JP2003104859A - 日焼け止め化粧料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】使用感が良好で安定性に優れたＯ／Ｗ型日焼け
止め化粧料を提供する。 【解決手段】（Ａ）ポリアクリル酸アミド、（Ｂ）酸化
亜鉛及び／又は酸化チタン、（Ｃ）シリコーンオイル、
並びに（Ｄ）エタノールを含有し、更には（Ｅ）エデト
酸及び／又はその塩、（Ｆ）キサンタンガム、ポリビニ
ルアルコール、カルボキシビニルポリマー、アクリル酸
・メタクリル酸アルキル共重合体等の水溶性高分子を含
有することを特徴とするＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、日焼け止め化粧料
に関し、更に詳しくは、使用感が良好で安定性に優れた
Ｏ／Ｗ型日焼け止め化粧料に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
日焼け止め化粧料としては、酸化亜鉛及び酸化チタン等
の顔料、並びに油分を主成分とするＷ／Ｏ型日焼け止め
化粧料が用いられてきた。

【０００３】Ｗ／Ｏ型日焼け止め化粧料は顔料分散性に
優れ、高い日焼け止め効果を有する反面、顔料の白浮
き、ヨレ、油分によるべたつき感を生じ、高使用感を得
るのが困難であるという欠点を有していた。

【０００４】そこで高使用感を得ることを目的として、
Ｏ／Ｗ系での処方が検討されてきたが、Ｏ／Ｗの系では
顔料が経時で凝集・沈殿してしまう等、顔料の分散安定
性が悪いという欠点を有していた。したがって、顔料の
分散安定性が良く、高使用感のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧
料の開発が望まれていた。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記事情に鑑み、本発明
者は鋭意研究を重ねた結果、酸化亜鉛及び／又は酸化チ
タン、並びにシリコーンオイルを含有する油性成分を、
ポリアクリル酸アミドを含有するジェル組成物で乳化
し、更にエタノールを含有させることで、安定性の高
い、高使用感のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料が得られるこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。

【０００６】すなわち本発明の請求項１は、（Ａ）ポリ
アクリル酸アミド、（Ｂ）酸化亜鉛及び／又は酸化チタ
ン、（Ｃ）シリコーンオイル、並びに（Ｄ）エタノール
を含有することを特徴とするＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料
である。

【０００７】また本発明の請求項２は、更に（Ｅ）エデ
ト酸及び／又はその塩を含有することを特徴とする請求
項１記載のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料である。

【０００８】また本発明の請求項３は、更に（Ｆ）水溶
性高分子を含有することを特徴とする請求項１又は２に
記載のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料である。

【０００９】また本発明の請求項４は、（Ｆ）水溶性高
分子が、キサンタンガムであることを特徴とする請求項
３記載のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料である。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の構成について説明
する。

【００１１】本発明で用いられる（Ａ）ポリアクリル酸
アミドは、分子量１０００〜５００００００のものが好
ましく、軽質流動イソパラフィン、流動パラフィン、揮
発性イソパラフィン等の炭化水素、及びＰＯＥアルキル
エーテル、ＰＯＥソルビタン脂肪酸エステル等の非イオ
ン性界面活性剤と共に、水中に分散されたジェル組成物
としても使用可能である。

【００１２】ジェル組成物中のポリアクリル酸アミドの
配合量は、ジェル組成物の総量を基準として、１〜８０
質量％（以下、％と略す）が好ましく、特に好ましくは
１０〜５０％である。

【００１３】このようなジェル組成物としては、具体的
には、商品名：セピゲル３０５、５０１（ＳＥＰＰＩＣ
社製）が挙げられる。またジェル組成物の配合量は、Ｏ
／Ｗ型日焼け止め化粧料の総量を基準として、１〜１０
％が好ましく、特に好ましくは１〜５％である。配合量
が１％未満では顔料の分散安定性が悪くなる場合があ
り、また１０％を越える配合量では、ヨレが生じ易く、
使用感が悪くなる場合がある。

【００１４】本発明で用いられる酸化亜鉛は、通常化粧
料原料として使用されているものであれば特に制限され
ず、平均粒子径、及び球状、棒状、紡錘状、針状、不定
形状等の形状にも制限されるものではない。更にそれら
に表面処理を施したものでも良く、表面処理の方法とし
ては、メチルハイドロジェンポリシロキサン、メチルポ
リシロキサン等によるシリコーン処理、トリエトキシシ
ラン等によるシラン処理、パーフルオロアルキルリン酸
エステル、パーフルオロアルコール等によるフッ素処
理、Ｎ−アシルグルタミン酸等によるアミノ酸処理、レ
シチン処理、金属石鹸処理、脂肪酸処理、アルキルリン
酸エステル処理等が挙げられ、これらを１種単独又は２
種以上を組み合わせて用いることができる。

【００１５】本発明で用いられる酸化チタンは、通常化
粧料原料として使用されているものであれば特に制限さ
れず、平均粒子径、球状、棒状、紡錘状、針状、不定形
状等の形状、アナターゼ型、ルチル型、ブルッカイト型
等の結晶型にも制限されるものではない。更にそれらに
表面処理を施したものでも良く、表面処理の方法として
は、メチルハイドロジェンポリシロキサン、メチルポリ
シロキサン等によるシリコーン処理、トリエトキシシラ
ン等によるシラン処理、パーフルオロアルキルリン酸エ
ステル、パーフルオロアルコール等によるフッ素処理、
Ｎ−アシルグルタミン酸等によるアミノ酸処理、レシチ
ン処理、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛
等による金属石鹸処理、脂肪酸処理、アルキルリン酸エ
ステル処理等が挙げられ、これらを１種単独又は２種以
上を組み合わせて用いることができる。

【００１６】本発明で用いられる（Ｂ）酸化亜鉛及び／
又は酸化チタンの配合量は、Ｏ／Ｗ型日焼け止め化粧料
の総量を基準として、０．１〜３０％が好ましく、特に
好ましくは１〜１５％である。配合量が０．１％未満で
は十分な紫外線防御効果が得られない場合があり、また
３０％を越える配合量では、安定性が悪くなる場合があ
る。

【００１７】本発明で用いられる（Ｃ）シリコーンオイ
ルは、通常化粧料原料として使用されているものであれ
ば特に制限されず、例えば、ジメチルポリシロキサン、
メチルフェニルポリシロキサン、メチルハイドロジェン
ポリシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、
オクタメチルシクロテトラシロキサン、ドデカメチルシ
クロヘキサシロキサン、テトラメチルテトラハイドロジ
ェンシクロテトラシロキサン等の鎖状又は環状のシリコ
ーンオイルが挙げられるが、デカメチルシクロペンタシ
ロキサンは、使用感に優れ、特に好ましい。

【００１８】本発明で用いられる（Ｃ）シリコーンオイ
ルの配合量は、Ｏ／Ｗ型日焼け止め化粧料の総量を基準
として、０．１〜２０％が好ましく、特に好ましくは１
〜１０％である。配合量が０．１％未満ではさっぱりと
した感触が得られず、使用感が悪くなる場合があり、ま
た２０％を越える配合量では、安定性が悪くなる場合が
ある。

【００１９】本発明で用いられる（Ｄ）エタノールの配
合量は、Ｏ／Ｗ型日焼け止め化粧料の総量を基準とし
て、０．１〜５０％が好ましく、特に好ましくは１〜２
０％である。配合量が０．１％未満ではさっぱりとした
感触が得られず、使用感が悪くなる場合があり、また５
０％を越える配合量では、安定性が悪くなる場合があ
る。

【００２０】本発明のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料は、更
に（Ｅ）エデト酸及び／又はその塩を配合することによ
り、安定性が向上する。本発明で用いられるエデト酸及
びその塩としては、例えば、エデト酸、エデト酸二ナト
リウム、エデト酸二ナトリウムカルシウム、エデト酸三
ナトリウム、エデト酸四ナトリウム、エデト酸カリウ
ム、エデト酸トリエタノールアミン等が挙げられ、特に
エデト酸二ナトリウムが好ましい。その配合量はＯ／Ｗ
型日焼け止め化粧料の総量を基準として、０．００１〜
０．１％が好ましく、特に好ましくは０．０１〜０．０
５％である。

【００２１】本発明のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料は、更
に（Ｆ）水溶性高分子を配合することにより、使用感及
び安定性が向上する。本発明で用いられる水溶性高分子
は、本発明の（Ａ）成分であるポリアクリル酸アミド以
外のものであり、例えば、キサンタンガム、ポリビニル
アルコール、カルボキシビニルポリマー、アクリル酸・
メタクリル酸アルキル共重合体等が挙げられ、特にキサ
ンタンガムが使用感及び安定性に優れ、好ましい。その
配合量はＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料の総量を基準とし
て、０．０１〜５％が好ましく、特に好ましくは０．０
５〜１％である。

【００２２】本発明のＯ／Ｗ型日焼止め化粧料は、上記
必須成分に加え、有機系紫外線吸収剤を配合することに
より、より高い紫外線防御効果を得ることができる。本
発明で用いられる有機系紫外線吸収剤としては、例え
ば、パラメトキシケイ皮酸ベンジル、パラメトキシケイ
皮酸２−エチルヘキシル、パラメトキシケイ皮酸２−エ
トキシエチル、ジパラメトキシケイ皮酸モノ−２−エチ
ルヘキサン酸グリセリル、パラメトキシケイ皮酸イソプ
ロピル・ジイソプロピルケイ皮酸エステル混合物等のケ
イ皮酸系紫外線吸収剤、ヒドロキメトキシベンゾフェノ
ン、ヒドロキメトキシベンゾフェノンスルホン酸、ヒド
ロキメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム、ジ
ヒドロキメトキシベンゾフェノン、ジヒドロキメトキシ
ベンゾフェノンジスルホン酸ナトリウム、ジヒドロキシ
ベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンジフェノン等の
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、パラアミノ安息香酸、
パラアミノ安息香酸エチル、パラアミノ安息香酸グリセ
リル、パラジメチルアミノ安息香酸アミル、パラジメチ
ルアミノ安息香酸オクチル、４−［Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒ
ドロキシプロピル）アミノ］安息香酸エチル等の安息香
酸エステル系紫外線吸収剤、サリチル酸エチレングリコ
ール、サリチル酸フェニル、サリチル酸オクチル、サリ
チル酸ベンジル、サリチル酸ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェ
ニル、サリチル酸ホモメンチル等のサリチル酸系紫外線
吸収剤、２，４，６−トリアニリノ−ｐ−（カルボ−
２’−エチルヘキシル−１’−オキシ）−１，３，５−
トリアジン等のトリアジン系紫外線吸収剤、４−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、オキ
シベンゾン、アントラニル酸メンチル、２−（２−ヒド
ロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、ジ
メトキシベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオ
ン酸２−エチルヘキシル、２−フェニルベンズイミダゾ
ール−５−スルホン酸等が挙げられ、これらを１種単独
又は２種以上を組み合わせて配合することができる。好
ましい配合量は、Ｏ／Ｗ型日焼け止め化粧料の総量を基
準として、０．１〜１０％である。

【００２３】本発明のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料には上
記成分の他に、目的に応じて本発明の効果を損なわない
量的質的範囲内で、セタノール、ベヘニルアルコール、
ステアリルアルコール、イソステアリルアルコール、ラ
ウリルアルコール、ヘキサデシルアルコール、オクチル
ドデカノール等の高級アルコール類、ステアリン酸、ミ
リスチン酸、イソステアリン酸、オレイン酸、ウンデシ
レン酸等の脂肪酸類、ミリスチン酸オクチルドデシル、
パルミチン酸セチル、ミリスチン酸ミリスチル、ラウリ
ン酸ヘキシル、オレイン酸デシル、ミリスチン酸イソプ
ロピル、ジメチルオクタン酸へキシルデシル、モノステ
アリン酸グリセリン、トリオクタン酸グリセリン、フタ
ル酸ジエチル、モノステアリン酸エチレングリコール、
オキシステアリン酸オクチル等のエステル類、コレステ
ロール、フィトステロール等のステロール類、分岐脂肪
酸コレステロールエステル、マカデミアナッツ油脂肪酸
フィトステロールエステル、ステアリン酸コレステリ
ル、オレイン酸コレステロールエステル等のステロール
脂肪酸エステル類、流動パラフィン、ワセリン、スクワ
ラン等の炭化水素類、ミツロウ、モクロウ、カルナバロ
ウ等のロウ類、米糠油、オリーブ油、大豆油、米胚芽
油、ホホバ油、ヒマシ油、紅花油、ヒマワリ油、オリー
ブ油、マカデミアナッツ油等の油脂類、ジプロピレング
リコール、１，３−ブチレングリコール、グリセリン、
プロピレングリコール、ソルビトール、マルチトール、
ジグリセリン等の保湿剤、セチル硫酸ナトリウム、Ｎ−
ステアロイル−Ｌ−グルタミン酸塩等の陰イオン界面活
性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキ
シエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン多価ア
ルコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマ
シ油、多価アルコール脂肪酸エステル、ポリグリセリン
脂肪酸エステル、蔗糖脂肪酸エステル等の非イオン界面
活性剤、テトラアルキルアンモニウム塩等の陽イオン界
面活性剤、ベタイン型、スルホベタイン型、スルホアミ
ノ酸型等の両性界面活性剤、レシチン、水素添加レシチ
ン、リゾフォスファチジルコリン、セラミド、セレブロ
シド等の天然系界面活性剤、ポリエーテル変性シリコー
ン、アミノ変性シリコーン等のシリコーン系界面活性
剤、カミツレ、センブリ、アロエ、モモ、カロット、ス
ギナ、クワ、桃の葉、セージ、ビワ葉、キュウカンバ
ー、セイヨウキズタ、ハイビスカス、ウコン、ローズマ
リー、オウゴン、チョウジ、フェンネル、プルーン、甘
草等の植物エキス、ビタミンＡ類、Ｂ類、Ｃ類、Ｅ類等
のビタミン類、酸化防止剤、防腐剤、消炎剤、香料等の
通常化粧料に配合される他の成分を適宜配合することが
可能である。

【００２４】

【実施例】次に、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明は以下の実施例にのみ限定されるものでは
ないことは言うまでもない。配合量は、全て質量％であ
る。

【００２５】実施例に記載の試験方法は下記の通りであ
る。

【００２６】＜安定性試験＞試料を０℃、３０℃、４５
℃の恒温槽に保管し、下記基準により安定性を評価し
た。 ［評価］ ◎：分離・離しょう、又は粘度変化することなく安定で
あるのが、６ヶ月以上であった。 ○：分離・離しょう、又は粘度変化することなく安定で
あるのが、１ヶ月以上、６ヶ月未満であった。 △：分離・離しょう、又は粘度変化することなく安定で
あるのが、２週間以上、１ヶ月未満であった。 ×：分離・離しょう、又は粘度変化することなく安定で
あるのが、２週間未満であった。

【００２７】＜使用性評価試験＞試料について、女性パ
ネラー２０名により官能試験を行い、「のび」、「肌な
じみ」、「さっぱり感」、「塗布後の白浮き」の各項目
について下記基準により評価し、その平均点にて判定し
た。 ［評価］ ５点：非常に良好 ４点：良好 ３点：普通 ２点：やや不良 １点：不良 ［判定］ ◎：平均点４．５点以上 ○：平均点３．５点以上、４．５点未満 △：平均点２．５点以上、３．５点未満 ×：平均点２．５点未満

【００２８】実施例１〜２、比較例１〜２ 表１に示す成分及び下記の製造方法により、Ｏ／Ｗ型日
焼け止め化粧料を調製し、上記安定性試験及び使用性評
価試験を行った。その結果を表１に併せて示す。

【００２９】

【表１】

【００３０】・セピゲル５０１（＊１）：ＳＥＰＰＩＣ
社製

【００３１】＜製造方法＞ Ａ：成分７〜１１を室温にて高速ミキサーにて均一に混
合する。 Ｂ：成分１〜６を室温にて高速ミキサーにて均一に混合
する。 成分Ｂを成分Ａに添加し室温にて高速ミキサーにて均一
に混合する。

【００３２】表１からも明らかなように、本発明に係る
実施例のＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料は、比較例のＯ／Ｗ
型日焼け止め化粧料と比較して、安定性及び使用感にお
いて優れたものであった。

【００３３】実施例３ 下記に示す成分及び常法に従い、Ｏ／Ｗ型日焼け止め乳
液を調製した。該Ｏ／Ｗ型日焼け止め乳液は、安定性及
び使用感に優れたものであった。 （成分） （質量％） ・パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル ７．５ ・４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’− メトキシジベンゾイルメタン １．０ ・ミリスチン酸イソセチル ３．０ ・シリコーン処理酸化亜鉛 ５．０ ・シラン処理酸化チタン ３．０ ・スクワラン ５．０ ・デカメチルシクロペンタシロキサン ３．０ ・ジメチルポリシロキサン ２．０ ・セピゲル５０１ ３．５ （ＳＥＰＰＩＣ社製） ・エタノール １５．０ ・エデト酸二ナトリウム ０．０１ ・キサンタンガム ０．１ ・ニコチン酸アミド ０．０１ ・精製水 残 量

【００３４】実施例４ 下記に示す配合処方及び常法に従い、Ｏ／Ｗ型日焼け止
め乳液を調製した。該Ｏ／Ｗ型日焼け止め乳液は、安定
性及び使用感に優れたものであった。 （成分） （質量％） ・パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル ５．０ ・４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’− メトキシジベンゾイルメタン １．０ ・球状シリコン粉体 ３．０ ［商品名：トスパール（東芝シリコーン社製）］ ・ミリスチン酸イソセチル ３．０ ・シリコーン処理酸化亜鉛 ５．０ ・シラン処理酸化チタン ３．０ ・デカメチルシクロペンタシロキサン ２．０ ・ジメチルポリシロキサン ２．０ ・セピゲル５０１ ３．５ （ＳＥＰＰＩＣ社製） ・エタノール １５．０ ・エデト酸二ナトリウム ０．０１ ・アクリル酸・メタクリル酸アルキル共重合体 ０．１ ・ポリオキシエチレン（６０）硬化ヒマシ油 ０．１ ・精製水 残 量

【００３５】尚、いずれの実施例の組成物を使用した場
合にも、皮膚に炎症、その他副作用と考えられる症状は
発現せず、本発明に係るＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料は安
全性にも優れることが明らかであった。

【００３６】

【発明の効果】上述したように、本発明のＯ／Ｗ型日焼
け止め化粧料が、使用感が良好で、安定性に優れること
は明らかである。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）ポリアクリル酸アミド、（Ｂ）酸
   化亜鉛及び／又は酸化チタン、（Ｃ）シリコーンオイ
   ル、並びに（Ｄ）エタノールを含有することを特徴とす
   るＯ／Ｗ型日焼け止め化粧料。
2. 【請求項２】 更に（Ｅ）エデト酸及び／又はその塩を
   含有することを特徴とする請求項１記載のＯ／Ｗ型日焼
   け止め化粧料。
3. 【請求項３】 更に（Ｆ）水溶性高分子を含有すること
   を特徴とする請求項１又は２に記載のＯ／Ｗ型日焼け止
   め化粧料。
4. 【請求項４】 （Ｆ）水溶性高分子が、キサンタンガム
   であることを特徴とする請求項３記載のＯ／Ｗ型日焼け
   止め化粧料。