２の開口Ｈ２は中間の第２レベル、第３の開口Ｈ
３は低い第３レベルとなるように設定されている。

【００５３】露光マスクＰＭ２１による露光を施した第
１のフィルタ材料ＣＦ１の層を現像し、未露光部分を除
去することで、所要の部分に露光量に応じたそれぞれの
厚さをもって残存する第１のフィルタ材料ＣＦ１のパタ
ーンが得られる（図４７（ｂ））。

【００５４】次に、第１のフィルタ材料ＣＦ１のパター
ンを覆って第２のフィルタ材料ＣＦ２を成膜し（図４７
（ｃ））、第１の開口ＨＩ，第２の開口Ｈ２および第３
の開口Ｈ３を有する第２の露光マスクＰＭ２２を介して
露光を施す（図４８（ｄ））。露光後、現像して第２の
フィルタ材料ＣＦ２の未露光部分を除去し、露光部分に
第２のフィルタ材料ＣＦ２のパターンを残留させる（図
４８（ｅ））。

【００５５】そして、第１のフィルタ材料ＣＦ１と第２
のフィルタ材料ＣＦ２のパターンを覆って第３のフィル
タ材料ＣＦ３を成膜し（図４８（ｆ））、これを第３の
露光マスクＰＭ３３を介して露光する（図４９
（ｇ））。第３の露光マスクＰＭ３３の開口Ｈ１は第３
色カラーフィルタＦ３の領域に相当する幅を有する。露
光した第３のフィルタ材料ＣＦ３の層を現像して未露光
部分を除去することで露光部分に第３のフィルタ材料Ｃ
Ｆ３のパターンを残留させる（図４９（ｈ））。

【００５６】この一連のプロセスにより、図４９（ｈ）
に示したように、柱状スペーサＳＰ、第１のフィルタ材
料ＣＦ１と第２のフィルタ材料ＣＦ２および第２のフィ
ルタ材料ＣＦ３の重なりで構成される画素遮光部ＢＭ
（および、図示しない周辺遮光部ＢＭＳ）と、３色のカ
ラーフィルタ（第１色カラーフィルタＦ１、第２色カラ
ーフィルタＦ２、第３色カラーフィルタＦ３）が形成さ
れる。なお、周辺遮光部ＢＭＳは図示していないが、そ
の高さは画素遮光部ＢＭと同じで表示領域の最外側の位
置に形成される。

【００５７】本実施例により、所定の色純度となるカラ
ーフィルタの膜厚、所定のギャップとなる柱状スペー
サ、所定の膜厚となる画素遮光部および周辺遮光部を同
一材料、同一プロセスで形成できるため、液晶表示装置
のあらゆる仕様に対応することができる。そして、柱状
スペーサの形成にフィルタ材料の重ね合わせが不要であ
り、加工プロセスの信頼性が高く、かつギャップの面内
均一性が向上する。

【００５８】図１１は本発明による液晶表示装置の第４
実施例を説明する液晶パネルの画素領域のコーナー部の
要部平面図、図１２は図１１の４−４’線の沿った断面
図、図１３は図１１の５−５’線の沿った断面図、図１
４は図１１の６−６’線の沿った断面図である。図１１
〜図１４において、前記各実施例と同一の参照符号は同
一の機能部分に対応する。図１１では柱状スペーサＳＰ
を形成位置で示す。

【００５９】本実施例も、スイッチング素子として薄膜
トランジスタを用い、第１の基板上に薄膜トランジスタ
を形成し、この第１の基板側にカラーフィルタを形成す
る。各色の画素は対応するカラーフィルタの上層に形成
された画素電極ＩＴＯを有し、ブラックマトリクスＢＭ
は各画素の周縁に位置する。こでは、例えば第１色カラ
ーフィルタＦ１は赤、第２色カラーフィルタＦ２は緑、
第３色カラーフィルタＦ３は青であり、それぞれ第１の
フィルタ材料ＣＦ１、第２のフィルタ材料ＣＦ２、第３
のフィルタ材料ＣＦ３で形成されている。薄膜トランジ
スタと信号線の一部は図示を省略してある。柱状スペー
サＳＰはゲート線ＧＬ上に形成される。

【００６０】第１の基板ＳＵＢ１の上にゲート絶縁層Ｇ
Ｎ、ゲート線ＧＬ、パッシベーション層ＰＡＳが形成さ
れている。本実施例では、パッシベーション層ＰＡＳの
上に第１のフィルタ材料ＣＦ１で第１色カラーフィルタ
Ｆ１と柱状スペーサＳＰおよび画素遮光部ＢＭと周辺遮
光部ＢＭＳとが形成されている。画素電極ＩＴＯがそれ
ぞれのカラーフィルタ（Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３）の上に形成
されている。

【００６１】第１のフィルタ材料ＣＦ１、第２のフィル
タ材料ＣＦ２および第３のフィルタ材料ＣＦ３の膜厚
は、それぞれのカラーフィルタ（Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３）部
位では同一であり、画素の色純度を決定する厚さとなっ
ている。第１色のフィルタ材料ＣＦ１の柱状スペーサＳ
Ｐの部位の膜厚は柱状スペーサＳＰに要する高さとなる
ような膜厚に形成され、また周辺遮光膜ＢＭＳの部位で
は当該周辺遮光膜ＢＭＳに要する高さとなる膜厚に形成
されている。

【００６２】このように、本実施例では、薄膜トランジ
スタとカラーフィルタを有する第１の基板ＳＵＢ１にフ
ィルタ材料を用いて柱状スペーサＳＰと画素遮光部ＢＭ
および周辺遮光部ＢＭＳを形成している。柱状スペーサ
ＳＰはゲート線ＧＬ上に形成されている。そして、柱状
スペーサＳＰと画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳ
を第１のフィルタ材料ＣＦ１の単層で形成され、その膜
厚は厚い順に柱状スペーサＳＰ、画素遮光部ＢＭと周辺
遮光部ＢＭＳである。次に、本実施例のカラーフィルタ
Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサＳＰ、画素遮光部ＢＭ
および周辺遮光部ＢＭＳの形成方法は柱状スペーサＳＰ
の形成位置がゲート線上であることを除いて前記第１実
施例で説明した図４１〜図４３と同様なので省略する。

【００６３】本実施例により、所定の色純度となるカラ
ーフィルタの膜厚、所定のギャップとなる柱状スペー
サ、所定の膜厚となる画素遮光部および周辺遮光部を同
一材料、同一プロセスで形成できるため、液晶表示装置
のあらゆる仕様に対応することができる。そして、柱状
スペーサの形成にフィルタ材料の重ね合わせが不要であ
り、加工プロセスの信頼性が高く、かつギャップの面内
均一性が向上する。

【００６４】図１５は本発明による液晶表示装置の第５
実施例を説明する図１１の４−４’線の沿った断面図、
図１６は図１１の５−５’線の沿った断面図、図１７は
図１１の６−６’線の沿った断面図である。図１１〜図
１４と同一参照符号は同一機能部分に対応する。本実施
例も、前記第４実施例と同様に、カラーフィルタは薄膜
トランジスタを形成した第１の基板ＳＵＢ１上に形成
し、柱状スペーサＳＰはゲート線ＧＬ上に形成する。

【００６５】本実施例では、柱状スペーサＳＰと画素遮
光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳは第１色〜第３色カラ
ーフィルタのフィルタ材料のうちの２層で形成する。カ
ラーフィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサＳＰ、遮
光部（画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳ）のそれ
ぞれの膜厚は液晶表示装置の仕様により決定する。図５
に示したように、第１の基板ＳＵＢ１上には、ゲート絶
縁層ＧＮを介してドレイン線ＤＬが形成されている。こ
の上をパッシベーション層ＰＡＳが覆っており、その上
層に第１色カラーフィルタＦ１、第２色カラーフィルタ
Ｆ２、第３色カラーフィルタＦ３、画素遮光部ＢＭ、周
辺遮光部ＢＭＳ、および柱状スペーサＳＰが形成されて
いる。

【００６６】画素遮光部ＢＭと周辺遮光部ＢＭＳおよび
柱状スペーサＳＰは、膜厚が異なる第１フィルタ材料Ｃ
Ｆ１と第２フィルタ材料ＣＦ２との重ね合わせで構成さ
れている。本実施例のカラーフィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ
３、柱状スペーサＳＰ、画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光
部ＢＭＳの形成方法は柱状スペーサＳＰの形成位置がゲ
ート線上であることを除いて前記第２実施例で説明した
図４４〜図４６と同様なので省略する。

【００６７】本実施例により、所定の色純度となるカラ
ーフィルタの膜厚、所定のギャップとなる柱状スペー
サ、所定の膜厚となる画素遮光部および周辺遮光部を同
一材料、同一プロセスで形成できるため、液晶表示装置
のあらゆる仕様に対応することができる。そして、柱状
スペーサの形成にフィルタ材料の重ね合わせが不要であ
り、加工プロセスの信頼性が高く、かつギャップの面内
均一性が向上する。

【００６８】図１８は本発明による液晶表示装置の第６
実施例を説明する図１１の４−４’線の沿った断面図、
図１９は図１１の５−５’線の沿った断面図、図２０は
図１１の６−６’線の沿った断面図である。図１１〜図
１７と同一参照符号は同一機能部分に対応する。本実施
例も、前記第４、第５実施例と同様に、カラーフィルタ
は薄膜トランジスタを形成した第１の基板ＳＵＢ１上に
形成し、柱状スペーサＳＰはゲート線ＧＬ上に形成す
る。

【００６９】本実施例では、柱状スペーサＳＰと画素遮
光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳは第１色〜第３色カラ
ーフィルタのフィルタ材料の３層で形成する。カラーフ
ィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサＳＰ、遮光部
（画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳ）のそれぞれ
の膜厚は液晶表示装置の仕様により決定する。図１８に
示したように、第１の基板ＳＵＢ１上には、ゲート絶縁
層ＧＮを介してドレイン線ＤＬが形成されている。この
上をパッシベーション層ＰＡＳが覆っており、その上層
に第１色カラーフィルタＦ１、第２色カラーフィルタＦ
２、第３色カラーフィルタＦ３、画素遮光部ＢＭ、周辺
遮光部ＢＭＳ、および柱状スペーサＳＰが形成されてい
る。

【００７０】画素遮光部ＢＭと周辺遮光部ＢＭＳおよび
柱状スペーサＳＰは、膜厚が異なる第１フィルタ材料Ｃ
Ｆ１と第２フィルタ材料ＣＦ２および第３フィルタ材料
ＣＦ３の重ね合わせで構成されている。本実施例のカラ
ーフィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサＳＰ、画素
遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳの形成方法は柱状ス
ペーサＳＰの形成位置がゲート線上であることを除いて
前記第２実施例で説明した図４７〜図４９と同様なので
省略する。

【００７１】本実施例により、所定の色純度となるカラ
ーフィルタの膜厚、所定のギャップとなる柱状スペー
サ、所定の膜厚となる画素遮光部および周辺遮光部を同
一材料、同一プロセスで形成できるため、液晶表示装置
のあらゆる仕様に対応することができる。そして、柱状
スペーサは３つのフィルタ材料の全ての重ね合わせで形
成され、画素遮光部や周辺遮光部は従来知られているカ
ラーフィルタ材料の重ね合わせで形成されるものに比べ
て薄くかつ透過率も低くすることができ、加工プロセス
の信頼性が高く、かつギャップの面内均一性が向上す
る。

【００７２】図２１は本発明による液晶表示装置の第７
実施例を説明する液晶パネルの画素領域のコーナー部の
要部平面図、図２２は図２１の７−７’線の沿った断面
図、図２３は図２１の８−８’線の沿った断面図、図２
４は図２１の９−９’線の沿った断面図である。本実施
例は、柱状スペーサと画素遮光部および周辺遮光部をカ
ラーフィルタ基板側に形成したものである。前記各実施
例と同一の参照符号は同一機能部分に対応する。

【００７３】本実施例は、第１の基板ＳＵＢ１上にスイ
ッチング素子として薄膜トランジスタを形成し、この第
１の基板側と対向する第２の基板ＳＵＢ２側にカラーフ
ィルタを形成する。各色の画素はカラーフィルタと対向
して第１の基板ＳＵＢ１に形成された画素電極ＩＴＯを
有する。画素遮光部ＢＭは各画素の周縁に対応した位置
に、また周辺遮光部ＢＭＳは表示領域の回りに対応した
位置でそれぞれ第２の基板ＳＵＢ２に形成される。柱状
スペーサＳＰはドレイン線ＤＬと対応する位置に形成さ
れる。

【００７４】参照符号ＳＵＢ２は第２の基板であり、こ
の第２の基板ＳＵＢ２の上にコモン電極ＩＴＯ２を有
し、その上に第１色カラーフィルタＦ１、第２色カラー
フィルタＦ２、第３色カラーフィルタＦ３、および画素
遮光部ＢＭ、周辺遮光部ＢＭＳ、柱状スペーサＳＰが形
成されている。すなわち、コモン電極ＩＴＯ２の上に第
１のフィルタ材料ＣＦ１で第１色カラーフィルタＦ１と
柱状スペーサＳＰおよび画素遮光部ＢＭと周辺遮光部Ｂ
ＭＳとが形成されている。第２のフィルタ材料ＣＦ２と
第３のフィルタ材料ＣＦ３はそれぞれ第２色のカラーフ
ィルタＦ２と第３色のカラーフィルタＦ３のみを形成し
ている。

【００７５】第１のフィルタ材料ＣＦ１、第２のフィル
タ材料ＣＦ２および第３のフィルタ材料ＣＦ３の膜厚
は、それぞれのカラーフィルタ（Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３）部
位では同一であり、画素の色純度を決定する厚さとなっ
ている。第１色のフィルタ材料ＣＦ１の柱状スペーサＳ
Ｐの部位の膜厚は柱状スペーサＳＰに要する高さとなる
ような膜厚に形成され、また画素遮光部ＢＭと周辺遮光
部ＢＭＳの部位では当該周辺遮光膜ＢＭＳに要する高さ
となる膜厚に形成されている。

【００７６】このように、本実施例では、第２の基板Ｓ
ＵＢ２にフィルタ材料を用いて柱状スペーサＳＰと画素
遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳを形成している。柱
状スペーサＳＰはドレイン線ＤＬに対応する位置に形成
されている。そして、柱状スペーサＳＰと画素遮光部Ｂ
Ｍおよび周辺遮光部ＢＭＳを第１のフィルタ材料ＣＦ１
の単層で形成され、その膜厚は厚い順に、柱状スペーサ
ＳＰ、画素遮光部ＢＭと周辺遮光部ＢＭＳ、カラーフィ
ルタである。本実施例のカラーフィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ
３、柱状スペーサＳＰ、画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光
部ＢＭＳの形成方法は前記図４１〜図４３における第
１の基板ＳＵＢ１を第２の基板ＳＵＢ２に置き換えて説
明できるので再度の説明は省略する。

【００７７】本実施例により、所定の色純度となるカラ
ーフィルタの膜厚、所定のギャップとなる柱状スペー
サ、所定の膜厚となる画素遮光部および周辺遮光部を同
一材料、同一プロセスで形成できるため、液晶表示装置
のあらゆる仕様に対応することができる。そして、柱状
スペーサの形成にフィルタ材料の重ね合わせが不要であ
り、加工プロセスの信頼性が高く、かつギャップの面内
均一性が向上する。

【００７８】図２５は本発明による液晶表示装置の第８
実施例を説明する図２１の７−７’線の沿った断面図、
図２６は図２１の８−８’線の沿った断面図、図２７は
図２１の９−９’線の沿った断面図である。図２１〜図
２４と同一参照符号は同一機能部分に対応する。本実施
例も、前記第７実施例と同様に、柱状スペーサＳＰ、画
素遮光部ＢＭ、周辺遮光部ＢＭＳは第２の基板ＳＵＢ２
上に形成し、かつ柱状スペーサＳＰはドレイン線ＤＬに
対向する位置に形成する。

【００７９】本実施例では、柱状スペーサＳＰと画素遮
光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳは第１色〜第３色カラ
ーフィルタのフィルタ材料のうちの２層で形成する。カ
ラーフィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサＳＰ、遮
光部（画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳ）のそれ
ぞれの膜厚は液晶表示装置の仕様により決定する。図２
５に示したように、第２の基板ＳＵＢ２上に第１色カラ
ーフィルタＦ１、第２色カラーフィルタＦ２、第３色カ
ラーフィルタＦ３、画素遮光部ＢＭ、周辺遮光部ＢＭ
Ｓ、および柱状スペーサＳＰが形成されている。

【００８０】画素遮光部ＢＭと周辺遮光部ＢＭＳおよび
柱状スペーサＳＰのそれぞれは、膜厚が異なる第１フィ
ルタ材料ＣＦ１と第２フィルタ材料ＣＦ２との重ね合わ
せで構成されている。以下、本実施例のカラーフィルタ
Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサＳＰ、画素遮光部ＢＭ
および周辺遮光部ＢＭＳの形成方法は、前記図４４〜図
４６における第１の基板ＳＵＢ１を第２の基板ＳＵＢ２
に置き換えて説明できるので再度の説明は省略する。

【００８１】本実施例により、所定の色純度となるカラ
ーフィルタの膜厚、所定のギャップとなる柱状スペー
サ、所定の膜厚となる画素遮光部および周辺遮光部を同
一材料、同一プロセスで形成できるため、液晶表示装置
のあらゆる仕様に対応することができる。そして、加工
プロセスの信頼性が高く、かつギャップの面内均一性が
向上する。

【００８２】図２８は本発明による液晶表示装置の第９
実施例を説明する図２１の７−７’線の沿った断面図、
図２９は図２１の８−８’線の沿った断面図、図３０は
図２１の９−９’線の沿った断面図である。図２１〜図
２７と同一参照符号は同一機能部分に対応する。本実施
例も、前記第８実施例と同様に、柱状スペーサＳＰ、画
素遮光部ＢＭ、周辺遮光部ＢＭＳは第２の基板ＳＵＢ２
上に形成し、かつ柱状スペーサＳＰはドレイン線ＤＬに
対向する位置に形成する。

【００８３】本実施例では、柱状スペーサＳＰと画素遮
光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳは第１色〜第３色カラ
ーフィルタのフィルタ材料の３層で形成する。カラーフ
ィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサＳＰ、遮光部
（画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳ）のそれぞれ
の膜厚は液晶表示装置の仕様により決定する。図２８に
示したように、第２の基板ＳＵＢ２上に第１色カラーフ
ィルタＦ１、第２色カラーフィルタＦ２、第３色カラー
フィルタＦ３、画素遮光部ＢＭ、周辺遮光部ＢＭＳ、お
よび柱状スペーサＳＰが形成されている。

【００８４】画素遮光部ＢＭと周辺遮光部ＢＭＳおよび
柱状スペーサＳＰのそれぞれは、膜厚が異なる第１フィ
ルタ材料ＣＦ１と第２フィルタ材料ＣＦ２および第３フ
ィルタ材料ＣＦ３の重ね合わせで構成されている。本実
施例のカラーフィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサ
ＳＰ、画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳの形成方
法は、前記図４７〜図４９における第１の基板ＳＵＢ１
を第２の基板ＳＵＢ２に置き換えて説明できるので再度
の説明は省略する。

【００８５】本実施例により、所定の色純度となるカラ
ーフィルタの膜厚、所定のギャップとなる柱状スペー
サ、所定の膜厚となる画素遮光部および周辺遮光部を同
一材料、同一プロセスで形成できるため、加工プロセス
の信頼性が高く、液晶表示装置のあらゆる仕様に対応す
ることができる。そして、各カラーフィルタの成膜時の
初期膜厚を薄くすることができる。画素遮光部および周
辺遮光部は第１フィルタ材料ＣＦ１と第２フィルタ材料
ＣＦ２および第３フィルタ材料ＣＦ３の重ね合わせで形
成するため、従来のフィルタ材料の重ね合わせに比べて
薄くかつ透過率も低くすることができ、ギャップの面内
均一性も向上する。

【００８６】図３１は本発明による液晶表示装置の第１
０実施例を説明する液晶パネルの画素領域のコーナー部
の要部平面図、図３２は図２１の１０−１０’線の沿っ
た断面図、図３３は図３１の１１−１１’線の沿った断
面図、図３４は図３１の１２−１２’線の沿った断面図
である。本実施例は、柱状スペーサと画素遮光部および
周辺遮光部をカラーフィルタ基板側に形成したものであ
る。前記各実施例と同一の参照符号は同一機能部分に対
応する。

【００８７】本実施例は、第１の基板ＳＵＢ１上にスイ
ッチング素子として薄膜トランジスタを形成し、この第
１の基板側と対向する第２の基板ＳＵＢ２側にカラーフ
ィルタを形成する。各色の画素はカラーフィルタと対向
して第１の基板ＳＵＢ１に形成された画素電極ＩＴＯを
有する。画素遮光部ＢＭは各画素の周縁に対応した位置
に、また周辺遮光部ＢＭＳは表示領域の回りに対応した
位置でそれぞれ第２の基板ＳＵＢ２に形成される。柱状
スペーサＳＰはゲート線ＧＬと対応する位置に形成され
る。

【００８８】第２の基板ＳＵＢ２の上にコモン電極ＩＴ
Ｏ２を有し、その上に第１色カラーフィルタＦ１、第２
色カラーフィルタＦ２、第３色カラーフィルタＦ３、お
よび画素遮光部ＢＭ、周辺遮光部ＢＭＳ、柱状スペーサ
ＳＰが形成されている。すなわち、コモン電極ＩＴＯ２
の上に第１のフィルタ材料ＣＦ１で第１色カラーフィル
タＦ１と柱状スペーサＳＰおよび画素遮光部ＢＭと周辺
遮光部ＢＭＳとが形成されている。第２のフィルタ材料
ＣＦ２と第３のフィルタ材料ＣＦ３はそれぞれ第２色の
カラーフィルタＦ２と第３色のカラーフィルタＦ３のみ
を形成している。

【００８９】第１のフィルタ材料ＣＦ１、第２のフィル
タ材料ＣＦ２および第３のフィルタ材料ＣＦ３の膜厚
は、それぞれのカラーフィルタ（Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３）部
位では同一であり、画素の色純度を決定する厚さとなっ
ている。第１色のフィルタ材料ＣＦ１の柱状スペーサＳ
Ｐの部位の膜厚は柱状スペーサＳＰに要する高さとなる
ような膜厚に形成され、また画素遮光部ＢＭと周辺遮光
部ＢＭＳの部位では当該周辺遮光膜ＢＭＳに要する高さ
となる膜厚に形成されている。

【００９０】このように、本実施例では、第２の基板Ｓ
ＵＢ２にフィルタ材料を用いて柱状スペーサＳＰと画素
遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳを形成している。柱
状スペーサＳＰはゲート線ＧＬに対応する位置に形成さ
れている。そして、柱状スペーサＳＰと画素遮光部ＢＭ
および周辺遮光部ＢＭＳを第１のフィルタ材料ＣＦ１の
単層で形成され、その膜厚は厚い順に、柱状スペーサＳ
Ｐ、画素遮光部ＢＭと周辺遮光部ＢＭＳ、カラーフィル
タである。本実施例のカラーフィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ
３、柱状スペーサＳＰ、画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光
部ＢＭＳの形成方法は前記図４１〜図４３における第
１の基板ＳＵＢ１を第２の基板ＳＵＢ２に置き換えて説
明できるので再度の説明は省略する。

【００９１】本実施例により、所定の色純度となるカラ
ーフィルタの膜厚、所定のギャップとなる柱状スペー
サ、所定の膜厚となる画素遮光部および周辺遮光部を同
一材料、同一プロセスで形成できるため、液晶表示装置
のあらゆる仕様に対応することができる。そして、柱状
スペーサの形成にフィルタ材料の重ね合わせが不要であ
り、加工プロセスの信頼性が高く、かつギャップの面内
均一性が向上する。

【００９２】図３５は本発明による液晶表示装置の第１
１実施例を説明する図３１の１０−１０’線の沿った断
面図、図３６は図３１の１１−１１’線の沿った断面
図、図３７は図３１の１２−１２’線の沿った断面図で
ある。図３１〜図３４と同一参照符号は同一機能部分に
対応する。本実施例も、前記第１０実施例と同様に、柱
状スペーサＳＰ、画素遮光部ＢＭ、周辺遮光部ＢＭＳは
第２の基板ＳＵＢ２上に形成し、かつ柱状スペーサＳＰ
はゲート線ＤＬに対向する位置に形成する。

【００９３】本実施例では、柱状スペーサＳＰと画素遮
光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳは第１色〜第３色カラ
ーフィルタのフィルタ材料のうちの２層で形成する。カ
ラーフィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサＳＰ、遮
光部（画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳ）のそれ
ぞれの膜厚は液晶表示装置の仕様により決定する。図３
５〜図３７に示したように、第２の基板ＳＵＢ２上に第
１色カラーフィルタＦ１、第２色カラーフィルタＦ２、
第３色カラーフィルタＦ３、画素遮光部ＢＭ、周辺遮光
部ＢＭＳが形成されている。

【００９４】画素遮光部ＢＭと周辺遮光部ＢＭＳおよび
柱状スペーサＳＰのそれぞれは、膜厚が異なる第１フィ
ルタ材料ＣＦ１と第２フィルタ材料ＣＦ２との重ね合わ
せで構成されている。以下、本実施例のカラーフィルタ
Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサＳＰ、画素遮光部ＢＭ
および周辺遮光部ＢＭＳの形成方法は、前記図４４〜図
４６における第１の基板ＳＵＢ１を第２の基板ＳＵＢ２
に置き換えて説明できるので再度の説明は省略する。

【００９５】本実施例により、所定の色純度となるカラ
ーフィルタの膜厚、所定のギャップとなる柱状スペー
サ、所定の膜厚となる画素遮光部および周辺遮光部を同
一材料、同一プロセスで形成できるため、液晶表示装置
のあらゆる仕様に対応することができる。そして、加工
プロセスの信頼性が高く、かつギャップの面内均一性が
向上する。

【００９６】図３８は本発明による液晶表示装置の第１
２実施例を説明する図３１の１０−１０’線の沿った断
面図、図３９は図３１の１１−１１’線の沿った断面
図、図４０は図３１の１２−１２’線に沿った断面図で
ある。図３１〜図３７と同一参照符号は同一機能部分に
対応する。本実施例も、前記第１１実施例と同様に、柱
状スペーサＳＰ、画素遮光部ＢＭ、周辺遮光部ＢＭＳは
第２の基板ＳＵＢ２上に形成し、かつ柱状スペーサＳＰ
はゲート線ＤＬに対向する位置に形成する。

【００９７】本実施例では、柱状スペーサＳＰと画素遮
光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳは第１色〜第３色カラ
ーフィルタのフィルタ材料の３層で形成する。カラーフ
ィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサＳＰ、遮光部
（画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳ）のそれぞれ
の膜厚は液晶表示装置の仕様により決定する。図３８〜
図４０に示したように、第２の基板ＳＵＢ２上に第１色
カラーフィルタＦ１、第２色カラーフィルタＦ２、第３
色カラーフィルタＦ３、画素遮光部ＢＭ、周辺遮光部Ｂ
ＭＳ、および柱状スペーサＳＰが形成されている。

【００９８】画素遮光部ＢＭと周辺遮光部ＢＭＳおよび
柱状スペーサＳＰのそれぞれは、膜厚が異なる第１フィ
ルタ材料ＣＦ１と第２フィルタ材料ＣＦ２および第３フ
ィルタ材料ＣＦ３の重ね合わせで構成されている。本実
施例のカラーフィルタＦ１，Ｆ２，Ｆ３、柱状スペーサ
ＳＰ、画素遮光部ＢＭおよび周辺遮光部ＢＭＳの形成方
法は、前記図４７〜図４９における第１の基板ＳＵＢ１
を第２の基板ＳＵＢ２に置き換えて説明できるので再度
の説明は省略する。

【００９９】本実施例により、所定の色純度となるカラ
ーフィルタの膜厚、所定のギャップとなる柱状スペー
サ、所定の膜厚となる画素遮光部および周辺遮光部を同
一材料、同一プロセスで形成できるため、加工プロセス
の信頼性が高く、液晶表示装置のあらゆる仕様に対応す
ることができる。そして、各カラーフィルタの成膜時の
初期膜厚を薄くすることができる。画素遮光部および周
辺遮光部は第１フィルタ材料ＣＦ１と第２フィルタ材料
ＣＦ２および第３フィルタ材料ＣＦ３の重ね合わせで形
成するため、従来のフィルタ材料の重ね合わせに比べて
薄くかつ透過率も低くすることができ、ギャップの面内
均一性も向上する。

【０１００】図５０は本発明による液晶表示装置の第１
３実施例を説明する液晶パネルの画素領域のコーナー部
の要部平面図、図５１は図５０の１３−１３’線の沿っ
た断面図である。本実施例は、画素遮光部および周辺遮
光部を１つのフィルタ材料で第１の基板ＳＵＢ１上に形
成した前記第１実施例あるいは第４実施例の変形例であ
る。第１の基板ＳＵＢ１上に形成したカラーフィルタ
（ここでは第１色カラーフィルタＦ１）の膜厚を、画素
内で薄い部分と厚い部分とで構成した。前記各実施例と
同一の参照符号は同一機能部分に対応する。

【０１０１】画素内でカラーフィルタの膜厚を変えたこ
とで、薄い部分では光の透過率が向上し、色純度の低下
を抑制することができる。カラーフィルタＦ２あるいは
Ｆ３、Ｆ１〜Ｆ３に対しても同様に適用できる。また、
第２、第３実施例、あるいは第５、第６実施例における
カラーフィルタＦ１、もしくはＦ２またはＦ３、あるい
はＦ１、Ｆ２、Ｆ３に対しても同様である。

【０１０２】図５２は本発明による液晶表示装置の第１
４実施例を説明する液晶パネルの画素領域の図５０の１
３−１３’線の沿った断面図である。本実施例は、画素
遮光部および周辺遮光部を１つのフィルタ材料で第２の
基板ＳＵＢ２上に形成した前記第７実施例あるいは第１
０実施例の変形例である。第２の基板ＳＵＢ２上に形成
したカラーフィルタ（ここでは第１色カラーフィルタＦ
１）の膜厚を、画素内で薄い部分と厚い部分とで構成し
た。前記各実施例と同一の参照符号は同一機能部分に対
応する。

【０１０３】画素内でカラーフィルタの膜厚を変えたこ
とで、薄い部分では光の透過率が向上し、色純度の低下
を抑制することができる。カラーフィルタＦ２あるいは
Ｆ３、Ｆ１〜Ｆ３に対しても同様に適用できる。また、
第８、第９実施例、あるいは第１１、第１２実施例にお
けるカラーフィルタＦ１、もしくはＦ２またはＦ３、あ
るいはＦ１、Ｆ２、Ｆ３に対しても同様である。

【０１０４】図５３は本発明による液晶表示装置を表示
部に用いた電子機器の一例の説明図である。この電子機
器は、所謂携帯端末（ＰＤＡ）であり、入力部（キーボ
ードＫＢ）やホストコンピュータＨＯＳＴ、バッテリー
ＢＡＴなどを備えた本体部ＭＮと、液晶表示装置ＰＮＬ
１などを備えた表示部ＤＰを持つ。表示部ＤＰの液晶表
示装置ＰＮＬ１と本体部ＭＮのホストコンピュータＨＯ
ＳＴとはラインＬ１で接続されている。

【０１０５】なお、参照符号ＰＮは入力用のペン型器具
であり、常時は表示部ＤＰの一部に設けた収納部ＰＮＨ
に収納されている。また、参照符号ＰＴＰは携帯電話機
であり、その表示部にも本発明による液晶表示装置ＰＮ
Ｌ２が使用されている。この携帯電話機ＰＴＰは携帯端
末にインターフェースラインＬ２で接続可能であり、携
帯端末をインターネット等と接続することができる。

【０１０６】図５４は液晶表示装置の駆動回路の一例を
説明するブロック図である。参照符号ＰＮＬは液晶表示
装置の表示部分となる液晶パネルであり、第１の基板と
第２の基板の間に液晶を封止してある。この液晶パネル
の一方の基板には多数のゲート線ＧＬとこのゲート線と
交差する多数のドレイン線ＤＬが形成されている。他方
の基板にはコモン電極が形成されているが図示は省略し
てある。

【０１０７】ゲート線やドレイン線、コモン電極を含む
電極類に表示のための駆動信号や電圧を印加するための
駆動手段を備えている。この駆動手段は、ゲート線ＧＬ
にゲート駆動信号を印加するゲートドレインＧＤＲ、ド
レイン線ＤＬに表示データＤＡＴＡを供給するドレイン
ドライバＤＤＲを有する。これらゲートドレインＧＤＲ
とドレインドライバＤＤＲは表示制御装置ＣＲＬで制御
される。

【０１０８】表示制御装置ＣＲＬには、図示しないホス
トコンピュータから各色の表示データ（Ｒ，Ｇ，Ｂ）、
制御信号クロックＣＬＣ、表示タイミング信号ＴＭＧ、
同期信号ＳＹＮＣが入力する。表示制御装置ＣＲＬは、
これらの入力信号などに基づいて走査信号をゲートドラ
イバＧＤＲに与えると共に、ドレインドライバＤＤＲに
表示データＤＡＴＡとクロックＣＬを供給する。また、
これらの動作のための電圧を供給するための電源回路Ｐ
ＷＵを有し、外部から与えられる電圧（例えば、３Ｖ、
あるいは５Ｖなど）に基づいて所要の電圧を生成して、
必要な回路に供給する。

【０１０９】本発明による液晶表示装置は上記図したよ
うな携帯端末に限らず、デスクトップ型のモニター、ノ
ートパソコン、テレビ受像機の表示部、その他の各種表
示装置に利用できる。

【０１１０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
画素スペーサ、画素遮光部（ブラックマトリクス）、周
辺遮光部をカラーフィルタと同様のフィルタ材料を用
い、それぞれの膜厚を独立して制御することで所要の高
さ（膜厚）で形成でき、液晶表示装置の製造プロセスを
簡略して低コスト化することができる。

【０１１１】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による液晶表示装置の第１実施例を説明
する液晶パネルの画素領域のコーナー部の要部平面図で
ある。

【図２】本発明による液晶表示装置の第１実施例を説明
する図１の１−１’線に沿った断面図である。

【図３】本発明による液晶表示装置の第１実施例を説明
する図１の２−２’線に沿った断面図である。

【図４】本発明による液晶表示装置の第１実施例を説明
する図１の３−３’線に沿った断面図である。

【図５】本発明による液晶表示装置の第２実施例を説明
する図１の１−１’線に沿った断面図である。

【図６】本発明による液晶表示装置の第２実施例を説明
する図１の２−２’線に沿った断面図である。

【図７】本発明による液晶表示装置の第２実施例を説明
する図１の３−３’線に沿った断面図である。

【図８】本発明による液晶表示装置の第３実施例を説明
する図１の１−１’線に沿った断面図である。

【図９】本発明による液晶表示装置の第３実施例を説明
する図１の２−２’線に沿った断面図である。

【図１０】本発明による液晶表示装置の第３実施例を説
明する図１の３−３’線に沿った断面図である。

【図１１】本発明による液晶表示装置の第４実施例を説
明する液晶パネルの画素領域のコーナー部の要部平面図
である。

【図１２】本発明による液晶表示装置の第４実施例を説
明する図１１の４−４’線に沿った断面図である。

【図１３】本発明による液晶表示装置の第４実施例を説
明する図１１の５−５’線に沿った断面図である。

【図１４】本発明による液晶表示装置の第４実施例を説
明する図１１の６−６’線に沿った断面図である。

【図１５】本発明による液晶表示装置の第５実施例を説
明する図１１の４−４’線に沿った断面図である。

【図１６】本発明による液晶表示装置の第５実施例を説
明する図１１の５−５’線に沿った断面図である。

【図１７】本発明による液晶表示装置の第５実施例を説
明する図１１の６−６’線に沿った断面図である。

【図１８】本発明による液晶表示装置の第６実施例を説
明する図１１の４−４’線に沿った断面図である。

【図１９】本発明による液晶表示装置の第６実施例を説
明する図１１の５−５’線に沿った断面図である。

【図２０】本発明による液晶表示装置の第６実施例を説
明する図１１の６−６’線に沿った断面図である。

【図２１】本発明による液晶表示装置の第７実施例を説
明する液晶パネルの画素領域のコーナー部の要部平面図
である。

【図２２】本発明による液晶表示装置の第７実施例を説
明する図２１の７−７’線に沿った断面図である。

【図２３】本発明による液晶表示装置の第７実施例を説
明する図２１の８−８’線に沿った断面図である。

【図２４】本発明による液晶表示装置の第７実施例を説
明する図２１の９−９’線に沿った断面図である。

【図２５】本発明による液晶表示装置の第８実施例を説
明する図２１の７−７’線に沿った断面図である。

【図２６】本発明による液晶表示装置の第８実施例を説
明する図２１の８−８’線に沿った断面図である。

【図２７】本発明による液晶表示装置の第８実施例を説
明する図２１の９−９’線に沿った断面図である。

【図２８】本発明による液晶表示装置の第９実施例を説
明する図２１の７−７’線に沿った断面図である。

【図２９】本発明による液晶表示装置の第９実施例を説
明する図２１の８−８’線に沿った断面図である。

【図３０】本発明による液晶表示装置の第９実施例を説
明する図２１の９−９’線に沿った断面図である。

【図３１】本発明による液晶表示装置の第１０実施例を
説明する液晶パネルの画素領域のコーナー部の要部平面
図である。

【図３２】本発明による液晶表示装置の第１０実施例を
説明する図３１の１０−１０’線に沿った断面図であ
る。

【図３３】本発明による液晶表示装置の第１０実施例を
説明する図３１の１１−１１’線に沿った断面図であ
る。

【図３４】本発明による液晶表示装置の第１０実施例を
説明する図３１の１２−１２’線に沿った断面図であ
る。

【図３５】本発明による液晶表示装置の第１１実施例を
説明する図３１の１０−１０’線に沿った断面図であ
る。

【図３６】本発明による液晶表示装置の第１１実施例を
説明する図３１の１１−１１’線に沿った断面図であ
る。

【図３７】本発明による液晶表示装置の第１１実施例を
説明する図３１の１２−１２’線に沿った断面図であ
る。

【図３８】本発明による液晶表示装置の第１２実施例を
説明する図３１の１０−１０’線に沿った断面図であ
る。

【図３９】本発明による液晶表示装置の第１２実施例を
説明する図３１の１１−１１’線に沿った断面図であ
る。

【図４０】本発明による液晶表示装置の第１２実施例を
説明する図３１の１２−１２’線に沿った断面図であ
る。

【図４１】本発明の第１、第４、第７、第１０実施例の
液晶表示装置の製造プロセスのうちのカラーフィルタ、
柱状スペーサ、画素遮光部および周辺遮光部の形成方法
を説明する部分工程図である。

【図４２】図４１に続く部分工程図である。

【図４３】図４２に続く部分工程図である。

【図４４】本発明の第２、第５、第８、第１１実施例の
液晶表示装置の製造プロセスのうちのカラーフィルタ、
柱状スペーサ、画素遮光部および周辺遮光部の形成方法
を説明する部分工程図である。

【図４５】図４４に続く部分工程図である。

【図４６】図４５に続く部分工程図である。

【図４７】本発明の第３、第６、第９、第１２実施例の
液晶表示装置の製造プロセスのうちのカラーフィルタ、
柱状スペーサ、画素遮光部および周辺遮光部の形成方法
を説明する部分工程図である。

【図４８】図４７に続く部分工程図である。

【図４９】図４８に続く部分工程図である。

【図５０】本発明による液晶表示装置の第１３実施例を
説明する液晶パネルの画素領域のコーナー部の要部平面
図である。

【図５１】図５０の１３−１３’線の沿った断面図であ
る。

【図５２】本発明による液晶表示装置の第１４実施例を
説明する液晶パネルの画素領域の図５０の１３−１３’
線の沿った断面図である。

【図５３】本発明による液晶表示装置を表示部に用いた
電子機器の一例の説明図である。

【図５４】液晶表示装置の駆動回路の一例を説明するブ
ロック図である。

【符号の説明】

ＣＦ１・・・・第１色カラーフィルタを形成する第１の
フィルタ材料、ＣＦ２・・・・第２色カラーフィルタを
形成する第２のフィルタ材料、ＣＦ３・・・・第３色カ
ラーフィルタを形成する第３のフィルタ材料、ＢＭ・・
・・画素遮光部（ブラックマトリクス）、ＢＭＳ・・・
・画素領域を囲む周辺遮光部、ＳＰ・・・・柱状スペー
サ、ＧＬ・・・・ゲート線、ＤＬ・・・・ドレイン線、
ＧＮ・・・・ゲート絶縁層、ＰＡＳ・・・・パッシベー
ション、ＩＴＯ・・・・画素電極、Ｆ１・・・・第１色
カラーフィルタ、Ｆ２・・・・第２色カラーフィルタ、
Ｆ３・・・・第３色カラーフィルタ、ＤＬ・・・・ドレ
イン線。

フロントページの続き (72)発明者落合孝洋千葉県茂原市早野3300番地株式会社日立製作所ディスプレイグループ内Ｆターム(参考） 2H089 LA09 LA11 LA12 QA12 QA14 TA09 TA12 TA13 2H091 FA02Y FA35Y LA12 LA13

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも一方が透明な第１の基板と第２
の基板の何れかの表示領域を含んで形成されたカラー表
示のための画素毎に色の異なる３種類のフィルタ材料か
らなるフィルタ素子で形成されたカラーフィルタと、少なくとも前記フィルタ素子毎に形成した画素電極と、前記表示領域の周囲に形成された周辺遮光膜と、前記第１の基板または前記第２の基板の何れかに設けら
れて当該第１の基板と第２の基板の間の間隔を規制する
柱状スペーサと、前記画素電極毎に設けられて当該画素電極を駆動するス
イッチング素子と、前記スイッチング素子に駆動信号を供給する電極群と、前記第１の基板と第２の基板の間に挟持された液晶と、前記液晶と接して前記第１の基板と第２の基板の双方に
形成されて液晶の分子配列を所定の方向に配列させるた
めの配向層と、を有する液晶パネルと、前記電極群に表
示のための駆動電圧を印加するための駆動手段とを具備
し、前記周辺遮光膜および前記柱状スペーサの各部位を、膜
厚が異なる前記フィルタ材料で構成したことを特徴とす
る液晶表示装置。
【請求項２】前記カラーフィルタの少なくとも一つと前
記柱状スペーサを、前記フィルタ材料の一つで構成した
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】前記フィルタ素子の重畳により形成された
画素遮光部と前記周辺遮光部および前記柱状スペーサ
を、前記フィルタ材料の２つの重ね合わせで構成したこ
とを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】前記フィルタ素子の重畳により形成された
画素遮光部と前記周辺遮光部および前記柱状スペーサ
を、前記フィルタ材料の３つの重ね合わせで構成したこ
とを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】前記電極群は前記スイッチング素子が形成
された前記一方の基板上に有し、当該基板の一方向に所
定の方向に延在して平行配置された複数の信号線と、上
記一方向と交差する他方向に延在して平行配置された複
数の走査線を有し、前記柱状スペーサを上記信号線上に有することを特徴と
する請求項１〜４の何れかに記載の液晶表示装置。
【請求項６】前記電極群は前記一方の基板の一方向に所
定の方向に延在して平行配置された複数の信号線と、上
記一方向と交差する他方向に延在して平行配置された複
数の走査線を有し、前記柱状スペーサを前記他方の基板の上記走査線上に有
することを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の液
晶表示装置。
【請求項７】前記カラーフィルタと前記画素遮光部およ
び前記周辺遮光部および前記柱状スペーサが前記基板の
一方に有することを特徴とする請求項５または６に記載
の液晶表示装置。
【請求項８】前記カラーフィルタと前記画素遮光部およ
び前記周辺遮光部および前記柱状スペーサが前記基板の
他方に有することを特徴とする請求項５または６に記載
の液晶表示装置。
【請求項９】少なくとも一方が透明な第１の基板と第２
の基板の何れかの表示領域を含んで形成されたカラー表
示のための画素毎に色の異なる３種類のフィルタ材料か
らなるフィルタ素子で形成されたカラーフィルタと、少なくとも前記フィルタ素子毎に形成した画素電極と、前記表示領域の周囲に形成された周辺遮光膜と、前記第１の基板または前記第２の基板の何れかに設けら
れて当該第１の基板と第２の基板の間の間隔を規制する
柱状スペーサと、前記画素電極毎に設けられて当該画素電極を駆動するス
イッチング素子と、前記スイッチング素子に駆動信号を供給する電極群と、前記第１の基板と第２の基板の間に挟持された液晶と、前記液晶と接して前記第１の基板と第２の基板の双方に
形成されて液晶の分子配列を所定の方向に配列させるた
めの配向層と、を有する液晶パネルと、前記電極群に表
示のための駆動電圧を印加するための駆動手段とを具備
し、前記カラーフィルタの膜厚が１画素内で色純度の高い膜
厚の厚い領域と、透過率の高い膜厚の薄い領域を有する
ことを特徴とする液晶表示装置。