CN108519700A - 彩膜基板及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种彩膜基板及其制造方法，彩膜基板包括基板、彩膜层、遮光层和共通电极层，彩膜层设置在基板上，彩膜层包括第一色阻块、第二色阻块和第三色阻块，第一色阻块、第二色阻块和第三色阻块为红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块中互不相同的色阻块；遮光层设置在彩膜层上，遮光层包括遮光块；共通电极层设置在遮光层上；红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块中的任意两者之间的交汇处所处的位置与遮光块所处的位置对应。本发明能有效地降低对液晶显示面板对外部环境光的反射强度。

Description

彩膜基板及其制造方法
【技术领域】
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板及其制造方法。
【背景技术】
液晶显示面板会对部分射向该液晶显示面板的外部环境光进行反射。液晶显示面板对外部环境光的反射会降低该液晶显示面板所显示的图像的对比度和在强光环境下的显示内容的可见度，因此降低液晶显示面板对外部环境光的反射作用有助于提升其显示效果。
为解决上述技术问题，传统的技术方案为：
采用低反射率的偏光片，以降低液晶显示面板的表面的反射率。
然而，传统的液晶显示面板的彩膜基板中设置有遮光层。遮光层也称作BM(BlackMatrix，黑色矩阵)。遮光层构成了传统的液晶显示面板的子像素单元的非开口区，其作用是遮挡子像素单元的边缘区域和TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)区域，避免暗态漏光。虽然遮光层的透光率非常小(小于0.01％)，但是它的光反射率(2％～3％)却不能被忽略，而且遮光层在一个子像素单元内的面积占比通常达到20％～30％，因此，降低遮光层对环境光的反射率对降低传统的液晶显示面板整体的环境光反射率有明显的效果。
在传统的液晶显示面板的彩膜基板中，遮光层紧贴玻璃基板，彩膜层在遮光层上方。由于遮光层紧贴玻璃基板，入射的外部环境光会在玻璃基板和遮光层的界面被反射。
因此，上述降低液晶显示面板对外部环境光的反射作用的技术方案的效果不够理想。
故，有必要提出一种新的技术方案，以解决上述技术问题。
【发明内容】
本发明的目的在于提供一种彩膜基板及其制造方法，其能有效地降低液晶显示面板的遮光层对外部环境光的反射作用。
为解决上述问题，本发明的技术方案如下：
一种彩膜基板，所述彩膜基板包括：基板；彩膜层，所述彩膜层设置在所述基板上，所述彩膜层包括第一色阻块、第二色阻块和第三色阻块，所述第一色阻块、所述第二色阻块和所述第三色阻块为红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块中互不相同的色阻块；遮光层，所述遮光层设置在所述彩膜层上，所述遮光层包括遮光块；共通电极层，所述共通电极层设置在所述遮光层上；其中，所述红色色阻块、所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意两者之间的交汇处所处的位置与所述遮光块所处的位置对应。
在上述彩膜基板中，设置于所述基板和所述遮光层之间的所述彩膜层用于降低所述遮光层在所述彩膜基板中所覆盖的区域对外部环境光的反射强度。
在上述彩膜基板中，所述彩膜层的表面为凹凸不平的表面；所述彩膜基板还包括：平坦化层，所述平坦化层设置在所述彩膜层与所述遮光层之间，所述平坦化层用于覆盖所述彩膜层凹凸不平的表面，以使所述遮光层设置在平坦的表面上。
在上述彩膜基板中，所述共通电极层还设置于所述平坦化层上。
在上述彩膜基板中，所述彩膜层的表面为平坦的表面，所述共通电极层还设置于所述彩膜层上。
一种彩膜基板的制造方法，所述方法包括以下步骤：A、将彩膜层设置在基板上，其中，所述彩膜层包括第一色阻块、第二色阻块和第三色阻块，所述第一色阻块、所述第二色阻块和所述第三色阻块为红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块中互不相同的色阻块；B、将遮光层设置在所述彩膜层上，其中，所述遮光层包括遮光块；C、将共通电极层设置在所述遮光层上；其中，所述红色色阻块、所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意两者之间的交汇处所处的位置与所述遮光块所处的位置对应。
在上述彩膜基板中，设置于所述基板和所述遮光层之间的所述彩膜层用于降低所述遮光层在所述彩膜基板中所覆盖的区域对外部环境光的反射强度。
在上述彩膜基板中，所述彩膜层的表面为凹凸不平的表面；在所述步骤A之后，以及在所述步骤B之前，所述方法还包括以下步骤：D、在所述彩膜层与所述遮光层之间设置平坦化层，所述平坦化层用于覆盖所述彩膜层凹凸不平的表面，以使所述遮光层设置在平坦的表面上；所述步骤B为：B、将所述遮光层设置在位于所述彩膜层上的所述平坦化层上。
在上述彩膜基板中，所述共通电极层还设置于所述平坦化层上。
在上述彩膜基板中，所述彩膜层的表面为平坦的表面，所述共通电极层还设置于所述彩膜层上。
相对现有技术，本发明由于将彩膜层设置在基板与遮光层之间，由于彩膜层对外部环境光有吸收作用，因此可以有效地降低遮光层在所述彩膜基板中所覆盖区域对外部环境光的反射强度，从而能够有效地降低液晶显示面板对外部环境光的反射率。
为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。
【附图说明】
图1为本发明的彩膜基板的第一实施例的示意图。
图2为本发明的彩膜基板的第二实施例的示意图。
图3为本发明的彩膜基板的制造方法的流程图。
【具体实施方式】
本说明书所使用的词语“实施例”意指实例、示例或例证。此外，本说明书和所附权利要求中所使用的冠词“一”一般地可以被解释为“一个或多个”，除非另外指定或从上下文可以清楚确定单数形式。
参考图1，图1为本发明的彩膜基板的第一实施例的示意图。本发明的彩膜基板适用于TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示面板)。
本发明的彩膜基板包括基板101、彩膜层102、遮光层103和共通电极层104。所述基板101为刚性基板或柔性基板。
所述彩膜层102设置在所述基板101上，所述彩膜层102包括第一色阻块1021、第二色阻块1022和第三色阻块1023，所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023为红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块中互不相同的色阻块，所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023均包括主体部和边缘部，所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023中的任意一者通过其边缘部与相邻的另一者邻接，所述主体部和所述边缘部均紧贴所述基板101。
所述遮光层103设置在所述彩膜层102上，所述遮光层103包括遮光块1031。
所述共通电极层104设置在所述遮光层103上。
其中，所述红色色阻块、所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意两者之间的交汇处所处的位置与所述遮光块1031所处的位置对应。
设置于所述基板101和所述遮光层103之间的所述彩膜层102用于降低所述遮光层103在所述彩膜基板中所覆盖的区域对外部环境光的反射强度，即，所述彩膜层102用于防止所述基板101和所述遮光层103构成反射镜。
所述彩膜层102的表面为平坦的表面，所述共通电极层104还设置于所述彩膜层102上，即，所述共通电极设置于所述彩膜层102和所述遮光层103上。
参考图2，图2为本发明的彩膜基板的第二实施例的示意图。本发明的第二实施例与上述第一实施例相似，不同之处在于：
所述彩膜层102的表面为凹凸不平的表面。
所述彩膜基板还包括平坦化层201，所述平坦化层201设置在所述彩膜层102与所述遮光层103之间，所述平坦化层201用于覆盖所述彩膜层102凹凸不平的表面，以使所述遮光层103设置在平坦的表面上。所述平坦化层201设置为全透明或半透明。
所述共通电极层104还设置于所述平坦化层201上，即，所述共通电极层104设置在所述平坦化层201和所述遮光层103上。
所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023是依次设置于所述基板101上的。
所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023中的任意两者之间的交汇处用于遮挡或吸收从所述基板101背向所述彩膜层102的一面透过所述基板101并射向所述遮光块1031的光线，以防止所述光线在所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023中的任意两者之间的交汇处反射。
所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023中的任意两者的边缘部全部重叠或部分重叠。
所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023中的任意两者重叠的部分构成挡光块，所述挡光块用于阻挡从所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023中的任意一者射向相邻的另一者的光线。
所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023中的任意一者的边缘部与相邻的另一者的边缘部分别设置有第一卡设部和第二卡设部，第一卡设部与第二卡设部相卡设。
所述第一卡设部、所述第二卡设部中的一者为凹槽，所述第一卡设部、所述第二卡设部中的另一者为凸条。
作为一种改进，所述基板101与所述彩膜层102相接触的表面中与所述遮光层103对应的区域设置为磨砂面，即，所述区域设置为非光滑状，设置为磨砂面的所述区域用于使得照射至所述区域的外部环境光发生漫反射，从而有效地降低包括所述彩膜基板的液晶显示面板对外部环境光的反射率。此外，设置为磨砂面的所述区域还用于增强所述彩膜层102与所述基板101的粘附强度。
参考图3，图3为本发明的彩膜基板的制造方法的流程图。
本发明的彩膜基板的制造方法包括以下步骤：
A(步骤301)、将彩膜层102设置在基板101上，其中，所述彩膜层102包括第一色阻块1021、第二色阻块1022和第三色阻块1023，所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023为红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块中互不相同的色阻块，所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023均包括主体部和边缘部，所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023中的任意一者通过其边缘部与相邻的另一者邻接，所述主体部和所述边缘部均紧贴所述基板101。
B(步骤303)、将遮光层103设置在所述彩膜层102上，其中，所述遮光层103包括遮光块1031。
C(步骤304)、将共通电极层104设置在所述遮光层103上。
其中，所述红色色阻块、所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意两者之间的交汇处所处的位置与所述遮光块1031所处的位置对应。
设置于所述基板101和所述遮光层103之间的所述彩膜层102用于降低所述遮光层103在所述彩膜基板中所覆盖的区域对外部环境光的反射强度，即，所述彩膜层102用于防止所述基板101和所述遮光层103构成反射镜。
在所述彩膜层102的表面为平坦的表面的情况下，所述共通电极层104还设置于所述彩膜层102上，即，所述共通电极设置于所述彩膜层102和所述遮光层103上。
在所述彩膜层102的表面为凹凸不平的表面的情况下，在所述步骤A之后，以及在所述步骤B之前，所述方法还包括以下步骤：
D(步骤302)、在所述彩膜层102与所述遮光层103之间设置平坦化层201，所述平坦化层201用于覆盖所述彩膜层102凹凸不平的表面，以使所述遮光层103设置在平坦的表面上。
所述步骤B为：
将所述遮光层103设置在位于所述彩膜层102上的所述平坦化层201上。
所述共通电极层104还设置于所述平坦化层201上，即，所述共通电极层104设置在所述平坦化层201和所述遮光层103上。
所述步骤A包括：
a1、在所述基板101上设置所述第一色阻块1021。
a2、在所述基板101上除设置有所述第一色阻块1021以外的部位设置所述第二色阻块1022。
a3、在所述基板101上除设置有所述第一色阻块1021和所述第二色阻块1022以外的部位设置所述第三色阻块1023。
所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023中的任意两者之间的交汇处用于遮挡或吸收从所述基板101背向所述彩膜层102的一面透过所述基板101并射向所述遮光块1031的光线，以防止所述光线在所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023中的任意两者之间的交汇处反射。
所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023中的任意两者的边缘部全部重叠或部分重叠。
所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023中的任意两者重叠的部分构成挡光块，所述挡光块用于阻挡从所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023中的任意一者射向相邻的另一者的光线。
所述第一色阻块1021、所述第二色阻块1022和所述第三色阻块1023中的任意一者的边缘部与相邻的另一者的边缘部分别设置有第一卡设部和第二卡设部，第一卡设部与第二卡设部相卡设。
所述第一卡设部、所述第二卡设部中的一者为凹槽，所述第一卡设部、所述第二卡设部中的另一者为凸条。
作为一种改进，在所述步骤a1之前，所述步骤A还包括：
a4、将所述基板101与所述彩膜层102相接触的表面中与所述遮光层103对应的区域设置为磨砂面，即，将所述区域设置为非光滑状，设置为磨砂面的所述区域用于使得照射至所述区域的外部环境光发生漫反射，从而有效地降低包括所述彩膜基板的液晶显示面板对外部环境光的反射率。此外，设置为磨砂面的所述区域还用于增强所述彩膜层102与所述基板101的粘附强度。
相对现有技术，本发明由于将彩膜层设置在基板与遮光层之间，由于彩膜层对外部环境光有吸收作用，因此可以避免遮光层与基板直接接触，有效地降低遮光层在所述彩膜基板中所覆盖区域(非开口区)对外部环境光的反射强度，防止基板和与基板直接接触的遮光层组成具有较高反射效率的器件，从而能够有效地降低包括所述彩膜基板的液晶显示面板对外部环境光的反射率。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：
基板；
彩膜层，所述彩膜层设置在所述基板上，所述彩膜层包括第一色阻块、第二色阻块和第三色阻块，所述第一色阻块、所述第二色阻块和所述第三色阻块为红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块中互不相同的色阻块；
遮光层，所述遮光层设置在所述彩膜层上，所述遮光层包括遮光块；
共通电极层，所述共通电极层设置在所述遮光层上；
其中，所述红色色阻块、所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意两者之间的交汇处所处的位置与所述遮光块所处的位置对应。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，设置于所述基板和所述遮光层之间的所述彩膜层用于降低所述遮光层在所述彩膜基板中所覆盖的区域对外部环境光的反射强度。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜层的表面为凹凸不平的表面；
所述彩膜基板还包括：
平坦化层，所述平坦化层设置在所述彩膜层与所述遮光层之间，所述平坦化层用于覆盖所述彩膜层凹凸不平的表面，以使所述遮光层设置在平坦的表面上。
4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述共通电极层还设置于所述平坦化层上。
5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜层的表面为平坦的表面，所述共通电极层还设置于所述彩膜层上。
6.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
A、将彩膜层设置在基板上，其中，所述彩膜层包括第一色阻块、第二色阻块和第三色阻块，所述第一色阻块、所述第二色阻块和所述第三色阻块为红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块中互不相同的色阻块；
B、将遮光层设置在所述彩膜层上，其中，所述遮光层包括遮光块；
C、将共通电极层设置在所述遮光层上；
其中，所述红色色阻块、所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意两者之间的交汇处所处的位置与所述遮光块所处的位置对应。
7.根据权利要求6所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，设置于所述基板和所述遮光层之间的所述彩膜层用于降低所述遮光层在所述彩膜基板中所覆盖的区域对外部环境光的反射强度。
8.根据权利要求6所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述彩膜层的表面为凹凸不平的表面；
在所述步骤A之后，以及在所述步骤B之前，所述方法还包括以下步骤：
D、在所述彩膜层与所述遮光层之间设置平坦化层，所述平坦化层用于覆盖所述彩膜层凹凸不平的表面，以使所述遮光层设置在平坦的表面上；
所述步骤B为：
B、将所述遮光层设置在位于所述彩膜层上的所述平坦化层上。
9.根据权利要求8所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述共通电极层还设置于所述平坦化层上。
10.根据权利要求6所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述彩膜层的表面为平坦的表面，所述共通电极层还设置于所述彩膜层上。
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