JP2003113478A - 無電解酸化亜鉛めっき浴 - Google Patents
無電解酸化亜鉛めっき浴Info
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 水溶性亜鉛塩とアミンボラン系還元剤と
を主成分とするｐＨ６．０〜６．８の無電解酸化亜鉛め
っき浴において、ｐＨ安定化剤として、２−アミノ−２
−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール等の化
合物を添加することを特徴とする無電解酸化亜鉛めっき
浴。 【効果】 本発明の無電解酸化亜鉛めっき浴は、ｐＨ管
理が容易であり、まためっき進行中におけるめっき浴の
白濁、生成物の生成を可及的に防止することができる。
を主成分とするｐＨ６．０〜６．８の無電解酸化亜鉛め
っき浴において、ｐＨ安定化剤として、２−アミノ−２
−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール等の化
合物を添加することを特徴とする無電解酸化亜鉛めっき
浴。 【効果】 本発明の無電解酸化亜鉛めっき浴は、ｐＨ管
理が容易であり、まためっき進行中におけるめっき浴の
白濁、生成物の生成を可及的に防止することができる。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、無電解酸化亜鉛め
っき浴に関する。 【０００２】 【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、酸化亜鉛皮膜を無電解めっきにより形成するめっき
浴として、硝酸亜鉛等の水溶性亜鉛塩とジメチルアミン
ボラン（ＤＭＡＢ）を還元剤として含み、ｐＨを６．０
〜６．８に調整した無電解酸化亜鉛めっき浴が知られて
いる。 【０００３】しかし、無電解酸化亜鉛めっき浴は、めっ
き処理において、ｐＨを±０．１の幅で管理すること
が、めっき浴の安定化、めっき皮膜特性の安定化の点で
好ましいが、適正ｐＨ管理幅が中性領域でしかも狭いこ
とから、適正ｐＨ管理が面倒であった。また、めっきが
進行するにつれてｐＨが上昇するため、適正ｐＨ管理幅
を超えて分解が開始してしまい、めっき浴中に結晶が生
成したり、沈殿物が発生したりし、６０分程度で使用で
きなくなる上、めっき皮膜中に当該結晶や沈殿物が共析
し、めっき皮膜特性が悪くなっていた。 【０００４】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
ｐＨ管理が容易で、まためっき進行中におけるめっき浴
の白濁、沈澱物の生成が可及的に防止された無電解酸化
亜鉛めっき浴を提供することを目的とする。 【０００５】 【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、無電解酸化亜鉛めっき浴に下記Ａ群から選ばれる化
合物をｐＨ安定化剤として添加することにより、無電解
酸化亜鉛めっき浴がｐＨ６．０〜６．８の範囲において
安定化され、ｐＨコントロールを±０．１の範囲で容易
に行うことができると共に、めっき進行中にみだりにめ
っき浴の白濁が生じ、沈澱物が生成することが防止され
ることを知見し、本発明をなすに至った。 【０００６】即ち、本発明は、水溶性亜鉛塩とアミンボ
ラン系還元剤とを主成分とするｐＨ６．０〜６．８の無
電解酸化亜鉛めっき浴において、ｐＨ安定化剤として、
下記Ａ群から選ばれる１種又は２種以上の化合物を添加
することを特徴とする無電解酸化亜鉛めっき浴を提供す
る。 ［Ａ群］２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−
プロパンジオール、２−アミノ−２−メチル−１，３−
プロパンジオール、２，４，６−トリメチルピリジン、
ジエチルバルビツール酸ナトリウム、２−（Ｎ−モルホ
リノ）エタンスルホン酸、ビス（２−ヒドロキシエチ
ル）イミノトリス（ヒドロキシメチル）メタン、Ｎ−２
（アセトアミド）イミノ二酢酸、ピペラジン−Ｎ，Ｎ’
−ビス（２−エタンスルホン酸）、Ｎ−（２−アセトア
ミド）−２−アミノエタンスルホン酸、２−ヒドロキシ
−３−モルホリノプロパンスルホン酸、Ｎ，Ｎ−ビス
（２−ヒドロキシエチル）−２−アミノエタンスルホン
酸、３−（Ｎ−モルホリノ）プロパンスルホン酸、Ｎ−
トリス（ヒドロキシメチル）メチル−２−アミノエタン
スルホン酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン
−Ｎ’−２−エタンスルホン酸、３−［Ｎ，Ｎ−ビス
（２−ヒドロキシエチル）アミノ］−２−ヒドロキシプ
ロパンスルホン酸、３−［Ｎ−トリス（ヒドロキシメチ
ル）メチルアミノ］−２−ヒドロキシプロパンスルホン
酸、ピペラジン−１，４−ビス（２−ヒドロキシ−３−
プロパンスルホン酸（２水和物））、２−ヒドロキシ−
３−［４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニ
ル］プロパンスルホン酸（１水和物）、４−（２−ヒド
ロキシエチル）−１−ピペラジンプロパンスルホン酸、
Ｎ−トリス（ヒドロキシメチル）メチルグリシン、Ｎ，
Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）グリシン、Ｎ−トリ
ス（ヒドロキシメチル）メチル−３−アミノプロパンス
ルホン酸。 【０００７】以下、本発明につき更に詳しく説明する。 【０００８】本発明の無電解酸化亜鉛めっき浴は、亜鉛
源として水溶性亜鉛源、還元剤としてアミンボラン系還
元剤を使用する。 【０００９】ここで、水溶性亜鉛塩としては、硝酸亜
鉛、硫酸亜鉛、塩化亜鉛、酢酸亜鉛、乳酸亜鉛等が用い
られ、０．０１〜０．５モル／Ｌ、特に０．０５〜０．
２モル／Ｌの量で使用することが好ましい。なお、めっ
き浴には、硝酸イオンが含まれることが好ましく、この
ため硝酸亜鉛以外の亜鉛塩を用いた場合は、硝酸カリウ
ム、硝酸ナトリウム等の硝酸根を０．０１〜０．５モル
／Ｌ程度添加することが好ましい。 【００１０】一方、アミンボラン系還元剤としては、ジ
メチルアミンボラン（ＤＭＡＢ）、トリメチルアミンボ
ラン（ＴＭＡＢ）、トリエチルアミンボラン（ＴＥＡ
Ｂ）等が挙げられ、０．００１〜０．１モル／Ｌの量で
使用することが好ましい。 【００１１】本発明は、上記成分に加えて、下記Ａ群か
ら選ばれる１種又は２種以上の化合物をｐＨ安定化剤と
して添加する。 ［Ａ群］２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−
プロパンジオール（略称Ｔｒｉｓ）、２−アミノ−２−
メチル−１，３−プロパンジオール、２，４，６−トリ
メチルピリジン、ジエチルバルビツール酸ナトリウム、
２−（Ｎ−モルホリノ）エタンスルホン酸（略称ＭＥ
Ｓ）、ビス（２−ヒドロキシエチル）イミノトリス（ヒ
ドロキシメチル）メタン（略称Ｂｉｓ−Ｔｒｉｓ）、Ｎ
−２（アセトアミド）イミノ二酢酸（略称ＡＤＡ）、ピ
ペラジン−Ｎ，Ｎ’−ビス（２−エタンスルホン酸）
（略称ＰＩＰＥＳ）、Ｎ−（２−アセトアミド）−２−
アミノエタンスルホン酸（略称ＡＣＥＳ）、２−ヒドロ
キシ−３−モルホリノプロパンスルホン酸（略称ＭＯＰ
ＳＯ）、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−２−
アミノエタンスルホン酸（略称ＢＥＳ）、３−（Ｎ−モ
ルホリノ）プロパンスルホン酸（略称ＭＯＰＳ）、Ｎ−
トリス（ヒドロキシメチル）メチル−２−アミノエタン
スルホン酸（略称ＴＥＳ）、Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）ピペラジン−Ｎ’−２−エタンスルホン酸（略称Ｈ
ＥＰＥＳ）、３−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチ
ル）アミノ］−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸（略
称ＤＩＰＳＯ）、３−［Ｎ−トリス（ヒドロキシメチ
ル）メチルアミノ］−２−ヒドロキシプロパンスルホン
酸（略称ＴＡＰＳＯ）、ピペラジン−１，４−ビス（２
−ヒドロキシ−３−プロパンスルホン酸（２水和物））
（略称ＰＯＰＳＯ）、２−ヒドロキシ−３−［４−（２
−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニル］プロパンス
ルホン酸（１水和物）（略称ＨＥＰＰＳＯ）、４−（２
−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジンプロパンスルホ
ン酸（略称ＥＰＰＳ）、Ｎ−トリス（ヒドロキシメチ
ル）メチルグリシン（略称Ｔｒｉｃｉｎｅ）、Ｎ，Ｎ−
ビス（２−ヒドロキシエチル）グリシン（略称Ｂｉｃｉ
ｎｅ）、Ｎ−トリス（ヒドロキシメチル）メチル−３−
アミノプロパンスルホン酸（略称ＴＡＰＳ）。 【００１２】上記ｐＨ安定化剤の添加量は０．００１〜
０．４モル／Ｌ、特に０．００５〜０．１モル／Ｌとす
ることが好ましい。 【００１３】上記ｐＨ安定化剤濃度が、上記範囲０．０
０１〜０．４モル／Ｌよりも低くなると、ｐＨの安定化
作用が十分に発揮できず、上記範囲よりも高くなると、
酸化亜鉛が析出しなくなる場合が生じる。 【００１４】さらに、上記ｐＨ安定化剤はアミンボラン
系還元剤濃度に対して、モル濃度比［還元剤濃度］／
［ｐＨ安定化剤濃度］を０．２５〜１２５とすることが
好ましい。このモル濃度比範囲よりも小さくなると、酸
化亜鉛が析出しなくなるおそれがあり、大きくなると、
ｐＨの安定化作用が十分に発揮できずめっき浴に沈殿が
生成するおそれがある。 【００１５】本発明の無電解酸化亜鉛めっき浴は、ｐＨ
６．０〜６．８に調整される。この場合、ｐＨ調整剤と
しては、硝酸、硫酸、塩酸、酢酸、乳酸等の酸や、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリを使用し得
る。 【００１６】ここで、酸化亜鉛めっき浴の特徴として
は、次のようなことが挙げられる。 酸化亜鉛めっき浴に添加される基本成分の内、水溶
性亜鉛塩（硝酸亜鉛など）はｐＨを下げる方向に、還元
剤（ＤＭＡＢなど）はｐＨを上げる方向に作用する。 酸化亜鉛めっき浴のｐＨは、ｐＨ６．０〜６．８の
中性領域内とする必要があり、めっき浴中の亜鉛イオン
濃度に応じて、上記範囲の中で適正なｐＨ（以下、適正
ｐＨという。）が決まる。 めっき処理において、上記適正ｐＨは±０．１（以
下、適正ｐＨ管理幅という。）とすることが好ましい。 特に、適正ｐＨ管理幅から高くなっている場合、め
っき浴中に、酸化亜鉛の結晶が浮遊したり、白色の沈殿
物が生成し、これら生成物が核となりめっき浴の分解が
促進されたり、めっき皮膜中に共析して導電性や透明性
などのめっき皮膜特性が悪くなる。 めっき処理が進行するにつれて、ｐＨは徐々に高く
なる傾向がある。 【００１７】これに対し、上記ｐＨ安定化剤を添加する
ことにより、以下の効果を得ることができる。 ｉ．建浴時のｐＨ調整が容易にできる。 ｉｉ．長時間連続使用しても、ｐＨを±０．１に保つこ
とができ、析出速度を一定化でき、まためっき浴が分解
してめっき浴中に酸化亜鉛の結晶が生成したり、白色沈
殿物が発生することを抑制でき、導電性や透明性などの
めっき皮膜特性を安定化できる。 ｉｉｉ．当該ｐＨ安定化剤は、亜鉛イオンとの錯化合物
を形成しないため、めっきが析出しなくなることもな
い。また、亜鉛との化合物も形成せず、沈殿物が生成せ
ず、めっき皮膜特性を安定化できる。 【００１８】本発明の無電解酸化亜鉛めっき浴は、特に
透明導電膜用ＺｎＯ、電磁波シールド用ＺｎＯ、光触媒
用ＺｎＯ、紫外線吸収用ＺｎＯの目的に使用されるが、
これに制限されるものではない。被めっき物の材質はガ
ラス、セラミック、ＰＥＴなどのプラスチック等とする
ことができ、これらの材質に応じた公知の前処理を行っ
た後、本発明のめっき浴に浸漬する。例えば、被めっき
物が非導電材料の場合、センシタイジング−アクチベー
ティング法、キャタライジング−アクセレレーティング
法等により表面に金属パラジウムの触媒核を付着した
後、めっき浴に浸漬するものである。 【００１９】この場合、めっき温度は４０〜９０℃、特
に７０〜８０℃とすることが好ましく、めっき時間は所
望する膜厚に応じて適宜選定される。なお、本発明のめ
っき浴のめっき速度は、通常、７５℃において０．２〜
０．４μｍ／ｈである。 【００２０】 【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。 【００２１】[実施例１〜１２、比較例１〜３]公知の方
法で脱脂、表面調整、触媒付与したコーニングガラス基
板（コーニング社製）を、下記酸化亜鉛めっき浴に浸漬
して、ＤＭＡＢの補給を行わずに８０℃でめっき処理を
行った。６０分処理した後のめっき浴の状態（目視によ
り観察）及びｐＨ、並びに得られた酸化亜鉛皮膜特性に
ついての結果を併せて表１に示す。酸化亜鉛めっき浴 硝酸亜鉛 表１に示す量。 ＤＭＡＢ 表１に示す量。 添加剤 表１に示す量。 硝酸（６０％） ｐＨがＺｎイオン濃度によって決め
られたｐＨになる量 【００２２】 【表１】 【００２３】優：透過率８５％以上・無色、良：透過率
８５％未満〜７０％以上・無色、不可：透過率７０％未
満・白色 ※ＡＤＡ、ＰＩＰＥＳ、ＰＯＰＳＯはあらかじめ０．１
モル／Ｌ水酸化ナトリウム溶液に溶解させたものを用い
た。 【００２４】 【発明の効果】本発明の無電解酸化亜鉛めっき浴は、ｐ
Ｈ管理が容易であり、まためっき進行中におけるめっき
浴の白濁、生成物の生成を可及的に防止することができ
る。
っき浴に関する。 【０００２】 【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、酸化亜鉛皮膜を無電解めっきにより形成するめっき
浴として、硝酸亜鉛等の水溶性亜鉛塩とジメチルアミン
ボラン（ＤＭＡＢ）を還元剤として含み、ｐＨを６．０
〜６．８に調整した無電解酸化亜鉛めっき浴が知られて
いる。 【０００３】しかし、無電解酸化亜鉛めっき浴は、めっ
き処理において、ｐＨを±０．１の幅で管理すること
が、めっき浴の安定化、めっき皮膜特性の安定化の点で
好ましいが、適正ｐＨ管理幅が中性領域でしかも狭いこ
とから、適正ｐＨ管理が面倒であった。また、めっきが
進行するにつれてｐＨが上昇するため、適正ｐＨ管理幅
を超えて分解が開始してしまい、めっき浴中に結晶が生
成したり、沈殿物が発生したりし、６０分程度で使用で
きなくなる上、めっき皮膜中に当該結晶や沈殿物が共析
し、めっき皮膜特性が悪くなっていた。 【０００４】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
ｐＨ管理が容易で、まためっき進行中におけるめっき浴
の白濁、沈澱物の生成が可及的に防止された無電解酸化
亜鉛めっき浴を提供することを目的とする。 【０００５】 【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、無電解酸化亜鉛めっき浴に下記Ａ群から選ばれる化
合物をｐＨ安定化剤として添加することにより、無電解
酸化亜鉛めっき浴がｐＨ６．０〜６．８の範囲において
安定化され、ｐＨコントロールを±０．１の範囲で容易
に行うことができると共に、めっき進行中にみだりにめ
っき浴の白濁が生じ、沈澱物が生成することが防止され
ることを知見し、本発明をなすに至った。 【０００６】即ち、本発明は、水溶性亜鉛塩とアミンボ
ラン系還元剤とを主成分とするｐＨ６．０〜６．８の無
電解酸化亜鉛めっき浴において、ｐＨ安定化剤として、
下記Ａ群から選ばれる１種又は２種以上の化合物を添加
することを特徴とする無電解酸化亜鉛めっき浴を提供す
る。 ［Ａ群］２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−
プロパンジオール、２−アミノ−２−メチル−１，３−
プロパンジオール、２，４，６−トリメチルピリジン、
ジエチルバルビツール酸ナトリウム、２−（Ｎ−モルホ
リノ）エタンスルホン酸、ビス（２−ヒドロキシエチ
ル）イミノトリス（ヒドロキシメチル）メタン、Ｎ−２
（アセトアミド）イミノ二酢酸、ピペラジン−Ｎ，Ｎ’
−ビス（２−エタンスルホン酸）、Ｎ−（２−アセトア
ミド）−２−アミノエタンスルホン酸、２−ヒドロキシ
−３−モルホリノプロパンスルホン酸、Ｎ，Ｎ−ビス
（２−ヒドロキシエチル）−２−アミノエタンスルホン
酸、３−（Ｎ−モルホリノ）プロパンスルホン酸、Ｎ−
トリス（ヒドロキシメチル）メチル−２−アミノエタン
スルホン酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン
−Ｎ’−２−エタンスルホン酸、３−［Ｎ，Ｎ−ビス
（２−ヒドロキシエチル）アミノ］−２−ヒドロキシプ
ロパンスルホン酸、３−［Ｎ−トリス（ヒドロキシメチ
ル）メチルアミノ］−２−ヒドロキシプロパンスルホン
酸、ピペラジン−１，４−ビス（２−ヒドロキシ−３−
プロパンスルホン酸（２水和物））、２−ヒドロキシ−
３−［４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニ
ル］プロパンスルホン酸（１水和物）、４−（２−ヒド
ロキシエチル）−１−ピペラジンプロパンスルホン酸、
Ｎ−トリス（ヒドロキシメチル）メチルグリシン、Ｎ，
Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）グリシン、Ｎ−トリ
ス（ヒドロキシメチル）メチル−３−アミノプロパンス
ルホン酸。 【０００７】以下、本発明につき更に詳しく説明する。 【０００８】本発明の無電解酸化亜鉛めっき浴は、亜鉛
源として水溶性亜鉛源、還元剤としてアミンボラン系還
元剤を使用する。 【０００９】ここで、水溶性亜鉛塩としては、硝酸亜
鉛、硫酸亜鉛、塩化亜鉛、酢酸亜鉛、乳酸亜鉛等が用い
られ、０．０１〜０．５モル／Ｌ、特に０．０５〜０．
２モル／Ｌの量で使用することが好ましい。なお、めっ
き浴には、硝酸イオンが含まれることが好ましく、この
ため硝酸亜鉛以外の亜鉛塩を用いた場合は、硝酸カリウ
ム、硝酸ナトリウム等の硝酸根を０．０１〜０．５モル
／Ｌ程度添加することが好ましい。 【００１０】一方、アミンボラン系還元剤としては、ジ
メチルアミンボラン（ＤＭＡＢ）、トリメチルアミンボ
ラン（ＴＭＡＢ）、トリエチルアミンボラン（ＴＥＡ
Ｂ）等が挙げられ、０．００１〜０．１モル／Ｌの量で
使用することが好ましい。 【００１１】本発明は、上記成分に加えて、下記Ａ群か
ら選ばれる１種又は２種以上の化合物をｐＨ安定化剤と
して添加する。 ［Ａ群］２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−
プロパンジオール（略称Ｔｒｉｓ）、２−アミノ−２−
メチル−１，３−プロパンジオール、２，４，６−トリ
メチルピリジン、ジエチルバルビツール酸ナトリウム、
２−（Ｎ−モルホリノ）エタンスルホン酸（略称ＭＥ
Ｓ）、ビス（２−ヒドロキシエチル）イミノトリス（ヒ
ドロキシメチル）メタン（略称Ｂｉｓ−Ｔｒｉｓ）、Ｎ
−２（アセトアミド）イミノ二酢酸（略称ＡＤＡ）、ピ
ペラジン−Ｎ，Ｎ’−ビス（２−エタンスルホン酸）
（略称ＰＩＰＥＳ）、Ｎ−（２−アセトアミド）−２−
アミノエタンスルホン酸（略称ＡＣＥＳ）、２−ヒドロ
キシ−３−モルホリノプロパンスルホン酸（略称ＭＯＰ
ＳＯ）、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−２−
アミノエタンスルホン酸（略称ＢＥＳ）、３−（Ｎ−モ
ルホリノ）プロパンスルホン酸（略称ＭＯＰＳ）、Ｎ−
トリス（ヒドロキシメチル）メチル−２−アミノエタン
スルホン酸（略称ＴＥＳ）、Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）ピペラジン−Ｎ’−２−エタンスルホン酸（略称Ｈ
ＥＰＥＳ）、３−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチ
ル）アミノ］−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸（略
称ＤＩＰＳＯ）、３−［Ｎ−トリス（ヒドロキシメチ
ル）メチルアミノ］−２−ヒドロキシプロパンスルホン
酸（略称ＴＡＰＳＯ）、ピペラジン−１，４−ビス（２
−ヒドロキシ−３−プロパンスルホン酸（２水和物））
（略称ＰＯＰＳＯ）、２−ヒドロキシ−３−［４−（２
−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニル］プロパンス
ルホン酸（１水和物）（略称ＨＥＰＰＳＯ）、４−（２
−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジンプロパンスルホ
ン酸（略称ＥＰＰＳ）、Ｎ−トリス（ヒドロキシメチ
ル）メチルグリシン（略称Ｔｒｉｃｉｎｅ）、Ｎ，Ｎ−
ビス（２−ヒドロキシエチル）グリシン（略称Ｂｉｃｉ
ｎｅ）、Ｎ−トリス（ヒドロキシメチル）メチル−３−
アミノプロパンスルホン酸（略称ＴＡＰＳ）。 【００１２】上記ｐＨ安定化剤の添加量は０．００１〜
０．４モル／Ｌ、特に０．００５〜０．１モル／Ｌとす
ることが好ましい。 【００１３】上記ｐＨ安定化剤濃度が、上記範囲０．０
０１〜０．４モル／Ｌよりも低くなると、ｐＨの安定化
作用が十分に発揮できず、上記範囲よりも高くなると、
酸化亜鉛が析出しなくなる場合が生じる。 【００１４】さらに、上記ｐＨ安定化剤はアミンボラン
系還元剤濃度に対して、モル濃度比［還元剤濃度］／
［ｐＨ安定化剤濃度］を０．２５〜１２５とすることが
好ましい。このモル濃度比範囲よりも小さくなると、酸
化亜鉛が析出しなくなるおそれがあり、大きくなると、
ｐＨの安定化作用が十分に発揮できずめっき浴に沈殿が
生成するおそれがある。 【００１５】本発明の無電解酸化亜鉛めっき浴は、ｐＨ
６．０〜６．８に調整される。この場合、ｐＨ調整剤と
しては、硝酸、硫酸、塩酸、酢酸、乳酸等の酸や、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリを使用し得
る。 【００１６】ここで、酸化亜鉛めっき浴の特徴として
は、次のようなことが挙げられる。 酸化亜鉛めっき浴に添加される基本成分の内、水溶
性亜鉛塩（硝酸亜鉛など）はｐＨを下げる方向に、還元
剤（ＤＭＡＢなど）はｐＨを上げる方向に作用する。 酸化亜鉛めっき浴のｐＨは、ｐＨ６．０〜６．８の
中性領域内とする必要があり、めっき浴中の亜鉛イオン
濃度に応じて、上記範囲の中で適正なｐＨ（以下、適正
ｐＨという。）が決まる。 めっき処理において、上記適正ｐＨは±０．１（以
下、適正ｐＨ管理幅という。）とすることが好ましい。 特に、適正ｐＨ管理幅から高くなっている場合、め
っき浴中に、酸化亜鉛の結晶が浮遊したり、白色の沈殿
物が生成し、これら生成物が核となりめっき浴の分解が
促進されたり、めっき皮膜中に共析して導電性や透明性
などのめっき皮膜特性が悪くなる。 めっき処理が進行するにつれて、ｐＨは徐々に高く
なる傾向がある。 【００１７】これに対し、上記ｐＨ安定化剤を添加する
ことにより、以下の効果を得ることができる。 ｉ．建浴時のｐＨ調整が容易にできる。 ｉｉ．長時間連続使用しても、ｐＨを±０．１に保つこ
とができ、析出速度を一定化でき、まためっき浴が分解
してめっき浴中に酸化亜鉛の結晶が生成したり、白色沈
殿物が発生することを抑制でき、導電性や透明性などの
めっき皮膜特性を安定化できる。 ｉｉｉ．当該ｐＨ安定化剤は、亜鉛イオンとの錯化合物
を形成しないため、めっきが析出しなくなることもな
い。また、亜鉛との化合物も形成せず、沈殿物が生成せ
ず、めっき皮膜特性を安定化できる。 【００１８】本発明の無電解酸化亜鉛めっき浴は、特に
透明導電膜用ＺｎＯ、電磁波シールド用ＺｎＯ、光触媒
用ＺｎＯ、紫外線吸収用ＺｎＯの目的に使用されるが、
これに制限されるものではない。被めっき物の材質はガ
ラス、セラミック、ＰＥＴなどのプラスチック等とする
ことができ、これらの材質に応じた公知の前処理を行っ
た後、本発明のめっき浴に浸漬する。例えば、被めっき
物が非導電材料の場合、センシタイジング−アクチベー
ティング法、キャタライジング−アクセレレーティング
法等により表面に金属パラジウムの触媒核を付着した
後、めっき浴に浸漬するものである。 【００１９】この場合、めっき温度は４０〜９０℃、特
に７０〜８０℃とすることが好ましく、めっき時間は所
望する膜厚に応じて適宜選定される。なお、本発明のめ
っき浴のめっき速度は、通常、７５℃において０．２〜
０．４μｍ／ｈである。 【００２０】 【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。 【００２１】[実施例１〜１２、比較例１〜３]公知の方
法で脱脂、表面調整、触媒付与したコーニングガラス基
板（コーニング社製）を、下記酸化亜鉛めっき浴に浸漬
して、ＤＭＡＢの補給を行わずに８０℃でめっき処理を
行った。６０分処理した後のめっき浴の状態（目視によ
り観察）及びｐＨ、並びに得られた酸化亜鉛皮膜特性に
ついての結果を併せて表１に示す。酸化亜鉛めっき浴 硝酸亜鉛 表１に示す量。 ＤＭＡＢ 表１に示す量。 添加剤 表１に示す量。 硝酸（６０％） ｐＨがＺｎイオン濃度によって決め
られたｐＨになる量 【００２２】 【表１】 【００２３】優：透過率８５％以上・無色、良：透過率
８５％未満〜７０％以上・無色、不可：透過率７０％未
満・白色 ※ＡＤＡ、ＰＩＰＥＳ、ＰＯＰＳＯはあらかじめ０．１
モル／Ｌ水酸化ナトリウム溶液に溶解させたものを用い
た。 【００２４】 【発明の効果】本発明の無電解酸化亜鉛めっき浴は、ｐ
Ｈ管理が容易であり、まためっき進行中におけるめっき
浴の白濁、生成物の生成を可及的に防止することができ
る。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 村上 透
大阪府枚方市出口１丁目５番１号 上村工
業株式会社中央研究所内
Ｆターム(参考） 4K022 AA03 AA04 AA13 AA16 BA15
BA25 BA31 BA33 DA01 DB01
DB03 DB04 DB07 DB08
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 水溶性亜鉛塩とアミンボラン系還元剤と
を主成分とするｐＨ６．０〜６．８の無電解酸化亜鉛め
っき浴において、ｐＨ安定化剤として、下記Ａ群から選
ばれる１種又は２種以上の化合物を添加することを特徴
とする無電解酸化亜鉛めっき浴。 ［Ａ群］２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−
プロパンジオール、２−アミノ−２−メチル−１，３−
プロパンジオール、２，４，６−トリメチルピリジン、
ジエチルバルビツール酸ナトリウム、２−（Ｎ−モルホ
リノ）エタンスルホン酸、ビス（２−ヒドロキシエチ
ル）イミノトリス（ヒドロキシメチル）メタン、Ｎ−２
（アセトアミド）イミノ二酢酸、ピペラジン−Ｎ，Ｎ’
−ビス（２−エタンスルホン酸）、Ｎ−（２−アセトア
ミド）−２−アミノエタンスルホン酸、２−ヒドロキシ
−３−モルホリノプロパンスルホン酸、Ｎ，Ｎ−ビス
（２−ヒドロキシエチル）−２−アミノエタンスルホン
酸、３−（Ｎ−モルホリノ）プロパンスルホン酸、Ｎ−
トリス（ヒドロキシメチル）メチル−２−アミノエタン
スルホン酸、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン
−Ｎ’−２−エタンスルホン酸、３−［Ｎ，Ｎ−ビス
（２−ヒドロキシエチル）アミノ］−２−ヒドロキシプ
ロパンスルホン酸、３−［Ｎ−トリス（ヒドロキシメチ
ル）メチルアミノ］−２−ヒドロキシプロパンスルホン
酸、ピペラジン−１，４−ビス（２−ヒドロキシ−３−
プロパンスルホン酸（２水和物））、２−ヒドロキシ−
３−［４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニ
ル］プロパンスルホン酸（１水和物）、４−（２−ヒド
ロキシエチル）−１−ピペラジンプロパンスルホン酸、
Ｎ−トリス（ヒドロキシメチル）メチルグリシン、Ｎ，
Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）グリシン、Ｎ−トリ
ス（ヒドロキシメチル）メチル−３−アミノプロパンス
ルホン酸。
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| JP (1) | JP2003113478A (ja) |
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| CN109880252A (zh) * | 2019-01-22 | 2019-06-14 | 重庆太岳新材料科技有限公司 | 一种用于含氯聚合物的热稳定剂 |
-
2001
- 2001-10-10 JP JP2001312128A patent/JP2003113478A/ja active Pending
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