CN103995390B - 显示面板、显示装置及显示面板的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及显示技术领域，公开了一种显示面板、一种显示装置及一种显示面板的制造方法，所述显示面板包括对盒而置的第一基板和第二基板，以及位于所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层，所述显示面板包括呈阵列分布的多个像素，每个像素包括多个亚像素，其中：所述第一基板朝向所述液晶层的一面设置有与所述亚像素一一对应的彩色光阻，以及填充于相邻彩色光阻之间的透明矩阵；所述第二基板朝向所述液晶层的一面设置有与所述透明矩阵位置相对的光反射矩阵，所述光反射矩阵的线条宽度大于所述透明矩阵对应位置的线条宽度。采用本发明技术方案中，可以提高显示面板的亮度，进而提高显示品质。

Description

显示面板、显示装置及显示面板的制造方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板、一种显示装置及一种显示面板的制造方法。
背景技术
液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)依其光源的利用及阵列基板的差异，可分为透射式、反射式及半透射半反射式等三种。随着液晶显示器以及可携式电子产品的普及化，液晶显示器必须兼顾在户外强光环境与室内环境，甚至是在暗处时的显示品质，而半透射半反射式液晶显示面板可以为在上述环境中皆可提供同样清晰显示效果的一种较佳选择。
然而，目前已知技术的半透射半反射式液晶显示面板，如图1所示，图1为现有的半透射半反射式液晶显示面板的结构示意图，该液晶显示面板包括：对盒而置的第一基板1和第二基板2，以及位于第一基板1和第二基板2之间的液晶层3，该液晶显示面板包括呈阵列分布的多个像素，每个像素包括多个亚像素，图1所示为显示面板的一个像素区，其中，第一基板1主要包括：衬底基板11，位于衬底基板11之上的彩色滤光层，位于彩色滤光层上的平坦层14和透明电极15，其中，彩色滤光层包括黑色矩阵(BlackMatrix，简称BM)13以及彩色光阻12；在第二基板2上对应每个亚像素的一部分设置有反射膜层22，这样在户外应用时，显示面板在反射模式下，在黑矩阵区域，环境光全部被吸收，而在每个亚像素的反射区域，环境光入射和反射需经过彩膜两次，这样造成了户外应用时环境光时的光损耗较大，这样整体液晶显示屏的亮度会较低，不利于显示。
现有技术的缺陷在于，现有的显示面板在户外应用时，显示屏的亮度较低，导致显示品质较差。
发明内容
本发明的目的是提供一种显示面板、一种显示装置及一种显示面板的制造方法，用以提高在户外应用时显示面板的显示亮度，进而提高显示品质。
本发明实施例首先提供一种显示面板，包括对盒而置的第一基板和第二基板，以及位于所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层，所述显示面板包括呈阵列分布的多个像素，每个像素包括多个亚像素，其中：
所述第一基板朝向所述液晶层的一面设置有与所述亚像素一一对应的彩色光阻，以及填充于相邻彩色光阻之间的透明矩阵；
所述第二基板朝向所述液晶层的一面设置有与所述透明矩阵位置相对的光反射矩阵，所述光反射矩阵的线条宽度大于所述透明矩阵对应位置的线条宽度。
在本发明技术方案中，由于亚像素对应的彩色光阻之间的间隔为透明矩阵，当环境光穿过透明矩阵时，被位于第二基板上的光反射矩阵反射回来，进入人眼，从而避免了环境光通过黑矩阵被全部吸收造成的损耗，从而增加了显示面板的亮度，提高了显示品质。
优选的，每个像素包括三个亚像素，分别为红色亚像素、绿色亚像素和蓝色亚像素，每个所述亚像素的尺寸为60～75微米，每相邻两个亚像素的间隔为10～15微米。
每个像素可以包括多个亚像素，例如三个、四个等，优选采用红绿蓝三原色。亚像素的宽度可以为60～75微米，亚像素的长度根据显示面板的大小来设计。当亚像素的宽度可以为60～75微米，每相邻两个亚像素的间隔为10～15微米时，可以大大提高显示面板的亮度。
优选的，所述显示面板，还包括位于所述第一基板朝向液晶层一面的平坦层，所述平坦层覆盖所述彩色光阻和所述透明矩阵。
优选的，所述平坦层和所述透明矩阵的材质相同。平坦层和透明矩阵的材质相同，可以同时制作，降低生产成本。
优选的，每个亚像素包括透射区和光反射矩阵形成的反射区，所述透射区的面积为亚像素面积的40％～60％。当透射区的面积为亚像素面积40％～60％时，既利于防止漏光，又利于提高显示面板的亮度。
优选的，所述第二基板还包括位于所述第二基板的像素电极和所述光反射矩阵之间的保护层。
保护层的材质可以采用常规的平坦层的材质，起到保护像素电极的作用。
本发明的上述任一种显示面板，特别适合应用于半透射半反射式液晶显示面板。
本发明实施例还提供一种显示装置，包括背光模组，以及位于背光模组出光侧的前述技术方案中任一种显示面板。
本发明实施例还提供一种显示面板的制造方法，包括：
在第一基板上形成与显示面板的亚像素一一对应的彩色光阻；
形成填充于相邻彩色光阻之间的透明矩阵；
在第二基板上形成正对透明矩阵的光反射矩阵，所述光反射矩阵的线条宽度大于所述透明矩阵对应位置的线条宽度；
将所述第一基板和所述第二基板对盒。
在本发明技术方案中，相对于现有技术，不需要形成黑矩阵，即省去了一步掩膜刻蚀工序，可以简化工艺，大大降低了生产成本。
优选的，在形成填充于相邻彩色光阻之间的透明矩阵之后，还包括：
形成覆盖所述彩色光阻和所述透明矩阵的平坦层。
优选的，在第二基板上形成正对透明矩阵的光反射矩阵之前，还包括：
形成位于所述第二基板的像素电极之上的保护层。
附图说明
图1为现有的半透射半反射式液晶显示面板的结构示意图；
图2为本发明一实施例提供的显示面板的结构示意图；
图3为本发明另一实施例提供的显示面板的结构示意图；
图4为本发明一实施例提供的显示装置的结构示意图；
图5为本发明一实施例提供的显示面板的制造方法的流程示意图。
附图标记：
1-第一基板2-第二基板3-液晶层4-背光模组
11-衬底基板12-彩色光阻13-黑矩阵14-平坦层(现有技术)
15-透明电极16-透明矩阵17-平坦层21-阵列基板
22-反射膜层23-光反射矩阵25-像素电极26-保护层
50-透明矩阵区51-亚像素区52-反射区53-透射区
具体实施方式
为了提高显示面板的显示亮度，本发明实施例提供了一种显示面板、一种显示装置及一种显示面板的制造方法。
本发明实施例提供的显示面板中，由于亚像素之间间隔为透明矩阵，当环境光穿过透明矩阵时，被位于第二基板上的光反射矩阵反射回来，进入人眼，从而避免了环境光通过黑矩阵被全部吸收造成的损耗，从而增加了显示面板的亮度，提高了显示品质。下面以具体实施例并结合附图进行详细说明。
本发明实施例首先提供一种显示面板，如图2所示，图2为本发明一实施例提供的显示面板的结构示意图，该显示面板包括对盒而置的第一基板1和第二基板2，以及位于第一基板1和第二基板2之间的液晶层3，显示面板包括呈阵列分布的多个像素，每个像素包括多个亚像素，其中：
第一基板1朝向液晶层3的一面设置有与亚像素一一对应的彩色光阻12，以及填充于相邻彩色光阻12之间的透明矩阵16；
第二基板2朝向液晶层3的一面设置有与透明矩阵16位置相对的光反射矩阵23，光反射矩阵23的线条宽度大于透明矩阵16对应位置的线条宽度。
在本发明技术方案中，由于亚像素之间的间隔为透明矩阵16，当环境光穿过透明矩阵16时，被位于第二基板2上的光反射矩阵23反射回来，进入人眼，从而避免了环境光通过黑矩阵被全部吸收造成的损耗，从而增加了显示面板的亮度，提高了显示品质。图1中，环境光如朝向显示面板的带线箭头所示，在亚像素区51内，在透射区53，一部分环境光射入彩色光阻12对应的第二基板2上未设置光反射矩阵23的位置，此时环境光不反射，在反射区52，另一部分环境光射入彩色光阻12对应的第二基板2上设置有光反射矩阵23的位置，此时环境光反射出去；在亚像素间隔的非显示区域，即透明矩阵区50内，环境光射入透明矩阵16，被位于第二基板2的光反射矩阵23反射出去；可见，在一个像素区域内，仅部分环境光两次穿过彩色光阻12，且没有环境光被全部吸收，因此，相对于现有技术中具有黑矩阵的显示面板来说，环境光损耗非常低，从而大大增加了整体显示亮度，提高了显示品质。
请继续参照图2所示，在本发明技术方案中，第一基板1可以为彩膜基板，该彩膜基板没有黑矩阵，彩色光阻12之间为透明矩阵16，第一基板1可以包括衬底基板11，彩色光阻12及透明矩阵16制作于衬底基板11上，衬底基板11可以为玻璃基板，第二基板2可以为阵列基板21，阵列基板21上还包括呈阵列分布的薄膜晶体管(图2中未示出)等。
请继续参照图2所示，优选的，每个像素包括三个亚像素，分别为红色亚像素R、绿色亚像素G和蓝色亚像素B，每个亚像素的宽度为60～75微米(即亚像素区51的宽度为60～75微米)，每相邻两个亚像素的间隔为10～15微米(即填充的透明矩阵16的线条宽度)。
每个像素可以包括多个亚像素，例如三个、四个等，优选采用红绿蓝三原色。亚像素的宽度，即每个亚像素区51的宽度可以为60～75微米，亚像素的长度根据显示面板的大小来设计。当亚像素的宽度可以为60～75微米，每相邻两个亚像素的间隔为10～15微米时，可以大大提高显示面板的亮度。
如图3所示，图3为本发明另一实施例提供的显示面板的结构示意图，优选的，所述显示面板，还包括位于第一基板1朝向液晶层3一面的平坦层17，平坦层17覆盖彩色光阻12和透明矩阵16。
请继续参照图3所示，优选的，平坦层17和透明矩阵16的材质相同。平坦层17和透明矩阵16的材质相同，可以同时制作，降低生产成本。
请继续参照图2所示，优选的，每个亚像素包括透射区53和光反射矩阵形成的反射区52，透射区53的面积为亚像素面积的40％～60％。当透射区53的面积为亚像素面积40％～60％时，既利于防止漏光，又利于提高显示面板的亮度。
请继续参照图3所示，优选的，所述第二基板2还包括位于第二基板2的像素电极25和光反射矩阵23之间的保护层26。
保护层26的材质可以采用常规的平坦层的材质，起到保护像素电极的作用。优选的，保护层26的结构和光反射矩阵23的结构相同，且位于光反射矩阵23之下。
本发明的上述任一种显示面板，特别适合应用于半透射半反射式显示面板。
本发明实施例还提供一种显示装置，如图4所示，图4为本发明一实施例提供的显示装置的结构示意图，所述显示装置，包括背光模组4，以及位于背光模组4出光侧的前述技术方案中任一种显示面板。显示装置的类型不限，例如可以为TN(TwistedNematic，扭曲向列)模式、VA(VerticalAlignment，垂直取向)模式、IPS(In-Plane-Switching，平面方向转换)模式和FFS(FringeFieldSwitching，边缘场开关)模式等。所述显示装置具体可以为：显示面板、电子纸、液晶电视、液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等具有任何显示功能的产品或部件。
本发明实施例还提供一种显示面板的制造方法，如图5所示，图5为本发明一实施例提供的显示面板的制造方法的流程示意图，所述制造方法，包括：
步骤101、在第一基板上形成与显示面板的亚像素一一对应的彩色光阻；
步骤102、形成填充于相邻彩色光阻之间的透明矩阵；
步骤103、在第二基板上形成正对透明矩阵的光反射矩阵，所述光反射矩阵的线条宽度大于所述透明矩阵对应位置的线条宽度；
步骤104、将所述第一基板和所述第二基板对盒。
在本发明技术方案中，相对于现有技术，不需要在第一基板上形成黑矩阵，即省去了一步掩膜刻蚀工序，可以简化工艺，大大降低了生产成本。当然，本发明的技术方案并不限于上述过程，第一基板的制作和第二基板的制作可以同时进行，也可以先进行第二基板的制作，再进行第一基板的制作。
优选的，在形成填充于相邻彩色光阻之间的透明矩阵之后，还包括：
形成覆盖所述彩色光阻和所述透明矩阵的平坦层。
平坦层可以在透明矩阵制作完成以后再进行制作，平坦层的制作优选与透明矩阵采用相同的材质一起制作，例如采用透明树脂，这样可以简化工艺，降低生产成本。
优选的，在第二基板上形成正对透明矩阵的光反射矩阵之前，还包括：
形成位于所述第二基板的像素电极之上的保护层。
下列举一个较优的实施例来说明本发明显示面板的制作步骤，但本发明并不限于下述实施例。该显示面板的制造方法，具体步骤包括：
请参照图3所示，在第一基板1表面定义出透明矩阵区50，及定义出多个像素区，每个像素包括多个亚像素区51，以红绿蓝三原色亚像素为例，每个亚像素区51的宽度为60～75微米，例如为60微米、65微米、70微米或75微米，每相邻两个亚像素区之间的宽度为10～15微米，例如为10微米、12微米或15微米；
在红色亚像素区域通过曝光显影形成红色光阻R，在绿色亚像素区通过曝光显影形成绿色光阻G，在蓝色亚像素区通过曝光显影形成蓝色光阻B；
在形成彩色光阻的第一基板1上涂覆透明树脂，直接形成透明矩阵16及平坦层17，透明矩阵16的线条宽度即为亚像素区之间的宽度10～15微米；
将一保护层26制作在一下第二基板2(优选为阵列基板)的像素电极25上，然后再在保护层26上制作光反射矩阵23，光反射矩阵23的材质可以为具有反光的金属材料，具体可以通过溅射的方式形成，光反射矩阵23正对第一基板1的透明矩阵16，且光反射矩阵23的线条宽度大于透明矩阵16的线条宽度，即亚像素区51内还具有部分光反射矩阵23，因此，对应每个亚像素区51分为透射区53及反射区52，透射区53的面积为该亚像素区51面积的40％～60％，反射区52的面积为该亚像素区51的面积的40％～60％，另外，为了进一步保证显示面板半透半返的性质，保护层26和光反射矩阵23的总厚度为液晶盒厚的一半；
在第一基板1和第二基板2之间形成液晶层3，例如可以采用滴注的方法形成，将制作完上述步骤的第一基板1和第二基板2对盒。在本发明技术方案中，对盒之前第一基板的制作和第二基板的制作顺序不做限定。
本发明直接在第一基板上形成多个彩色光阻，然后直接形成透明矩阵和平坦层，减少了一次黑矩阵工艺，从而减少了一次曝光显影，简化了工艺，降低了生产成本。并且，由于亚像素之间的间隔为透明矩阵，当环境光穿过透明矩阵时，被位于第二基板上的光反射矩阵反射回来，进入人眼，从而避免了环境光被黑矩阵吸收造成的损耗，从而增加了整体显示面板的亮度，提高了显示品质。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括对盒而置的第一基板和第二基板，以及位于所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层，所述显示面板包括呈阵列分布的多个像素，每个像素包括多个亚像素，其中：
所述第一基板朝向所述液晶层的一面设置有与所述亚像素一一对应的彩色光阻，以及填充于相邻彩色光阻之间的透明矩阵；
所述第二基板朝向所述液晶层的一面设置有与所述透明矩阵位置相对的光反射矩阵，所述光反射矩阵的线条宽度大于所述透明矩阵对应位置的线条宽度。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，每个像素包括三个亚像素，分别为红色亚像素、绿色亚像素和蓝色亚像素，每个所述亚像素的宽度为60～75微米，每相邻两个亚像素的间隔为10～15微米。
3.如权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，还包括位于所述第一基板朝向液晶层一面的平坦层，所述平坦层覆盖所述彩色光阻和所述透明矩阵。
4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述平坦层和所述透明矩阵的材质相同。
5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，每个亚像素包括透射区和光反射矩阵形成的反射区，所述透射区的面积为亚像素面积的40％～60％。
6.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二基板还包括位于所述第二基板的像素电极和所述光反射矩阵之间的保护层。
7.一种显示装置，其特征在于，包括背光模组，以及位于所述背光模组出光侧的如权利要求1～6任一项所述的显示面板。
8.一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括：
在第一基板上形成与显示面板的亚像素一一对应的彩色光阻；
形成填充于相邻彩色光阻之间的透明矩阵；
在第二基板上形成正对透明矩阵的光反射矩阵，所述光反射矩阵的线条宽度大于所述透明矩阵对应位置的线条宽度；
将所述第一基板和所述第二基板对盒。
9.如权利要求8所述的显示面板的制造方法，其特征在于，在形成填充于相邻彩色光阻之间的透明矩阵之后，还包括：
形成覆盖所述彩色光阻和所述透明矩阵的平坦层。
10.如权利要求8所述的显示面板的制造方法，其特征在于，在第二基板上形成正对透明矩阵的光反射矩阵之前，还包括：
形成位于所述第二基板的像素电极之上的保护层。
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