CN1189778C - 滤色片基板和电光装置 - Google Patents

Abstract

提供可以同时确保反射型显示的亮度和透过型显示的色度的滤色片基板和反射半透过型的电光装置。此外，还将减少反射型显示和透过型显示之间的色彩的差异。在基板201的上边形成具备开口部分211a的反射层211，然后部分地形成透光层214，在它们的上边形成具备着色层212r、212g、212b的滤色片212。在着色层上形成设置在透光层214的非形成区域上的厚层厚部分212TH。

Description

滤色片基板和电光装置

技术领域

本发明涉及滤色片基板和电光装置、滤色片基板的制造方法和电光装置的制造方法，特别是涉及在反射半透过型的电光装置中使用的情况下满意的滤色片的构造。

背景技术

人们以前就知道利用外光的反射型显示和利用背光等的照明光的透过型显示中的任何一者作为可视的反射半透过型的液晶显示面板。该反射半透过型的液晶显示面板的构成为使得在其面板内具有目的为反射外光的反射层，而且背光等的照明光可以透过该反射层。作为这种的反射层，有具有如下的图形反射层：该图形在液晶显示面板的每一个像素中都具备规定比率的开口部分(缝隙)。

图19的概略剖面图示出了现有的反射半透过型的液晶显示面板100的概略构造。该液晶显示面板100具备用密封剂103把基板101和基板102粘贴起来，向基板101和基板102之间封入液晶104的构造。

在基板101的内表面上边形成每一个像素都具备开口部分111a的反射层111，在该反射层111的上边形成有着色层112r、112g、112b和具备保护膜112p的滤色片112。在滤色片112的保护膜112p的表面上边，形成有透明电极113。

另一方面，在基板102的内表面上边，形成透明电极121，并构成为使得与相向的基板101上边的上述透明电极113进行交叉。另外，在基板101上边的透明电极113上边和在基板102上边的透明电极121的上边，根据需要适当地形成取向膜或硬质透明膜等。

此外，在上述基板102的外面上边，依次配置相位差板(1/4波长板)105和偏振光板106，在基板101的外面上边依次配置相位差板(1/4波长板)107和偏振光板108。

如以上那样地构成的液晶显示面板100，在被设置于移动电话、便携型信息终端等的电子设备中的情况下，要在在其背后配置上背光源109的状态下进行安装。在该液晶显示面板100中，由于在白天或在室内等的明亮的场所中外光在沿着反射路径R透过了液晶104之后被反射层111反射，故要再次透过液晶104后才能放射出来，因而为反射型显示而可视。另一方面，在夜间或在野外等的黑暗的场所中，由于要借助于使背光源109发光的办法，使背光源109的照明光中通过了开口部分111a的光沿着透过路径T通过液晶显示面板100后放射出来，故而为透过型显示而可视。

但是，在上述现有的反射半透过型的液晶显示面板100中，由于相对于在上述反射路径R中光要往返2次通过滤色片112，在上述透过路径T中光则仅仅通过滤色片112一次，故存在着对于反射型显示的色度来说透过型显示的色度恶化的问题。就是说，在反射型显示的情况下，一般地说，由于显示的亮度动辄不足，故需要把滤色片112的光透过率设定得高一些以确保显示的亮度，但是，这样的话，则在透过型显示中就不再能得到充分的色度。

此外，如上所述，在反射型显示和透过型显示中，由于光通过滤色片的次数不同，反射型显示的色彩和透过型显示的色彩大不相同，故也存在着会给人以不协调感的问题。

发明内容

于是，本发明就是为解决上述那些问题，其目的在于提供在使反射型显示和透过型显示这双方成为可能的显示装置中使用的情况下可以同时确保反射型显示的亮度和透过型显示的色度的滤色片基板。此外，还在于提供可以同时确保反射型显示的亮度和透过型显示的色度的反射半透过型的电光装置。再有，目的在于实现可以减小反射型显示和透过型显示之间的色彩的差异的显示技术。

为了解决上述课题，本发明的滤色片基板，其特征在于，具备：基板；配置在上述基板上，而且具有实质上光可以透过的透过部分的反射层；至少配置为平面地重叠到上述反射层上，而且，具有厚层厚部分的着色层，上述反射层在上述透过部分周围具有反射部分，上述厚层厚部分被配置为平面地重叠到上述透过部分上，上述厚层厚部分的厚度，比与上述着色层的上述反射部分位置对应的部分的厚度和上述反射部分的厚度之和还厚。

倘采用本发明，采用把与着色层的反射部分的位置对应的部分的厚度和反射部分的厚度之和还厚的厚度的厚层厚部分平面地重叠设置在反射层的透过部分上，就可以把通过反射层的透过部分的透过光的色度提高到比以往还高的色度。

在这里，反射层的透过部分，是实质上可以透过光的部分，既可以采用在反射层的一部分上设置开口部分构成透过部分，或者也可以采用把反射层的一部分形成得薄构成透过部分。

在这里，上述透过部分，是设置在上述反射层上的开口部分，理想的是在除去上述开口部分之外的上述反射层与上述着色层之间，具备实质上光可以透过的透光层。采用在反射层和着色层之间形成透光层的办法，就可以以在反射层的开口部分和透光层之间存在平面高度差那样构成，在该平面高度差上形成着色层，就可以容易地设置厚层厚部分。此外，得益于平面高度差的存在，即便是设置层厚部分也可以平坦地形成着色层的表面。

此外，上述透光层，理想的是具有使光进行漫反射的漫反射功能。这样一来，在通过滤色片基板来观看反射型显示的情况下，就可以减小因反射层的正反射而产生的因照明光或太阳光而致的晃眼和背景的映入等。

再有，上述透过部分，是设置在上述反射层上的开口部分，理想的是在除去上述开口部分之外的上述反射层和上述基板之间具备基底层。采用在反射层和基板之间形成基底层的办法，就可以构成为在反射层的开口部分和由基底层而加高的反射面之间存在平面高度差，那样得益于在该平面高度差上边形成着色层，就可以容易地设置厚层厚部分。

此外，得益于平面高度差的存在即便是设置厚层厚部分也可以平坦地形成着色层的表面。

此外，理想的是上述基底层的表面具有凹凸，上述反射层具有使光进行漫反射的微细的凹凸。这样的话，在通过滤色片基板观看反射型显示的情况下，就可以减小归因于反射层的正反射而产生的照明光或归因于太阳光产生的晃眼和背景的映入等

再有，理想的是上述基板具有凹部，把上述厚层厚部分配置为平面地重叠到上述凹部。采用把厚层厚部分形成为使得平面地重叠到基板的凹部的办法，就可以借助于由凹部产生的平面高度差容易地形成厚层厚部分。此外，归因于平面高度差的存在，即便是设置厚层厚部分，也可以平坦地形成着色层的表面。

其次，本发明的另外的滤色片基板，其特征在于，具备基板；和配置在上述基板上而且具有厚层厚部分的着色层，上述厚层厚部分比其它的部分厚。

倘采用本发明，采用在着色层上设置比其它的部分还厚的厚层厚部分，就可以把通过厚层厚部分的透过光的色度提高得比通过别的部分的透过光的色度还高。

在这里，理想的是在上述基板和除去上述厚层厚部分之外的着色层之间具备实质上可以透过光的透光层。由于采用在基板和除去厚层厚部分之外的着色层之间形成透光层的办法，就可以在基板与透光层之间形成平面高度差，故借助于该平面高度差就可以容易地形成厚层厚部分，此外，归因于平面高度差的存在，即便是形成了厚层厚部分，也可以平坦地形成着色层的表面。

此外，理想的是上述基板具有凹部，且把上述厚层厚部分配置在上述凹部上边。由于可以借助于凹部把平面高度差设置在基板的表面上，故可以用该平面高度差容易地形成厚层厚部分，此外，归因于平面高度差的存在，即便是形成了厚层厚部分，也可以平坦地形成着色层的表面。

其次，本发明的电光装置，其特征在于，具备：含有电光物质的电光层；支持上述电光层的基板；配置在上述基板上，且具有实质上可以透过光的透过部分的反射层；被配置为至少平面地重叠到上述反射层上，且具有厚层厚部分的着色层，上述反射层在上述透过部分周边具有反射部分，上述厚层厚部分被配置为平面地重叠到上述透过部分上，上述厚层厚部分的厚度，比与上述着色层的上述反射部分位置对应的部分的厚度和上述反射部分的厚度之和还厚。

倘采用本发明，采用在着色层上设置比与着色层的反射部分位置对应部分的厚度和反射部分的厚度之和还厚的厚层厚部分的办法，就可以把通过反射层的透过部分的透过光的色度提高得比以往还高。此外，还可以减少透过型显示与反射型显示之间的色度的差异。

在这里，理想的是在除去上述开口部分之外的上述反射层和上述着色层之间具备实质上可以透过光的透光层。归因于透光层的存在，就可以在反射层的透过部分和透光层之间形成平面高度差，就可以借助于该平面高度差容易地形成厚层厚部分。此外，得益于平面高度差的存在，即便是形成了厚层厚部分也可以平坦地构成着色层的表面。

在该情况下，理想的是上述透光层具有使光进行漫反射的功能。归因于此，由于反射光会因透光层而受到漫反射，故可以防止反射型显示中的背景的映入或因照明光引起的晃眼的产生。

此外，理想的是上述透过部分是开口部分，在除去上述开口部分之外的上述反射层和上述基板之间具备基底层。得益于基底层的存在，由于可以在开口部分和除去开口部分之外的反射层之间设置平面高度差，故可以借助于该平面高度差容易地形成厚层厚部分。此外，归因于平面高度差的存在，即便是形成了厚层厚部分，也可以平坦地构成着色层的表面。

在这里，理想的是上述基底层的表面具有凹凸，上述反射层具有使光进行漫反射的微细凹凸。采用在基底层的表面上设置凹凸，具有使光向其上边的反射层进行漫反射的微细的凹凸，由于凹凸反射光会受到漫反射，故可以减少反射型显示中的背景的映入或归因于照明光产生的晃眼。

此外，理想的是上述基板具有凹部，且把上述厚层厚部分配置在上述凹部上。通过把厚层厚部分配置在基板的凹部上，由于凹部而存在基板表面的平面高度差，故可以用该平面高度差容易地形成厚层厚部分，此外，归因于平面高度差的存在，即便是形成了厚层厚部分，也可以平坦地形成着色层的表面。

在上述的电光装置中，具备通过上述电光层与上述基板相向配置的对置基板。

此外，本发明的另外的电光装置，其特征在于，具备：含有电光物质的电光层；支持上述电光层的第1基板；配置在上述第1基板上，而且具有实质上可以透过光的透过部分的反射层；与上述第1基板相向地配置的第2基板；配置在上述第2基板上，而且具有比该其它部分还厚的厚层厚部分的着色层，上述厚层厚部分被配置为平面地重叠到上述透过部分上。

倘采用本发明，由于把配置在第2基板上的着色层厚层厚部分配置为使得重叠到配置在第1基板上的反射层上，结果就变成为通过透过部分的透过光透过厚层厚部分，故可以把透过光的色度提高到比以往还高。此外，还可以减少透过型显示和反射型显示之间的色度的差异。

在这里，理想的是在上述第2基板与除去上述厚层厚部分之外的上述着色层之间具备实质上可以透过光的透光层。归因于在第2基板与除去厚层厚部分之外的着色部分之间具有透光层，就可以在基板与透光层之间形成平面高度差，并借助于该平面高度差容易地构成厚层厚部分。此外，得益于该平面高度差的存在，即便是形成了厚层厚部分也可以平坦地构成着色层的表面。

此外，理想的是上述第2基板具有凹部，且把上述厚层厚部分配置在上述凹部上边。由于可以借助于厚层厚部分配置在第2基板所具有的凹部上边，故归因于存在着由凹部产生的平面高度差，可以容易地形成厚层厚部分，此外，归因于平面高度差的存在，即便是形成了厚层厚部分，也可以平坦地形成着色层的表面。

此外，本发明的再一个电光装置，其特征在于，具备：含有电光物质的电光层；支持上述电光层的第1基板；配置在上述第1基板上，且具有实质上可以透过光的透过部分的反射层；被配置为至少平面地重叠到上述反射层上的第1着色层；与上述第1基板相向地进行配置的第2基板；配置在上述第2基板上的第2着色层，上述反射层在上述透过部分周边具有反射部分，上述第1着色层被配置为至少平面地重叠到上述透过部分和上述反射部分上，上述第2着色层被配置为至少平面地重叠到上述透过部分上。

倘采用本发明，则得益于可以构成使得在平面地重叠到透过部分上的区域内，配置在第1基板上的第1着色层和配置在第2基板上的第2着色层的厚度的和，变得比其它的区域大，所以，可以把通过反射层的透过部分的透过光的色度提高得比以往还高。此外，还可以减少透过型显示与反射型显示之间的色度的差异。

再有，本发明的电光装置，其特征在于，具备：含有保持在第1基板和第2基板之间的电光物质的电光层；配置在上述第1基板上的第1着色层；配置在上述第1基板上边，而且，具有实质上可以透过光的透过部分的反射层；配置在上述第2基板上的第2着色层，上述第2着色层被限定配置在平面地与上述透过部分进行重叠的区域上。

倘采用本发明，归因于在第2基板中把第2着色层限定配置在平面地重叠到配置在第1基板上的反射层的透过部分上的区域上，结果就变成为通过反射层的开口部分的透过光，不仅透过第1着色层，还透过第2着色层，故可以把该透过光的色度提高到比以往还高的色度。此外，还可以减少透过型显示和反射型显示之间的色度的差异。

其次，本发明的滤色片基板的制造方法，其特征在于：具备在基板上边局部地形成绝缘层的工序，和在上述绝缘层的形成区域上边和上述绝缘层的非形成区域的上边形成着色层的工序。

更为具体地说，具有在基板上形成着色层的工序，和在上述基板上边局部地形成实质上可以透过光的透光层的工序，在形成上述着色层的工序中，在上述透光层的非形成区域上，形成比上述透光层上还厚的着色层。或者，具有在基板上形成着色层的工序，在上述基板上形成具有开口部分的反射层的工序，在除去上述开口部分之外的上述反射层上形成实质上可以透过光的透光层的工序，在形成上述着色层的工序中，在上述开口部分上，形成上述着色层的厚度比在上述开口部分周边的上述反射层上形成的上述着色层的厚度与上述反射层的厚度之和还厚的的上述厚层厚部分。再有，具有在基板上边形成具有厚层厚部分的着色层的工序，和在上述基板上边局部地形成基底层的工序，在上述基底层上边形成反射层的工序，在形成上述着色层的工序中，在上述基底层的非形成区域上边形成上述厚层厚部分。

此外，本发明的另外的滤色片的制造方法，其特征在于，具备如下的工序：把着色材料配置到上述基板上边的工序，和局部地改变该着色材料的硬化程度施行硬化处理的工序，和采用除去该着色材料的未硬化部分的办法，在上述着色层的一部分上形成比其它的部分还厚的厚层厚部分的工序。倘采用该手段，由于可以根据着色材料的硬化程度来形成厚层厚部分，故仅仅改变硬化处理的程度，就可以容易地设置厚层厚部分。

再有，本发明的再一个滤色片的制造方法，其特征在于，具备：在上述基板上边配置着色材料的工序，和部分改变该着色材料的曝光程度进行曝光的工序，和采用使该着色材料进行显影的办法，在上述着色层的一部分上形成比其它的部分厚的厚层厚部分的工序。

其次，本发明的电光装置的制造方法，其特征在于：作为工序具备上述的滤色片的制造方法。

此外，本发明的电子设备，其特征在于：具备上述电光装置。

在上述各个手段中，理想的是把上述基底层或透光层构成为使之与着色层中的厚层厚部分和除此之外的部分的厚度之差大体上相等的厚度。借助于此，在制造工序中，仅仅从基底层或透光层的上边涂敷着色材料的着色层，就可以形成具备上述厚层厚部分的着色层，同时还可以提高着色层的表面上边的平坦性。

在上述各个手段中，在作为全体着色层具有大体上均质的光学特性的情况下，在重视滤色片基板的平坦性时，上述厚层厚部分的厚度，理想的是对于着色层中其它的厚度来说大体上是2倍。此外，更为具体地说，理想的是在1.4倍到2.6倍的范围内。要想减小反射型显示和透过型显示之间的色彩的差异，特别理想的是在1.7倍到2.3倍的范围内。

此外，在重视光学特性的情况下，上述厚层厚部分的厚度，理想的是对于着色层的厚层厚部分以外的部分的厚度来说在2到6倍的范围内。在厚层厚部分的厚度不足2倍的情况下，若使透过区域的色表现最佳化，就难于充分地确保反射区域的亮度。而若使反射区域的亮度最佳化，则难于确保透过区域的色度。在厚层厚部分的厚度超过了6倍的情况下，若使透过区域的色表现最佳化，则难于确保反射区域的色度，若使反射区域的色表现最佳化则若不增大背光源的光量就难于确保透过区域的亮度，同时，也难于确保滤色片基板的平坦性。

再有，为了使滤色片的平坦性和光学特性两立，理想的是把厚层厚部分的厚度作成为1.0到3.0μm的范围内的值，把厚层厚部分以外部分的厚度作成为0.2到1.5μm的范围内的值。这样，就可以在减小起因于厚层厚部分的存在的滤色片的厚度的不均一性的同时，还可以提高反射区域和透过区域的色显示的品位。在本发明中，虽然采用使基底层或透光层形成为与着色层的厚层厚部分的厚度和除此之外的部分的厚度之差大体上相等的厚度，就可以如上所述使制造容易化以及提高平坦性，但是，在该情况下，也可以采用设置满足上述厚度条件的着色层，使得进一步减小滤色片的厚度不均一性成为可能，同时还可以提高滤色片的光学特性。

在上述各个手段中，滤色片基板或电光装置，理想的是具有多个排列起来的像素区域，对每一个上述像素区域都配置上述着色层，在每一个上述像素区域上都设置有上述厚层厚部分。此外，理想的是在每一个像素区域内在上述反射层上都具备透过部分。

此外，在滤色片的像素间区域，有要形成以呈现不同的色调的着色层重叠起来构成的重叠遮光层和黑色遮光层中的任何一方的情况。在形成黑色遮光层的情况下，是在反射层上边形成透光层，并在其上边形成着色层时，由于可以减少在反射层上边直接形成黑色遮光层时产生的残渣的发生，故可以提高滤色片的透过性，可以提高显示品位。

附图说明

图1的概略剖面图模式性地示出了本发明的实施方案1的液晶显示面板的构造。

图2的概略剖面图模式性地示出了本发明的实施方案2的液晶显示面板的构造。

图3的概略剖面图模式性地示出了本发明的实施方案3的液晶显示面板的构造。

图4的概略剖面图模式性地示出了本发明的实施方案4的液晶显示面板的构造。

图5的概略剖面图模式性地示出了本发明的实施方案5的液晶显示面板的构造。

图6的概略剖面图模式性地示出了本发明的实施方案6的液晶显示面板的构造。

图7的概略剖面图模式性地示出了实施方案1的滤色片基板的平面构造。

图8的概略工序图(a)～(c)模式性地示出了本发明的实施方案7的滤色片基板的制造方法。

图9的概略工序图(a)～(c)模式性地示出了本发明的实施方案8的滤色片基板的制造方法。

图10的概略工序图(a)～(c)模式性地示出了本发明的实施方案9的滤色片基板的制造方法。

图11的概略工序图(a)～(c)模式性地示出了本发明的实施方案10的滤色片基板的制造方法。

图12的概略工序图(a)～(c)模式性地示出了本发明的实施方案11的滤色片基板的制造方法。

图13的概略工序图(a)～(d)模式性地示出了本发明的实施方案12的滤色片基板的制造方法。

图14的概略工序图(a)～(d)模式性地示出了本发明的实施方案13的滤色片基板的制造方法。

图15的概略工序图(a)～(d)模式性地示出了本发明的实施方案14的滤色片基板的制造方法。

图16的概略工序图(a)～(d)模式性地示出了本发明的实施方案15的滤色片基板的制造方法。

图17的概略工序图(a)～(d)模式性地示出了本发明的实施方案16的滤色片基板的制造方法。

图18的概略局部剖面图(a)～(d)模式性地示出了在上述各实施方案中可以应用的其它的构成例。

图19的概略剖面图示出了现有构造的反射半透过型的液晶显示面板的构造。

图20的扩大局部剖面图示出了实施方案1的滤色片基板的主要部分。

图21的概略流程图示出了实施方案7的滤色片基板的制造方法的变形例的工序概要。

图22的概略斜视图作为具备各个实施方案的电光装置的电子设备的一个例子示出了移动电话的外观。

图23的概略斜视图作为具备各个实施方案的电光装置的电子设备的一个例子示出了钟表(手表)的外观。

图24的概略斜视图作为具备各个实施方案的电光装置的电子设备的一个例子示出了计算机(信息终端)的外观。

符号的说明：200为液晶显示面板，201、202为基板，203为密封材料，204为液晶，205、207为相位差板，206、208为偏振光板，209为背光源，211为反射层，211a为开口部分，212为滤色片，212r、212g、212b为着色层，212BM为重叠遮光层，212TH为厚层厚部分，213、221为透明电极，214为透光层，214′为基底层，R为反射路径，T为透过路径。

具体实施方式

其次，参看附图对本发明的滤色片基板和电光装置以及它们的制造方法的实施方案进行详细说明。

[实施方案1]

图1的概略剖面图模式性地示出了作为本发明的滤色片基板的实施方案1的基板201和使用该滤色片基板的电光装置的实施方案1的液晶显示面板200。

该液晶显示面板200的构成为：通过密封材料230把由玻璃或塑料等构成的基板201和基板202粘合在一起，向内部封入液晶204。基板202，在该基板202上形成的透明电极221，相位差板205、207，偏振光板206、208，与图19所示的上述现有例是完全同样的。

在本实施方案中，在基板201的内表面上，形成有具备作为实质上光可以透过的透过部分的开口部分211a的厚度50nm到250nm程度的反射层211。该反射层211可以用铝、铝合金、银合金等的薄膜形成。开口部分211a被形成为使得对每一个沿着基板201的内面纵横地排列设定成矩阵状的像素G，以该像素G的整个面积为基准具有规定的开口率(例如10-30％)。该开口部分211a，就如从上方看基板201的平面图的图7所示，虽然可以在像素G上每个一个地形成，但是也可在每一个像素上设置多个开口部分。

在反射层211的上边，使得避开上述开口部分211a那样地局部地形成厚度0.5μm到2.5μm程度的透光层214。该透光层214，可以用SiO2、TiO2等的无机物质或丙烯树脂、环氧树脂等的树脂等形成，是在可见光区域中具有透光性的透光层，特别是在对于可见光线为透明，例如在可见光区域中平均透过率为70％以上且波长分散小(例如透过率的变动在10％以下)的透光层，是理想的。

在上述透光层214的上边，例如在原色系的滤色片的情况下，由R(红)、G(绿)、B(蓝)3色构成的厚度0.5μm到2.5μm程度的着色层212r、212g、212b，以例如众所周知的条状排列、德尔他(三角)排列、斜向镶嵌(对角线)排列等的适宜的排列形态(在图7中示出了条状排列的滤色片)排列在每一个像素内。在这里，在像素G之间，形成使着色层212r、212g、212b彼此重叠起来呈现遮光性的重叠遮光部分212BM。在这里，在各个着色层212r、212g、212b中，除去重叠遮光部分212BM的部分之外，表面基本上可以大体上平坦地构成。

在上述着色层212r、212g、212b和重叠遮光部分212BM的上边，形成由透明树脂等构成的保护膜212p。该保护膜212p用来保护着色层免受工序中的药剂等的腐蚀或污染，同时，还用来使滤色片212的表面平坦化。

在滤色片212的上边，形成由ITO(铟锡氧化物)等的透明导体构成的透明电极213。该透明电极213，在本实施方案中，被形成为多个并列排列起来的条状。此外，该透明电极213，在对于在上述基板202上同样地被形成为条状的透明电极221进行正交的方向上延伸，使得含于透明电极213和透明电极221(在图7中，用点划线表示)的交叉区域内的液晶显示面板200的构成部分(反射层211、滤色片212、透明电极213、液晶204和透明电极221中在上述交叉区域内的部分)构成像素G。

在本实施方案中，归因于形成上述透光层214，在各个着色层212r、212g、212b中，被构成为使得着色层的一部分进入到未形成透光层214的非形成区域，就是说，与反射层211的开口部分211a平面地重叠的区域内，借助于此，就可以设置层厚比其它的部分厚的厚层厚部分212TH。

在该液晶显示面板200中，在进行反射型显示的情况下，因光沿着反射路径R通过而可被观看，在进行透过型显示的情况下，因光沿着透过路径T通过而可被观看。这时，在反射路径R中，滤色片212虽然起着与以往同样的作用，但是透过路径T，由于通过反射层211的开口部分211a，故成为透过光通过着色层212r、212g、212b的厚层厚部分212TH，其结果是透过型显示的色度比图19所示的现有构造的情况下提高得还多。

因此，在本实施方案中，采用在对于滤色片212中的反射层211的开口部分211a平面地重叠的位置上，形成厚层厚部分212TH，就可以提高透过型显示的色度而不会使反射型显示的亮度受到损失。特别是，还可以使透过型显示与反射型显示之间的色彩的差异比以往减少得还多。

此外，在本实施方案中，由于可以采用局部地形成透光层214，把厚层厚部分212TH设置到滤色片212上，因而可以平坦地形成滤色片212的着色层212r、212g、212b的表面(图中的上表面)，故可以提高液晶层厚度的均一性，可以提高液晶显示面板的显示品位。

在这里，在重视滤色片212的平坦性的情况下，就是说，在优先平坦地构成保护层212p的表面，或平坦地构成透明电极213的电极面的情况下，如果滤色片的着色层就光学特性来说已大体上均一地形成，则理想的是上述厚层厚部分212TH的厚度是与反射层211平面地重叠的部分，就是说，是其它的部分的厚度的大约2倍。说得更具体点，理想的是为1.4倍-2.6倍的范围内，希望为1.7倍-2.3倍的范围内。这样，既可以进一步减少反射型显示的色度和透过型显示的色度之间的差异，还可以进一步减少两显示间的色彩的差异。

另一方面，在重视滤色片212的光学特性的情况下，就是说，在透过型显示和反射型显示中的任何一方中，其显示形态都优先考虑使之具有良好的色再现性的情况下，厚层厚部分212TH的厚度，理想的是在该其它的部分的厚度的2-6倍的范围内。在厚层厚部分212TH的厚度不足2倍的情况下，若使透过区域的色表现最佳化，则难于充分地确保反射区域的亮度，如使反射区域的亮度最佳化，则难于确保透过区域的色度。在厚层厚部分212TH的厚度超过了6倍的情况下，若使透过区域的色表现最佳化则难于确保反射区域的色度，而若使反射区域的色表现最佳化则如果不增大背光源的光量就难于确保透过区域的亮度，所以在会招致背光源的功耗的增大的同时，还难于确保滤色片基板的平坦性。

然而，在实际上构成液晶显示装置的情况下，滤色片212的平坦性，通过对液晶层的厚度的均一性或再现性进行确保提高其显示品位方面是重要的，此外，滤色片212的光学特性，为了同时提高透过显示和反射显示中的彩色显示形态的品位，是重要的。本发明人等发现：为了同时满足滤色片212的平坦性和光学特性，把着色层212r、212g、212b的厚度限定在规定范围内是有效的。就是说，如图20所示，采用把着色层212r、212g、212b的厚层厚部分212TH的厚度(透过区域中的着色层的厚度过)Dt作成为1.0-3.0μm，把该其它的部分的厚度(反射区域中的着色层的厚度)Ds作成为0.2-1.5μm的范围内，就可以使滤色片212的平坦性和光学特性两立。若厚度Dt超过了上述范围，由于着色层的平面高度差变大，故确保平坦性就变得困难起来，若厚度Dt小于上述范围则难于维持透过显示的色度。此外，当厚度Ds超过了上述范围时，由于着色层的平面高度差变大，故难于确保平坦性，而当厚度Ds小于上述范围时，则难于维持反射显示的色度。另外，即便是在这样的着色层的厚度Dt、Ds的条件范围内，Dt与Ds之比，与上边所说的同样，也希望在2-6倍的范围内，这是理所当然的。

如图20所示，虽然采用在反射层211上边形成透光层214，来设定上述着色层的厚度Dt和Ds，但是在由此形成着色层212r、212g、212b的情况下，在其厚层厚部分212TH的上部表面上会发生凹陷212d1，这将成为产生保护层212p的表面的凹陷212d2的原因。通过把上述Dt、Ds设定在上述范围内，就可以减小凹陷212d1的深度ΔD1和凹陷212d2的深度ΔD2，得益于此，就可以提高液晶层的厚度的均一性和再现性。说得更具体点，理想的是把凹陷212d1的深度ΔD1作成为0.5μm以下，把凹陷212d2的深度ΔD2作成为0.2μm以下。特别是采用把凹陷212d2的深度ΔD2作成为0.1μm以下，就可以实现无显示不均匀等的高品位的液晶显示。

[实施方案2]

其次，图2的概略剖面图模式性地示出了本发明的实施方案2的滤色片基板301和使用该滤色片基板的实施方案2的液晶显示面板300。在本实施方案中，由于具备与上述实施方案1同样地构成的基板301、302，密封材料303，液晶304，透明电极313、321，相位差板305、307，偏振光板306、308，故省略对它们的说明。

在本实施方案中，在基板301的表面上，设置有在每一个与上述实施方案1同样地排列设定的像素G上设置的深度0.5-2.5μm程度的凹部301a。该凹部301a设置在与在基板301的表面上边形成的反射层311的开口部分311a平面地重叠的区域上。另外，该反射层311以50nm-250nm程度的厚度形成。然后，在基板301和反射层311的上边，形成具有厚度0.5-2.0μm程度的着色层312r、312g、312b、重叠遮光部分312BM和保护膜312p的滤色片312。

在本实施方案中，采用在基板301上设置凹部301a，向该凹部301a内也填充着色材料，在凹部301a上，在各个着色层312r、312g、312b上设置厚层厚部分312TH。由于该厚层厚部分312TH与反射层311的开口部分311a对应地形成，故结果就变成为通过透过路径T的背光源309的透过光要通过厚层厚部分312TH，其结果是，与实施方案1同样，可以提高透过型显示的色度，可以减少反射型显示和透过型显示的色彩的差异。

此外，在本实施方案中，由于通过局部地形成凹部301a在滤色片312上设置厚层厚部分312TH，可以平坦地形成滤色片312的着色层312r、312g、312b的表面(图中的上表面)，故可以提高液晶层的厚度的均一性，可以提高液晶显示面板的显示品位。

另外，在本实施方案中，与实施方案1同样，在重视滤色片312的光学特性的情况下，就是说，在透过显示和反射显示中的任何一者中其彩色显示形态也都优先考虑同时具有良好的色再现性的情况下，厚层厚部分312TH的厚度，理想的是在该其它的部分的厚度的2-6倍的范围内。

此外，通过把着色层312r、312g、312b的厚层厚部分312TH的厚度(透过区域中的着色层的厚度)Dt作成为1.0-3.0μm，把其它的部分的厚度(反射区域中的着色层的厚度)Ds作成为0.2-1.5μm的范围内，就可以使滤色片312的平坦性和光学特性两立。再有，即使在这样的着色层的厚度Dt、Ds的条件范围内，Dt与Ds之比，与上边所说的同样，理所当然的也希望在2-6倍的范围内。

采用在基板301上形成凹部301a设定上述着色层的厚度Dt、Ds，理想的是由此把在着色层的厚层厚部分312TH的上部表面上产生的凹陷深度作成为0.5μm以下，把在保护层312p的表面上产生的凹陷的深度作成为0.2μm以下。特别是通过把保护层312p的凹陷的深度作成为0.1μm以下，就可以实现无显示不均匀等的高品位的液晶显示。

[实施方案3]

其次，参看图3，对本发明的实施方案3的滤色片基板401和液晶显示面板400进行说明。在本实施方案中，由于也具备与上述实施方案1同样地构成的基板401、402，密封材料403，液晶404，透明电极413、421，相位差板405、407，偏振光板406、408，故省略对它们的说明。

在本实施方案中，在基板401上边形成具备开口部分411a的厚度50nm-250nm程度的反射层411，在其上边直接形成由厚度0.5-2.0μm程度的着色层412r、412g、412b，重叠遮光部分412BM和保护膜412p构成的滤色片412。在这里，着色层412r、412g、412b，不论哪一个，厚层厚部分412TH都设置在反射层411的开口部分411a的正上边部分(平面重叠的区域)上。该厚层厚部分412TH，可以采用把着色层412r、412g、412b中的上述开口部分411a的正上边部分的表面形成得比其它的部分高0.5到2.0μm程度的办法设置。

在本实施方案中，与上述各个实施方案同样，在可以提高透过显示的色度的同时，还可以减小透过显示与反射显示之间的色彩的差异。此外，在本实施方案中，虽然在着色层的表面上可以形成归因于厚层厚部分而产生的凹凸，但是，作为其回报，不再需要形成上述实施方案1的透光层或形成上述实施方案2的凹部。

另外，在本实施方案中，也和实施方案1同样，在重视滤色片412的光学特性的情况下，就是说，在透过型显示和反射型显示中的任何一方中，其色显示形态都优先考虑同时具有良好的色再现性的情况下，厚层厚部分412TH的厚度，理想的是在该其它的部分的厚度的2-6倍的范围内。

[实施方案4]

其次，参看图4，对本发明的实施方案4的滤色片基501和液晶显示面板500进行说明。在本实施方案中，由于也具备与上述实施方案1同样地构成的基板501、502，密封材料503，液晶504，透明电极513、521，相位差板505、507，偏振光板506、508，故省略对它们的说明。

在本实施方案中，与像上述实施方案1到3那样在具备反射层的基板上边形成滤色片的构成不同，在具备反射层511的基板501上不形成滤色片，而代之以在与基板501相向的基板502上形成滤色片522。

在基板501上边与上述各个实施方案同样，形成作为具备实质上光可以透过的透过部分的开口部分511a的厚度50nm-250nm程度的反射层511，在该反射层511上形成透明的绝缘膜512，在绝缘膜512上形成透明电极513。

另一方面，在基板502上，局部地形成厚度0.5μm-2.5μm程度的透光层524，在基板502和透光层524上边形成由厚度0.5μm-2.0μm程度的着色层522r、522g、522b，重叠遮光部分522BM和保护膜522p构成的滤色片522。

在该滤色片522中，在每一个像素G中都形成上述着色层，在其间形成重叠遮光部分522BM。此外，在各个着色层上分别与上述透光层524的非形成区域对应地设置有厚层厚部分522TH。构成为使得该厚层厚部分522TH位于与在基板501上边形成的反射层511的开口部分511a对应的区域，就是说位于与开口部分511a平面地重叠的区域上。

在本实施方案中，也是相对于通过反射路径R的外光二次通过滤色片522，通过透过路径T的背光源509的透过光仅仅通过滤色片522一次。这时，由于构成为使得相对于反射路径R通过各个着色层的厚层厚部分522TH以外的部分，透过路径T通过各个着色层的厚层厚部分522TH，故在可以把透过显示的色度提高得比以往还高的同时，还可以减小反射显示与透过显示之间的色彩的差异。

本实施方案的滤色片基板是基板502，与前边所说的实施方案不同，在该基板502上未形成反射层。就是说，本实施方案的滤色片基板是作为对于已形成了反射层的基板501相向的基板而形成的基板，在像这样地不具备反射层的滤色片基板中，也可以采用在设置在每一个像素中的着色层的一部分上设置厚层厚部分，来提高与反射半透过型的液晶显示面板的色彩有关的特性。

另外，在本实施方案中，因通过局部形成透光层524而在滤色片522上设置厚层厚部分522TH，能平坦地形成滤色片522的着色层522r、522g、522b的表面(图示上表面)，所以能提高液晶层厚度的均一性，能提高液晶显示面板的显示品位。

此外，在本实施方案中，虽然在与已形成了反射层511的基板501相向的基板502上形成了具有与上述实施方案1同样的构造的滤色片522，但是，作为该滤色片522的构造来说，既可以是与上述实施方案2同样在设置有凹部的基板上形成的构造，也可以是与上述实施方案3同样局部地把着色层的表面形成得高的构造。

另外，在本实施方案中，也与实施方案1同样，在重视滤色片522的光学特性的情况下，就是说，在优先考虑使透过显示和反射显示中的任何一方中其色显示形态都同时具有良好的色再现性的情况下，理想的是厚层厚部分522TH的厚度，在该其它的部分的厚度的2-6倍的范围内。

此外，使着色层522r、522g、522b的厚层厚部分522TH的厚度(透过区域中的着色层的厚度)Dt为1.0-3.0μm，该其它的部分的厚度(反射区域中的着色层的厚度)Ds为0.2-1.5μm的范围内，就可以使滤色片5 2 2的平坦性和光学特性两立。再有，即使在这样的着色层的厚度Dt、Ds的条件范围内，Dt与Ds之比，与上边所说的同样，理所当然的也希望在2-6的范围内。

此外，采用在基板502上形成透光层524设定上述着色层的厚度Dt和Ds，理想的是由此使在着色层的厚层厚部分522TH的上部表面上产生的凹陷深度为0.5μm以下，使在保护层522p的表面上产生的凹陷的深度为0.2μm以下。特别是通过使保护层522p的凹陷的深度为0.1μm以下，就可以实现无显示不均匀等的高品位的液晶显示。

[实施方案5]

其次，参看图5，对本发明的实施方案5的滤色片基板和电光装置进行说明。图5的概略剖面图模式性地示出了本实施方案的液晶显示面板600的构造。

该液晶显示面板600，由于具备与上述实施方案1同样地构成的基板601、602，密封材料603，液晶604，透明电极613、621，相位差板605、607，偏振光板606、608，故省略对它们的说明。

此外，与实施方案1同样，在基板601的表面上边，形成作为具备实质上光可以透过的透过部分的开口部分611a的厚度50nm-250nm程度的反射层611，再在该反射层611的上边形成厚度为0.5μm-2.5μm程度的透光层614，进而在该等上边形成滤色片612。

在本实施方案中，在滤色片612上形成黑色遮光层612BM来取代上述实施方案的重叠遮光层。该黑色遮光层612BM，可以使用黑色的树脂材料，例如，黑色的颜料分散到树脂中去的材料等。

在上述黑色遮光层612BM和上述透光层614的上边，依次形成厚度0.5-2.0μm程度的着色层612r、612g、612b，在其上边形成保护膜612p。把各个着色层形成为使得其周缘分别重叠到黑色遮光层612BM的上边。

在本实施方案中，虽然必须附加形成黑色遮光层612BM的工序，但是，比起使用重叠遮光层的情况来可以进一步减小滤色片的厚度，而且，还可以提高滤色片表面的平坦性。

另外，在本实施方案中，也与实施方案1同样，在重视滤色片612的光学特性的情况下，就是说，在优先考虑使透过显示和反射显示中的任何一方中其色显示形态也同时保持良好的色再现性的情况下，理想的是厚层厚部分612TH的厚度，是在该其它的部分的厚度的2-6倍的范围内。

此外，使着色层612r、612g、612b的厚层厚部分612TH的厚度(透过区域中的着色层的厚度)Dt为1.0-3.0μm，使该其它的部分的厚度(反射区域中的着色层的厚度)Ds为0.2-1.5μm的范围内，就可以使滤色片612的平坦性和光学特性两立。再有，即使在这样的着色层的厚度Dt、Ds的条件范围内，Dt与Ds之比，与上边所说的同样，理所当然的也希望在2-6倍的范围内。

此外，采用在基板601上形成透光层614设定上述着色层的厚度Dt、Ds，理想的是由此使在着色层的厚层厚部分612TH的上部表面上产生的凹陷深度为0.5μm以下，使在保护层612p的表面上产生的凹陷的深度为0.2μm以下。特别是使保护层612p的凹陷的深度为0.1μm以下，就可以实现无显示不均匀等的高品位的液晶显示。

[实施方案6]

其次，参照图6对本发明的实施方案6的液晶显示面板700进行说明。在本实施方案中，具备与上述图19所示的以往构造的液晶显示面板100同样的基板701和基板702，密封材料703，液晶704，相位差板705、707，偏振光板706、708，具备具有开口部分711a的厚度50nm-250nm程度的反射层711，和具有厚度0.5μm-2.0μm程度的着色层712r、712g、712b的滤色片712。

在本实施方案中，在基板702的内面上，形成与上述滤色片712的各个着色层同色的厚度为0.5μm-2.0μm程度的限定着色层722r、722g、722b，在其上形成透明电极721。

限定着色层722r、722g、722b，分别用限定于与在基板701上形成的反射层711的开口部分711a平面地重叠的范围内的图形形成。

其结果是，在本实施方案中，其构成为把基板701上的滤色片712的着色层712r、712g、712b的厚度，和基板702上的限定着色层722r、722g、722b的厚度合计起来的厚度，在与反射层711的开口部分711a平面地重叠的区域中变得比别的区域还厚。因此，在光学上将收到与形成了像上述各个实施方案那样地具备厚层厚部分的着色层的情况同样的效果。

[实施方案7]

其次，参看图8，作为本发明的实施方案7，对滤色片基板的制造方法进行说明。该滤色片基板的制造方法，是与在上述实施方案1的液晶显示面板200中使用的滤色片基板的制造有关的方法。

在基板201的表面上采用，最初，用蒸镀法或溅射法等使铝、铝合金、银合金、铬等的金属薄膜状地成膜，然后用众所周知的光刻法使之形成图形的办法，如图8(a)所示，形成具备开口部分211a的厚度50nm-250nm程度的反射层211。

其次，如图8(b)所示，在除去上述反射层211的开口部分211a的正上边的区域之外的部分上，形成厚度0.5μm-2.5μm程度的透光层214。该透光层214，例如，可以采用在基板201和反射层211的表面上在整个面上都形成了无机层或有机层之后，借助于光刻法等选择性除去位于开口部分211a的正上边区域的上边的部分的办法形成。作为透光层214的材料，可以使用SiO₂或TiO₂等的透明的无机物、或透明的丙烯树脂和环氧树脂等的有机树脂等。

然后，如图8(c)所示，采用涂敷使呈现规定的色调的颜料或染料等进行分散而构成的已着色的感光性树脂(感光性保护膜)，用规定的图形进行曝光、显影以进行图形化的办法，依次形成厚度0.5μm-2.0μm程度的着色层212r、212g、212b。在这里，要使得各个着色层在像素间区域中彼此重叠那样地进行图形化，形成多个(在图示例中是3个)着色层重叠起来的重叠遮光层212BM。

在上述着色层的形成工序中，作为感光性树脂使用平整性高的材料，用旋转涂敷法等易于得到平坦性的方法进行涂敷。结果是在像素内可以平坦地形成各个着色层的表面。在这样地形成的各个着色层中，可以采用局部地形成上述透光层214，在各像素中的透光层214的非形成区域的与上述反射层211的开口部分211a对应的区域内设置厚层厚部分212TH。

这样地形成的滤色片基板，得益于形成未图示的保护层212p，表面几乎可以平坦地形成。然后，用本身为该滤色片基板的基板201形成图1所示的液晶显示面板200。

在制造图1所示的液晶显示面板200时，如上所述，用溅射法向在上述基板201上形成的滤色片212的上边被覆透明导体，用众所周知的光刻法使之图形化以形成透明电极213。然后，在透明电极213上，形成由聚酰亚胺树脂等构成的取向膜，并施行摩擦处理等。

其次，通过密封材料203使上述基板201与基板202进行粘合，构成面板构造。这时，在基板202上，在其表面上已经形成了透明电极221或与上述同样的取向膜等。基板201和基板202，借助于分散配置在基板间的未图示的衬垫或已混入到密封材料203内的衬垫等，使得成为大体上既定的基板间隔那样地粘贴在一起。

然后，从密封材料203的未图示的开口部分注入液晶204，用紫外线硬化性树脂等的密封材料把密封材料203的开口部分闭锁起来。在像这样地完成了主要的面板构造后，用粘贴等的方法把上述相位差板205、207和偏振光板206、208安装到基板201、202的外表面上边。

在本实施方案中，得益于在反射层211上形成透光层214，由于可以在制造工序中的清洗工序或显影工序等中保护反射层，故可以防止反射层的腐蚀或污染。

其次，参看图21说明目的为制造与上述同样的构造的制造方法的变形例。在该制造方法中，首先，在基板201上在整个面上都被覆上用来形成上述反射层211的反射材料，其次，在该反射材料上边整个面地被覆用来形成透光层214的透光材料。借助于此，成为在基板201上边整个面地都层叠上反射材料和透光材料的状态。然后，在该状态下用众所周知的光刻法等用蚀刻等选择性地除去位于上层的透光材料的办法，形成上述透光层，其次，采用用蚀刻等除去因透光材料被除去而露出来的反射材料的部分的办法，形成具备开口部分211a的反射层211。然后，与上述同样，用对各色中的每一种颜色反复进行着色层的涂敷和图形化的办法形成着色层。另外，在反射材料的图形化时，也可以以透光层214本身为掩膜进行蚀刻。

倘采用本方法，由于可以使用以共同的光刻工序形成的掩膜进行反射层211和透光层214的图形化，故可以得到减少工序个数的效果。

[实施方案8]

其次，参看图9对本发明的实施方案8的滤色片基板的制造方法进行说明。在本实施方案中，首先，如图9(a)所示，在基板201的上边局部地形成厚度0.5μm-2.5μm程度的基底层214’。成为在该基底层214’上在每一个像素上都形成了开口部分214a’的状态。

其次，如图9(b)所示，在该基底层214’的上边形成厚度50nm-250nm程度的反射层211’。在该反射层211’上，与上述基底层214’的开口部分214a’对应地形成开口部分211a’。

然后，如图9(c)所示，在基板201和反射层211的表面上边，形成与实施方案6同样的厚度0.5μm-2.0μm程度的着色层212r、212g、212b。这时，重叠遮光部分212BM和厚层厚部分212TH也与上述同样地形成。

上述基底层214’虽然可以用与上述透光层同样的材料和同样的方法形成，但是，没有必要具有透光性，也可以使用遮光性的材料。

借助于用本实施方案形成的滤色片基板，就可以构成与上述实施方案6大体上同样的液晶显示面板。在该情况下，可以构成在基板201和反射层211之间形成了上述基底层来取代图1所示的液晶显示装置200的透光层214的构造的液晶显示面板。同样，可以构成在基板601和反射层611之间形成了上述基底层来取代图5所示的上述液晶显示装置600的构造的液晶显示面板。

另外，在用本实施方案的滤色片基板形成液晶显示面板的情况下，要与上述实施方案7同样地进行。

在本实施方案中，也可以用与参看图21说明的上述实施方案7的变形例同样的工序进行制造。就是说，作为用来形成上述基底层214’的第1阶段，使基底材料整个面地被覆在基板201上边，其次，在该基底材料上边，整个面地被覆用来形成反射层211’的反射材料。借助于此，成为在基板201上边整个面地叠层上基底材料和反射材料的状态。然后，采用在该状态下用众所周知的光刻法用蚀刻等选择性地除去位于上层的反射材料的办法，形成具有开口部分211a的上述反射层211’，其次，采用用蚀刻等除去因反射材料被除去而露出来的基底材料的部分的办法，形成基底层214。然后，与上述同样，用对各色中的每一种颜色反复进行着色层的涂敷和图形化形成着色层。另外，在基底材料的图形化时，也可以以反射层211本身为掩膜进行蚀刻。

倘采用该方法，由于基底层214’和反射层211’的图形化，可以用以共同的光刻工序形成的掩膜进行，故可以得到减少工序个数的效果。

[实施方案9]

其次，参看图10，对本身为本发明的实施方案9的滤色片基板的制造方法进行说明。该实施方案，是制造相当于在图2所示的实施方案2的液晶显示面板300中使用的基板301的滤色片基板的方法。

在本实施方案中，首先，如图10(a)所示，在基板301上，形成深度0.5μm-2.5μm程度的凹部301a。该凹部301a，可以采用在基板301的表面上形成由未图示的保护膜等构成的掩膜，借助于使用氟酸类的蚀刻液的湿法蚀刻等对基板301选择性地进行蚀刻的办法形成。

其次，如图10(b)所示，在基板301的表面上，与上述实施方案6和7同样地形成厚度50nm-250nm程度的反射层311。用光刻法等在该反射层311上，在上述凹部301a的形成区域内，设置开口部分311a。

然后，与上述各个实施方案同样地依次形成反射层311和在凹部301a上形成厚度0.5μm-2.0μm程度的着色层312r、312g、312b。在各个着色层上，在凹部301a的正上边部分内，形成比该其它部分形成得厚的厚层厚部分312TH。

另外，在用本实施方案的滤色片基板形成液晶显示面板的情况下，与上述实施方案7同样地进行。

[实施方案10]

其次，参看图11，对本身为本发明的实施方案10的滤色片基板的制造方法进行说明。本实施方案，首先，如图11(a)所示，在基板301上形成与实施方案8同样的深度0.5μm-2.5μm程度的凹部301a’，其次，在基板301上边形成厚度50nm-250nm程度的的反射层311。在反射层311上，在与凹部301a对应的部分上形成开口部分311a。

其次，如图11(b)所示，在反射层311的表面上边，形成厚度0.5μm-2.5μm程度的透光层314。该透光层314，可以用与上述实施方案6或7同样的材料同样的方法形成。在透光层314上，与上述凹部301a’和反射层311的开口部分311a对应地，在它们的正上边位置上设置开口部分314a。

然后，在上述透光层314和凹部301a’的上边，依次形成与上述各个实施方案同样的厚度的0.5μm-2.0μm程度的着色层312r、312g、312b。采用在这些着色层上形成凹部301a’、反射层311的开口部分311a和透光层314的开口部分314a的办法，设置比该其他的部分形成得更厚的厚层厚部分312TH。

在本实施方案中，虽然需要设置形成凹部301a’的工序和形成透光层314的工序这双方，但是，却可以分别把凹部301a’的深度和透光层314的厚度分别形成得小。换句话说，可以容易地把着色层的厚层厚部分312TH的厚度形成得厚。此外，由于可以用透光层314保护反射层311，故也具有在制造工序中的清洗工序或显影处理时可以防止反射层的腐蚀和污染的效果。

另外，在用本实施方案的的滤色片基板形成液晶显示面板的情况下，与上述实施方案7同样地进行。

[实施方案11]

其次，参看图12，对本发明的实施方案11的滤色片基板的制造方法进行说明。在本实施方案中，在基板301的表面上，形成与实施方案8同样的深度0.5μm-2.5μm程度的凹部301a’，在除去该凹部301a’之外的区域上形成与实施方案7同样的厚度0.5μm-2.5μm程度的基底层314’。然后，在基底层314’的上边，形成厚度50nm-250nm程度的反射层311’。

在本实施方案中，在凹部301a’的正上边设置基底层314’的开口部分314a’，再在其上边形成反射层311’的开口部分311a’。接着，在它们的上边，形成与上述实施方案9同样的厚度0.5μm-2.0μm程度的着色层312r、312g、312b。在这些着色层上，借助上述凹部301a’，开口部分314a’和开口部分311a’，设置比其它的部分形成得厚的厚层厚部分312TH。

另外，在用本实施方案的的滤色片基板形成液晶显示面板的情况下，与上述实施方案7同样地进行。

[实施方案12]

其次，参看图13，对本发明的实施方案12的滤色片基板的制造方法进行说明。本实施方案，是与构成上述实施方案3的液晶显示面板400的滤色片基板(基板401)的制造方法有关的方法。

在本实施方案中，如图13(a)所示，在基板401上边形成具备开口部分411a的厚度50nm-250nm程度的反射层411，其次，向其上边，涂敷呈现规定的色调的感光性树脂412s。在该状态下，如图13(b)所示，采用以半透过掩膜400M把感光性树脂412s曝光成规定的图形的办法，如图13(c)所示，形成着色层412r。

在这里，在半透过掩膜412上，与其曝光图形相对应地设定实质上遮断照射光的遮光部分400Ma，实质上使照射光透过的透过部分400Mb，和把照射光的透过率设定为使得成为遮光部分400Ma和透过部分400Mb中间的半透过部分400Mc。可以控制具备这样的遮光部分400Ma、透过部分400Mb和半透过部分400Mc的曝光量的掩膜，可以用半色调掩膜或相位差掩膜构成。

当在上述曝光工序后进行显影处理时，如图13(c)所示，例如，在使用硬化型的感光性树脂的情况下，要形成在遮光部分400Ma以外的区域，就是说在与透过部分400Mb和半透过部分400Mc对应的区域中剩下着色层412r，此外，在与上述透过部分400Mb对应的区域中，设置厚层厚部分412TH。

与上述同样，如图13(d)所示，采用对于其它的着色层412g、412b也使用半透过掩膜，就可以分别形成具备厚层厚部分412TH的着色层412g、412b。另外，着色层412r、412g、412b，分别在反射层411上边以0.5μm-2.0μm程度的厚度形成，此外，厚层厚部分412TH被形成为使得比周围的着色层高约0.5μm-2.0μm程度。

另外，在用本实施方案的的滤色片基板形成液晶显示面板的情况下，与上述实施方案7同样地进行。

在本实施方案中，虽然采用改变感光性树脂的感光程度的办法在着色层的一部分上设置厚层厚部分，但是，也可以用2层构造的着色层构成同样的构造。就是说，也可以采用在形成了着色层的第1层后形成第2层，并构成为使得第1层和第2层部分地彼此重叠的办法来设置厚层厚部分。在该情况下，也可以把第1层当作通常的着色层，仅仅把第2层限定并形成为厚层厚部分的部分，反之，也可以仅仅把第1层限定并形成为厚层厚部分的部分，再在其上边形成第2层。

[实施方案13]

其次，参看图14，对本发明的实施方案13的滤色片基板的制造方法进行说明。在本实施方案中，首先，如图14(a)所示，在基板401的表面上边，形成深度0.5μm-2.5μm程度的凹部401a，然后，避开凹部401a地形成厚度50nm-250nm程度的反射层411’。这时，结果就变成为在凹部401a上边配置反射层411’的开口部分411a’。

其次，如图14(b)所示，在基板401和反射层411’上边涂敷呈现规定的色调的感光性树脂412s，用与上述实施方案12同样的半透过掩膜400M进行曝光。接着，采用进行显影处理的办法，如图14(c)所示，形成着色层412r。然后，如图14(d)所示，对于其它的色调的着色层412g、412b，也和着色层412r同样地分别形成。在各个着色层上，在凹部401a的正上边区域内分别设置厚层厚部分412TH。另外，着色层412r、412g、412b，在反射层411上边分别以0.5μm-2.0μm程度的厚度形成，此外，厚层厚部分412TH被形成得比周围的着色层高约0.5μm-2.0μm程度。

在本实施方案中，得益于形成凹部401a，就可以在确保厚层厚部分412TH的厚度的同时，可以减小从各个着色层的表面算起的厚层厚部分412TH的突出量。

另外，在用本实施方案的的滤色片基板形成液晶显示面板的情况下，与上述实施方案7同样地进行。

[实施方案14]

其次，参看图15，对本发明的实施方案14的滤色片基板的制造方法进行说明。在本实施方案中，首先，如图15(a)所示，在基板401上边，形成厚度0.5μm-2.5μm程度的基底层414，在该基底层414上边，设置开口部分414a。其次，在基底层414的上边，形成厚度50nm-250nm程度的反射层411’。在该反射层411’上，在上述基底层414的开口部分414a的正上边，设置开口部分411a’。

其次，如图15(b)所示，向基板401和反射层411’上边涂敷感光性树脂412s，然后，用与上述实施方案12同样的半透过掩膜400M进行曝光。接着，采用进行显影处理的办法，形成图15(c)所示的着色层412r。此外，如图15(d)所示，同样地也形成着色层412g、412b。这时，就可以在着色层的基底层414的开口部分414a和反射层411’的开口部分411a’的正上边部分上形成厚层厚部分412TH。另外，着色层412r、412g、412b，在反射层411上边，分别以0.5μm-2.0μm程度的厚度形成，此外，厚层厚部分412TH被形成得比周围的着色层高约0.5μm-2.0μm程度。

在这样地形成的滤色片基板中，由于处于开口部分414a内的部分以外的着色层的底面仅仅加高了基底层414的厚度的量，故可以在确保厚层厚部分412TH的厚度的同时，减小厚层厚部分412TH的突出量。

另外，在用本实施方案的的滤色片基板形成液晶显示面板的情况下，与上述实施方案7同样地进行。

[实施方案15]

其次，参看图16，对本发明的实施方案15的滤色片基板的制造方法进行说明。在本实施方案中，首先，如图16(a)所示，在基板401上边，形成具备开口部分411a的厚度50nm-250nm程度的反射层411，在该反射层411的上边形成厚度0.5μm-2.5μm程度的透光层414’。在这里，透光层414’，在反射层411的开口部分411a上边具备开口部分414a’。

其次，如图16(b)所示，涂敷呈现规定色调的感光性树脂412s，然后，用与上述实施方案12同样的半透过掩膜400M使感光性树脂412s曝光。接着，采用进行显影处理的办法，形成图16(c)所示的着色层412r。在这里，在重叠到反射层411的开口部分411a和透光层414’的开口部分414a’上的区域内，形成厚层厚部分412TH。最后，如图16(d)所示，与上述同样地依次形成呈现其它色调的着色层412g、412b。另外，着色层412r、412g、412b，在透光层414’上边，分别以0.5μm-2.0μm程度的厚度形成，此外，厚层厚部分412TH被形成得比周围的着色层高约0.5μm-2.0μm程度。

另外，在用本实施方案的的滤色片基板形成液晶显示面板的情况下，与上述实施方案7同样地进行。

[实施方案16]

其次，参看图17，对本发明的实施方案16的滤色片基板的制造方法进行说明。本实施方案，示出了制造在图5所示的实施方案6的液晶显示面板600中使用的滤色片基板(基601)的方法。

首先，如图17(a)所示，在基板601的表面上边形成具备开口部分611a的厚度50nm-250nm程度的反射层611，然后，在反射层611的上边形成厚度0.5μm-2.5μm程度的透光层614。在透光层614的上边，在反射层611的开口部分611a上边设置开口部分614a。

其次，如图17(b)所示，在基板601和透光层614的上边，形成厚度0.5μm-2.5μm程度的黑色遮光层612BM。说得更具体点，如图17(a)所示，涂敷黑色的感光性树脂612t，用规定图形使之曝光，借助于显影处理进行图形化。

其次，如图17(c)所示，借助于与上述实施方案12同样的工序(使用半透过掩膜的曝光和显影工序)形成着色层612r，此外，与图17(d)所示，同样地形成呈现其它的色调的着色层612g、612b。在这样地形成的着色层上，采用局部地形成上述透光层614，就可以在上述反射层611的开口部分611a的正上边设置厚层厚部分612TH。

在本实施方案中，在反射层611的上边形成透光层614，在该透光层614的上边形成黑色遮光层612BM。然而，人们知道这样的问题：以往，当在由金属构成的反射层上边直接形成黑色遮光层612BM时，在黑色树脂的图形化时，黑色树脂的残渣会附着到那些应当除去黑色树脂的区域上，该残渣会使滤色片的亮度降低。但是，在本实施方案中，由于在把反射层611覆盖起来的透光层614上边形成黑色遮光层612BM，故难于产生黑色树脂的残渣，可以形成优质的明亮的滤色片612。

另外，在用本实施方案的的滤色片基板形成液晶显示面板的情况下，与上述实施方案7同样地进行。

在本实施方案中，由于形成黑色遮光层来取代先前说明的各个实施方案的重叠遮光层，故被构成为可以减小滤色片的厚度，可以提高滤色片的表面的平坦性。该黑色遮光层，在上述实施方案1-4和实施方案6-15中，可以分别用来取代重叠遮光层。

[其它的构成例]

最后，参看图18对可以在以上所说明的各个实施方案中使用的其它的构成例进行说明。

在图18(a)所示的构成例中，在基板801的表面上边，形成深度0.5μm-2.5μm程度的凹部801a，同时在凹部801a以外的表面上边形成微细的凹凸801b，在该微细的凹凸801b的上边形成厚度约50nm-250nm程度的反射层811。在该反射层811上，在上述凹部801a上边的区域上，设置开口部分811a。该反射层811，得益于在凹凸801b上边形成，故可以整体性地形成微细的凹凸状。为此，被反射层811反射的反射光由于会被适度地漫反射，故在构成液晶显示面板的情况下，在反射型显示中，就可以防止因照明光或太阳光等而产生晃眼或显示面的背景映入等的发生。

在这里，上述凹凸801b可以采用预先选定氟酸类等的蚀刻液的组成，可用该蚀刻液进行蚀刻形成适合于光漫反射的表面粗糙度。此外，也可以采用光刻法形成掩膜，通过该掩膜施行蚀刻来形成。

在该构成例中，由于要在凹部801a和反射层811上边形成滤色片812的着色层，故即便是在大体上把着色层812的表面形成得平坦的情况下，也可以在凹部801的形成部位上设置厚层厚部分。

该构成例，可以不加任何改变地应用于在上述各个实施方案之中那些在基板表面上形成凹部，在基板表面上边直接形成反射层的实施方案。此外，即便是那些不形成凹部的实施方案，仅仅应用上述凹凸801b及其上边的反射层811的构造也是可能的。

在图18(b)所示的构成例中，在基板901的上边，形成具备开口部分911a的厚度50nm-250nm程度的反射层911，在该反射层911的上边形成厚度0.5μm-2.5μm程度的透光层914。透光层914的开口部分914a与反射层911的开口部分911a相对应地在其上边形成。然后在透光层914的上边以0.5μm-2.0μm程度的厚度形成滤色片的着色层912。在该着色层912上，在与上述透光层914的开口部分914a和反射层911的开口部分911a对应的区域上，设置厚层厚部分。

在该构成例中，在透光层914的内部，分散配置与透光层914的材料光折射率不同的微小的微粒。为此，朝反射层911前进的光和被反射层911反射的光不论哪一个都被透光层914漫反射，故与上述各个实施方案同样，可以减少反射型显示中的晃眼和映入。

另外，该构成例可以应用于上述各个实施方案之中那些在反射层上边具备透光层的所有的实施方案。

在图18(c)所示的构成例中，在基板1001的上边形成具备开口部分1011a的厚度50nm-250nm程度的反射层1011，在该反射层1011的上边形成厚度0.5μm-2.5μm程度的透光层1014。透光层1014的开口部分1014a与反射层1011的开口部分1011a相对应地在其上边形成。然后，在透光层1014的上边，以0.5μm-2.0μm程度的厚度形成滤色片的着色层1012。

在该着色层1012上，在与上述透光层1014的开口部分1014a和反射层1011的开口部分1011a对应的区域上设置厚层厚部分。

在该构成例中，被构成为使得在透光层1014的表面上形成微细的凹凸1014b，归因于该凹凸1014，向反射层101前进的光和被反射层1011反射的光这双方都进行漫反射。因此，在该构成例中也同样地可以减少反射型显示中的晃眼或映入。上述凹凸1014b，除去在图18(a)的构成例的上述说明部分中所述的蚀刻法之外，还有在以规定周期使配置在基板上边的材料图形化形成了周期构造后，加热使之软化，赋予适度的流动性制作成凹凸形状的方法等。另外，该构成例可以应用于在上述各个实施方案之内那些在反射层上边具有透光层的所有的实施方案。

在图18(d)所示的构成例中，在基板1101的上边形成具备开口部分1114a的厚度0.5μm-2.5μm程度的基底层1114，在该基底层1114的表面上形成微细的凹凸1114b，并在其上形成厚度50nm-250nm程度的反射层1111。在反射层1111上，在基底层开口部分1114a的正上边设置开口部分1111a。在这里，基底层1114的凹凸1114b，可以用对图18(c)所示的透光层的凹凸形成方法同样的方法形成。在反射层1111上边，以0.5μm-2.0μm程度的厚度形成滤色片的着色层1112，在该着色层1112上，在与上述基底层1114的开口部分1114a和反射层1111的开口部分1111a对应的区域上设置厚层厚部分。

在该构成例中，得益于在基底层1114的凹凸1114b上边形成反射层1111，故可以把反射面形成为微细的凹凸状，为此，与上述同样，可以减少晃眼或显示面的背景映入等的发生。另外，该构成例，可以应用于在基底层上边形成有反射层的所有的实施方案。

[电子设备]

最后，对具备上述各个实施方案的电光装置(液晶显示面板)的电子设备的具体例进行说明。图22的概略斜视图，作为电子设备的一个例子示出了移动电话2000的外观。在移动电话2000中，设置有在电话机壳2001的表面上边具备操作开关的操作部分2002，此外，还设置有含有麦克风等的检测器的声音检测部分2003，和含有扬声器等的发音器的声音发生部分2004。在电话机壳2001的一部分上，设置有显示部分2005，被构成为使得可以通过该显示部分2005观看配置在内部的上述各个实施方案的电光装置的显示画面。从设置在电话机壳2001的内部的控制部分对该电光装置发送显示信号，对应该显示信号显示显示图像。

图23的概略斜视图作为电子设备的一个例子示出了手表3000的外观。该手表3000，具有手表主体3001、和手表表带3002。在手表主体3001中，设置有外部操作构件3003、3004。此外，在手表主体3001的前面设置有显示部分3005，并构成为使得通过该显示部分3005可以观看设置在内部的上述各个实施方案的电光装置的显示画面。从设置在手表主体3001的内部的控制部分(手表电路)对该电光装置发送显示信号，并显示与该显示信号对应的显示图象。

图24的概略斜视图，作为电子设备的一个例子，示出了计算机装置4000的外观。该计算机装置4000，在主体部分4001的内部，构成MPU(微处理单元)，在主体部分4001的外表面上设置有操作部分4002。此外，还设置有显示部分4003，在该显示部分4003的内部，收容有上述各个实施方案的电光装置。因此，其构成为可以通过显示部分4003观看电光装置的显示画面。该电光装置被构成为从设置在主体部分4001的内部的MPU接受显示信号，显示与显示信号对应的显示画面。

另外，本发明的滤色片基板和电光装置、滤色片基板的制造方法和电光装置的制造方法以及电子设备，当然不仅仅限于上述那些图示例，在不脱离本发明的要旨的范围内还可以加上种种的变更。

例如，在以上所说明的各个实施方案中，虽然任何一个实施方案所例示的都是无源矩阵型的液晶显示面板，但是，作为本发明的电光装置，同样也可以使用有源矩阵型的液晶显示面板(例如，把TFT(薄膜晶体管)或TFD(薄膜二极管)用做开关元件的液晶显示面板)。此外，不仅液晶显示面板，在像电致发光装置、有机电致发光装置、等离子体显示装置等那样，可对多个像素中的每一个像素的显示状态进行控制的各种电光装置中也同样地可以应用本发明。

再有，本发明的滤色片基板并不限于上述电光装置，在种种的显示装置、摄像装置、以及其它的各种光学装置中也可以应用。

Claims (11)

1.一种滤色片基板，其特征在于，在该滤色片基板中具备：

基板；

配置在上述基板上，而且具有反射部和光可以透过的透过部分的反射层，和

设置在上述反射部上和上述透过部上，并且具有对应于上述透过部设置的厚层厚部分的着色层，

上述厚层厚部分的厚度在1.0～3.0μm的范围内，

上述反射部上的上述着色层的厚度在0.2～1.5μm的范围内。

2.根据权利要求1所述的滤色片基板，其中上述透过部分是设置在上述反射层的开口部分，在除上述开口部分之外的上述反射层与上述着色层之间，具备光可以透过的透光层。

3.根据权利要求2所述的滤色片基板，其特征在于，上述透光层具有使光漫反射的漫反射功能。

4.根据权利要求1所述的滤色片基板，其中上述透过部分是设置在上述反射层上的开口部分，在除上述开口部分之外的上述反射层和上述基板之间具备基底层。

5.根据权利要求4所述的滤色片基板，其特征在于，上述基底层的表面具有凹凸，上述反射层具有使光进行漫反射的微细的凹凸。

6.根据权利要求4所述的滤色片基板，其特征在于，上述基板具有凹部，上述厚层厚部分被配置为平面地重叠到上述凹部内。

7.根据权利要求1所述的滤色片基板，其特征在于，上述透过部是设置在上述反射层的开口部分，上述着色层被设置为将上述开口部分填埋。

8.根据权利要求1所述的滤色片基板，其特征在于，上述厚层厚部分的厚度与上述反射部上的上述着色层的厚度之比在2～6的范围内。

9.根据权利要求1所述的滤色片基板，其特征在于，具备

设置在上述着色层上的保护层，

形成于上述厚层厚部分表面的凹部，

对应于上述厚层厚部分的凹部形成的保护层表面的凹部，

上述厚层厚部的凹部深度为0.5μm或其以下，

上述保护层的凹部的深度为0.2μm或其以下。

10.一种电光装置，其特征在于，在该电光装置中具备：

含有电光物质的电光层；

支持上述电光层的基板；

配置在上述基板上，且具有反射部和可以透过光的透过部分的反射层，和

设置在上述反射部上和上述透过部上，且具有对应于上述透过部设置的厚层厚部分的着色层；

上述厚层厚部分的厚度在1.0～3.0μm的范围内，

上述反射部上的上述着色层的厚度在0.2～1.5μm的范围内。

11.一种电子设备，其特征在于，具备权利要求10所述的电光装置。

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