JP2003114501A - ハロゲン化銀写真乾板及びその製造方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真乾板及びその製造方法Info
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- JP2003114501A JP2003114501A JP2001308584A JP2001308584A JP2003114501A JP 2003114501 A JP2003114501 A JP 2003114501A JP 2001308584 A JP2001308584 A JP 2001308584A JP 2001308584 A JP2001308584 A JP 2001308584A JP 2003114501 A JP2003114501 A JP 2003114501A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ピンホール故障や異物による故障が少なく、
生産効率の良いハロゲン化銀写真乾板及びその製造方法
の提供。 【解決手段】 少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を
有するハロゲン化銀写真乾板において、コーナー部４点
の内少なくとも１辺を挟む２点以上が曲率半径５ｍｍ以
上、３００ｍｍ以下の曲面状に面取りされた支持体上に
ハロゲン化銀乳剤層が塗布されていることを特徴とする
ハロゲン化銀写真乾板。
生産効率の良いハロゲン化銀写真乾板及びその製造方法
の提供。 【解決手段】 少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を
有するハロゲン化銀写真乾板において、コーナー部４点
の内少なくとも１辺を挟む２点以上が曲率半径５ｍｍ以
上、３００ｍｍ以下の曲面状に面取りされた支持体上に
ハロゲン化銀乳剤層が塗布されていることを特徴とする
ハロゲン化銀写真乾板。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はハロゲン化銀乳剤層
を有するフォトマスク用ハロゲン化銀写真乾板に関し、
詳しくは乾板のコピー返し露光時に異物による故障が少
ないハロゲン化銀写真乾板及びその製造方法に関する。
を有するフォトマスク用ハロゲン化銀写真乾板に関し、
詳しくは乾板のコピー返し露光時に異物による故障が少
ないハロゲン化銀写真乾板及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】リードフレームやシャドーマスクの製造
工程においては、まずレーザー光源やタングステン光源
を使用するプロッターを用いて描画し、現像処理して得
られたたマスターマスクを密着返しして、ワーキングマ
スクを作製している。
工程においては、まずレーザー光源やタングステン光源
を使用するプロッターを用いて描画し、現像処理して得
られたたマスターマスクを密着返しして、ワーキングマ
スクを作製している。
【０００３】その後ワーキングマスクを介し、レジスト
塗布した金属板にパターンを複写、エッチングして製品
としている。
塗布した金属板にパターンを複写、エッチングして製品
としている。
【０００４】マスターパターンをワーキングにコピーし
たり、ワーキングパターンを金属板に焼き付けたりする
場合、原版のマスクパターン上に異物などが付着してい
ると、露光阻害による白欠陥の原因となり、修正工数が
かかり、生産性が著しく低下することになる。白欠陥の
原因となる異物は、原版マスク作製直後にはマスクパタ
ーン上には多くは存在せず、その後の取り扱いの中で付
着してくることが多いことが調査の結果判明し、特に原
版マスクを収納するラックと原版マスク支持体のガラス
との摩擦によって、白欠陥の原因となる異物発生が多い
ことがわかった。
たり、ワーキングパターンを金属板に焼き付けたりする
場合、原版のマスクパターン上に異物などが付着してい
ると、露光阻害による白欠陥の原因となり、修正工数が
かかり、生産性が著しく低下することになる。白欠陥の
原因となる異物は、原版マスク作製直後にはマスクパタ
ーン上には多くは存在せず、その後の取り扱いの中で付
着してくることが多いことが調査の結果判明し、特に原
版マスクを収納するラックと原版マスク支持体のガラス
との摩擦によって、白欠陥の原因となる異物発生が多い
ことがわかった。
【０００５】従来のガラス乾板はコーナー面取り部分が
浅く、その為に破損や取り扱い時の怪我が発生し易かっ
た。また、コーナー面取りを深くしても、直線的に面取
りを行っていると、それらの防止には効果が少ないこと
がわかった。
浅く、その為に破損や取り扱い時の怪我が発生し易かっ
た。また、コーナー面取りを深くしても、直線的に面取
りを行っていると、それらの防止には効果が少ないこと
がわかった。
【０００６】更に、ガラス乾板マスクの露光、現像後、
パターン形成をしてから研削機を用いて面取りを掛ける
と、研削時の削りかすがパターンを傷つけたり、ノイズ
となる障害になることが判った。
パターン形成をしてから研削機を用いて面取りを掛ける
と、研削時の削りかすがパターンを傷つけたり、ノイズ
となる障害になることが判った。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記問題点に対し、本
発明の目的は、ピンホール故障や異物による故障が少な
いハロゲン化銀写真乾板及びその製造方法を提供するこ
とにある。
発明の目的は、ピンホール故障や異物による故障が少な
いハロゲン化銀写真乾板及びその製造方法を提供するこ
とにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成された。
記構成により達成された。
【０００９】１）少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層
を有するハロゲン化銀写真乾板において、コーナー部４
点の内少なくとも１辺を挟む２点以上が曲率半径５ｍｍ
以上、３００ｍｍ以下の曲面状に面取りされた支持体上
にハロゲン化銀乳剤層が塗布されていることを特徴とす
るハロゲン化銀写真乾板。
を有するハロゲン化銀写真乾板において、コーナー部４
点の内少なくとも１辺を挟む２点以上が曲率半径５ｍｍ
以上、３００ｍｍ以下の曲面状に面取りされた支持体上
にハロゲン化銀乳剤層が塗布されていることを特徴とす
るハロゲン化銀写真乾板。
【００１０】２）前記１）に記載のハロゲン化銀写真乾
板の製造方法において、ハロゲン化銀乳写真乾板のコー
ナーの面取りを、予め支持体上に加工を施し、洗浄後に
ハロゲン化銀乳剤層を塗布して行うことを特徴とするハ
ロゲン化銀写真乾板の製造方法。
板の製造方法において、ハロゲン化銀乳写真乾板のコー
ナーの面取りを、予め支持体上に加工を施し、洗浄後に
ハロゲン化銀乳剤層を塗布して行うことを特徴とするハ
ロゲン化銀写真乾板の製造方法。
【００１１】以下、本発明を詳述する。本発明に用いる
ガラス基板は、ガラス組成に関して特に制限はないが、
ソーダ石灰ガラスやソーダ石灰アルミガラスなどが好ま
しく、平面性の点から、フロート法で製造するものが好
ましい。該基板は表面処理する前に、予め洗浄などで脱
グリースされている方が好ましい。また、ガラス基板上
に孔を設けるなどの加工を施してもかまわない。
ガラス基板は、ガラス組成に関して特に制限はないが、
ソーダ石灰ガラスやソーダ石灰アルミガラスなどが好ま
しく、平面性の点から、フロート法で製造するものが好
ましい。該基板は表面処理する前に、予め洗浄などで脱
グリースされている方が好ましい。また、ガラス基板上
に孔を設けるなどの加工を施してもかまわない。
【００１２】コーナー部の面取りは曲面上にする必要が
あり、曲面の曲率半径は５ｍｍ以上である。曲率半径と
しては５〜３００ｍｍが好ましく、更に好ましくは７〜
１００ｍｍである。この範囲を逸脱すると異物欠陥は増
加する。曲面の面取り法としては、回転型研削機、グラ
インダーなどを用いることが出来る。この時、異物の付
着や熱の発生を抑える為、流水下もしくは機会油などの
不活性溶媒下で研削するのが好ましい。
あり、曲面の曲率半径は５ｍｍ以上である。曲率半径と
しては５〜３００ｍｍが好ましく、更に好ましくは７〜
１００ｍｍである。この範囲を逸脱すると異物欠陥は増
加する。曲面の面取り法としては、回転型研削機、グラ
インダーなどを用いることが出来る。この時、異物の付
着や熱の発生を抑える為、流水下もしくは機会油などの
不活性溶媒下で研削するのが好ましい。
【００１３】このときコーナーを１つのＲ曲線で形成し
てもよいし、予めホイルチップカッターなどで１コーナ
ーを切断し、生じた２つの角を曲面状に面取り研磨して
もかまわない、即ち２つのＲ曲線を形成する場合であ
り、これも請求項１に含まれる。面取りはコーナー以外
にも取り扱い安全上、８稜の辺にも０．５〜２ｍｍ幅程
度に面取りを行うことが好ましい。
てもよいし、予めホイルチップカッターなどで１コーナ
ーを切断し、生じた２つの角を曲面状に面取り研磨して
もかまわない、即ち２つのＲ曲線を形成する場合であ
り、これも請求項１に含まれる。面取りはコーナー以外
にも取り扱い安全上、８稜の辺にも０．５〜２ｍｍ幅程
度に面取りを行うことが好ましい。
【００１４】ガラス基板の洗浄はブラシ等で物理的に摩
擦する方法や、フッ化水素溶液やアルカリ溶液に浸漬す
る化学処理がよいが、併用することもできる。ガラス基
板の洗浄は、コーナー面取りを行った後の乳剤塗布前ま
でに実施するのが好ましいが、コーナー面取りを設ける
前にも合せて行なう方がよい。
擦する方法や、フッ化水素溶液やアルカリ溶液に浸漬す
る化学処理がよいが、併用することもできる。ガラス基
板の洗浄は、コーナー面取りを行った後の乳剤塗布前ま
でに実施するのが好ましいが、コーナー面取りを設ける
前にも合せて行なう方がよい。
【００１５】本発明のガラス基板を用いて塗布されるハ
ロゲン化銀乳剤、非感光性コロイド層及びバッキング層
は、任意であり、特開平３−２５３８４４号、同４−２
４２２４０号、同７−２１９１１６号、同１０−２８８
８１７号等に記載されているもの等を挙げることができ
る。
ロゲン化銀乳剤、非感光性コロイド層及びバッキング層
は、任意であり、特開平３−２５３８４４号、同４−２
４２２４０号、同７−２１９１１６号、同１０−２８８
８１７号等に記載されているもの等を挙げることができ
る。
【００１６】本発明のハロゲン化銀乳剤には、当業界公
知の各種技術、添加剤等を用いることができる。例え
ば、本発明で用いるハロゲン化銀写真乳剤及びバッキン
グ層には、各種の化学増感剤、色調剤、硬膜剤、界面活
性剤、増粘剤、可塑剤、スベリ剤、現像抑制剤、紫外線
吸収剤、イラジェーション防止剤染料、重金属、マット
剤等を各種の方法で更に含有させることができる。ま
た、本発明においてハロゲン化乳剤及びバッキング層中
にはポリマーラテックスを含有させることができる。
知の各種技術、添加剤等を用いることができる。例え
ば、本発明で用いるハロゲン化銀写真乳剤及びバッキン
グ層には、各種の化学増感剤、色調剤、硬膜剤、界面活
性剤、増粘剤、可塑剤、スベリ剤、現像抑制剤、紫外線
吸収剤、イラジェーション防止剤染料、重金属、マット
剤等を各種の方法で更に含有させることができる。ま
た、本発明においてハロゲン化乳剤及びバッキング層中
にはポリマーラテックスを含有させることができる。
【００１７】これらの添加剤は、より詳しくはリサーチ
ディスクロージャ第１７６巻Ｉｔｅｍ／７６４３（１９
７８年１２月）及び同１８７巻Ｉｔｅｍ／８７１６（１
９７９年１１月）に記載されており、その該当個所を下
記にまとめて示した。
ディスクロージャ第１７６巻Ｉｔｅｍ／７６４３（１９
７８年１２月）及び同１８７巻Ｉｔｅｍ／８７１６（１
９７９年１１月）に記載されており、その該当個所を下
記にまとめて示した。
【００１８】
添加剤種類 ＲＤ／７６４３ ＲＤ／８７１６
１．化学増感剤 ２３頁 ６４８頁右欄
２．感度上昇剤 同 上
３．分光増感剤 ２３〜２４頁 ６４８頁右欄〜
強色増感剤 ６４９頁右欄
４．増白剤 ２４頁
５．かぶり防止剤及び安定剤 ２４〜２５頁 ６４９頁右欄
６．光吸収剤、フィルター染料 ２５〜２６頁 ６４９頁右欄〜
紫外線吸収剤 ６５０頁左欄
７．ステイン防止剤 ２５頁右欄 ６５０頁左〜右欄
８．色素画像安定剤 ２５頁
９．硬膜剤 ２６頁 ６５１頁左欄
１０．バインダー ２６頁 同 上
１１．可塑剤、潤滑剤 ２７頁 ６５０頁右欄
１２．塗布助剤、表面活性剤 ２６〜２７頁 同 上
１３．スタチック防止剤 ２７頁 同 上。
【００１９】本発明の乾板の現像処理は公知の方法を用
いることが出来る。詳しくは特開平３−２５３８４４
号、同４−２４２２４０号、同７−２１９１１６号、同
１０−２８８８１７号等に記載されているもの等を挙げ
ることができる。
いることが出来る。詳しくは特開平３−２５３８４４
号、同４−２４２２４０号、同７−２１９１１６号、同
１０−２８８８１７号等に記載されているもの等を挙げ
ることができる。
【００２０】
【実施例】以下、実施例により、本発明について具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。
【００２１】実施例１
《ガラス支持体の準備》市販の３６インチ×４０インチ
のフロートガラスの各辺を１ｍｍ、各コーナーを表１に
示す形状の様に、ホイルチップカッター及び回転砥石型
面取り機を用いて面取りし（図１、図２、図３）、０．
１％フッ化水素溶液に２分浸漬表面処理後、純水中でブ
ラシによる表面洗浄を両面行なった。
のフロートガラスの各辺を１ｍｍ、各コーナーを表１に
示す形状の様に、ホイルチップカッター及び回転砥石型
面取り機を用いて面取りし（図１、図２、図３）、０．
１％フッ化水素溶液に２分浸漬表面処理後、純水中でブ
ラシによる表面洗浄を両面行なった。
【００２２】
《ハロゲン化銀乳剤の形成》
（溶液Ａ）
水 ７３４ｍｌ
塩化ナトリウム ０．１８ｇ
ゼラチン １１ｇ
（溶液Ｂ）
水 １６４ｍｌ
塩化ナトリウム ３８．７ｇ
ヘキサクロロロジウム酸カリウムの１％水溶液 １．６ｍｌ
ゼラチン ３．３ｇ
（溶液Ｃ）
水 １６０ｍｌ
硝酸銀 １００ｇ
４０℃に保温されたゼラチン及び塩化ナトリウムを含む
溶液Ａ中に硝酸を加え、ｐＨ３．０とし、ｐＡｇ６．５
に保ちながら、溶液Ｂ及び溶液Ｃを同時に関数的に８分
間に亙って加え、更に１０分撹拌したのち、炭酸ナトリ
ウム水溶液でｐＨを５．６に調整し、ゼラチンを２．３
ｇと２０％硫酸マグネシウム水溶液１４０ｍｌ及びポリ
ナフタレンスルホン酸の５％水溶液２００ｍｌを加え、
４０℃にてフロキュレート化し、デカンテーションを行
い水洗して過剰の水溶液中の塩を除去する。次いでそれ
に１３００ｍｌの水を加えて分散させ、再び２０％の硫
酸マグネシウム水溶液５０ｍｌを加えて同様に過剰の水
溶液中の塩を除去する。更にそれに１３００ｍｌの水を
加えて分散させ、再び２０％の硫酸マグネシウム水溶液
４０ｍｌを加えて同様に過剰の水溶液中の塩を除去す
る。それに２００ｍｌの水と２８３ｇのゼラチン１６．
７ｇを加えて、６０℃で６０分間分散させる。
溶液Ａ中に硝酸を加え、ｐＨ３．０とし、ｐＡｇ６．５
に保ちながら、溶液Ｂ及び溶液Ｃを同時に関数的に８分
間に亙って加え、更に１０分撹拌したのち、炭酸ナトリ
ウム水溶液でｐＨを５．６に調整し、ゼラチンを２．３
ｇと２０％硫酸マグネシウム水溶液１４０ｍｌ及びポリ
ナフタレンスルホン酸の５％水溶液２００ｍｌを加え、
４０℃にてフロキュレート化し、デカンテーションを行
い水洗して過剰の水溶液中の塩を除去する。次いでそれ
に１３００ｍｌの水を加えて分散させ、再び２０％の硫
酸マグネシウム水溶液５０ｍｌを加えて同様に過剰の水
溶液中の塩を除去する。更にそれに１３００ｍｌの水を
加えて分散させ、再び２０％の硫酸マグネシウム水溶液
４０ｍｌを加えて同様に過剰の水溶液中の塩を除去す
る。それに２００ｍｌの水と２８３ｇのゼラチン１６．
７ｇを加えて、６０℃で６０分間分散させる。
【００２３】これによって塩化銀１００モル％、平均粒
径０．０９μｍ単分散度９の立方体粒子を得た。
径０．０９μｍ単分散度９の立方体粒子を得た。
【００２４】次にこれを６０℃に保ち、４−ヒドロキシ
−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンの
１％水溶液３．５ｍｌ加え、２０分後、チオ硫酸ナトリ
ウムの０．５％溶液を１．９ｍｌ加え、６０℃で６０分
間熟成し、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３
ａ，７−テトラザインデン１．７ｇとゼラチンを７２ｇ
加え、４５℃に冷却し、熟成を終了し、ハロゲン化銀乳
剤を得た。
−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンの
１％水溶液３．５ｍｌ加え、２０分後、チオ硫酸ナトリ
ウムの０．５％溶液を１．９ｍｌ加え、６０℃で６０分
間熟成し、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３
ａ，７−テトラザインデン１．７ｇとゼラチンを７２ｇ
加え、４５℃に冷却し、熟成を終了し、ハロゲン化銀乳
剤を得た。
【００２５】〈乳剤層液の調製〉前記熟成後の乳剤に下
記量となるように添加剤を加えた後、水を加えて２００
０ｍｌに調製した。
記量となるように添加剤を加えた後、水を加えて２００
０ｍｌに調製した。
【００２６】
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール ３００ｍｇ／Ａｇモル
化合物（Ｚ−１） ８００ｍｇ／Ａｇモル
化合物（Ｚ−２） ８００ｍｇ／Ａｇモル
染料（Ｆ−１） ５０ｍｇ／ｍ2
染料（Ｆ−２） １００ｍｇ／ｍ2
クエン酸 ６．５ｍｇ／ｍ2
硬膜剤（Ｈ−１） ３０ｍｇ／ｍ2
シランカップリング剤（Ｈ−２） ２５０ｍｇ／ｍ2
コロイダルシリカ（平均粒径０．００５μｍ） ２５０ｍｇ／ｍ2
平均粒径３μｍのＰＭＭＡマット剤 １００ｍｇ／ｍ2
【００２７】
【化１】
【００２８】〈保護層液の調製〉下記量となるように添
加剤を加えた後、水を加えて１０００ｍｌ調製した。
加剤を加えた後、水を加えて１０００ｍｌ調製した。
【００２９】
ゼラチン ０．６ｇ／ｍ2
コロイダルシリカ（平均粒径０．００５μｍ） ２５０ｍｇ／ｍ2
ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム １５ｍｇ／ｍ2
界面活性剤（Ｃ−１） ２ｍｇ／ｍ2
硬膜剤（Ｈ−１） ３ｍｇ／ｍ2
〈バッキング液の調製〉下記組成の溶液を調製した。
【００３０】
化合物（Ｐ） ４０ｇ
染料（Ｆ−３） ５ｇ
エタノール ４５０ｍｌ
メタノール ４５０ｍｌ
【００３１】
【化２】
【００３２】〔ハロゲン化銀写真乾板の作製〕
《バッキング層の塗布》表１に示すガラス支持体上に上
述したバッキング液を７ｍｌ、塗布幅６５０ｍｍとなる
ようにナプキンコーターで塗布して、バッキング層を設
けた。
述したバッキング液を７ｍｌ、塗布幅６５０ｍｍとなる
ようにナプキンコーターで塗布して、バッキング層を設
けた。
【００３３】《乳剤層及び保護層の塗布》上記でバッキ
ング層を塗設したのとは反対の側のガラス支持体上に、
乳剤層として上記乳剤層液をＡｇ量が３．５ｇ／ｍ2、
になるように、その上に保護層として保護層液を保護層
ゼラチン量が０．７ｇ／ｍ2になるように、塗布幅は３
６インチ方向が幅手となるように未塗布部１０ｍｍを残
し、各ガラス支持体上にカーテンコーターで同時塗布し
て乳剤層及び保護層を設けた。
ング層を塗設したのとは反対の側のガラス支持体上に、
乳剤層として上記乳剤層液をＡｇ量が３．５ｇ／ｍ2、
になるように、その上に保護層として保護層液を保護層
ゼラチン量が０．７ｇ／ｍ2になるように、塗布幅は３
６インチ方向が幅手となるように未塗布部１０ｍｍを残
し、各ガラス支持体上にカーテンコーターで同時塗布し
て乳剤層及び保護層を設けた。
【００３４】その後、５０℃５５％ＲＨの環境下におい
て１２時間シーズニングした。このようにガラス１〜７
に乳剤層及び保護層を設けたものについて、下記のマス
ク作製を行って試料１〜７を得た。
て１２時間シーズニングした。このようにガラス１〜７
に乳剤層及び保護層を設けたものについて、下記のマス
ク作製を行って試料１〜７を得た。
【００３５】《ガラス乾板の加工》ガラス１上に塗布し
たもののうち、乳剤塗布乾燥後、両面をシートフィルム
でマスキングしたのち、ガラス４と同様にコーナー面取
り加工を施し、エアガンとＴＥＫＮＥＫ（株）製粘着ロ
ーラーを用いて、ガラスチップや付着異物を除去処理し
たものを試料８とした。
たもののうち、乳剤塗布乾燥後、両面をシートフィルム
でマスキングしたのち、ガラス４と同様にコーナー面取
り加工を施し、エアガンとＴＥＫＮＥＫ（株）製粘着ロ
ーラーを用いて、ガラスチップや付着異物を除去処理し
たものを試料８とした。
【００３６】〔マスクの作製〕孔径１００μｍのシャド
ーマスクパターンを有するマスターマスクを原画とし、
大日本スクリーン（株）製Ｐ−６０７型明室プリンター
を用いて、各試料に対し、３６５ｎｍ、強度４．８ｍＪ
／ｃｍ2の密着露光を行なった。露光済各試料に下記の
現像処理を皿現像にて行なった。
ーマスクパターンを有するマスターマスクを原画とし、
大日本スクリーン（株）製Ｐ−６０７型明室プリンター
を用いて、各試料に対し、３６５ｎｍ、強度４．８ｍＪ
／ｃｍ2の密着露光を行なった。露光済各試料に下記の
現像処理を皿現像にて行なった。
【００３７】
《現像処理》
現像 下記処方現像液 ２０℃ １８０秒
停止 ３％酢酸溶液 常温 ３０秒
定着 コニカ（株）製ＣＦＬ−８８１ 常温 ３００秒
水洗 流水（イオン交換水） 常温 １５分
〈現像液の調製〉
ジエチレントリアミン５酢酸・５ナトリウム １０ｇ
無水亜硫酸ナトリウム ３００ｇ
炭酸カリウム ５３０ｇ
炭酸水素カリウム １７０ｇ
１−フェニル−４−ヒドロキシルメチル−３−ピラゾリドン １５ｇ
エリソルビン酸ナトリウム・１水和物 ４００ｇ
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール ０．２５ｇ
臭化カリウム ４０ｇ
５−メチルメンゾトリアゾール ２．１ｇ
２，５−ジヒドロキシ安息香酸 ５０ｇ
８−メルカプトアデニン ０．７ｇ
水酸化カリウム及び純水を加えて１０ＬにてｐＨ９．８
に調整した。
に調整した。
【００３８】《マスクの加工》ガラス１上に乳剤塗布し
て現像処理したもののうち、現像処理後、両面をシート
フィルムでマスキングしたのち、ガラス４と同様にコー
ナー面取り加工を施し、エアガンとＴＥＫＮＥＫ（株）
製粘着ローラーを用いて、ガラスチップや付着異物を除
去処理したものを試料９とした。
て現像処理したもののうち、現像処理後、両面をシート
フィルムでマスキングしたのち、ガラス４と同様にコー
ナー面取り加工を施し、エアガンとＴＥＫＮＥＫ（株）
製粘着ローラーを用いて、ガラスチップや付着異物を除
去処理したものを試料９とした。
【００３９】このように作製した試料を表１に示す。
【００４０】
【表１】
【００４１】〔試料の評価〕
１）マスクの検査
各試料２０枚について、エアガンとＴＥＫＮＥＫ（株）
製粘着ローラーを用いて、除去可能な付着異物を除き、
異物検査についてＳＭＩＣ−８００（ソキア（株）製）
自動検査機を用いて、５０μｍ以上の異物及びピンホー
ルについての１枚あたりの発生頻度の検査を行なった。
製粘着ローラーを用いて、除去可能な付着異物を除き、
異物検査についてＳＭＩＣ−８００（ソキア（株）製）
自動検査機を用いて、５０μｍ以上の異物及びピンホー
ルについての１枚あたりの発生頻度の検査を行なった。
【００４２】２）マスク保存取り扱い後の検査
１）で検査したマスクをピンホールを墨塗りにて修正
後、収納ラックに保存し、１０回出し入れ後、エアガン
とＴＥＫＮＥＫ（株）製粘着ローラーを用いて除去可能
な付着異物を除き、１）と同様に５０μｍ以上の異物に
ついてカウントした。このとき２コーナーのみの曲面面
取り品については、収納ラック出し入れ時には曲面面取
り部分を下にしてマスクを取り扱った。また修正不能の
物が面内に１つでもあった場合は、そのマスクは不良と
してカウントし、この評価を２０枚分実施したときの不
良マスク発生率を算出した。
後、収納ラックに保存し、１０回出し入れ後、エアガン
とＴＥＫＮＥＫ（株）製粘着ローラーを用いて除去可能
な付着異物を除き、１）と同様に５０μｍ以上の異物に
ついてカウントした。このとき２コーナーのみの曲面面
取り品については、収納ラック出し入れ時には曲面面取
り部分を下にしてマスクを取り扱った。また修正不能の
物が面内に１つでもあった場合は、そのマスクは不良と
してカウントし、この評価を２０枚分実施したときの不
良マスク発生率を算出した。
【００４３】得られた結果をまとめて表２に示す。
【００４４】
【表２】
【００４５】表２から本発明の試料は、比較試料に比
べ、異物発生数、ピンホール発生数、不良発生率の何れ
においても、優れていることが分かる。
べ、異物発生数、ピンホール発生数、不良発生率の何れ
においても、優れていることが分かる。
【００４６】
【発明の効果】本発明により、ピンホール故障や異物に
よる故障が少なく、生産安定性に優れたレジスト焼付け
が可能なたハロゲン化銀写真乾板を提供することができ
た。
よる故障が少なく、生産安定性に優れたレジスト焼付け
が可能なたハロゲン化銀写真乾板を提供することができ
た。
【図１】直線面取りを示す図である。
【図２】Ｒ面取り１箇所を示す図である。
【図３】Ｒ面取り２箇所を示す図である。
Claims (2)
- 【請求項１】 少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を
有するハロゲン化銀写真乾板において、コーナー部４点
の内少なくとも１辺を挟む２点以上が曲率半径５ｍｍ以
上、３００ｍｍ以下の曲面状に面取りされた支持体上に
ハロゲン化銀乳剤層が塗布されていることを特徴とする
ハロゲン化銀写真乾板。 - 【請求項２】 請求項１に記載のハロゲン化銀写真乾板
の製造方法において、ハロゲン化銀乳写真乾板のコーナ
ーの面取りを、予め支持体上に加工を施し、洗浄後にハ
ロゲン化銀乳剤層を塗布して行うことを特徴とするハロ
ゲン化銀写真乾板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001308584A JP2003114501A (ja) | 2001-10-04 | 2001-10-04 | ハロゲン化銀写真乾板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001308584A JP2003114501A (ja) | 2001-10-04 | 2001-10-04 | ハロゲン化銀写真乾板及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003114501A true JP2003114501A (ja) | 2003-04-18 |
Family
ID=19127872
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001308584A Pending JP2003114501A (ja) | 2001-10-04 | 2001-10-04 | ハロゲン化銀写真乾板及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003114501A (ja) |
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- 2001-10-04 JP JP2001308584A patent/JP2003114501A/ja active Pending
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