JP2003121076A - 雰囲気制御型熱処理炉 - Google Patents

雰囲気制御型熱処理炉

Info

Publication number
JP2003121076A
JP2003121076A JP2001314737A JP2001314737A JP2003121076A JP 2003121076 A JP2003121076 A JP 2003121076A JP 2001314737 A JP2001314737 A JP 2001314737A JP 2001314737 A JP2001314737 A JP 2001314737A JP 2003121076 A JP2003121076 A JP 2003121076A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
heat treatment
holes
atmosphere
treatment furnace
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001314737A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3789341B2 (ja
Inventor
Akisato Honjo
哲吏 本庄
Masahiro Egami
雅裕 江上
Teruo Izumi
輝郎 和泉
Toru Shiobara
融 塩原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
International Superconductivity Technology Center
IHI Corp
SWCC Corp
Original Assignee
International Superconductivity Technology Center
IHI Corp
Showa Electric Wire and Cable Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by International Superconductivity Technology Center, IHI Corp, Showa Electric Wire and Cable Co filed Critical International Superconductivity Technology Center
Priority to JP2001314737A priority Critical patent/JP3789341B2/ja
Publication of JP2003121076A publication Critical patent/JP2003121076A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3789341B2 publication Critical patent/JP3789341B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Tunnel Furnaces (AREA)
  • Furnace Details (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 管状炉の軸方向に安定した雰囲気を形成する
ことができる簡単な構造の雰囲気制御型熱処理炉を提供
する。 【解決手段】 炉心管を二重構造にし、外管と内管の間
に4枚の仕切板を設け2組のガス供給流路とガス排出流
路を形成する。ガス供給流路に複数箇所のガスガス流出
孔を、ガス排出流路に複数箇所のガス流入孔を設け、各
ガス供給流路とガス排出流路にそれぞれ異なるガスを異
なる流速で供給し、ガス流出孔とガス流入孔との間に圧
力差を生じさせ、炉心管の軸方向に対する垂直方向に異
なるガスをそれぞれ均一に流す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は熱処理炉に関し。特
に雰囲気制御が必要であるセラミックス、有機化合物、
金属および金属化合物などの長尺材料の熱処理に適した
雰囲気制御型熱処理炉に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、雰囲気制御が必要な長尺材料の熱
処理に用いられる雰囲気制御型管状炉においては、炉心
管の一方の端部から他方の端部に雰囲気ガスを流すこと
によって炉内の雰囲気を制御することが行われている。
このように長尺材料に対して炉心管の軸方向にガスを流
すと、長尺材料から反応時に発生するガスの影響によっ
て炉心管の軸方向に雰囲気が変化し、長尺材料を均一に
反応させることが極めて困難となる。
【0003】このような問題を回避するためには、反応
ガスの影響を抑えて炉内の雰囲気を一定に保つために、
炉心管の軸方向に対して垂直方向にガスを流すことが必
要となる。この場合、炉心管の一方の側面部にガスの流
出孔を設け、その反対側の側面部に流入孔を設けて、そ
れぞれの流出入孔部の流量を制御しなければならない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法により炉心管の軸方向に対して垂直な方向にガスを
流す場合、個々のガスの流出入孔部の流量を制御するた
めにガス流出入孔の数に応じた流量計が必要となる。特
に長尺材料の場合には炉長が長くなるためにガスを炉内
に均一に流すためには、ガス流出入孔が多数必要にな
り、それに伴って設置する流量計の数が増加して、コス
トが上昇するという問題がある。
【0005】本発明は、以上の問題を解決するためにな
されたもので、雰囲気制御が必要な長尺材料の熱処理に
おいて、反応時に発生するガスの影響を抑制し、均一な
反応を可能にするとともに、その製造コストの低減が可
能な雰囲気制御型熱処理炉を提供することをその目的と
する。
【0006】
【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
めに、本発明の雰囲気制御型熱処理炉は、同心状に配置
された外管及び内側とからなる炉心管と、この外管及び
内管によって形成された円筒状空間を炉心管の軸方向に
垂直な断面内において複数に分割する仕切板により複数
のガス流路を形成し、この複数のガス流路の内管のほぼ
対向する位置に、それぞれ複数箇所のガス流出孔及びガ
ス流入孔を設けたものである。
【0007】また、本発明の目的は、筒状の炉心管の内
部に複数本の筒状体を配設して複数のガス流路を形成
し、この複数本の筒状体のほぼ対向する位置に、それぞ
れ複数箇所のガス流出孔及びガス流入孔を設けることに
よっても達成することができる。
【0008】上記の複数箇所のガス流出孔及びガス流入
孔を有するガス流路に、同質のガスを異なる流速で供給
することにより、ガス流出孔とガス流入孔との間に圧力
差を生じさせることが可能となり、炉心管の軸方向に対
する垂直方向にガスを均一に流すことができる。
【0009】この場合、ガス流出孔とガス流入孔との間
の圧力差は、それぞれのガス流路の入口部と出口部の流
速を変化させることにより行うことができる。
【0010】また、上記の複数箇所のガス流出孔及びガ
ス流入孔を有する一対のガス流路を複数組備え、それぞ
れの組のガス流路に異なる質のガスを供給することによ
り供給材料に2以上の反応を起こさせることができる。
例えば、2種類の異なるガスを用いる場合には仕切板は
4箇所設けられ、3種類の異なるガスを用いる場合には
仕切板は6箇所設けられて、それぞれの組のガス流路に
異なるガスが供給される。
【0011】この場合、複数箇所のガス流出孔及びガス
流入孔を、炉心管の軸方向に沿って区画された範囲内に
おいて、いずれか一つの組のガス流路に対して設けるこ
とにより、それぞれの反応を均一に起こさせることがで
きる。例えば、2種類のガスを用いる場合には、炉心管
の軸方向に区画された3区域の中央部分にガスAの2つ
のガス流路に複数個のガス流出孔及びガス流入孔を形成
し、前後部分にガスBの2つのガス流路に複数個のガス
流出孔及びガス流入孔を形成する。
【0012】以上の雰囲気制御型熱処理炉を用いて長尺
材料を連続的に熱処理する場合、炉心管のほぼ中央部に
長尺材料を支持するための溝部を有する支持部材を配設
し、複数箇所のガス流出孔及びガス流入孔をこの溝部側
に設けることが好ましい。これにより、長尺材料を炉内
に安定に供給して均一に反応させることが可能になる。
【0013】
【発明の実施の形態】図1及び2は本発明による雰囲気
制御型熱処理炉を示したもので、2つのガス流路を有す
る炉心管の軸方向に垂直な2箇所の概略断面図を示して
いる。
【0014】図1及び2に示すように、炉心管は二重構
造を有し、外側に配した外管11と内側に配した内管1
2が同心状に配置され、外管11と内管12との間は4
枚の仕切板13により4つのガス流路15、16、1
7、18が形成されている。内管及び外管と仕切板と
は、それぞれ接合され、各流路に流すガスが互いに侵入
しないように完全に分離されている。
【0015】図1において、ガス流路17にはガス流出
孔19が、またガス流路18にはガス流入孔20が形成
されている。一方 図2において、ガス流路15にはガ
ス流出孔21が、またガス流路16にはガス流入孔22
が形成され、ガス流路15、16及びガス流路17、1
8はそれぞれ一対のガス流路を形成する。
【0016】上記のガス流出孔及びガス流入孔は適当な
間隔をおいて複数箇所形成され、図3に示すように、一
対のガス流路を形成する複数のガス流出孔及びガス流入
孔は、炉心管の軸方向に沿って区画された範囲内におい
て設けられている。図3の概略水平断面図及び図4の概
略垂直断面図において、区画(A)においては ガス流
出孔19及びガス流入孔20が形成され、区画(B)に
おいては ガス流出孔21及びガス流入孔22が形成さ
れており、ガス流路17、18にはガスAが、またガス
流路15、16にはガスBが供給される。
【0017】また、炉心管のほぼ中央部に長尺材料を支
持するための支持部材14が配設され、複数箇所のガス
流出孔及びガス流入孔はこの支持部材の一側に配置され
ている。この支持部材には長尺材料を中央部に配置する
ための溝部を形成することが望ましい。
【0018】以上の構成の雰囲気制御型熱処理炉におい
て、ガス流路15、17をガス供給流路とし、ガス流路
16,18をガス排出流路とする。そしてガス供給流路
17とガス排出流路18にガスAを、またガス供給流路
15とガス排出流路16にガスBを供給する。この場合
に、ガス供給流路15、17とガス排出流路16、18
との間の流速を異なるように各ガス流路にガスを供給す
る。
【0019】この場合、それぞれのガス流路の入口部と
出口部の流速を変化させることによりガス流出孔とガス
流入孔との間に圧力差を発生させることができ、例え
ば、それぞれのガスのガス供給流路の入口部及びガス排
出流路の出口部のガス流速とガス供給流路の出口部及び
ガス排出流路の入口部のガス流速との間に差を設けるこ
とによって、ガス流出孔とガス流入孔との間に圧力差を
生じ、炉心管の軸方向に対して垂直方向にガスを均一に
流すことができる。
【0020】このように二重管構造を用いることによっ
て、炉心管の軸方向に沿ってガスを流すことにより炉心
管の軸方向に対する垂直方向にガスを均一に流すことが
でき、炉心管の軸方向に沿って均一性をもった複数のガ
ス雰囲気を実現することができる。また、多数の流速計
を必要とせず、熱処理炉の製造コストが低減できるばか
りか、その使用方法も簡便となる。
【0021】特に、長尺材料を一定速度で熱処理炉に送
り込み連続熱処理を行うためには、熱処理開始時の昇温
過程で通過する炉心管端部側部分、一定温度で熱処理を
行う過程で通過する炉心管中央部分、そして炉冷過程で
通過する他方の炉心管端部側部分で、異なる雰囲気区域
を作ることが材料の特性向上のために必要となり、以上
の二重管構造の雰囲気制御型熱処理炉は、ガス流路を4
つ以上設けることによって優れた性能を得ることができ
る。
【0022】図5及び図6は、筒状の炉心管の内部に複
数本の筒状体を配設して複数のガス流路を形成した例を
示したもので、図5は円筒状の炉心管30を用いた場合
を、また図6は矩形状炉の心管40を用いた場合を示し
ている。それぞれの炉心管30、40の内部には、4本
の筒状体31、32、33、34または41、42、4
3、44が配設され、筒状体31と32、33と34、
41と42、43と44はそれぞれ一組のガス流路を形
成する。筒状体31、33、41、43はガス供給流路
を、筒状体32、34、42、44はガス排出流路を形
成し、それぞれ対向する位置にガス流出孔及びガス流入
孔が設けられており、これらのガス流出孔及びガス流入
孔の間の圧力差によって炉心管の軸方向に対する垂直方
向に異なるガスA及びガスBを均一に流すことができる点
は上記の二重管構造の雰囲気制御型熱処理炉と同じであ
る。尚、35及び45は、中央部に長尺材料を配置する
ための溝部が形成された支持部材である。
【0023】
【実施例】それぞれ全長1500mmの内管と外管を用い
て、図1〜4に示すように仕切板が4つある二重管構造の
雰囲気制御型熱処理炉を作製した。外管の直径は100
mm、内管の直径は50mmとした。仕切板および内管、外
管は、すべて石英を用い、仕切板と内管及び外管は溶接
で接合し、各ガス通路が相互に完全に遮断されるように
した。内管に長手方向に20mmの間隔を置いて直径10
mmのガス孔を、図1、2及び4で示すように形成した。図1
は熱処理炉の両端部側断面、図2は中央部断面をそれぞ
れ示す。孔の位置は、中央部においてガスAの供給流路
17からガスAの排出流路18へガスが流れるように、
両端部側においてはガスBの供給流路15からガスBの排
出流路16にガスが流れるように設定した。
【0024】ガス流路の出入口の流速の設定を図3によ
って説明する。
【0025】ガスAの供給流路17とガスBの供給流路1
5の入口部及びガスAの排出流路18とガスBの排出流路
16の出口部のガス流速を10m/sec.に設定し、ガスA
の供給流路17及びガスBの供給通路15の出口部及び
ガスAの排出流路18とガスBの排出流路16の入口部の
ガス流速を5m/sec.に設定した。
【0026】上記の条件でガスを流した結果、炉心管の
軸方向に対する垂直方向の内管内部におけるガス流速
は、図7に示す分布となった。この結果によって、内管
内部における速度分布は一定であり、その流速は1m/se
c.に制御できることが判明した。
【0027】また、内管内の軸方向中央部における軸方
向の速度分布を図8に示す。この結果から、軸方向の速
度分布が均一であることが判明した。
【0028】次に、上記の二重管構造の雰囲気制御型熱
処理炉を用いて、Y系酸化物超電導(YBCO)テープ線材
の作製を行った。
【0029】基板として、幅10mm、厚さ0.1mmのハ
ステロイテープ上にIBAD法(基板に対して斜め方向から
イオンを照射しながら、基板上にターゲットから発生し
た粒子を堆積させる方法:Ion Beam Assisted Depositio
n)で成膜した0.5μm厚のYSZ中間層を作製し、その
上にスパッタ法によって0.5μm厚のCeO2中間層を作
製したテープを用いた。まず、YBa2Cu3-TFA塩をメタノ
ール溶液に混合し、溶液濃度を0.25mol/Lに調整し
た。その溶液を基板テープ上にディップコーティングし
た後、上記の管状炉内に基板テープを送り、水蒸気を含
んだ酸素雰囲気下において、400℃まで加熱し、Y-Ba
-Cu前駆体膜テープを得た。 その後、このY-Ba-Cu前駆
体膜テープを、図9に示す温度分布に設定した管状炉に
600mm/hの一定速度で送り、酸素濃度を0.1%に調
整したアルゴン/酸素混合ガス(ガスB)中において40
0℃まで熱処理を行い、引き続き水蒸気を含んだ酸素濃
度を0.1%に調整したアルゴン/酸素混合ガス(ガス
A)中において775℃で1時間焼成を行った。その
後、再びガスB中において炉冷処理を行った。作製したY
BCOテープを10cm長に切断し、450℃で1時間酸素
アニール処理を施した。
【0030】このようにして得られたYBCOテープの臨界
電流密度(Jc値)を、直流四端子法によって(電圧基準1
μV/cm)、液体窒素中において測定した結果、線材長1
0m当りの平均値として2 MA/cm2の値が得られた。こ
のときのばらつきは±10%であり、均一な特性を有す
る線材の製造が可能であることが判明した。
【0031】比較例 本発明の効果を調べるために、従来技術を用いた軸方向
にガスAを流すことにより雰囲気制御を行う管状炉にお
いて、他の条件を上記実施例と同一にした熱処理を施
し、YBCOテープを作製した。
【0032】このようにして得られたYBCOテープのJc値
を、実施例と同様の方法により測定した果、線材長10
m当りの平均値として0.2 MA/cm2の値が得られた。
このときのばらつきは±50%であった。
【0033】
【発明の効果】以上述べたように、本発明による雰囲気
制御型熱処理炉によれば、炉内の雰囲気制御を所定の条
件で適正に行うことができ、特性の向上した均一な長尺
材料が得られる。
【0034】即ち、従来技術のように長尺材料の長手方
向にガスが流れる場合、材料から反応時に発生するガス
の影響によって材料の長手方向に雰囲気の分布が変化
し、均一な反応が得られない。これに比して、本発明の
熱処理炉では、ガスが材料の長手方向に対して横から吹
き付け横から排出するために、材料から発生するガスの
影響は軽微であり、均一な反応を得ることが可能にな
る。
【0035】また、本発明の雰囲気制御型熱処理炉は、
複数のガス供給流路と複数のガス排出通路を設けること
により、昇温及び冷却過程と高温反応過程において異な
る雰囲気制御が可能である。
【0036】さらに、本発明の雰囲気制御型熱処理炉
は、材料の長手方向に対して垂直にガスを流すものであ
るにもかかわらず、炉長が長くなっても流量計を増やす
必要がないため大幅に熱処理炉の製造コストの低減が可
能であり、熱処理炉の運用の簡便性をもたらす。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による雰囲気制御型熱処理炉の一実施例
を示す炉心管の軸方向に垂直な断面図(ガスAを内管に
流す区域の断面図)である。
【図2】本発明による雰囲気制御型熱処理炉の一実施例
を示す炉心管の軸方向に垂直な断面図(ガスBを内管に
流す区域の断面図)である。
【図3】本発明による雰囲気制御型熱処理炉の一実施例
を示す軸方向を含む概略水平断面図である。
【図4】本発明による雰囲気制御型熱処理炉の一実施例
を示す軸方向を含む概略垂直断面図である。
【図5】本発明による雰囲気制御型熱処理炉の他の実施
例を示す炉心管の軸方向に垂直な概略断面図
【図6】本発明による雰囲気制御型熱処理炉の他の実施
例を示す炉心管の軸方向に垂直な概略断面図
【図7】本発明による雰囲気制御型熱処理炉の炉心管内
のガス流速の軸方向に対する垂直方向の分布の一実施例
を示すグラフである。
【図8】本発明による雰囲気制御型熱処理炉の炉心管内
中央部のガス流速の軸方向の分布の一実施例を示すグラ
フである。
【図9】本発明による雰囲気制御型熱処理炉の炉心管内
軸方向の温度分布の一実施例を示すグラフである。
【符号の説明】
11…外管 12…内管 13…仕切板 14…支持板 15…ガス流路(ガスBの供給流路) 16…ガス流路(ガスBの排出流路) 17…ガス流路(ガスAの供給流路) 18…ガス流路(ガスAの排出流路) 19…ガス流出孔(ガスAの内管への入口) 20…ガス流入孔(ガスAの内管からの出口) 21…ガス流出孔(ガスBの内管への入口) 22…ガス流入孔(ガスBの内管からの出口) 30、40…炉心管 31、33、41、43…筒状体(ガス供給流路) 32、34、42、44…筒状体(ガス排出流路) 35、45…支持部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 本庄 哲吏 東京都江東区東雲1−10−13 財団法人国 際超電導産業技術研究センター 超電導工 学研究所内 (72)発明者 江上 雅裕 東京都江東区東雲1−10−13 財団法人国 際超電導産業技術研究センター 超電導工 学研究所内 (72)発明者 和泉 輝郎 東京都江東区東雲1−10−13 財団法人国 際超電導産業技術研究センター 超電導工 学研究所内 (72)発明者 塩原 融 東京都江東区東雲1−10−13 財団法人国 際超電導産業技術研究センター 超電導工 学研究所内 Fターム(参考) 4G015 CA08 4K050 AA02 BA01 BA05 BA16 CC07 CC10 CG01 4K063 AA05 AA15 AA19 BA02 BA03 BA04 BA12 CA03 DA14 DA15

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】同心状に配置された外管及び内側とからな
    る炉心管と、前記外管及び前記内管によって形成された
    円筒状空間を前記炉心管の軸方向に垂直な断面内におい
    て複数に分割する仕切板により複数のガス流路を形成
    し、前記複数のガス流路の前記内管のほぼ対向する位置
    に、それぞれ複数箇所のガス流出孔及びガス流入孔を設
    けたことを特徴とする雰囲気制御型熱処理炉。
  2. 【請求項2】筒状の炉心管の内部に複数本の筒状体を配
    設して複数のガス流路を形成し、前記複数本の筒状体の
    ほぼ対向する位置に、それぞれ複数箇所のガス流出孔及
    びガス流入孔を設けたことを特徴とする雰囲気制御型熱
    処理炉。
  3. 【請求項3】複数箇所のガス流出孔及びガス流入孔を有
    するガス流路に、同質のガスを異なる流速で供給するこ
    とにより、前記ガス流出孔と前記ガス流入孔との間に圧
    力差を生じさせ、炉心管の軸方向に対する垂直方向にガ
    スを均一に流すことを特徴とする請求項1又は2記載の
    雰囲気制御型熱処理炉。
  4. 【請求項4】ガス流出孔とガス流入孔との間の圧力差
    は、それぞれのガス流路の入口部と出口部の流速を変化
    させることにより行われることを特徴とする請求項3記
    載の雰囲気制御型熱処理炉。
  5. 【請求項5】複数箇所のガス流出孔及びガス流入孔を有
    する一対のガス流路を複数組備え、それぞれの組のガス
    流路に異なる質のガスを供給することを特徴とする請求
    項3又は4記載の雰囲気制御型熱処理炉。
  6. 【請求項6】複数箇所のガス流出孔及びガス流入孔は、
    炉心管の軸方向に沿って区画された範囲内において、い
    ずれか一つの組のガス流路に対して設けられていること
    を特徴とする請求項5記載の雰囲気制御型熱処理炉。
  7. 【請求項7】炉心管のほぼ中央部に長尺材料を支持する
    ための溝部を有する支持部材を配設し、複数箇所のガス
    流出孔及びガス流入孔を前記溝部側に設けたことを特徴
    とする請求項1乃至6いずれか1項記載の雰囲気制御型
    熱処理炉。
JP2001314737A 2001-10-12 2001-10-12 雰囲気制御型熱処理炉 Expired - Fee Related JP3789341B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001314737A JP3789341B2 (ja) 2001-10-12 2001-10-12 雰囲気制御型熱処理炉

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001314737A JP3789341B2 (ja) 2001-10-12 2001-10-12 雰囲気制御型熱処理炉

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003121076A true JP2003121076A (ja) 2003-04-23
JP3789341B2 JP3789341B2 (ja) 2006-06-21

Family

ID=19133001

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001314737A Expired - Fee Related JP3789341B2 (ja) 2001-10-12 2001-10-12 雰囲気制御型熱処理炉

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3789341B2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007080875A1 (ja) * 2006-01-13 2007-07-19 International Superconductivity Technology Center, The Juridical Foundation 酸化物超電導線材の熱処理装置
JP2009048817A (ja) * 2007-08-16 2009-03-05 Internatl Superconductivity Technology Center 酸化物超電導線材の熱処理装置
EP1705720A3 (en) * 2005-03-25 2009-03-25 International Superconductivity Technology Center, The Juridical Foundation Method of and apparatus for manufacturing tape-formed oxide superconductor
JP2012009218A (ja) * 2010-06-23 2012-01-12 Swcc Showa Cable Systems Co Ltd テープ状酸化物超電導線材の製造方法及び熱処理装置
WO2012105243A1 (ja) * 2011-02-03 2012-08-09 公益財団法人国際超電導産業技術研究センター テープ状酸化物超電導線材の製造方法及び熱処理装置
WO2012105244A1 (ja) * 2011-02-03 2012-08-09 昭和電線ケーブルシステム株式会社 テープ状酸化物超電導線材の製造方法及び熱処理装置

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1705720A3 (en) * 2005-03-25 2009-03-25 International Superconductivity Technology Center, The Juridical Foundation Method of and apparatus for manufacturing tape-formed oxide superconductor
US8124171B2 (en) 2005-03-25 2012-02-28 International Superconductivity Technology Center, The Juridical Foundation Method of and apparatus for manufacturing tape-formed oxide superconductor
WO2007080875A1 (ja) * 2006-01-13 2007-07-19 International Superconductivity Technology Center, The Juridical Foundation 酸化物超電導線材の熱処理装置
US8062028B2 (en) 2006-01-13 2011-11-22 International Superconductivity Technology Center, The Jurdical Foundation Heat treatment apparatus for oxide superconducting wire
JP2009048817A (ja) * 2007-08-16 2009-03-05 Internatl Superconductivity Technology Center 酸化物超電導線材の熱処理装置
JP2012009218A (ja) * 2010-06-23 2012-01-12 Swcc Showa Cable Systems Co Ltd テープ状酸化物超電導線材の製造方法及び熱処理装置
WO2012105243A1 (ja) * 2011-02-03 2012-08-09 公益財団法人国際超電導産業技術研究センター テープ状酸化物超電導線材の製造方法及び熱処理装置
WO2012105244A1 (ja) * 2011-02-03 2012-08-09 昭和電線ケーブルシステム株式会社 テープ状酸化物超電導線材の製造方法及び熱処理装置
JP2012164442A (ja) * 2011-02-03 2012-08-30 International Superconductivity Technology Center テープ状酸化物超電導線材の製造方法及び熱処理装置
JP2012164443A (ja) * 2011-02-03 2012-08-30 Swcc Showa Cable Systems Co Ltd テープ状酸化物超電導線材の製造方法及び熱処理装置
TWI509635B (zh) * 2011-02-03 2015-11-21 Swcc Showa Cable Sys Co Ltd 帶狀氧化物超電導線材的製造方法及熱處理裝置

Also Published As

Publication number Publication date
JP3789341B2 (ja) 2006-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3354747B2 (ja) Cvd反応装置および酸化物超電導導体の製造方法
FI97731B (fi) Menetelmä ja laite ohutkalvojen valmistamiseksi
US9129810B2 (en) System and method for depositing a material on a substrate
CN103988286A (zh) 自给自足式加热元件
WO2022077637A1 (zh) 喷淋板、配置喷淋板的mocvd反应系统及其使用方法
JP2004520482A (ja) 流体流を複数の部分流に分配するための流体分配ユニット及び、複数の流体のための流体分配装置
JP3789341B2 (ja) 雰囲気制御型熱処理炉
US20120180725A1 (en) Cvd apparatus
US8124171B2 (en) Method of and apparatus for manufacturing tape-formed oxide superconductor
JP3741861B2 (ja) Cvd反応装置
JP3741860B2 (ja) 酸化物超電導導体の製造装置および製造方法
JP3392299B2 (ja) Cvd用原料溶液気化装置
JP2001073151A (ja) Cvd反応装置及び酸化物超電導体の製造方法
JP4034052B2 (ja) 酸化物超電導導体の製造方法
JP3342785B2 (ja) 酸化物超電導導体の製造装置および製造方法
JP3756322B2 (ja) 酸化物超電導導体の製造装置および製造方法
JP5854853B2 (ja) Cvd装置
US20230217839A1 (en) Multi-Stack Susceptor Reactor for High-Throughput Superconductor Manufacturing
JPH03131594A (ja) 気相成長装置
JP2001319535A (ja) 酸化物超電導導体の製造装置及び酸化物超電導導体の製造方法
JPH0955132A (ja) 酸化物超電導導体の製造装置および製造方法
JP5684072B2 (ja) Cvd装置及び超電導線材の製造方法
JPH11120842A (ja) 酸化物超電導体の製造装置および製造方法
Stadel et al. Single source MOCVD system for deposition of superconducting films onto moved tapes
JP6062275B2 (ja) Cvd装置及び超電導薄膜の成膜方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20041027

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050802

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050922

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060228

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060328

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090407

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees