JP2003090998A - カラーフィルタ基板及び電気光学装置、カラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法並びに電子機器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 反射型表示の明るさと透過型表示の彩度とを
共に確保することの可能なカラーフィルタ基板及び反射
半透過型の電気光学装置を提供する。また、反射型表示
と透過型表示との間の色彩の差異を低減する。 【解決手段】 基板２０１の上に開口部２１１ａを備え
た反射層２１１を形成し、その後、透光層２１４を部分
的に形成し、これらの上に着色層２１２ｒ，２１２ｇ，
２１２ｂを備えたカラーフィルタ２１２を形成する。着
色層には、透光層２１４の非形成領域に設けられた厚肉
部２１２ＴＨが形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はカラーフィルタ基板
及び電気光学装置、並びに、カラーフィルタ基板の製造
方法及び電気光学装置の製造方法に係り、特に、反射半
透過型の電気光学装置に用いる場合に好適なカラーフィ
ルタの構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、外光を利用した反射型表示
と、バックライト等の照明光を利用した透過型表示との
いずれをも視認可能とした反射半透過型の液晶表示パネ
ルが知られている。この反射半透過型の液晶表示パネル
は、そのパネル内に外光を反射するための反射層を有
し、この反射層をバックライト等の照明光を透過するこ
とができるように構成したものである。この種の反射層
としては、液晶表示パネルの画素毎に所定割合の開口部
（スリット）を備えたパターンを持つものがある。

【０００３】図１９は、従来の反射半透過型の液晶表示
パネル１００の概略構造を模式的に示す概略断面図であ
る。この液晶表示パネル１００は、基板１０１と基板１
０２とがシール材１０３によって貼り合せられ、基板１
０１と基板１０２との間に液晶１０４を封入した構造を
備えている。

【０００４】基板１０１の内面上には、画素毎に開口部
１１１ａを備えた反射層１１１が形成され、この反射層
１１１の上に着色層１１２ｒ，１１２ｇ，１１２ｂ及び
保護膜１１２ｐを備えたカラーフィルタ１１２が形成さ
れている。カラーフィルタ１１２の保護膜１１２ｐの表
面上には透明電極１１３が形成されている。

【０００５】一方、基板１０２の内面上には透明電極１
２１が形成され、対向する基板１０１上の上記透明電極
１１３と交差するように構成されている。なお、基板１
０１上の透明電極１１３上、及び、基板１０２上の透明
電極１２１の上には、配向膜や硬質透明膜などが必要に
応じて適宜に形成される。

【０００６】また、上記の基板１０２の外面上には位相
差板（１／４波長板）１０５及び偏光板１０６が順次配
置され、基板１０１の外面上には位相差板（１／４波長
板）１０７及び偏光板１０８が順次配置される。

【０００７】以上のように構成された液晶表示パネル１
００は、携帯電話、携帯型情報端末などの電子機器に設
置される場合、その背後にバックライト１０９が配置さ
れた状態で取り付けられる。この液晶表示パネル１００
においては、昼間や屋内などの明るい場所では反射経路
Ｒに沿って外光が液晶１０４を透過した後に反射層１１
１にて反射され、再び液晶１０４を透過して放出される
ので、反射型表示が視認される。一方、夜間や野外など
の暗い場所ではバックライト１０９を点灯させることに
より、バックライト１０９の照明光のうち開口部１１１
ａを通過した光が透過経路Ｔに沿って液晶表示パネル１
００を通過して放出されるので、透過型表示が視認され
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の反射半透過型の液晶表示パネル１００においては、
上記反射経路Ｒでは光がカラーフィルタ１１２を往復２
回通過するのに対し、上記透過経路Ｔでは光がカラーフ
ィルタ１１２を一度だけ通過するため、反射型表示の彩
度に対して透過型表示における彩度が悪くなるという問
題点がある。すなわち、反射型表示では一般的に表示の
明るさが不足しがちであるので、カラーフィルタ１１２
の光透過率を高く設定して表示の明るさを確保する必要
があるが、このようにすると、透過型表示において十分
な彩度を得ることができなくなる。

【０００９】また、上記のように反射型表示と透過型表
示とにおいては光がカラーフィルタを通過する回数が異
なるので、反射型表示の色彩と、透過型表示の色彩とが
大きく異なってしまうため、違和感を与えるという問題
点もある。

【００１０】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、反射型表示と透過型表示の双方を
可能にする表示装置に用いた場合に、反射型表示の明る
さと透過型表示の彩度とを共に確保することの可能なカ
ラーフィルタ基板を提供することにある。また、反射型
表示の明るさと透過型表示の彩度とを共に確保すること
の可能な反射半透過型の電気光学装置を提供することに
ある。さらに、反射型表示と透過型表示との間の色彩の
差異を低減することのできる表示技術を実現することを
目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明のカラーフィルタ基板は、基板と、前記基板に
配置され、且つ実質的に光が透過可能な透過部を有する
反射層と、少なくとも前記反射層に平面的に重なるよう
に配置され、且つ厚肉部を有する着色層と、を備え、前
記反射層は、前記透過部周辺に、反射部を有し、前記厚
肉部は前記透過部に平面的に重なるように配置され、前
記厚肉部の厚さは、前記着色層の前記反射部位置に対応
する部分の厚さと前記反射部の厚さとの和よりも大きい
ことを特徴とする。

【００１２】本発明によれば、着色層の反射部位置に対
応する部分の厚さと反射部の厚さとの和よりも大きい厚
さの厚肉部が反射層の透過部に平面的に重なるように設
けられていることによって、反射層の透過部を通過する
透過光の彩度を従来よりも高めることができる。

【００１３】ここで、反射層の透過部は、実質的に光が
透過可能になっているものであり、反射層の一部に開口
を設けることによって透過部を構成してもよく、或いは
また、反射層の一部を薄く形成することによって透過部
を構成してもよい。

【００１４】ここで、前記透過部は、前記反射層に設け
られた開口部であり、前記開口部を除く前記反射層と前
記着色層との間に実質的に光が透過できる透光層を備え
ていることが好ましい。反射層と着色層との間に透光層
が形成されていることにより、反射層の開口部と透光層
との間に段差が存在するように構成でき、この段差上に
着色層を形成することによって容易に厚肉部を設けるこ
とが可能になる。また、段差の存在によって厚肉部を設
けても着色層の表面を平坦に形成することが可能にな
る。

【００１５】また、前記透光層は、光を散乱させる散乱
機能を有することが好ましい。このようにすると、カラ
ーフィルタ基板を介して反射型表示を視認する場合にお
いて、反射層の正反射による照明光や太陽光による幻惑
や背景の写りこみなどを低減できる。

【００１６】さらに、前記透過部は、前記反射層に設け
られた開口部であり、前記開口部を除く前記反射層と前
記基板との間に下地層を備えていることが好ましい。反
射層と基板との間に下地層が形成されていることによ
り、反射層の開口部と、下地層によってかさ上げされた
反射面との間に段差が存在するように構成でき、この段
差上に着色層を形成することによって容易に厚肉部を設
けることが可能になる。また、段差の存在によって厚肉
部を設けても着色層の表面を平坦に形成することが可能
になる。

【００１７】また、前記下地層の表面は凹凸を有し、前
記反射層は光を散乱させる微細な凹凸を有することが好
ましい。このようにすると、カラーフィルタ基板を介し
て反射型表示を視認する場合において、反射層の正反射
による照明光や太陽光による幻惑や背景の写りこみなど
を低減できる。

【００１８】さらに、前記基板は凹部を有し、前記厚肉
部は前記凹部に平面的に重なるように配置されているこ
とが好ましい。基板の凹部に平面的に重なるように厚肉
部を形成することによって、凹部によって生じた段差に
より容易に厚肉部を形成することが可能になり、また、
段差の存在によって厚肉部を設けても着色層の表面を平
坦に形成することが可能になる。

【００１９】次に、本発明の別のカラーフィルタ基板
は、基板と、前記基板に配置され、且つ厚肉部を有する
着色層と、を備え、前記厚肉部は他の部分よりも厚いこ
とを特徴とする。

【００２０】本発明によれば、着色層に、他の部分より
も厚い厚肉部を設けることにより、厚肉部を通過する透
過光の彩度を他の部分を通過する透過光の彩度よりも高
めることができる。

【００２１】ここで、前記基板と前記厚肉部を除く前記
着色層との間に実質的に光が透過できる透光層を備えて
いることが好ましい。基板と厚肉部を除く着色層との間
に透光層を形成することにより、基板と透光層との間に
段差を形成することができるので、当該段差によって厚
肉部を容易に形成することが可能になり、また、段差の
存在によって厚肉部を形成しても着色層の表面を平坦に
形成することが可能になる。

【００２２】また、前記基板は凹部を有し、前記厚肉部
は前記凹部上に配置されていることことが好ましい。凹
部によって基板の表面に段差を設けることができるの
で、当該段差によって厚肉部を容易に形成することが可
能になり、また、段差の存在によって厚肉部を形成して
も着色層の表面を平坦に形成することが可能になる。

【００２３】次に、本発明の電気光学装置は、電気光学
物質を含む電気光学層と、前記電気光学層を支持する基
板と、前記基板に配置され、且つ実質的に光が透過可能
な透過部を有する反射層と、少なくとも前記反射層に平
面的に重なるように配置され、且つ厚肉部を有する着色
層と、を備え、前記反射層は、前記透過部周辺に、反射
部を有し、前記厚肉部は前記透過部に平面的に重なるよ
うに配置され、前記厚肉部の厚さは、前記着色層の前記
反射部位置に対応する部分の厚さと前記反射部の厚さと
の和よりも大きいことを特徴とする。

【００２４】本発明によれば、着色層の反射部位置に対
応する部分の厚さと反射部の厚さとの和よりも厚い厚肉
部を着色層に設けることにより、反射層の透過部を通過
する透過光の彩度を従来よりも高めることが可能にな
る。また、透過型表示と反射型表示との間の彩度の差異
を低減できる。

【００２５】ここで、前記開口部を除く前記反射層と前
記着色層との間に実質的に光が透過できる透光層を備え
ていることが好ましい。透光層の存在によって、反射層
の透過部と、透光層との間に段差が形成され、当該段差
によって厚肉部を容易に形成することが可能になる。ま
た、段差の存在によって厚肉部を形成しても着色層の表
面を平坦に構成することが可能になる。

【００２６】この場合、前記透光層は、光を散乱させる
散乱機能を有することが望ましい。これによって、反射
光が透光層によって散乱を受けるので、反射型表示にお
ける背景の写り込みや照明光による幻惑の発生を防止で
きる。

【００２７】また、前記透過部は開口部であり、前記開
口部を除く前記反射層と前記基板との間に下地層を備え
ていることが好ましい。下地層の存在により、開口部
と、開口部を除く反射層との間に段差を設けることがで
きるので、当該段差によって厚肉部を容易に形成するこ
とが可能になる。また、段差の存在によって厚肉部を形
成しても着色層の表面を平坦に構成することが可能にな
る。

【００２８】ここで、前記下地層の表面は凹凸を有し、
前記反射層は光を散乱させる微細な凹凸を有することが
望ましい。下地層の表面に凹凸を設け、この上の反射層
に光を散乱させる微細な凹凸を有することにより、反射
光が凹凸によって散乱を受けるので、反射型表示におけ
る背景の写り込みや照明光による幻惑を低減できる。

【００２９】さらに、前記基板は凹部を有し、前記厚肉
部は前記凹部上に配置されていることが好ましい。厚肉
部が基板の凹部上に配置されていることにより、凹部に
よって存在する基板表面の段差によって厚肉部を容易に
形成することが可能になるとともに、段差の存在によっ
て厚肉部を形成しても着色層の表面を平坦に形成するこ
とが可能になる。

【００３０】上記の電気光学装置において、前記電気光
学層を介して前記基板と対向して配置された対向基板を
備えている場合がある。

【００３１】また、本発明の別の電気光学装置は、電気
光学物質を含む電気光学層と、前記電気光学層を支持す
る第１の基板と、前記第１の基板に配置され、且つ実質
的に光が透過可能な透過部を有する反射層と、前記第１
の基板に対向して配置された第２の基板と、前記第２の
基板に配置され、且つその他の部分よりも厚さの厚い厚
肉部を有する着色層と、を備え、前記厚肉部は前記透過
部に平面的に重なるように配置されていることを特徴と
する。

【００３２】本発明によれば、第１の基板に配置された
反射層の透過部に重なるように、第２の基板に配置され
た着色層の厚肉部が配置されていることにより、透過部
を通過する透過光が厚肉部を透過することとなるので、
透過光の彩度を従来よりも高めることができる。また、
透過型表示と反射型表示との間の彩度の差異を低減でき
る。

【００３３】ここで、前記第２の基板と前記厚肉部を除
く前記着色層との間に実質的に光が透過できる透光層を
備えていることが好ましい。第２の基板と厚肉部を除く
着色部との間に透光層を有することにより、基板と透光
層との間に段差が形成され、当該段差によって容易に厚
肉部を構成することが可能になる。また、当該段差が存
在することによって厚肉部を形成しても着色層の表面を
平坦に構成することが可能になる。

【００３４】また、前記第２の基板は凹部を有し、前記
厚肉部は前記凹部上に配置されていることが好ましい。
第２の基板が有する凹部上に厚肉部が配置されているこ
とにより、凹部によって生じた段差が存在することによ
って厚肉部を容易に形成することが可能になる。また、
段差の存在によって厚肉部を形成しても着色層の表面を
平坦に構成することが可能になる。

【００３５】また、本発明のさらに別の電気光学装置
は、電気光学物質を含む電気光学層と、前記電気光学層
を支持する第１の基板と、前記第１の基板に配置され、
且つ実質的に光が透過可能な透過部を有する反射層と、
少なくとも前記反射層に平面的に重なるように配置され
た第１着色層と、前記第１の基板に対向して配置された
第２の基板と、前記第２の基板に配置された第２着色層
と、を備え、前記反射層は、前記透過部周辺に、反射部
を有し、前記第１着色層は、少なくとも前記透過部及び
前記反射部に平面的に重なるように配置され、前記第２
の着色層は、少なくとも前記透過部に平面的に重なるよ
うに配置されていることを特徴とする。

【００３６】本発明によれば、第１の基板に配置された
第１着色層と第２の基板に配置された第２着色層の厚さ
の和が、透過部に平面的に重なる領域おいてその他の領
域よりも大きくなるように構成できることにより、反射
層の透過部を通過する透過光の彩度を従来よりも高める
ことができる。また、透過型表示と反射型表示との間の
彩度の差異を低減できる。

【００３７】さらに、本発明の電気光学装置は、第１の
基板と第２の基板との間に保持された電気光学物質を含
む電気光学層と、前記第１の基板に配置された第１着色
層と、前記第１の基板上に配置され、且つ実質的に光が
透過可能な透過部を有する反射層と、前記第２の基板に
配置された第２着色層とを備え、前記第２着色層は、前
記透過部と平面的に重なる領域に限定されて配置されて
いることを特徴とする。

【００３８】本発明によれば、第２の基板において第２
着色層が第１の基板に配置された反射層の透過部に平面
的に重なる領域に限定して配置されていることにより、
反射層の開口部を通過する透過光は、第１着色層だけで
なく、第２着色層をも透過することとなるので、当該透
過光の彩度を従来よりも高めることができる。また、透
過型表示と反射型表示との間の彩度の差異を低減でき
る。

【００３９】次に、本発明のカラーフィルタ基板の製造
方法は、基板上に絶縁層を部分的に形成する工程と、前
記絶縁層の形成領域上及び前記絶縁層の非形成領域上に
着色層を形成する工程と、を備えることを特徴とする。

【００４０】より具体的には、基板上に着色層を形成す
る工程と、前記基板上に実質的に光が透過できる透光層
を部分的に形成する工程とを有し、前記着色層を形成す
る工程では、前記透光層上よりも前記透光層の非形成領
域上に前記着色層を厚く形成する。或いはまた、基板上
に着色層を形成する工程と、前記基板上に開口部を有す
る反射層を形成する工程と、前記開口部を除く前記反射
層上に実質的に光が透過できる透光層を形成する工程と
を有し、前記着色層を形成する工程では、前記着色層の
厚さが前記開口部周辺の前記反射層上に形成される前記
着色層の厚さと前記反射層の厚さとの和よりも厚い前記
厚肉部を、前記開口部上に形成する。さらに、基板上に
厚肉部を有する着色層を形成する工程と、前記基板上に
部分的に下地層を形成する工程と、前記下地層上に反射
層を形成する工程とを有し、前記着色層を形成する工程
では、前記厚肉部を前記下地層の非形成領域上に形成す
る。

【００４１】また、本発明の別のカラーフィルタの製造
方法は、前記基板上に着色材料を配置する工程と、該着
色材料の硬化度合を部分的に変えて硬化処理を施す工程
と、前記着色材料の未硬化部分を除去することにより、
前記着色層の一部に他の部分よりも厚い厚肉部を形成す
る工程と、を備えることを特徴とする。この手段によれ
ば、着色材料の硬化度合に応じて厚肉部を形成するよう
にしているので、硬化処理の程度を変えるだけで容易に
厚肉部を設けることができる。

【００４２】さらに、本発明のさらに別のカラーフィル
タの製造方法は、前記基板上に着色材料を配置する工程
と、該着色材料の露光度合を部分的に変えて露光する工
程と、前記着色材料を現像することにより、前記着色層
の一部に他の部分よりも厚い厚肉部を形成する工程と、
を備えることを特徴とする。

【００４３】次に、本発明の電気光学装置の製造方法
は、上記のカラーフィルタの製造方法を工程として備え
ることを特徴とする。

【００４４】また、本発明の電子機器は、上記の電気光
学装置を備えることを特徴とする。

【００４５】上記各手段においては、上記下地層や透光
層を、着色層における厚肉部と、それ以外の部分の厚さ
との差にほぼ等しい厚さとなるように構成することが好
ましい。これによって、製造工程において着色材料を下
地層や透光層の上から塗布するだけで、上記厚肉部を備
えた着色層を形成することが可能になるとともに、着色
層の表面上の平坦性を向上させることができる。

【００４６】上記各手段において、着色層が全体として
ほぼ均質な光学特性を有する場合には、カラーフィルタ
基板の平坦性を重視するときには、上記厚肉部の厚さ
は、着色層におけるその他の厚さに対してほぼ２倍であ
ることが好ましい。また、より具体的には、１．４倍〜
２．６倍の範囲内であることが好ましい。特に、反射型
表示と透過型表示との間の色彩の相違を低減するには、
１．７倍〜２．３倍の範囲内であることが望ましい。

【００４７】また、光学特性を重視する場合には、上記
厚肉部の厚さは、着色層の厚肉部以外の部分の厚さに対
してほぼ２〜６倍の範囲内であることが好ましい。厚肉
部の厚さが２倍未満である場合には、透過領域の色表現
を最適化すると反射領域の明度を充分に確保することが
難しくなり、反射領域の明度を最適化すると透過領域の
彩度を確保することが難しくなる。厚肉部の厚さが６倍
を越える場合には、透過領域の色表現を最適化すると反
射領域の彩度を確保することが難しくなり、反射領域の
色表現を最適化するとバックライトの光量を増大しない
と透過領域の明度を確保することが難しくなるととも
に、カラーフィルタ基板の平坦性を確保することも困難
になる。

【００４８】さらに、カラーフィルタの平坦性と光学特
性とを両立させるためには、厚肉部の厚さを１．０〜
３．０μｍの範囲内の値とし、厚肉部以外の部分の厚さ
を０．２〜１．５μｍの範囲内の値とすることが好まし
い。このようにすると、厚肉部の存在に起因するカラー
フィルタの厚さの不均一性を低減しつつ、反射領域と透
過領域の色表示の品位を向上させることが可能になる。
本発明においては、下地層や透光層を、着色層の厚肉部
の厚さと、それ以外の部分の厚さとの差にほぼ等しい厚
さに形成することによって上述のように製造の容易化及
び平坦性の向上を図ることができるが、この場合にも、
上記の厚さ条件を満たす着色層を設けることによって、
カラーフィルタの厚さの不均一性をより低減することが
可能になるとともにカラーフィルタの光学特性を向上さ
せることが可能になる。

【００４９】上記各手段において、カラーフィルタ基板
若しくは電気光学装置は、複数配列された画素領域を有
し、上記画素領域毎に上記着色層が配置され、上記画素
領域毎に上記厚肉部が設けられていることが望ましい。
また、各画素領域毎に、前記反射層に透過部を備えてい
ることが望ましい。

【００５０】また、カラーフィルタの画素間領域には、
異なる色相を呈する着色層を重ねてなる重ね遮光層と、
黒色遮光層のいずれかを形成する場合がある。黒色遮光
層を形成する場合であって、反射層上に透光層を形成
し、その上に着色層を形成するときには、反射層上に直
接黒色遮光層を形成する際に生ずる残渣の発生を低減す
ることができるので、カラーフィルタの透光性を高め、
表示品位を高めることができる。

【００５１】

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係るカラーフィルタ基板及び電気光学装置並びにこれ
らの製造方法の実施形態について詳細に説明する。

【００５２】［第１実施形態］図１は、本発明に係るカ
ラーフィルタ基板の第１実施形態である基板２０１及び
このカラーフィルタ基板を用いた電気光学装置の第１実
施形態である液晶表示パネル２００を模式的に示す概略
断面図である。

【００５３】この液晶表示パネル２００は、ガラスやプ
ラスチック等からなる基板２０１と基板２０２とがシー
ル材２０３を介して貼り合わせられ、内部に液晶２０４
が封入されてなる。基板２０２、この基板２０２上に形
成された透明電極２２１、位相差板２０５，２０７、偏
光板２０６，２０８は図１９に示す上記従来例と全く同
様である。

【００５４】本実施形態においては、基板２０１の内面
上に、実質的に光が透過可能な透過部としての開口部２
１１ａを備えた厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎｍ程度の反射層
２１１が形成されている。この反射層２１１は、アルミ
ニウム、アルミニウム合金、銀合金などの薄膜で形成す
ることができる。開口部２１１ａは、基板２１０の内面
に沿って縦横にマトリクス状に配列設定された画素Ｇ毎
に、当該画素Ｇの全面積を基準として所定の開口率（例
えば１０〜３０％）を有するように形成されている。こ
の開口部２１１ａは、上方から基板２０１を見た平面図
である図７に示すように、画素Ｇに１箇所ずつ形成され
ていてもよいが、画素毎に複数の開口部が設けられてい
ても構わない。

【００５５】反射層２１１の上には、上記開口部２１１
ａを避けるように、厚さ０．５μｍ〜２．５μｍ程度の
透光層２１４が部分的に形成される。この透光層２１４
は、ＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２などの無機物質やアクリル樹
脂、エポキシ樹脂などの樹脂などで形成することがで
き、可視光領域において透光性を有するものであるが、
特に可視光線に対して透明、例えば可視光領域において
平均透過率が７０％以上で波長分散が小さい（例えば透
過率の変動が１０％以下）もの、であることが好まし
い。

【００５６】上記透光層２１４の上には、例えば原色系
のカラーフィルタの場合にはＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ
（青）の３色からなる厚さ０．５μｍ〜２．０μｍ程度
の着色層２１２ｒ，２１２ｇ，２１２ｂが、例えば公知
のストライプ配列、デルタ（トライアングル）配列、斜
めモザイク（ダイヤゴナル）配列などの適宜の配列態様
（図７にはストライプ配列のカラーフィルタを示す。）
で画素Ｇ毎に配列されている。ここで、画素Ｇの間に
は、着色層２１２ｒ，２１２ｇ，２１２ｂが相互に重ね
あわされて遮光性を呈する重ね遮光部２１２ＢＭが形成
される。ここで、各着色層２１２ｒ，２１２ｇ，２１２
ｂにおいては、重ね遮光部２１２ＢＭの部分を除いて基
本的に表面がほぼ平坦に構成されている。

【００５７】上記着色層２１２ｒ，２１２ｇ，２１２ｂ
及び重ね遮光部２１２ＢＭの上には、透明樹脂等からな
る保護膜２１２ｐが形成される。この保護膜２１２ｐ
は、着色層を工程中の薬剤等による腐食や汚染から保護
するとともに、カラーフィルタ２１２の表面を平坦化す
るためのものである。

【００５８】カラーフィルタ２１２の上には、ＩＴＯ
（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる透明
電極２１３が形成される。この透明電極２１３は本実施
形態においては複数並列したストライプ状に形成されて
いる。また、この透明電極２３１は上記基板２０２上に
同様にストライプ状に形成された透明電極２２１に対し
て直交する方向に伸び、透明電極２１３と透明電極２２
１（図７に一点鎖線で示す。）との交差領域内に含まれ
る液晶表示パネル２００の構成部分（反射層２１１、カ
ラーフィルタ２１２、透明電極２１３、液晶２０４及び
透明電極２２１における上記交差領域内の部分）が画素
Ｇを構成するようになっている。

【００５９】本実施形態においては、上記透光層２１４
が形成されていることにより、各着色層２１２ｒ，２１
２ｇ，２１２ｂにおいて透光層２１４が形成されていな
い非形成領域、すなわち、反射層２１１の開口部２１１
ａと平面的に重なる領域に着色層の一部が入り込むよう
に構成され、これによって他の部分よりも厚肉に形成さ
れた厚肉部２１２ＴＨが設けられている。

【００６０】この液晶表示パネル２００においては、反
射型表示がなされる場合には反射経路Ｒに沿って光が通
過して視認され、透過型表示がなされる場合には透過経
路Ｔに沿って光が通過して視認される。このとき、反射
経路Ｔにおいてカラーフィルタ２１２は従来と同様に作
用するが、透過経路Ｔは反射層２１１の開口部２１１ａ
を通るので、透過光は着色層２１２ｒ，２１２ｇ，２１
２ｂの厚肉部２１２ＴＨを通過することとなり、その結
果、透過型表示における彩度が図１９に示す従来構造の
場合よりも向上する。

【００６１】したがって、本実施形態においては、カラ
ーフィルタ２１２における反射層２１１の開口部２１１
ａに対して平面的に重なる位置に、厚肉部２１２ＴＨを
形成することにより、反射型表示の明るさを損なうこと
なく、透過型表示の彩度を向上させることが可能にな
る。特に、反射型表示と、透過型表示との間の色彩の相
違を従来よりも低減することができる。

【００６２】また、本実施形態では、透光層２１４を部
分的に形成することによりカラーフィルタ２１２に厚肉
部２１２ＴＨを設けているので、カラーフィルタ２１２
の着色層２１２ｒ，２１２ｇ，２１２ｂの表面（図示上
面）を平坦に形成することが可能になるから、液晶層の
厚さの均一性を高めることができ、液晶表示パネルの表
示品位を高めることができる。

【００６３】ここで、カラーフィルタ２１２の平坦性を
重視する場合、すなわち、保護層２１２ｐの表面を平坦
に構成すること、或いは、透明電極２１３の電極面を平
坦に構成することを優先する場合には、カラーフィルタ
の着色層が光学特性についてほぼ均一に形成されている
ならば、上記厚肉部２１２ＴＨの厚さは、反射層２１１
と平面的に重なる部分、すなわちその他の部分の厚さの
ほぼ２倍であることが好ましい。より具体的には１．４
倍〜２．６倍の範囲内であることが好ましく、１．７倍
〜２．３倍の範囲内であることが望ましい。このように
すると、反射型表示の彩度と、透過型表示の彩度との差
異をさらに低減し、両表示間の色彩の相違をさらに低減
できる。

【００６４】一方、カラーフィルタ２１２の光学特性を
重視する場合、すなわち、透過表示と、反射表示のいず
れにおいてもそのカラー表示態様が共に良好な色再現性
を持つことを優先する場合には、厚肉部２１２ＴＨの厚
さは、その他の部分の厚さの２〜６倍の範囲内であるこ
とが好ましい。厚肉部２１２ＴＨの厚さが２倍未満であ
る場合には、透過領域の色表現を最適化すると反射領域
の明度を充分に確保することが難しくなり、反射領域の
明度を最適化すると透過領域の彩度を確保することが難
しくなる。厚肉部２１２ＴＨの厚さが６倍を越える場合
には、透過領域の色表現を最適化すると反射領域の彩度
を確保することが難しくなり、反射領域の色表現を最適
化するとバックライトの光量を増大しないと透過領域の
明度を確保することが難しくなるため、バックライトの
消費電力の増大を招くとともに、カラーフィルタ基板の
平坦性を確保することも困難になる。

【００６５】ところで、実際に液晶表示装置を構成する
場合において、カラーフィルタ２１２の平坦性は液晶層
の厚さの均一性や再現性を担保することによってその表
示品位を向上させる上で重要であり、また、カラーフィ
ルタ２１２の光学特性は透過表示と反射表示におけるカ
ラー表示態様の品位を共に向上させるために重要であ
る。本発明者らは、カラーフィルタ２１２の平坦性と光
学特性とを共に満足させるためには、着色層２１２ｒ，
２１２ｇ，２１２ｂの厚さを所定範囲内に限定すること
が有効であることを見出した。すなわち、図２０に示す
ように、着色層２１２ｒ，２１２ｇ，２１２ｂの厚肉部
２１２ＴＨの厚さ（透過領域における着色層の厚さ）Ｄ
ｔを１．０〜３．０μｍ、その他の部分の厚さ（反射領
域における着色層の厚さ）Ｄｓを０．２〜１．５μｍの
範囲内にすることによって、カラーフィルタ２１２の平
坦性と光学特性とを両立させることができる。厚さＤｔ
が上記範囲を越えると着色層の段差が大きくなるため平
坦性を確保することが困難になり、厚さＤｔが上記範囲
を下回ると透過表示の彩度を維持することが困難にな
る。また、厚さＤｓが上記範囲を越えると着色層の段差
が大きくなるために平坦性を確保することが困難にな
り、厚さＤｓが上記範囲を下回ると反射表示の彩度を維
持することが困難になる。なお、このような着色層の厚
さＤｔ，Ｄｓの条件範囲内であっても、ＤｔとＤｓの比
は、上述と同様に２〜６の範囲内であることが望ましい
ことは当然である。

【００６６】図２０に示すように、反射層２１１上に透
光層２１４を形成することによって上記着色層の厚さＤ
ｔとＤｓを設定するようにしているが、これによって着
色層２１２ｒ，２１２ｇ，２１２ｂを形成した場合に、
その厚肉部２１２ＴＨの上部表面に窪み２１２ｄ１が発
生し、これが保護層２１２ｐの表面の窪み２１２ｄ２の
原因となる。上記Ｄｔ，Ｄｓを上記範囲内に設定するこ
とによって窪み２１２ｄ１の深さΔＤ１及び窪み２１２
ｄ２の深さΔＤ２を小さくし、それによって液晶層の厚
さの均一性及び再現性を高めることができる。より具体
的には、窪み２１２ｄ１の深さΔＤ１を０．５μｍ以
下、窪み２１２ｄ２の深さΔＤ２を０．２μｍ以下とす
ることが好ましい。特に、窪み２１２ｄ２の深さΔＤ２
を０．１μｍ以下にすることによって表示ムラ等のない
高品位の液晶表示を実現することができる。

【００６７】［第２実施形態］次に、図２は本発明に係
る第２実施形態のカラーフィルタ基板３０１及びこのカ
ラーフィルタ基板を用いた第２実施形態の液晶表示パネ
ル３００を模式的に示す概略断面図である。この実施形
態においては、上記第１実施形態と同様に構成された基
板３０１，３０２、シール材３０３、液晶３０４、透明
電極３１３，３２１、位相差板３０５，３０７、偏光板
３０６，３０８を備えているので、これらの説明は省略
する。

【００６８】本実施形態においては、基板３０１の表面
に、上記第１実施形態と同様に配列設定された画素Ｇ毎
に設けられた深さ０．５μｍ〜２．５μｍ程度の凹部３
０１ａが設けられている。この凹部３０１ａは、基板３
０１の表面上に形成された反射層３１１の開口部３１１
ａと平面的に重なる領域に設けられている。なお、この
反射層３１１は、５０ｎｍ〜２５０ｎｍ程度の厚さで形
成されている。そして、基板３０１及び反射層３１１の
上には厚さ０．５μｍ〜２．０μｍ程度の着色層３１２
ｒ，３１２ｇ，３１２ｂ、重ね遮光部３１２ＢＭ、及び
保護膜３１２ｐとを有するカラーフィルタ３１２が形成
されている。

【００６９】本実施形態では、基板３０１に凹部３０１
ａが設けられ、この凹部３０１ａ内にも着色材料が充填
されていることによって、凹部３０１ａ上において各着
色層３１２ｒ，３１２ｇ，３１２ｂに厚肉部３１２ＴＨ
が設けられている。この厚肉部３１２ＴＨは反射層３１
１の開口部３１１ａに対応して形成されているので、透
過経路Ｔを通過するバックライト３０９の透過光は厚肉
部３１２ＴＨを通過することとなり、その結果、第１実
施形態と同様に透過型表示の彩度を高めることができ、
反射型表示と透過型表示との間の色彩の相違を低減する
ことができる。

【００７０】また、本実施形態では、凹部３０１ａを部
分的に形成することによりカラーフィルタ３１２に厚肉
部３１２ＴＨを設けているので、カラーフィルタ３１２
の着色層３１２ｒ，３１２ｇ，３１２ｂの表面（図示上
面）を平坦に形成することが可能になるから、液晶層の
厚さの均一性を高めることができ、液晶表示パネルの表
示品位を高めることができる。

【００７１】なお、この実施形態においても、第１実施
形態と同様に、カラーフィルタ３１２の光学特性を重視
する場合、すなわち、透過表示と、反射表示のいずれに
おいてもそのカラー表示態様が共に良好な色再現性を持
つことを優先する場合には、厚肉部３１２ＴＨの厚さ
は、その他の部分の厚さの２〜６倍の範囲内であること
が好ましい。

【００７２】また、着色層３１２ｒ，３１２ｇ，３１２
ｂの厚肉部３１２ＴＨの厚さ（透過領域における着色層
の厚さ）Ｄｔを１．０〜３．０μｍ、その他の部分の厚
さ（反射領域における着色層の厚さ）Ｄｓを０．２〜
１．５μｍの範囲内にすることによって、カラーフィル
タ３１２の平坦性と光学特性とを両立させることができ
る。なお、このような着色層の厚さＤｔ，Ｄｓの条件範
囲内であっても、ＤｔとＤｓの比は、上述と同様に２〜
６の範囲内であることが望ましいことは当然である。

【００７３】さらに、基板３０１に凹部３０１ａを形成
することによって上記着色層の厚さＤｔとＤｓを設定す
るようにしているが、これによって着色層の厚肉部３１
２ＴＨの上部表面に生ずる窪みの深さを０．５μｍ以
下、また、保護層３１２ｐの表面に生ずる窪みの深さを
０．２μｍ以下とすることが好ましい。特に、保護層３
１２ｐの窪みの深さを０．１μｍ以下にすることによっ
て表示ムラ等のない高品位の液晶表示を実現することが
できる。

【００７４】［第３実施形態］次に、図３を参照して、
本発明に係る第３実施形態のカラーフィルタ基板４０１
及び液晶表示パネル４００について説明する。この実施
形態においても、上記第１実施形態と同様に構成された
基板４０１，４０２、シール材４０３、液晶４０４、透
明電極４１３，４２１、位相差板４０５，４０７、偏光
板４０６，４０８を備えているので、これらの説明は省
略する。

【００７５】この実施形態においては、基板４０１上に
開口部４１１ａを備えた厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎｍ程度
の反射層４１１が形成され、その上に直接に厚さ０．５
μｍ〜２．０μｍ程度の着色層４１２ｒ，４１２ｇ，４
１２ｂ、重ね遮光部４１２ＢＭ及び保護膜４１２ｐから
なるカラーフィルタ４１２が形成されている。ここで、
着色層４１２ｒ，４１２ｇ，４１２ｂはいずれも反射層
４１１の開口部４１１ａの直上部分（平面的に重なる領
域）に厚肉部４１２ＴＨが設けられている。この厚肉部
４１２ＴＨは、着色層４１２ｒ，４１２ｇ，４１２ｂに
おける上記開口部４１１ａの直上部分の表面を他の部分
よりも０．５μｍ〜２．０μｍ程度高く形成することに
より設けられている。

【００７６】本実施形態では、上記各実施形態と同様に
透過表示の彩度を向上させることができるとともに、透
過表示と反射表示との間の色彩の差異を低減することが
できる。また、本実施形態では着色層の表面に厚肉部に
よる凹凸が形成されるが、その代り、上記第１実施形態
の透光層を形成したり、上記第２実施形態の凹部を形成
したりする必要がなくなる。

【００７７】なお、この実施形態においても、第１実施
形態と同様に、カラーフィルタ４１２の光学特性を重視
する場合、すなわち、透過表示と、反射表示のいずれに
おいてもそのカラー表示態様が共に良好な色再現性を持
つことを優先する場合には、厚肉部４１２ＴＨの厚さ
は、その他の部分の厚さの２〜６倍の範囲内であること
が好ましい。

【００７８】［第４実施形態］次に、図４を参照して、
本発明に係る第４実施形態のカラーフィルタ基板５０１
及び液晶表示パネル５００について説明する。この実施
形態においても、上記第１実施形態と同様に構成された
基板５０１，５０２、シール材５０３、液晶５０４、透
明電極５１３，５２１、位相差板５０５，５０７、偏光
板５０６，５０８を備えているので、これらの説明は省
略する。

【００７９】本実施形態においては、上記第１乃至第３
実施形態のようにカラーフィルタが反射層を備えた基板
上に形成されている構成とは異なり、反射層５１１を備
えた基板５０１にはカラーフィルタが形成されていない
代わりに、基板５０１に対向する基板５０２上にカラー
フィルタ５２２が形成されている。

【００８０】基板５０１上には上記各実施形態と同様に
実質的に光が透過可能な透過部としての開口部５１１ａ
を備えた厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎｍ程度の反射層５１１
が形成され、この反射層５１１の上には透明な絶縁膜５
１２が形成され、絶縁膜５１２の上に透明電極５１３が
形成されている。

【００８１】一方、基板５０２上には厚さ０．５μｍ〜
２．５μｍ程度の透光層５２４が部分的に形成され、基
板５０２及び透光層５２４上に厚さ０．５μｍ〜２．０
μｍ程度の着色層５２２ｒ，５２２ｇ，５２２ｂ、重ね
遮光部５２２ＢＭ及び保護膜５２２ｐからなるカラーフ
ィルタ５２２が形成されている。

【００８２】このカラーフィルタ５２２においては、上
記着色層が画素Ｇ毎に形成され、その間に重ね遮光部５
２２ＢＭが形成されている。また、各着色層にはそれぞ
れ上記透光層５２４の非形成領域に対応して厚肉部５２
２ＴＨが設けられている。この厚肉部５２２ＴＨは、基
板５０１上に形成された反射層５１１の開口部５１１ａ
に対応した領域、すなわち開口部５１１ａと平面的に重
なる領域、に位置するように構成されている。

【００８３】この実施形態においても、反射経路Ｒを通
過する外光はカラーフィルタ５２２を２回通過するのに
対し、透過経路Ｔを通過するバックライト５０９の透過
光はカラーフィルタ５２２を１回だけ通過する。このと
き、反射経路Ｒは各着色層の厚肉部５２２ＴＨ以外の部
分を通過するのに対して、透過経路Ｔは各着色層の厚肉
部５２２ＴＨを通過するように構成されているので、透
過表示の彩度を従来構造よりも向上させることができる
とともに、反射表示と透過表示との間の色彩の相違を低
減することができる。

【００８４】この実施形態のカラーフィルタ基板は基板
５０２であり、上記先の実施形態とは異なり、この基板
５０２上には反射層が形成されていない。すなわち、本
実施形態のカラーフィルタ基板は反射層の形成された基
板５０１に対して対向する基板として形成されるもので
あり、このように反射層を備えていないカラーフィルタ
基板においても、画素毎に設けられた着色層の一部に厚
肉部を設けることによって反射半透過型の液晶表示パネ
ルの色彩に関する特性を向上させることができる。

【００８５】また、本実施形態では、透光層５２４を部
分的に形成することによりカラーフィルタ５２２に厚肉
部５２２ＴＨを設けているので、カラーフィルタ５２２
の着色層５２２ｒ，５２２ｇ，５２２ｂの表面（図示上
面）を平坦に形成することが可能になるから、液晶層の
厚さの均一性を高めることができ、液晶表示パネルの表
示品位を高めることができる。

【００８６】ここで、本実施形態では、反射層５１１の
形成された基板５０１と対向する基板５０２上に上記第
１実施形態と同様の構造を備えたカラーフィルタ５２２
を形成しているが、このカラーフィルタ５２２の構造と
しては、上記第２実施形態と同様に凹部を設けた基板上
に形成された構造であってもよく、また、上記第３実施
形態と同様に着色層の表面を部分的に高くした構造であ
っても構わない。

【００８７】なお、この実施形態においても、第１実施
形態と同様に、カラーフィルタ５２２の光学特性を重視
する場合、すなわち、透過表示と、反射表示のいずれに
おいてもそのカラー表示態様が共に良好な色再現性を持
つことを優先する場合には、厚肉部５２２ＴＨの厚さ
は、その他の部分の厚さの２〜６倍の範囲内であること
が好ましい。

【００８８】また、着色層５２２ｒ，５２２ｇ，５２２
ｂの厚肉部５２２ＴＨの厚さ（透過領域における着色層
の厚さ）Ｄｔを１．０〜３．０μｍ、その他の部分の厚
さ（反射領域における着色層の厚さ）Ｄｓを０．２〜
１．５μｍの範囲内にすることによって、カラーフィル
タ５２２の平坦性と光学特性とを両立させることができ
る。なお、このような着色層の厚さＤｔ，Ｄｓの条件範
囲内であっても、ＤｔとＤｓの比は、上述と同様に２〜
６の範囲内であることが望ましいことは当然である。

【００８９】さらに、基板５０２に透光層５２４を形成
することによって上記着色層の厚さＤｔとＤｓを設定す
るようにしているが、これによって着色層の厚肉部５２
２ＴＨの上部表面に生ずる窪みの深さを０．５μｍ以
下、また、保護層５２２ｐの表面に生ずる窪みの深さを
０．２μｍ以下とすることが好ましい。特に、保護層５
２２ｐの窪みの深さを０．１μｍ以下にすることによっ
て表示ムラ等のない高品位の液晶表示を実現することが
できる。

【００９０】［第５実施形態］

【００９１】次に、図５を参照して、本発明に係る第５
実施形態のカラーフィルタ基板及び電気光学装置につい
て説明する。図５は、本実施形態の液晶表示パネル６０
０の構造を模式的に示す概略断面図である。

【００９２】この液晶表示パネル６００は、上記第１実
施形態と同様に構成された基板６０１，６０２、シール
材６０３、液晶６０４、透明電極６１３，６２１、位相
差板６０５，６０７、偏光板６０６，６０８を備えてい
るので、これらの説明は省略する。

【００９３】また、第１実施形態と同様に、基板６０１
の表面上に実質的に光が透過可能な透過部としての開口
部６１１ａを備えた厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎｍ程度の反
射層６１１が形成され、この反射層６１１の上に厚さ
０．５μｍ〜２．５μｍ程度の透光層６１４が形成さ
れ、さらに、これらの上にカラーフィルタ６１２が形成
されている。

【００９４】本実施形態においては、カラーフィルタ６
１２には、上記実施形態の重ね遮光層の代りに、黒色遮
光層６１２ＢＭが形成されている。この黒色遮光層６１
２ＢＭは、黒色の樹脂材料、例えば、黒色の顔料を樹脂
中に分散させたもの、などを用いることができる。

【００９５】上記黒色遮光層６１２ＢＭ及び上記透光層
６１４の上には、厚さ０．５μｍ〜２．０μｍ程度の着
色層６１２ｒ，６１２ｇ，６１２ｂが順次に形成され、
その上に保護膜６１２ｐが形成されている。各着色層
は、その周縁が黒色遮光層６１２ＢＭの上にそれぞれ重
なるように形成されている。

【００９６】この実施形態では、黒色遮光層６１２ＢＭ
を形成する工程が別途必要にはなるが、重ね遮光層を用
いる場合よりもカラーフィルタの厚さを低減し、しか
も、カラーフィルタ表面の平坦性を向上させることがで
きる。

【００９７】なお、この実施形態においても、第１実施
形態と同様に、カラーフィルタ６１２の光学特性を重視
する場合、すなわち、透過表示と、反射表示のいずれに
おいてもそのカラー表示態様が共に良好な色再現性を持
つことを優先する場合には、厚肉部６１２ＴＨの厚さ
は、その他の部分の厚さの２〜６倍の範囲内であること
が好ましい。

【００９８】また、着色層６１２ｒ，６１２ｇ，６１２
ｂの厚肉部６１２ＴＨの厚さ（透過領域における着色層
の厚さ）Ｄｔを１．０〜３．０μｍ、その他の部分の厚
さ（反射領域における着色層の厚さ）Ｄｓを０．２〜
１．５μｍの範囲内にすることによって、カラーフィル
タ６１２の平坦性と光学特性とを両立させることができ
る。なお、このような着色層の厚さＤｔ，Ｄｓの条件範
囲内であっても、ＤｔとＤｓの比は、上述と同様に２〜
６の範囲内であることが望ましいことは当然である。

【００９９】さらに、基板６０１に透光層６１４を形成
することによって上記着色層の厚さＤｔとＤｓを設定す
るようにしているが、これによって着色層の厚肉部６１
２ＴＨの上部表面に生ずる窪みの深さを０．５μｍ以
下、また、保護層６１２ｐの表面に生ずる窪みの深さを
０．２μｍ以下とすることが好ましい。特に、保護層６
１２ｐの窪みの深さを０．１μｍ以下にすることによっ
て表示ムラ等のない高品位の液晶表示を実現することが
できる。

【０１００】［第６実施形態］次に、図６を参照して、
本発明に係る第６実施形態の液晶表示パネル７００につ
いて説明する。この実施形態においては、上記図１９に
示す従来構造の液晶表示パネル１００と同様の、基板７
０１及び基板７０２、シール材７０３、液晶７０４、位
相差板７０５，７０７、偏光板７０６，７０８、開口部
７１１ａを備えた厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎｍ程度の反射
層７１１、及び、厚さ０．５μｍ〜２．０μｍ程度の着
色層７１２ｒ，７１２ｇ，７１２ｂを有するカラーフィ
ルタ７１２を備えている。

【０１０１】この実施形態においては、基板７０２の内
面上に、上記カラーフィルタ７１２の各着色層と同色の
厚さ０．５μｍ〜２．０μｍ程度の限定着色層７２２
ｒ，７２２ｇ，７２２ｂが形成され、これらの上に透明
電極７２１が形成されている。限定着色層７２２ｒ，７
２２ｇ，７２２ｂは、基板７０１上に形成された反射層
７１１の開口部７１１ａと平面的に重なる範囲に限定さ
れたパターン形状でそれぞれ形成されている。

【０１０２】この結果、本実施形態においては、基板７
０１上のカラーフィルタ７１２の着色層７１２ｒ，７１
２ｇ，７１２ｂの厚さと、基板７０２上の限定着色層７
２２ｒ，７２２ｇ，７２２ｂの厚さとを合算した厚さ
が、反射層７１１の開口部７１１ａと平面的に重なる領
域において他の部分よりも厚くなるように構成されてい
る。したがって、光学的には上記各実施形態のように厚
肉部を備えた着色層を形成した場合と同様の効果を奏す
る。

【０１０３】［第７実施形態］次に、図８を参照して、
本発明に係る第７実施形態として、カラーフィルタ基板
の製造方法について説明する。このカラーフィルタ基板
の製造方法は、上記第１実施形態の液晶表示パネル２０
０に用いられているカラーフィルタ基板の製造に関する
ものである。

【０１０４】基板２０１の表面上には、最初に、アルミ
ニウム、アルミニウム合金、銀合金、クロムなどの金属
を蒸着法やスパッタリング法などによって薄膜状に成膜
し、これを公知のフォトリソグラフィ法を用いてパター
ニングすることによって図８（ａ）に示すように開口部
２１１ａを備えた厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎｍ程度の反射
層２１１を形成する。

【０１０５】次に、図８（ｂ）に示すように、上記反射
層２１１の開口部２１１ａの直上領域を除く部分に厚さ
０．５μｍ〜２．５μｍ程度の透光層２１４を形成す
る。この透光層２１４は、例えば、基板２０１及び反射
層２１１の表面上に全面的に無機層若しくは有機層を形
成した後にフォトリソグラフィ法等によって開口部２１
１ａの直上領域の上にある部分を選択的に除去すること
によって形成できる。透光層２１４の素材としては、Ｓ
ｉＯ_２やＴｉＯ_２などの透明な無機物、或いは、透明な
アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの有機樹脂等を用いる
ことができる。

【０１０６】その後、図８（ｃ）に示すように、所定の
色相を呈する顔料や染料等を分散させてなる着色された
感光性樹脂（感光性レジスト）を塗布し、所定パターン
にて露光、現像を行ってパターニングを行うことによ
り、厚さ０．５μｍ〜２．０μｍ程度の着色層２１２
ｒ，２１２ｇ，２１２ｂを順次に形成していく。ここ
で、各着色層は画素間領域において相互に重なるように
パターニングが行われ、複数（図示例では３つ）の着色
層が重なった重ね遮光層２１２ＢＭが形成される。

【０１０７】上記着色層の形成工程においては、感光性
樹脂としてレべリング性の高い素材を用い、これをスピ
ンコーティング法などの平坦性を得易い方法で塗布す
る。その結果、各着色層の表面は画素内においてほとん
ど平坦に形成される。このようにして形成された各着色
層においては、上記透光層２１４が部分的に形成されて
いることにより、各画素において透光層２１４の非形成
領域である、上記反射層２１１の開口部２１１ａに対応
した領域に厚肉部２１２ＴＨが設けられる。

【０１０８】このようにして形成されたカラーフィルタ
基板は、図示しない保護層２１２ｐが形成されることに
よって表面がほぼ平坦に形成される。その後、このカラ
ーフィルタ基板である基板２０１を用いて図１に示す液
晶表示パネル２００が形成される。

【０１０９】図１に示す液晶表示パネル２００の製造に
際しては、上記のように基板２０１上に形成されたカラ
ーフィルタ２１２の上に透明導電体をスパッタリング法
により被着し、公知のフォトリソグラフィ法によってパ
ターニングすることにより透明電極２１３を形成する。
その後、透明電極２１３の上にポリイミド樹脂などから
なる配向膜を形成し、ラビング処理などを施す。

【０１１０】次に、シール材２０３を介して上記の基板
２０１を基板２０２と貼り合わせ、パネル構造を構成す
る。このとき、基板２０２には、その表面上に既に透明
電極２２１や上記と同様の配向膜などが形成されてい
る。基板２０１と基板２０２とは、基板間に分散配置さ
れた図示しないスペーサやシール材２０３内に混入され
たスペーサ等によってほぼ既定の基板間隔となるように
貼り合わせられる。

【０１１１】その後、シール材２０３の図示しない開口
部から液晶２０４を注入し、シール材２０３の開口部を
紫外線硬化樹脂等の封止材によって閉鎖する。このよう
にして主要なパネル構造が完成された後に、上記の位相
差板２０５，２０７や偏光板２０６，２０８が基板２０
１，２０２の外面上に貼着などの方法によって取り付け
られる。

【０１１２】この実施形態においては、反射層２１１の
上に透光層２１４が形成されていることにより、製造工
程中の洗浄工程や現像工程などにおいて反射層を保護す
ることができるので、反射層の腐食や汚染を防止するこ
とができる。

【０１１３】次に、上記と同様の構造を製造するための
製造方法の変形例を、図２１を参照して説明する。この
製造方法においては、まず、上記反射層２１１を形成す
るための反射素材を基板２０１上に全面的に被着させ、
次に、その反射素材上に、透光層２１４を形成するため
の透光素材を全面的に被着させる。これによって、基板
２０１上に全面的に反射素材及び透光素材が積層された
状態となる。そして、この状態において、公知のフォト
リソグラフィ法等を用いて上層にある透光素材をエッチ
ング等で選択的に除去することによって上記透光層２１
４を形成し、次に、透光素材が除去されて露出した反射
素材の部分をエッチング等で除去することにより開口部
２１１ａを備えた反射層２１１を形成する。その後は、
上記と同様に着色層の塗布とパターニングとを各色毎に
繰り返して着色層を形成する。なお、反射素材のパター
ニング時においては、透光層２１４自体をマスクとして
エッチングを行ってもよい。

【０１１４】この方法によれば、反射層２１１と透光層
２１４のパターニングを共通のフォトリソグラフィ工程
によって形成したマスクを用いて行うことができるた
め、工程数を低減することができるという効果が得られ
る。

【０１１５】［第８実施形態］次に、図９を参照して、
本発明に係る第８実施形態であるカラーフィルタ基板の
製造方法について説明する。この実施形態においては、
まず、図９（ａ）に示すように、基板２０１の上に厚さ
０．５μｍ〜２．５μｍ程度の下地層２１４’を部分的
に形成する。この下地層２１４’には画素毎に開口部２
１４ａ’が形成された状態とされる。

【０１１６】次に、図９（ｂ）に示すように、この下地
層２１４’の上に厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎｍ程度の反射
層２１１’を形成する。この反射層２１１’には、上記
下地層２１４’の開口部２１４ａ’に対応して開口部２
１１ａ’が形成される。

【０１１７】その後、図９（ｃ）に示すように、基板２
０１及び反射層２１１の表面上に第６実施形態と同様の
厚さ０．５μｍ〜２．０μｍ程度の着色層２１２ｒ，２
１２ｇ，２１２ｂを形成する。このとき、重ね遮光部２
１２ＢＭや厚肉部２１２ＴＨも上記と同様に形成され
る。

【０１１８】上記下地層２１４’は、上記透光層と同様
の素材及び同様の方法で形成することができるが、透光
性を有する必要はなく、遮光性の素材を用いても構わな
い。

【０１１９】この実施形態によって形成されたカラーフ
ィルタ基板によって、上記第６実施形態とほぼ同様の液
晶表示パネルを構成することができる。この場合、図１
に示す液晶表示装置２００の透光層２１４の代りに、基
板２０１と反射層２１１との間に上記下地層を形成した
構造の液晶表示パネルを構成できる。同様に、図５に示
す上記第５実施形態の液晶表示装置６００の代りに、基
板６０１と反射層６１１との間に上記下地層を形成した
構造の液晶表示パネルを構成できる。

【０１２０】なお、本実施形態のカラーフィルタ基板を
用いて液晶表示パネルを形成する場合には、上記第７実
施形態と同様にして行う。

【０１２１】この実施形態においても、図２１を参照し
て説明した上記第７実施形態の変形例と同様のプロセス
で製造を行うことができる。すなわち、上記下地層２１
４’を形成するための第１段階として下地素材を基板２
０１上に全面的に被着させ、次に、その下地素材上に、
反射層２１１’を形成するための反射素材を全面的に被
着させる。これによって、基板２０１上に全面的に下地
素材及び反射素材が積層された状態となる。そして、こ
の状態において、公知のフォトリソグラフィ法等を用い
て上層にある反射素材をエッチング等で選択的に除去す
ることによって開口部２１１ａ’を備えた上記反射層２
１１’を形成し、次に、反射素材が除去されて露出した
下地素材の部分をエッチング等で除去することにより下
地層２１４’を形成する。その後は、上記と同様に着色
層の塗布とパターニングとを各色毎に繰り返して着色層
を形成する。なお、下地素材のパターニング時において
は、反射層２１１’自体をマスクとしてエッチングを行
ってもよい。

【０１２２】この方法によれば、下地層２１４’と反射
層２１１’のパターニングを共通のフォトリソグラフィ
工程によって形成したマスクを用いて行うことができる
ため、工程数を低減することができるという効果が得ら
れる。

【０１２３】［第９実施形態］次に、図１０を参照し
て、本発明に係る第９実施形態であるカラーフィルタ基
板の製造方法について説明する。この実施形態は、図２
に示す第２実施形態の液晶表示パネル３００に使用され
ている基板３０１に相当するカラーフィルタ基板を製造
する方法である。

【０１２４】この実施形態においては、まず、図１０
（ａ）に示すように、基板３０１に深さ０．５μｍ〜
２．５μｍ程度の凹部３０１ａを形成する。この凹部３
０１ａは、図示しないレジスト等からなるマスクを基板
３０１の表面に形成し、弗酸系のエッチング液を用いた
ウエットエッチングなどにより選択的に基板３０１をエ
ッチングすることによって形成することができる。

【０１２５】次に、図１０（ｂ）に示すように、基板３
０１の表面に厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎｍ程度の反射層３
１１を上記第６及び第７実施形態と同様に形成する。こ
の反射層３１１には、フォトリソグラフィ法などによっ
て上記凹部３０１ａの形成領域に開口部３１１ａが設け
られる。

【０１２６】その後、上記各実施形態と同様にして、反
射層３１１及び凹部３０１ａ上に厚さ０．５μｍ〜２．
０μｍ程度の着色層３１２ｒ，３１２ｇ，３１２ｂを順
次形成する。各着色層には、凹部３０１ａの直上部分に
おいて、その他の部分よりも厚く形成された厚肉部３１
２ＴＨが形成される。

【０１２７】なお、本実施形態のカラーフィルタ基板を
用いて液晶表示パネルを形成する場合には、上記第７実
施形態と同様にして行う。

【０１２８】［第１０実施形態］次に、図１１を参照し
て、本発明に係る第９実施形態であるカラーフィルタ基
板の製造方法について説明する。この実施形態は、ま
ず、図１１（ａ）に示すように、基板３０１に第８実施
形態と同様の深さ０．５μｍ〜２．５μｍ程度の凹部３
０１ａ’を形成し、次に、基板３０１上に厚さ５０ｎｍ
〜２５０ｎｍ程度の反射層３１１を形成する。反射層３
１１には、凹部３０１ａ’に対応する部分に開口部３１
１ａを形成する。

【０１２９】次に、図１１（ｂ）に示すように、反射層
３１１’の表面上に厚さ０．５μｍ〜２．５μｍ程度の
透光層３１４を形成する。この透光層３１４は、上記第
６実施形態や第７実施形態と同様の素材で同様の方法に
より形成される。透光層３１４には、上記凹部３０１
ａ’及び反射層３１１の開口部３１１ａに対応してそれ
らの直上位置に開口部３１４ａが設けられる。

【０１３０】その後、上記透光層３１４及び凹部３０１
ａ’の上に上記各実施形態と同様の厚さ０．５μｍ〜
２．０μｍ程度の着色層３１２ｒ，３１２ｇ，３１２ｂ
を順次形成していく。これらの着色層には、凹部３０１
ａ’、反射層３１１の開口部３１１ａ及び透光層３１４
の開口部３１４ａが形成されていることにより、その他
の部分よりも厚く形成された厚肉部３１２ＴＨが設けら
れる。

【０１３１】この実施形態においては、凹部３０１ａ’
を形成する工程と、透光層３１４を形成する工程の双方
を設ける必要があるが、凹部３０１ａ’の深さや透光層
３１４の厚さを、それぞれ小さくすることができる。換
言すれば、着色層の厚肉部３１２ＴＨの厚さを容易に厚
く形成することができる。また、透光層３１４によって
反射層３１１を保護することができるので、製造工程中
の洗浄工程や現像処理時において反射層の腐食や汚染を
防止することができるという効果も有する。

【０１３２】なお、本実施形態のカラーフィルタ基板を
用いて液晶表示パネルを形成する場合には、上記第７実
施形態と同様にして行う。

【０１３３】［第１１実施形態］次に、図１２を参照し
て、本発明に係る第１１実施形態のカラーフィルタ基板
の製造方法について説明する。この実施形態において
は、基板３０１の表面に第８実施形態と同様の深さ０．
５〜２．５μｍ程度の凹部３０１ａ’を形成し、この凹
部３０１ａ’を除く領域に第７実施形態と同様の厚さ
０．５〜２．５μｍ程度の下地層３１４’を形成する。
その後、下地層３１４’の上に厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎ
ｍ程度の反射層３１１’を形成する。

【０１３４】この実施形態においては、凹部３０１ａ’
の直上に下地層３１４’の開口部３１４ａ’が設けら
れ、さらにその上に反射層３１１’の開口部３１１ａ’
が形成されている。そして、これらの上に、上記第９実
施形態と同様の厚さ０．５μｍ〜２．０μｍ程度の着色
層３１２ｒ、３１２ｇ、３１２ｂが形成される。これら
の着色層には、上記凹部３０１ａ’、開口部３１４ａ’
及び開口部３１１ａ’によって、その他の部分よりも厚
く形成された厚肉部３１２ＴＨが設けられる。

【０１３５】なお、本実施形態のカラーフィルタ基板を
用いて液晶表示パネルを形成する場合には、上記第７実
施形態と同様にして行う。

【０１３６】［第１２実施形態］次に、図１３を参照し
て、本発明に係る第１２実施形態のカラーフィルタ基板
の製造方法について説明する。この実施形態は、上記第
３実施形態の液晶表示パネル４００を構成するカラーフ
ィルタ基板（基板４０１）の製造方法に関するものであ
る。

【０１３７】この実施形態においては、図１３（ａ）に
示すように、基板４０１の上に開口部４１１ａを備えた
厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎｍ程度の反射層４１１を形成
し、次に、その上に、所定の色相を呈する感光性樹脂４
１２ｓを塗布する。この状態で、図１３（ｂ）に示すよ
うに、半透過マスク４００Ｍを用いて感光性樹脂４１２
ｓを所定パターンにて露光することにより、図１３
（ｃ）に示すように着色層４１２ｒを形成する。

【０１３８】ここで、半透過マスク４１２には、その露
光パターンに応じて、照射光を実質的に遮断する遮光部
４００Ｍａと、照射光を実質的に透過させる透過部４０
０Ｍｂと、照射光の透過率が遮光部４００Ｍａと透過部
４００Ｍｂとの中間になるように設定された半透過部４
００Ｍｃとが設けられている。このような遮光部４００
Ｍａ、透過部４００Ｍｂ及び半透過部４００Ｍｃを備え
た露光量を制御可能なマスクは、ハーフトーンマスクや
位相差マスクで構成することができる。

【０１３９】上記の露光工程の後に現像処理を行うと、
図１３（ｃ）に示すように、例えば光硬化型の感光性樹
脂を用いた場合には、遮光部４００Ｍａ以外の領域、す
なわち透過部４００Ｍｂ及び半透過部４００Ｍｃに対応
する領域において着色層４１２ｒが残るように形成さ
れ、また、上記透過部４００Ｍｂに対応する領域におい
て厚肉部４１２ＴＨが設けられる。

【０１４０】上記と同様に、図１３（ｄ）に示すよう
に、他の着色層４１２ｇ，４１２ｂについても半透過マ
スクを用いることにより、それぞれ厚肉部４１２ＴＨを
備えた着色層４１２ｇ，４１２ｂを形成することができ
る。なお着色層４１２ｒ、４１２ｇ、４１２ｂはそれぞ
れ、反射層４１１上に０．５μｍ〜２．０μｍ程度の厚
さで形成され、また厚肉部４１２ＴＨは周囲の着色層よ
りも０．５μｍ〜２．０μｍ程度高くなるように形成さ
れている。

【０１４１】なお、本実施形態のカラーフィルタ基板を
用いて液晶表示パネルを形成する場合には、上記第７実
施形態と同様にして行う。

【０１４２】本実施形態においては、感光性樹脂の感光
度合を変えることによって着色層の一部に厚肉部を設け
ているが、同様の構造を２層構造の着色層によって構成
することも可能である。すなわち、着色層の第１層を形
成した後に第２層を形成し、第１層と第２層とが部分的
に重なり合うように構成することによって厚肉部を設け
ることができる。この場合、第１層を通常の着色層と
し、第２層を厚肉部の部分のみに限定して形成してもよ
く、逆に、第１層を厚肉部の部分のみに限定して形成
し、この上に第２層を形成してもよい。

【０１４３】［第１３実施形態］次に、図１４を参照し
て、本発明に係る第１３実施形態のカラーフィルタ基板
の製造方法について説明する。この実施形態において
は、まず、図１４（ａ）に示すように、基板４０１の表
面上に深さ０．５μｍ〜２．５μｍ程度の凹部４０１ａ
を形成し、その後、凹部４０１ａを避けて厚さ５０ｎｍ
〜２５０ｎｍ程度の反射層４１１’を形成する。このと
き、凹部４０１ａ上に反射層４１１’の開口部４１１
ａ’が配置されることになる。

【０１４４】次に、図１４（ｂ）に示すように、基板４
０１及び反射層４１１’上に所定の色相を呈する感光性
樹脂４１２ｓを塗布し、上記第１２実施形態と同様の半
透過マスク４００Ｍを用いて露光する。そして、現像処
理を行うことにより、図１４（ｃ）に示すように着色層
４１２ｒを形成する。そして、図１４（ｄ）に示すよう
に、着色層４１２ｒと同様にして他の色相の着色層４１
２ｇ，４１２ｂについてもそれぞれ形成する。各着色層
にはそれぞれ凹部４０１ａの直上領域に厚肉部４１２Ｔ
Ｈが設けられる。なお着色層４１２ｒ、４１２ｇ、４１
２ｂはそれぞれ、反射層４１１上に０．５μｍ〜２．０
μｍ程度の厚さで形成され、また厚肉部４１２ＴＨは周
囲の着色層よりも０．５μｍ〜２．０μｍ程度高くなる
ように形成されている。

【０１４５】この実施形態では、凹部４０１ａを形成す
ることによって、厚肉部４１２ＴＨの厚さを確保しつ
つ、各着色層の表面からの厚肉部４１２ＴＨの突出量を
低減することができる。

【０１４６】なお、本実施形態のカラーフィルタ基板を
用いて液晶表示パネルを形成する場合には、上記第７実
施形態と同様にして行う。

【０１４７】［第１４実施形態］次に、図１５を参照し
て、本発明に係る第１４実施形態のカラーフィルタ基板
の製造方法について説明する。この実施形態において
は、まず、図１５（ａ）に示すように、基板４０１上に
厚さ０．５μｍ〜２．５μｍ程度の下地層４１４を形成
する。この下地層４１４には開口部４１４ａが設けられ
る。次に、下地層４１４の上に厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎ
ｍ程度の反射層４１１’を形成する。この反射層４１
１’には、上記下地層４１４の開口部４１４ａの直上に
開口部４１１ａ’が設けられる。

【０１４８】次に、図１５（ｂ）に示すように、基板４
０１及び反射層４１１’上に感光性樹脂４１２ｓを塗布
し、その後、上記第１２実施形態と同様の半透過マスク
４００Ｍを用いて露光する。そして、現像処理を行うこ
とにより、図１５（ｃ）に示す着色層４１２ｒを形成す
る。また、同様にして、図１５（ｄ）に示すように着色
層４１２ｇ，４１２ｂも形成する。このとき、着色層に
おける下地層４１４の開口部４１４ａ及び反射層４１
１’の開口部４１１ａ’の直上部分には厚肉部４１２Ｔ
Ｈが形成される。なお着色層４１２ｒ、４１２ｇ、４１
２ｂはそれぞれ、反射層４１１上に０．５μｍ〜２．０
μｍ程度の厚さで形成され、また厚肉部４１２ＴＨは周
囲の着色層よりも０．５μｍ〜２．０μｍ程度高くなる
ように形成されている。

【０１４９】このように形成されたカラーフィルタ基板
においては、下地層４１４の厚さ分だけ、開口部４１４
ａ内にある部分以外の着色層の底面がかさ上げされてい
るので、厚肉部４１２ＴＨの厚さを確保しつつ、厚肉部
４１２ＴＨの突出量を低減できる。

【０１５０】なお、本実施形態のカラーフィルタ基板を
用いて液晶表示パネルを形成する場合には、上記第７実
施形態と同様にして行う。

【０１５１】［第１５実施形態］次に、図１６を参照し
て、本発明に係る第１５実施形態のカラーフィルタ基板
の製造方法について説明する。この実施形態において
は、まず、図１６（ａ）に示すように、基板４０１の上
に開口部４１１ａを備えた厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎｍ程
度の反射層４１１を形成し、この反射層４１１の上に厚
さ０．５μｍ〜２．５μｍ程度の透光層４１４’を形成
する。ここで、透光層４１４’は、反射層４１１の開口
部４１１ａ上に開口部４１４ａ’を備えている。

【０１５２】次に、図１６（ｂ）に示すように、所定の
色相を呈する感光性樹脂４１２ｓを塗布し、その後、第
１２実施形態と同様の半透過マスク４００Ｍを用いて感
光性樹脂４１２ｓを露光する。そして、現像処理を行う
ことによって、図１６（ｃ）に示す着色層４１２ｒを形
成する。ここで、反射層４１１の開口部４１１ａ及び透
光層４１４’の開口部４１４ａ’に重なる領域には、厚
肉部４１２ＴＨが形成される。最後に、図１６（ｄ）に
示すように、他の色相を呈する着色層４１２ｇ，４１２
ｂを順次上記と同様にして形成する。なお着色層４１２
ｒ、４１２ｇ、４１２ｂはそれぞれ、透光層４１４’上
に０．５μｍ〜２．０μｍ程度の厚さで形成され、また
厚肉部４１２ＴＨは周囲の着色層よりも０．５μｍ〜
２．０μｍ程度高くなるように形成されている。

【０１５３】なお、本実施形態のカラーフィルタ基板を
用いて液晶表示パネルを形成する場合には、上記第７実
施形態と同様にして行う。

【０１５４】［第１６実施形態］次に、図１７を参照し
て、本発明に係る第１６実施形態のカラーフィルタの製
造方法について説明する。この実施形態は、図５に示す
第６実施形態の液晶表示パネル６００に用いるカラーフ
ィルタ基板（基板６０１）を製造する方法を示すもので
ある。

【０１５５】まず、図１７（ａ）に示すように、基板６
０１の表面上に開口部６１１ａを備えた厚さ５０ｎｍ〜
２５０ｎｍ程度の反射層６１１を形成し、その後、反射
層６１１の上に厚さ０．５μｍ〜２．５μｍ程度の透光
層６１４を形成する。透光層６１４には、反射層６１１
の開口部６１１ａ上に開口部６１４ａが設けられる。

【０１５６】次に、図１７（ｂ）に示すように、基板６
０１及び透光層６１４の上に厚さ０．５μｍ〜２．５μ
ｍ程度の黒色遮光層６１２ＢＭを形成する。より具体的
には、図１７（ａ）に示すように黒色の感光性樹脂６１
２ｓを塗布し、これを所定パターンで露光し、現像処理
によりパターニングする。

【０１５７】次に、図１７（ｃ）に示すように着色層６
１２ｒを上記第１２実施形態と同様の工程（半透過マス
クを用いた露光・現像工程）により形成し、さらに、他
の色相を呈する着色層６１２ｇ，６１２ｂも同様に図１
７（ｄ）に示すように形成する。このようにして形成さ
れた着色層には、上記透光層６１４が部分的に形成され
ていることによって、上記反射層６１１の開口部６１１
ａの直上に厚肉部６１２ＴＨが設けられている。

【０１５８】この実施形態では、反射層６１１の上に透
光層６１４が形成され、この透光層６１４の上に黒色遮
光層６１２ＢＭが形成される。ところで、従来、金属か
らなる反射層上に直接黒色遮光層６１２ＢＭを形成する
と、黒色樹脂のパターニング時において黒色樹脂を除去
するべき領域に黒色樹脂の残渣が付着し、この残渣がカ
ラーフィルタの明るさを低下させるという問題点が知ら
れている。しかしながら、本実施形態においては、反射
層６１１を覆う透光層６１４上に黒色遮光層６１２ＢＭ
が形成されるので、黒色樹脂の残渣が生じ難くなり、良
質な明るいカラーフィルタ６１２を形成することができ
る。

【０１５９】なお、本実施形態のカラーフィルタ基板を
用いて液晶表示パネルを形成する場合には、上記第７実
施形態と同様にして行う。

【０１６０】本実施形態では、先に説明した各実施形態
の重ね遮光層の代りに黒色遮光層を形成しているので、
カラーフィルタの厚さを低減し、カラーフィルタの表面
の平坦性を向上させることができるように構成されてい
る。この黒色遮光層は、上記第１実施形態乃至第４実施
形態及び第６実施形態乃至第１５実施形態において重ね
遮光層の代りにそれぞれ用いることができる。

【０１６１】［その他の構成例］

【０１６２】最後に、以上説明した各実施形態において
用いることのできるその他の構成例について図１８を参
照して説明する。

【０１６３】図１８（ａ）に記載された構成例において
は、基板８０１の表面上に深さ０．５μｍ〜２．５μｍ
程度の凹部８０１ａが形成されるとともに、凹部８０１
ａ以外の表面上に微細な凹凸８０１ｂが形成され、この
微細な凹凸８０１ｂの上に厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎｍ程
度の反射層８１１が形成されている。この反射層８１１
には、上記凹部８０１ａ上の領域に開口部８１１ａが設
けられている。この反射層８１１は凹凸８０１ｂ上に形
成されていることにより全体的に微細な凹凸状に形成さ
れる。このため、反射層８１１によって反射された反射
光は適度に散乱されるので、液晶表示パネルを構成した
場合に、反射型表示において、照明光や太陽光などに幻
惑されたり、表示面の背景が映りこんだりすることを防
止することができる。

【０１６４】ここで、上記の凹凸８０１ｂは、弗酸系な
どのエッチング液の組成を予め選定し、このエッチング
液を用いてエッチングすることによって光散乱に適した
表面粗さに形成することができる。また、フォトリソグ
ラフィ法を用いてマスクを形成し、このマスクを介して
エッチングを施すことによっても形成できる。

【０１６５】この構成例においては、凹部８０１ａ及び
反射層８１１上にカラーフィルタの着色層８１２が形成
されるので、着色層８１２の表面をほぼ平坦に形成した
場合でも凹部８０１の形成部位において厚肉部を設ける
ことができる。

【０１６６】この構成例は、上記各実施形態のうち、基
板表面に凹部を形成し、基板表面上に直接反射層を形成
するものにそのまま適用することができる。また、凹部
を形成しない実施形態であっても、上記凹凸８０１ｂ及
びその上の反射層８１１の構造のみを適用することは可
能である。

【０１６７】図１８（ｂ）に示す構成例においては、基
板９０１の上に開口部９１１ａを備えた厚さ５０ｎｍ〜
２５０ｎｍ程度の反射層９１１が形成され、この反射層
９１１の上に厚さ０．５μｍ〜２．５μｍ程度の透光層
９１４が形成されている。透光層９１４の開口部９１４
ａは反射層９１１の開口部９１１ａに対応してその上に
形成されている。そして、透光層９１４の上にはカラー
フィルタの着色層９１２が０．５μｍ〜２．０μｍ程度
の厚さで形成される。この着色層９１２には、上記透光
層９１４の開口部９１４ａ及び反射層９１１の開口部９
１１ａに対応する領域に厚肉部が設けられる。

【０１６８】この構成例では、透光層９１４の内部に、
透光層９１４の素材とは光屈折率の異なる微小な粒体が
分散配置されている。このため、反射層９１１に向かう
光及び反射層９１１で反射された光はいずれも透光層９
１４にて散乱されるので、上記構成例と同様に反射型表
示における幻惑や映り込みを低減することができる。な
お、この構成例は上記各実施形態のうち反射層上に透光
層を備えた全ての実施形態に適用することができる。

【０１６９】図１８（ｃ）に示す構成例においては、基
板１００１の上に開口部１０１１ａを備えた厚さ５０ｎ
ｍ〜２５０ｎｍ程度の反射層１０１１が形成され、この
反射層１０１１の上に厚さ０．５μｍ〜２．５μｍ程度
の透光層１０１４が形成されている。透光層１０１４の
開口部１０１４ａは反射層１０１１の開口部１０１１ａ
に対応してその上に形成されている。そして、透光層１
０１４の上にはカラーフィルタの着色層１０１２が０．
５μｍ〜２．０μｍ程度の厚さで形成される。この着色
層１０１２には、上記透光層１０１４の開口部１０１４
ａ及び反射層１０１１の開口部１０１１ａに対応する領
域に厚肉部が設けられる。

【０１７０】この構成例では、透光層１０１４の表面に
微細な凹凸１０１４ｂが形成され、この凹凸１０１４ｂ
によって反射層１０１１へ向かう光及び反射層１０１１
で反射された光の双方が散乱されるように構成されてい
る。したがって、この構成例においても同様に反射型表
示における幻惑や映り込みを低減できる。上記凹凸１０
１４ｂは、図１８（ａ）の構成例の上記説明部分に記載
したエッチング法の他に、基板上に配置した素材を所定
周期でパターニングして周期構造を形成した後に加熱し
て軟化させ、適度な流動性を付与して凹凸形状を作りこ
む方法などがある。なお、この構成例は上記各実施形態
のうち反射層上に透光層を備えた全ての実施形態に適用
することができる。

【０１７１】図１８（ｄ）に示す構成例においては、基
板１１０１の上に開口部１１１４ａを備えた厚さ０．５
μｍ〜２．５μｍ程度の下地層１１１４を形成し、この
下地層１１１４の表面に微細な凹凸１１１４ｂを形成し
て、その上に厚さ５０ｎｍ〜２５０ｎｍ程度の反射層１
１１１を形成してある。反射層１１１１には下地層１１
１４ａの直上に開口部１１１１ａが設けられている。こ
こで、下地層１１１４の凹凸１１１４ｂは、図１８
（ｃ）に示す透光層に対する凹凸形成法と同様の方法で
形成することができる。反射層１１１１上にはカラーフ
ィルタの着色層１１１２が０．５μｍ〜２．０μｍ程度
の厚さで形成され、この着色層１１１２には、下地層１
１１４の開口部１１１４ａ及び反射層１１１１の開口部
１１１１ａに対応する領域に厚肉部が設けられる。

【０１７２】この構成例では、下地層１１１４の凹凸１
１１４ｂ上に反射層１１１１が形成されていることによ
り反射面が微細な凹凸状に形成され、それによって上記
と同様に幻惑や映り込みなどを低減できる。なお、この
構成例は、下地層上に反射層が形成されている全ての実
施形態に適用することができる。

【０１７３】［電子機器］最後に、上記各実施形態の電
気光学装置（液晶表示パネル）を備えた電子機器の具体
例について説明する。図２２は、電子機器の一例として
携帯電話２０００の外観を示す概略斜視図である。携帯
電話２０００には、ケーシング２００１の表面上に操作
スイッチを備えた操作部２００２が設けられ、また、マ
イクロフォン等の検出器を含む音声検出部２００３と、
スピーカ等の発音器を含む音声発生部２００４とが設け
られている。ケーシング２００１の一部には表示部２０
０５が設けられ、この表示部２００５を通して、内部に
配置された上記各実施形態の電気光学装置の表示画面を
視認できるように構成されている。この電気光学装置に
対しては、ケーシング２００１の内部に設けられた制御
部から表示信号が送られ、この表示信号に応じた表示画
像が表示される。

【０１７４】図２３は、電子機器の一例として腕時計３
０００の外観を示す概略斜視図である。この腕時計３０
００は、時計本体３００１と、時計バンド３００２とを
有する。時計本体３００１には、外部操作部材３００
３，３００４が設けられている。また、時計本体３００
１の前面には表示部３００５が設けられ、この表示部３
００５を通して、内部に配置された上記各実施形態の電
気光学装置の表示画面を視認できるように構成されてい
る。この電気光学装置に対しては、時計本体３００１の
内部に設けられた制御部（時計回路）から表示信号が送
られ、この表示信号に応じた表示画像が表示される。

【０１７５】図２４は、電子機器の一例としてコンピュ
ータ装置４０００の外観を示す概略斜視図である。この
コンピュータ装置４０００は、本体部４００１の内部に
ＭＰＵ（マイクロプロセッサユニット）が構成され、本
体部４００１の外面上に操作部４００２が設けられてい
る。また、表示部４００３が設けられ、この表示部４０
０３の内部には上記各実施形態の電気光学装置が収容さ
れている。そして、表示部４００３を通して、電気光学
装置の表示画面を視認できるように構成されている。こ
の電気光学装置は本体部４００１の内部に設けられたＭ
ＰＵから表示信号を受け取り、表示信号に応じた表示画
像を表示するように構成されている。

【０１７６】尚、本発明のカラーフィルタ基板及び電気
光学装置、カラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学
装置の製造方法、並びに、電子機器は、上述の図示例に
のみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しな
い範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であ
る。

【０１７７】例えば、以上説明した各実施形態において
は、いずれもパッシブマトリクス型の液晶表示パネルを
例示してきたが、本発明の電気光学装置としては、アク
ティブマトリクス型の液晶表示パネル（例えば、ＴＦＴ
（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をス
イッチング素子として備えた液晶表示パネル）にも同様
に適用することが可能である。また、液晶表示パネルだ
けでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレク
トロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置な
どのように、複数の画素毎に表示状態を制御可能な各種
の電気光学装置においても本発明を同様に適用すること
が可能である。

【０１７８】さらに、本発明のカラーフィルタ基板は、
上記電気光学装置に限らず、種々の表示装置、撮像装
置、その他の各種光学装置に用いることが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に係る第１実施形態の液晶表示パネル
の構造を模式的に示す概略断面図である。

【図２】 本発明に係る第２実施形態の液晶表示パネル
の構造を模式的に示す概略断面図である。

【図３】 本発明に係る第３実施形態の液晶表示パネル
の構造を模式的に示す概略断面図である。

【図４】 本発明に係る第４実施形態の液晶表示パネル
の構造を模式的に示す概略断面図である。

【図５】 本発明に係る第５実施形態の液晶表示パネル
の構造を模式的に示す概略断面図である。

【図６】 本発明に係る第６実施形態の液晶表示パネル
の構造を模式的に示す概略断面図である。

【図７】 第１実施形態のカラーフィルタ基板の平面構
造を模式的に示す概略平面図である。

【図８】 本発明に係る第７実施形態のカラーフィルタ
基板の製造方法を模式的に示す概略工程図（ａ）〜
（ｃ）である。

【図９】 本発明に係る第８実施形態のカラーフィルタ
基板の製造方法を模式的に示す概略工程図（ａ）〜
（ｃ）である。

【図１０】 本発明に係る第９実施形態のカラーフィル
タ基板の製造方法を模式的に示す概略工程図（ａ）〜
（ｃ）である。

【図１１】 本発明に係る第１０実施形態のカラーフィ
ルタ基板の製造方法を模式的に示す概略工程図（ａ）〜
（ｃ）である。

【図１２】 本発明に係る第１１実施形態のカラーフィ
ルタ基板の製造方法を模式的に示す概略工程図（ａ）〜
（ｃ）である。

【図１３】 本発明に係る第１２実施形態のカラーフィ
ルタ基板の製造方法を模式的に示す概略工程図（ａ）〜
（ｄ）である。

【図１４】 本発明に係る第１３実施形態のカラーフィ
ルタ基板の製造方法を模式的に示す概略工程図（ａ）〜
（ｄ）である。

【図１５】 本発明に係る第１４実施形態のカラーフィ
ルタ基板の製造方法を模式的に示す概略工程図（ａ）〜
（ｄ）である。

【図１６】 本発明に係る第１５実施形態のカラーフィ
ルタ基板の製造方法を模式的に示す概略工程図（ａ）〜
（ｄ）である。

【図１７】 本発明に係る第１６実施形態のカラーフィ
ルタ基板の製造方法を模式的に示す概略工程図（ａ）〜
（ｄ）である。

【図１８】 上記各実施形態に適用可能なその他の構成
例を模式的に示す概略部分断面図（ａ）〜（ｄ）であ
る。

【図１９】 従来構造の反射半透過型の液晶表示パネル
の構造を模式的に示す概略断面図である。

【図２０】 第１実施形態のカラーフィルタ基板の主要
部を拡大して示す拡大部分断面図である。

【図２１】 第７実施形態のカラーフィルタ基板の製造
方法の変形例のプロセス概要を示す概略フローチャート
である。

【図２２】 各実施形態の電気光学装置を備えた電子機
器の一例として携帯電話の外観を示す概略斜視図であ
る。

【図２３】 各実施形態の電気光学装置を備えた電子機
器の一例として時計（腕時計）の外観を示す概略斜視図
である。

【図２４】 各実施形態の電気光学装置を備えた電子機
器の一例としてコンピュータ（情報端末）の外観を示す
概略斜視図である。

【符号の説明】

２００ 液晶表示パネル、２０１，２０２ 基板、２０
３ シール材、２０４液晶、２０５，２０７ 位相差
板、２０６，２０８ 偏光板、２０９ バックライト、
２１１ 反射層、２１１ａ 開口部、２１２ カラーフ
ィルタ、２１２ｒ，２１２ｇ，２１２ｂ 着色層、２１
２ＢＭ 重ね遮光層、２１２ＴＨ 厚肉部、２１３，２
２１ 透明電極、２１４ 透光層、２１４’ 下地層、
Ｒ 反射経路、Ｔ 透過経路

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H042 BA03 BA15 BA20 2H048 BA02 BA45 BB02 BB08 BB10 BB12 BB42 2H091 FA02X FA02Z FA31X FA31Z FD21 FD23 FD24 GA01 LA16 LA30 MA10

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 カラーフィルタ基板において、 基板と、 前記基板に配置され、且つ実質的に光が透過可能な透過
   部を有する反射層と、 少なくとも前記反射層に平面的に重なるように配置さ
   れ、且つ厚肉部を有する着色層と、を備え、 前記反射層は、前記透過部周辺に、反射部を有し、 前記厚肉部は前記透過部に平面的に重なるように配置さ
   れ、 前記厚肉部の厚さは、前記着色層の前記反射部位置に対
   応する部分の厚さと前記反射部の厚さとの和よりも大き
   いことを特徴とするカラーフィルタ基板。
2. 【請求項２】 前記透過部は、前記反射層に設けられた
   開口部であり、前記開口部を除く前記反射層と前記着色
   層との間に実質的に光が透過できる透光層を備えた請求
   項１に記載のカラーフィルタ基板。
3. 【請求項３】 前記透光層は光を散乱させる散乱機能を
   有することを特徴とする請求項２に記載のカラーフィル
   タ基板。
4. 【請求項４】 前記透過部は、前記反射層に設けられた
   開口部であり、前記開口部を除く前記反射層と前記基板
   との間に下地層を備えた請求項１に記載のカラーフィル
   タ基板。
5. 【請求項５】 前記下地層の表面は凹凸を有し、前記反
   射層は光を散乱させる微細な凹凸を有することを特徴と
   する請求項４に記載のカラーフィルタ基板。
6. 【請求項６】 前記基板は凹部を有し、前記厚肉部は前
   記凹部に平面的に重なるように配置されていることを特
   徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板。
7. 【請求項７】 カラーフィルタ基板において、 基板と、 前記基板に配置され、且つ厚肉部を有する着色層と、を
   備え、 前記厚肉部は他の部分よりも厚さが厚いことを特徴とす
   るカラーフィルタ基板。
8. 【請求項８】 前記基板と前記厚肉部を除く前記着色層
   との間に実質的に光が透過できる透光層を備えた請求項
   ７に記載のカラーフィルタ基板。
9. 【請求項９】 前記基板は凹部を有し、前記厚肉部は前
   記凹部に平面的に重なるように配置されていることを特
   徴とする請求項７に記載のカラーフィルタ基板。
10. 【請求項１０】 電気光学装置において、 電気光学物質を含む電気光学層と、 前記電気光学層を支持する基板と、 前記基板に配置され、且つ実質的に光が透過可能な透過
    部を有する反射層と、 少なくとも前記反射層に平面的に重なるように配置さ
    れ、且つ厚肉部を有する着色層と、を備え、 前記反射層は、前記透過部周辺に、反射部を有し、 前記厚肉部は前記透過部に平面的に重なるように配置さ
    れ、 前記厚肉部の厚さは、前記着色層の前記反射部位置に対
    応する部分の厚さと前記反射部の厚さとの和よりも大き
    いことを特徴とする電気光学装置。
11. 【請求項１１】 電気光学装置において、 電気光学物質を含む電気光学層と、 前記電気光学層を支持する第１の基板と、 前記第１の基板に配置され、且つ実質的に光が透過可能
    な透過部を有する反射層と、 前記第１の基板に対向して配置された第２の基板と、 前記第２の基板に配置され、且つその他の部分よりも厚
    さの厚い厚肉部を有する着色層と、を備え、 前記厚肉部は前記透過部に平面的に重なるように配置さ
    れていることを特徴とする電気光学装置。
12. 【請求項１２】 電気光学装置において、 電気光学物質を含む電気光学層と、 前記電気光学層を支持する第１の基板と、 前記第１の基板に配置され、且つ実質的に光が透過可能
    な透過部を有する反射層と、 少なくとも前記反射層に平面的に重なるように配置され
    た第１着色層と、 前記第１の基板に対向して配置された第２の基板と、 前記第２の基板に配置された第２着色層と、を備え、 前記反射層は、前記透過部周辺に、反射部を有し、 前記第１着色層は、少なくとも前記透過部及び前記反射
    部に平面的に重なるように配置され、 前記第２の着色層は、少なくとも前記透過部に平面的に
    重なるように配置されていることを特徴とする電気光学
    装置。
13. 【請求項１３】 カラーフィルタの製造方法において、 基板上に絶縁層を部分的に形成する工程と、 前記絶縁層の形成領域上及び前記絶縁層の非形成領域上
    に着色層を形成する工程と、を備えることを特徴とする
    カラーフィルタ基板の製造方法。
14. 【請求項１４】 カラーフィルタの製造方法において、 前記基板上に着色材料を配置する工程と、 該着色材料の硬化度合を部分的に変えて硬化処理を施す
    工程と、 前記着色材料の未硬化部分を除去することにより、前記
    着色層の一部に他の部分よりも厚い厚肉部を形成する工
    程と、を備えることを特徴とするカラーフィルタ基板の
    製造方法。
15. 【請求項１５】 カラーフィルタの製造方法において、 前記基板上に着色材料を配置する工程と、 該着色材料の露光度合を部分的に変えて露光する工程
    と、 前記着色材料を現像することにより、前記着色層の一部
    に他の部分よりも厚い厚肉部を形成する工程と、を備え
    ることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
16. 【請求項１６】 請求項１３に記載のカラーフィルタの
    製造方法を工程として備えることを特徴とする電気光学
    装置の製造方法。
17. 【請求項１７】 請求項１０に記載の電気光学装置を備
    えることを特徴とする電子機器。